JPH10104855A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 膜厚変動のない優れた電子写真感光体の製造
方法を提供する。さらに同時重層塗布においても、いわ
ゆる逐次重層塗布においても膜厚変動のない優れた電子
写真感光体の製造方法を提供する。 【解決手段】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
下から上へ垂直に押し上げながら、円形量規制型塗布装
置により前記基材外周面上に、塗布液タンクから送液手
段により送液された塗布液を塗布液分配室を経て前記基
材上に塗布する連続塗布方法において、前記送液手段は
１つの送液手段Ａと該送液手段Ａから送られた液の一部
を前記塗布液タンクに戻す送液手段Ｂよりなり、送液手
段Ａの送液量Ｖａと送液手段Ｂの送液量Ｖｂとの差の量
を前記基材上に送液し、３〜５０μｍの塗布液膜を形成
し、乾燥膜厚変動率を２０％以下にしたことを特徴とす
る電子写真感光体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機、プリンタ
等に用いられる電子写真感光体に関し、より詳しくはエ
ンドレスに形成された連続面を有する基材の外面上に、
塗布液を均一に塗布する塗布装置により製造された電子
写真感光体の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、エンドレスに形成された連続面を
有する基材の外面上への薄膜で均一な塗布を行うための
手段としてスプレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布
法、ロール塗布法等の種々の方法が検討されている。

【０００３】特に電子写真感光体ドラムのような薄膜で
均一な塗布については生産性の優れた塗布装置を開発す
べく検討されている。しかしながら、従来のエンドレス
基材への塗布方法においては、均一な塗膜が得られなか
ったり生産性が悪い等の短所があった。

【０００４】スプレー塗布法ではスプレーガンより噴出
した塗布液滴が、該エンドレスに形成された連続面を有
する基材の外周面上に到達するまでに、溶媒が蒸発する
ため、塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまう。それに
ともない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達し
たとき、液滴が面上で充分に広がらないために、あるい
は乾燥固化してしまった粒子が表面に付着するために、
塗布表面の平滑性の良いものがえられない。また該連続
面を有する基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布
液のロスがあったり部分的にも不均一である為、膜厚コ
ントロールが非常に困難である。更に、高分子溶液等で
は、いわゆる糸引き現象を起こす事があるため使用する
溶媒及び樹脂に制限がある。

【０００５】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレードもしくはロールを配置
し、該円筒状基材を回転させて塗布を行い、円筒状基材
を１回転させた後ブレードもしくはロールを後退させる
ものである。しかしながら、ブレードもしくはロールを
後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に
他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない
欠点がある。

【０００６】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。

【０００７】しかし、塗布膜厚が塗布液物性、例えば粘
度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗
布液物性の調整が非常に重要となる。また一般的にいっ
て、塗布速度も上げられず、塗布液槽を満たすためには
ある一定量以上の液量が必要である。さらに重層する場
合、下層成分が溶け出し、層界面が乱れ、しかも塗布液
槽が汚染されやすい等の欠点がある。

【０００８】そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に
記載の如く円形量規制型塗布装置（この中にはスライド
ホッパ型塗布装置が含まれる）が開発された。この円形
量規制型のスライドホッパ型塗布装置について説明する
と、エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基
材を連続的にその長手方向に移動させながら、その周囲
を環状に取り囲み、円筒状基材の外周面に対して塗布液
を塗布するものである。さらに、この塗布装置は環状の
液溜まり室と、この液溜まり室内の一部に対して外部か
ら塗布液を供給する供給口と、前記液溜まり室の内方に
開口する塗布液分配スリットとを有する。このスリット
から流出した塗布液を斜め下方に傾斜するスライド面上
に流下させ、スライド面の下端の唇状部のスライドエッ
ジと円筒状基材との僅かな間隙部分にビードを形成し、
円筒状基材の移動に伴ってその外周面に塗布するもので
ある。この塗布法での膜厚はポンプによる送液量によっ
て定まる。

【０００９】しかしながら、前記円形量規制型のスライ
ドホッパ型塗布装置を用いてもなお層厚の膜厚変動の問
題があり、特に薄膜塗布においてはポンプの液送量の精
度が問題となってくる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記実情に鑑
みて提案されたものであり、その目的とするところは、
膜厚変動のない優れた電子写真感光体の製造方法を提供
することにある。

【００１１】さらに本発明の目的は、同一塗布装置から
複数の塗布層を同時に基材上に形成させるいわゆる同時
重層塗布においても膜厚変動のない優れた電子写真感光
体の製造方法を提供することにある。

【００１２】さらに又、本発明の目的は、複数の塗布装
置から塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次重
層塗布においても、膜厚変動のない優れた電子写真感光
体の製造方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の前記目的は、下
記構成を採ることによって達成される。

【００１４】（１） 円筒状基材の筒軸を合わせて積み
重ね、下から上へ垂直に押し上げながら、円形量規制型
塗布装置により前記基材外周面上に、塗布液タンクから
送液手段により送液された塗布液を塗布液分配室を経て
前記基材上に塗布する電子写真感光体の製造方法におい
て、前記送液手段は１つの送液手段Ａと該送液手段Ａか
ら送られた液の一部を前記塗布液タンクに戻す送液手段
Ｂよりなり、送液手段Ａの送液量Ｖａと送液手段Ｂの送
液量Ｖｂとの差の量を前記基材上に送液し、３〜５０μ
ｍの塗布液膜を形成し、乾燥膜厚変動率を２０％以下に
したことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。

【００１５】（２） 前記垂直型塗布装置がスライドホ
ッパー型塗布装置であることを特徴とする（１）記載の
電子写真感光体の製造方法。

【００１６】（３） 前記送液手段Ｂにより塗布液分配
内から塗布液タンクに戻すことを特徴とする（１）又は
（２）記載の電子写真感光体の製造方法。

【００１７】（４） 前記円形量規制型塗布装置が逐次
重層塗布方法であることを特徴とする（１）、（２）又
は（３）記載の電子写真感光体の製造方法。

【００１８】（５） 前記円形量規制型塗布装置が同時
重層塗布方法であることを特徴とする（１）、（２）又
は（３）記載の電子写真感光体の製造方法。

【００１９】電子写真感光体の性能向上のためには塗布
精度と安定化向上が重要であり、円形量規制型その中で
もスライドホッパ型塗布装置は、現在最もこの要求に適
合した塗布方法といえる。

【００２０】しかし、それでもなお、現在もちいられて
いる通常の送液ポンプでは少量送液は難しくしかも誤差
が大きく、膜厚ムラが大きい。特に液膜厚が３０μｍ以
下の時膜厚変動を２０％以下に抑えることは難しい。特
に、ＣＧＬ（電荷発生層）又はＵＣＬ（下引層）は、薄
膜塗布がなされるためバラツキが問題となり、それだけ
ポンプの送液精度が必要となる。しかし、現在、工学的
に安定して、これだけの送液精度を出し得るポンプはな
く、大きな問題となっていた。本発明の構成をとるな
ら、液膜厚３μｍまで精度よく送液することが出来る。
又、上限は５０μｍ以上となれば、必ずしも、本発明の
構成をとらなくても精度を確保出来るようになる。

【００２１】本発明では少量液の送液精度を維持するた
め、ポンプにより送液する液量をある程度確保し、塗布
に用いられない塗布液を還流させることにより、例え少
量の液量による薄膜塗布の場合にも、基材上に極めて均
一な液膜を形成することが出来、それにより薄膜でも均
一な塗布層形成が可能になる。すなわち、本発明の構成
にすることにより、液膜厚変動を２０％以下、すなわ
ち、乾燥膜厚変動率も２０％以下に抑えることが出来
る。ここで、乾燥膜厚変動率とは、感光体基材の全長Ｄ
の内、両端部をのぞく中央部分のＤ／２の長さ部分の乾
燥膜厚の変動量を乾燥膜厚で除したものをいう。

【００２２】本発明で用いられる定量性のあるポンプと
してはギヤポンプ、チューブポンプ、化学ポンプ等があ
るが、ギヤポンプが耐久性、定量性の点で好ましい。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の塗布装置の概要
断面図であるが、図１に於いて、中心線Ｙに沿って垂直
状に重ね合わしたエンドレスに形成された円筒状基材１
Ａ、１Ｂと、該円筒状基材１Ａ、１Ｂに順次感光用の塗
布液２を塗布するスライドホッパ型の円形量規制型塗布
装置３を示す。

【００２４】図の様に前記円筒状基材１Ａを取り囲む様
に、塗布液２のホッパ塗布面４が形成され、該ホッパ塗
布面４に供給される塗布液２を前記円筒状基材１Ａに順
次塗布する様に構成している。塗布方法としては、前記
環状の円形量規制型塗布装置３を固定し、前記円筒状基
材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させなが
ら上端部より塗布を行う。前記円形量規制型塗布装置３
のホッパ塗布面４に塗布液２を供給するため、外部に設
けた塗布液タンク５より送液ポンプ６−１と送液管６−
１′（送液手段Ａ）と、送液ポンプ６−２と、送液管６
−２′（送液手段Ｂ）とよりなる送液手段を、塗布液供
給部６Ａにより前記環状の円形量規制型塗布装置３に接
続し、塗布液２を供給する。

【００２５】次に供給された塗布液２は、前記環状の円
形量規制型塗布装置３内に形成した環状の塗布液分配室
７に供給されて塗布液分配スリット８よりエンドレスの
塗布液流出口９より前記ホッパ塗布面４に塗布液２が連
続的に供給され、塗布液２は前記円筒状基材１Ａの全周
面に塗布される。１２は、前記ホッパ塗布面４より落下
した塗布液２を液溜めする液溜部である。

【００２６】図２は、図１に示したものと同様な本発明
の塗布装置の他の概要断面図であるが、違いは前記円形
量規制型塗布装置３のホッパ塗布面４に塗布液２を供給
するため、外部に設けた塗布液タンク５より送液ポンプ
６−１と送液管６−１′（送液手段Ａ）と、送液ポンプ
６−２と、送液管６−２′（送液手段Ｂ）とよりなる送
液手段と、塗布液供給部６Ａ及び６Ａ′を設け、前記環
状の円形量規制型塗布装置３内に形成した環状の塗布液
分配室７に連結して塗布液を供給し、ここから余剰の塗
布液を還流させる方法を採ったものである。

【００２７】本発明の実施態様としては、無論何れの態
様でも良く、送液手段は２つの送液手段Ａ及びＢからな
り、送液手段Ａの送液量Ｖａと送液手段Ｂの送液量Ｖｂ
との差の液量を塗布するものであれば良い。しかし、図
２に示す塗布液分配室７に直接２つの送液手段Ａ及びＢ
を繋げる態様の方が、塗布液の撹拌混合効果を期待でき
るので好ましい。

【００２８】又、送液手段Ａ及び送液手段Ｂとは、いず
れも塗布液を流すための導液管とこれを伝わって塗布液
を目的方向に一定量送るためのポンプ作用をもつものか
らなるのであり、特にその形状、方式等はいとわず、い
ずれの形状、方式によっても良い。

【００２９】図３は、図１、２に示す前記円形量規制型
塗布装置３の一部を切欠して示す斜視図である。尚、円
形量規制型塗布装置は、必ずしもスライドホッパ型とは
限らず、環状の塗布機の中を円筒状基材を通し、環状の
塗布機より量規制された塗布液を出して円筒状基材に液
膜を形成する型の塗布装置例えば特開昭６０−９５４４
０号記載の押し出し型を指すが、スライドホッパ型が最
も代表的なものであるので、スライドホッパ型をここに
示した。

【００３０】図４は、前記図１及び２の実施態様例に用
いられた環状の円形量規制型塗布装置３を用いてエンド
レスに形成した円筒状基材１Ａ、１Ｂに感光体となる塗
布液を同時に重層塗布する本発明の好ましい実施態様例
（同時重層塗布方法）を示す塗布装置の概要断面図であ
る。

【００３１】図４に於いて、中心線Ｙに沿って垂直状に
重ね合わした円筒状基材１Ａ、１Ｂと、該円筒状基材１
Ａ、１Ｂに順次感光用の塗布液２を塗布する環状の円形
量規制型塗布装置３を示す。図の様に前記円筒状基材１
Ａ取り囲む様に、塗布液２，２Ａのホッパ塗布面４が形
成され、該ホッパ塗布面４に供給される塗布液２，２Ａ
を前記円筒状基材１Ａに順次塗布する様に構成してい
る。塗布方法としては、前記環状の円形量規制型塗布装
置３を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って
矢印方向に上昇移動させながら上端部より塗布を行う。
前記円形量規制型塗布装置３のホッパ塗布面４に塗布液
２，２Ａを供給するため、外部に設けた塗布液タンク５
より送液ポンプ６−１と送液管６−１′（送液手段Ａ）
と、送液ポンプ６−２と送液管６−２′（送液手段Ｂ）
とよりなる送液手段とにより、塗布液供給部６Ａ及び６
Ａ′から塗布液分配室７に塗布液を送り、塗布に用いな
い余剰分を塗布液タンク５に戻す。

【００３２】塗布液タンク５１から塗布液分配室７１へ
の送液も同様に行う。

【００３３】次に供給された塗布液２，２Ａは、前記円
形量規制型塗布装置３内に形成した環状の塗布液分配室
７には前記塗布液２を供給し、該円形量規制型塗布装置
３内に形成した環状の塗布液分配室７１には前記塗布液
２Ａを供給する。先ず供給された塗布液２は塗布液分配
スリット８よりエンドレスの塗布液流出口９より前記ホ
ッパ塗布面４に塗布液２が連続的に供給され、前記円筒
状基材１Ａの全周面に先ず塗布液２に塗布される。

【００３４】更に前記塗布液分配室７１には前記塗布液
２Ａが供給される。供給された塗布液２Ａは塗布液分配
スリット８１よりエンドレスの塗布液流出口９１より前
記塗布された塗布液２面上に連続的に供給され、前記円
筒状基材１Ａの全周面に先ず塗布液２が、その上に塗布
液２Ａが重層塗布される。

【００３５】１２は、前記ホッパ塗布面４より落下した
塗布液２を液溜めする液溜部である。

【００３６】図５は前記図１又は２の実施態様例に使用
されている環状の円形量規制型塗布装置３を上下に配置
した、本発明の好ましいもう一つの実施態様例（逐次重
層塗布方法）である塗布装置の概要断面図である。これ
も前記図４に示すようなエンドレスに形成した円筒状基
材１Ａ、１Ｂに塗布液の重層塗布を行う実施態様例であ
る。

【００３７】先ず前記図１と同様にホッパ塗布面４に供
給される塗布液２を前記円筒状基材１Ａに順次塗布す
る。塗布方法としては、前記円形量規制型塗布装置３を
固定し、前記円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方
向に上昇移動させながら上端部より塗布を行う。前記円
形量規制型塗布装置３のホッパ塗布面４に塗布液２を供
給するため、外部に設けた塗布液タンク５より送液ポン
プ６−１と送液管６−１′（送液手段Ａ）と、送液ポン
プ６−２と送液管６−２′（送液手段Ｂ）とよりなる送
液手段とにより、塗布液供給部６Ａ及び６Ａ′から塗布
液分配室７に塗布液を送り、塗布に用いない余剰分を塗
布液タンク５に戻す。

【００３８】塗布液タンク５２から塗布液分配室７２へ
の送液も同様に行う。

【００３９】これにより円形量規制型塗布装置３，３２
内に形成した環状の塗布液分配室７，７２に供給されて
塗布液分配スリット８よりエンドレスの塗布液流出口９
より前記ホッパ塗布面４に塗布液２が連続的に供給さ
れ、塗布液２は前記円筒状基材１Ａの全周面に一層目が
塗布される。

【００４０】更に前記円形量規制型塗布装置３の上部に
円形量規制型塗布装置３２が設けられている。

【００４１】一層目の塗布液２が塗布されるため、円筒
状基材１Ａは矢示方向に上昇し、環状の円形量規制型塗
布装置３のホッパ塗布面４に進入する。ホッパ塗布面４
に供給される塗布液２を前記円筒状基材１Ａに塗布され
る。塗布方法としては、前記同様に前記環状の円形量規
制型塗布装置３を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心線
Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上端部より塗
布を行う。

【００４２】前記環状の円形量規制型塗布装置３２のホ
ッパ塗布面４２に塗布液２Ａを供給するため、外部に設
けた塗布液タンク５２より送液ポンプの塗布液供給部を
前記環状の円形量規制型塗布装置３２に接続し（接続方
法は前記塗布装置３に対するのと同一）、塗布液２Ａを
供給する。次に供給された塗布液２Ａは、前記円形量規
制型塗布装置３２内に形成した環状の塗布液分配室７２
に供給されて塗布液分配スリット８２よりエンドレスの
塗布液流出口９２より前記ホッパ塗布面４２に塗布液２
Ａが連続的に供給され、塗布液２Ａは前記円筒状基材１
Ａに塗布された塗布液２の全周面に塗布される。

【００４３】本発明の電子写真用感光体における円筒状
基材としては、アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケル
などの金属のドラム及びシート、紙、プラスチック又は
ガラス上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウ
ム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス、銅−イン
ジウムなどの金属を蒸着するか、酸化インジウム、酸化
錫などの導電性金属酸化物を蒸着するか、金属箔をラミ
ノートするか、又はカーボンブラック、酸化インジウ
ム、酸化錫−酸化アンチモン粉、金属粉、ヨウ化銅など
を結着樹脂に分散し、塗布することによっても導電処理
したドラム状、シート状、プレート状のものなど、公知
の材料を用いることができるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

【００４４】更に、必要に応じて円筒状基材の表面は、
画質に影響のない範囲で各種の処理を行うことができ
る。例えば、表面の酸化処理、薬品処理、着色処理等を
行うことができる。

【００４５】又、円筒状基材と電荷発生層（ＣＧＬ）の
間に更に下引き層を設けることが出来るが、この下引き
層は帯電時において、積層構造からなる感光層における
導電性の円筒状基材から感光層への電荷の注入を阻止す
るとともに、感光層を導電性の円筒状基材に対して一体
的に接着保持せしめる接着層としての作用、或いは円筒
状基材からの反射光の防止作用等を示す。この下引き層
（ＵＣＬ）に用いる樹脂は、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹
脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、
ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド樹脂、塩
化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、水
溶性ポリエステル、ニトロセルロース又はカゼイン、ゼ
ラチンなど公知な樹脂を用いることができるが、これら
に限定されるものではない。

【００４６】また、下引き層の厚みは０．０１〜１０μ
ｍ、好ましくは０．０５〜２μｍが適当である。

【００４７】電荷発生層は例えばモノアゾ色素、ジスア
ゾ色素、トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸
無水物、ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、イン
ジゴ、チオインジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキ
ノン、ピレンキノン及びフラパンスロン類などの多環キ
ノン類、キナグリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール
系色素、インダスロン系色素、スクエアリリウム系色
素、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどの
フタロシアニン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリ
ウム塩色素とポリカーボネートから形成される共晶錯体
等、公知各種の電荷発生物質（ＣＧＭ）を適当なバイン
ダー樹脂及び必要により電荷輸送物質（ＣＴＭ）と共に
溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによって形成
することができる。

【００４８】電荷発生物質を樹脂中に分散させる方法と
してはボールミル分散法、アトライター分散法、サンド
ミル分散法などを用いることができる。この際、電荷発
生物質は、体積平均粒径で５μｍ以下、好ましくは２μ
ｍ以下、最適には０．５μｍ以下の粒子サイズにするこ
とが有効である。これらの分散に用いる溶剤として、メ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチル
セルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン、酢酸メチル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチレンクロライド、クロロホルム、１，２−ジク
ロロエタン、モノクロロベンゼン、キシレンなどの通常
の有機溶剤を単独或いは２種類以上混合して用いること
ができる。

【００４９】本発明で用いるの電荷発生層の膜厚は、一
般的には０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２μｍが
適当である。

【００５０】本発明の電子写真感光体における電荷輸送
層は、電荷輸送物質（ＣＴＭ）を適当なバインダー中に
含有させて形成される。電荷輸送物質としては、２，５
−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−
オキサジアゾールなどのオキサゾアゾール誘導体、１，
３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−〔ピリジル−
（２）〕−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−
（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリンなどのピラ
ゾリン誘導体、トリフェニルアミン、スチリルトリフェ
ニルアミン、ジベンジルアニリンなどの芳香族第３級ア
ミノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス
（３−メチルフェニル）−１，１−ビフェニル−４，
４′−ジアミンなどの芳香族第３級ジアミノ化合物、３
−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−
（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン
などの１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルア
ミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン
などのヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル
−キンゾリンなどのキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ
−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン
などのベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニル
ビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリンなどのα−スチ
ルベン誘導体、“Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｉｍａｇｉｎ
ｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ”２９：７〜１０（１９８５）に記
載されているエナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール
などのカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾ
ールなどのポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導
体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタナート及びそ
の誘導体、更にはピレン、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−９−ビ
フェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹
脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂などの公
知の電荷輸送物質を用いることができるが、これらに限
定されるものではない。また、これらの電荷輸送物質は
単独或いは２種以上混合して用いることができる。

【００５１】更に、電荷輸送層における結着樹脂として
は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩
化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセ
テート樹脂、ブチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニ
リデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッ
ド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン
−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎビニルカルバゾールなどの
公知の樹脂を用いることができるが、これらに限定され
るものではない。また、これらの結着樹脂は単独或いは
２種以上混合して用いることができる。

【００５２】電荷輸送物質と結着樹脂との配合比（重量
比）は１０：１〜１：５が好ましい。本発明で用いる電
荷輸送層の膜厚は一般的には５〜５０μｍ、好ましくは
１０〜３０μｍが適当である。

【００５３】更に、電荷輸送層を設ける際に用いる溶剤
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベン
ゼンなどの芳香族系炭化水素類、アセトン、２−ブタノ
ンなどのケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化
エチレンなどのハロゲン化脂肪族系炭化水素類、テトラ
ヒドロフラン、エチルエーテルなどの環状若しくは直鎖
状のエーテル類などの通常の有機溶剤を単独或いは２種
類以上混合して用いることができる。

【００５４】更に、必要に応じて電荷輸送層の上に保護
層（ＯＣＬ）を設けてもよい。この保護層は、積層構造
からなる感光層の帯電時の電荷輸送層の化学的変質を防
止すると共に、感光層の機械的強度を改善する為に用い
られる。

【００５５】又前記保護層中に前述した電荷輸送材料を
添加してもよい。

【００５６】また、この保護層に用いる結着樹脂として
は、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂ポリエステル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネー
ト、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン、ポリアクリ
ルアミド樹脂などの公知の樹脂を用いることができる。

【００５７】また、保護層は像露光に用いられる光の通
過を実質上妨げないよう構成されなければならない。

【００５８】本発明で用いる保護層の膜厚は０．５〜２
０μｍ、好ましくは１〜１０μｍが適当である。

【００５９】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。

【００６０】実施例１ （実施例及び比較例）円筒状基材としては鏡面加工を施
した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラ
ム支持体を用いた。

【００６１】前記基材上に下記の如く塗布液組成物ＵＣ
Ｌ−１を調製し、吸引脱泡法により液中の泡を除去し
た。その後、図１のポンプ送液系統にて、図３に記載の
如くのスライドホッパ塗布装置にて０．３μｍ塗布し、
実施例１−１、比較例１−１を得た。

【００６２】 ＵＣＬ−１塗布液組成物 共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製） ２０ｇ メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比） １０００ｍｌ 本実施例１−１の場合、６−１の主ポンプの送液量は５
０ｍｌ／ｍｉｎであり、６−２のポンプの送液量は４７
ｍｌ／ｍｉｎであり、実送液量は３ｍｌ／ｍｉｎであ
る。

【００６３】結果を表１に示す。

【００６４】

【表１】

【００６５】本発明によると、膜厚変動幅は小さく薄膜
塗布性は良好であった。

【００６６】実施例２ 円筒状機材としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高
さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。

【００６７】実施例１と同様に上記支持体上に下記の如
く塗布液組成物ＣＧＬ−１を調製し、加圧脱泡法により
液中の泡を除去した後、塗布（乾燥膜厚０．４μｍ、液
膜厚２０μｍ）し、実施例２−１を得た。但し図１の代
わりに図２のポンプ送液系統を用いた。

【００６８】なお比較例２−１は比較例１−１と同じで
塗布液をＣＧＬ−１に変えて塗布したものである。

【００６９】 ＣＧＬ−１塗布液組成物 Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−１） １００ｇ シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０ 信越化学社製） １００ｇ ｔ−酢酸ブチル １００００ｍｌ 上記塗布液組成物をサンドミルを用いて１７時間分散し
た。

【００７０】本実施例２−１の場合、６−１の主ポンプ
の送液量は５０ｍｌ／ｍｉｎであり、６−２のポンプの
送液量は４５ｍｌ／ｍｉｎであり、実送液量は５ｍｌ／
ｍｉｎである。

【００７１】結果を表２に示す。

【００７２】

【化１】

【００７３】

【表２】

【００７４】本発明によると、膜厚変動は小さく、顔料
の凝集や沈降も見られず薄膜塗布性は良好であることが
わかる。

【００７５】本発明の塗布方法によれば、表１〜２から
明らかな如く塗布ムラ、色ムラ、膜厚変動のムラ等の塗
布故障がなく、また重層性も優れることがわかる。

【００７６】また本発明の方法で支持体上に前記ＵＣＬ
−１層、その上に前記ＣＧＬ−１層さらにその上にＣＴ
Ｍ−１を含有するＣＴＬ（２３μｍ）を塗布し、多層有
機感光体を組み上げ実写テストを行ったところ、初期か
ら５千枚コピー後でも、膜厚変動や塗布ムラに起因する
画像ムラ、画像欠陥はなく良好な画像が得られた。

【００７７】

【化２】

【００７８】

【発明の効果】本発明により、 （１）膜厚変動のない優れた電子写真感光体の製造方法
を提供する事が出来る。

【００７９】（２）さらに同一塗布装置から複数の塗布
層を同時に基材上に形成させるいわゆる同時重層塗布に
おいても膜厚変動のない優れた電子写真感光体の製造方
法を提供することが出来る。

【００８０】（３）さらに又、複数の塗布装置から塗布
層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次重層塗布にお
いても、膜厚変動のない優れた電子写真感光体の製造方
法を提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の塗布装置の概要断面図。

【図２】本発明の塗布装置の他の概要断面図。

【図３】本発明に係わる環状の円形量規制型塗布装置の
斜視図。

【図４】本発明の好ましい態様の塗布装置の概要断面
図。

【図５】本発明の好ましい、もう一つの態様の塗布装置
の概要断面図。

【符号の説明】

１Ａ，１Ｂ 円筒状基材 ２，２Ａ 塗布液 ３，３２ 円形量規制型塗布装置 ４，４２ ホッパ塗布面 ５，５１，５２ 塗布液タンク ６−１，６−２ 送液ポンプ ６−１′，６−２′ 送液管 ６Ａ，６Ａ′ 塗布液供給部 ７，７２ 塗布液分配室 ８，８２ 塗布液分配スリット

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、
   下から上へ垂直に押し上げながら、円形量規制型塗布装
   置により前記基材外周面上に、塗布液タンクから送液手
   段により送液された塗布液を塗布液分配室を経て前記基
   材上に塗布する電子写真感光体の製造方法において、前
   記送液手段は１つの送液手段Ａと該送液手段Ａから送ら
   れた液の一部を前記塗布液タンクに戻す送液手段Ｂより
   なり、送液手段Ａの送液量Ｖａと送液手段Ｂの送液量Ｖ
   ｂとの差の量を前記基材上に送液し、３〜５０μｍの塗
   布液膜を形成し、乾燥膜厚変動率を２０％以下にしたこ
   とを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
2. 【請求項２】 前記垂直型塗布装置がスライドホッパー
   型塗布装置であることを特徴とする請求項１記載の電子
   写真感光体の製造方法。
3. 【請求項３】 前記送液手段Ｂにより塗布液分配内から
   塗布液タンクに戻すことを特徴とする請求項１又は２記
   載の電子写真感光体の製造方法。
4. 【請求項４】 前記円形量規制型塗布装置が逐次重層塗
   布方法であることを特徴とする請求項１、２又は３記載
   の電子写真感光体の製造方法。
5. 【請求項５】 前記円形量規制型塗布装置が同時重層塗
   布方法であることを特徴とする請求項１、２又は３記載
   の電子写真感光体の製造方法。