JPH1010672A - Heat developing photosensitive material - Google Patents

Heat developing photosensitive material

Info

Publication number
JPH1010672A
JPH1010672A JP21582296A JP21582296A JPH1010672A JP H1010672 A JPH1010672 A JP H1010672A JP 21582296 A JP21582296 A JP 21582296A JP 21582296 A JP21582296 A JP 21582296A JP H1010672 A JPH1010672 A JP H1010672A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
embedded image
general formula
formula
represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP21582296A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3720131B2 (en
Inventor
Tsutomu Arai
勉 荒井
Toshiaki Kubo
利昭 久保
Minoru Sakai
稔 酒井
Kozaburo Yamada
山田耕三郎
Kazunobu Kato
和信 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP21582296A priority Critical patent/JP3720131B2/en
Publication of JPH1010672A publication Critical patent/JPH1010672A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3720131B2 publication Critical patent/JP3720131B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a heat developing photosensitive material having high sensitivity and Dmax by incorporating a specified compd. and a hydrazine deriv. SOLUTION: This photosensitive material contains a compd. expressed by formula I and a hydrazine deriv. In formula I, R is a hydrogen atom or alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (e.g. -C4 H9 , 2,4,4-trimethylpentyl) and R' and R" are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms (e.g. methyl, ethyl and t-butyl groups). As for the hydrazine deriv., a compd. expressed by formula II is preferable. In formula II, R1 is an aliphatic group or aromatic heterocyclic group, R2 is a hydrogen atom, alkyl group, etc., G1 represents -CO-, -SO2 -, etc., and A1 , A2 are hydrogen atoms or one of these is hydrogen atom and the other is an alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, etc.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
し、特に印刷製版用に適している熱現像感材に関するも
のである。
The present invention relates to a photothermographic material and, more particularly, to a photothermographic material suitable for printing plate making.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱現像処理法を用いて写真画像を形成す
る熱現像感光材料は、例えば米国特許第3152904
号、3457075号、及びD.モーガン(Morgan) と
B.シェリー(Shely)による「熱によって処理される銀
システム(Thermally Processed Silver Systems) 」
(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアル
ズ(Imaging Processes and Materials) Neblette 第8
版、スタージ(Sturge) 、V.ウォールワース(Walwor
th) 、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、1969年
に開示されている。このような熱現像感光材料は、還元
可能な銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量の光触媒
(例えばハロゲン化銀)、銀の色調を制御する色調剤及
び還元剤を通常バインダーマトリックス中に分散した状
態で含有している。熱現像感光材料は常温で安定である
が、露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱した場合
に還元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元剤と
の間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還
元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促進さ
れる。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀
は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、
画像の形成がなされる。このような熱現像感光材料は、
マイクロ感材や、レントゲンに使われてきたが、印刷感
材としては一部で使われているのみである。それは、得
られる画像のDmaxが低く、階調が軟調なために、印
刷用感材としては画質が著しく悪いからであった。一
方、近年レーザーや発光ダイオードの発達により、60
0〜800nmに発振波長を有するスキャナーやイメー
ジセッターが広く普及し、これらの出力機に適性を有す
る、感度、Dmaxが高く、かつ硬調な感材の開発が強
く望まれていた。また、簡易処理、ドライ化への要求も
強くなっている。
2. Description of the Related Art A photothermographic material for forming a photographic image by using a heat development processing method is disclosed, for example, in US Pat. No. 3,152,904.
No. 3457075 and D.C. Morgan and B.A. "Thermally Processed Silver Systems" by Shely
(Imaging Processes and Materials Neblette 8
Edition, Sturge, V. Walworth
th), A. Shepp, page 2, 1969. Such a photothermographic material usually contains a reducible silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), a color tone controlling agent for controlling the color tone of silver, and a reducing agent in a binder matrix. It is contained in a dispersed state. Although the photothermographic material is stable at room temperature, it can be reduced by a redox reaction between a silver source (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent when heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure. Produces silver. This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. Silver produced by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas,
An image is formed. Such a photothermographic material is
Although it has been used for micro-sensitive materials and X-rays, it is only used in some printing materials. This is because the obtained image has a low Dmax and soft gradation, so that the image quality of the printing photosensitive material is extremely poor. On the other hand, with the development of lasers and light emitting diodes in recent years,
Scanners and imagesetters having an oscillation wavelength of 0 to 800 nm have become widespread, and there has been a strong demand for the development of a sensitive material having high sensitivity, high Dmax, and high contrast suitable for these output devices. Also, demands for simple processing and dry processing are increasing.

【0003】ところで、米国特許第3,667,958
号には、ポリヒドロキシベンゼン類とヒドロキシルアミ
ン類、レダクトン類又はヒドラジン類を併用した熱現像
感光材料が高い画質識別性と解像力を有することが記載
されているが、この還元剤の組合せはカブリの上昇を引
き起し易いことが判った。
[0003] By the way, US Patent No. 3,667,958.
Describes that a photothermographic material using a combination of polyhydroxybenzenes and hydroxylamines, reductones or hydrazines has high image quality discrimination and resolution. It turned out that it was easy to cause a rise.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は感度、
Dmaxの高い熱現像感光材料を提供することにある。
本発明の目的は画質がよい印刷製版用感光材料を提供す
ることにある。本発明の別の目的は、湿式処理が必要な
い完全ドライ処理の印刷製版用感光材料を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide sensitivity,
An object of the present invention is to provide a photothermographic material having a high Dmax.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photosensitive material for printing plate making having good image quality. Another object of the present invention is to provide a photosensitive material for printing plate making of a completely dry process which does not require a wet process.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記の1)〜7)の発明によって達成された。 1)有機酸銀とハロゲン化銀を含む熱現像感光材料にお
いて、下記一般式(A)の化合物とヒドラジン誘導体を
含有することを特徴とする熱現像感光材料によって達成
できた。
The above objects of the present invention have been attained by the following inventions 1) to 7). 1) A photothermographic material containing a silver salt of an organic acid and silver halide, which comprises a compound represented by the following general formula (A) and a hydrazine derivative.

【0006】[0006]

【化9】 Embedded image

【0007】式中Rは水素原子、または炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、−C4H9、2,4,4−トリ
メチルペンチル)を表し、R′およびR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。 2)有機酸銀とハロゲン化銀を含む熱現像感光材料にお
いて、下記一般式(R-I)、(R-II)、(R-III)もしくは(R-I
V)で表される化合物とヒドラジン誘導体を含有するこ
とを特徴とする熱現像感光材料。
In the formula, R is a hydrogen atom or a group having 1 to 1 carbon atoms.
10 alkyl group (e.g., -C 4 H 9, 2,4,4-trimethyl pentyl) represents, R 'and R "is an alkyl group (e.g., methyl 1 to 5 carbon atoms, ethyl, t- butyl 2) In a photothermographic material containing a silver salt of an organic acid and silver halide, the following general formula (RI), (R-II), (R-III) or (RI)
A photothermographic material comprising the compound represented by formula (V) and a hydrazine derivative.

【0008】[0008]

【化10】 Embedded image

【0009】なお、一般式(R-III)においてZが形成す
る環構造は下記のものである。
The ring structure formed by Z in the general formula (R-III) is as follows.

【0010】[0010]

【化11】 Embedded image

【0011】また、一般式(R-IV)においてZが形成す
る環構造は下記のものである。
In the general formula (R-IV), the ring structure formed by Z is as follows.

【0012】[0012]

【化12】 Embedded image

【0013】式中、L1、L2は、>CH(R6)で表さ
れる基もしくは硫黄原子である。nは自然数を表す。式
中、R1 〜R10、R1′〜R5′、R11〜R13、R11′〜
13′、R21〜R28、R21′〜R28′は、水素原子、ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、
アミノ基もしくは−OAで表される基である。但し、R
1 〜R5の少なくとも一つは−OAで表される基であ
り、R1′〜R5′の少なくとも一つは−OAで表される
基であり、R7〜R10の少なくとも一つは−OAで表さ
れる基である。また、R1 〜R10、R1′〜R5′、R11
〜R13、R11′〜R13′、R21〜R28、R21′〜R28
の各々の中の複数個の置換基が互いに結合して環を形成
してもよい。A,A′は、水素原子、アルキル基、アシ
ル基、アリール基、リン酸基、スルホニル基を表す。R
1 〜R10、R1′〜R5′、R11〜R13、R11′〜
13′、R21〜R28、R21′〜R28′A,A′は置換さ
れていてもよい。但し、一般式(R-III)において、R1
〜R5の少なくとも一方、R1′〜R5 ′の少なくとも一
方が−OAで表される基の場合は、L1は硫黄原子であ
る。 3)ヒドラジン誘導体が下記一般式(I)で表されるも
のであることを特徴とする1)又は2)記載の熱現像感
光材料。
In the formula, L 1 and L 2 are a group represented by> CH (R 6 ) or a sulfur atom. n represents a natural number. Wherein R 1 to R 10 , R 1 ′ to R 5 ′, R 11 to R 13 , R 11 ′ to
R 13 ′, R 21 to R 28 , R 21 ′ to R 28 ′ represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom,
It is a group represented by an amino group or -OA. Where R
At least one of the 1 to R 5 is a group represented by -OA, at least one of R 1 '~R 5' is a group represented by -OA, at least one of R 7 to R 10 Is a group represented by -OA. Also, R 1 to R 10 , R 1 ′ to R 5 ′, R 11
~R 13, R 11 '~R 13 ', R 21 ~R 28, R 21 '~R 28'
May be bonded to each other to form a ring. A and A 'represent a hydrogen atom, an alkyl group, an acyl group, an aryl group, a phosphate group, and a sulfonyl group. R
1 ~R 10, R 1 '~R 5', R 11 ~R 13, R 11 '~
R 13 ', R 21 ~R 28 , R 21' ~R 28 'A, A' may be substituted. However, in the general formula (R-III), R 1
At least one of to R 5, if the group in which at least one of R 1 '~R 5' is represented by -OA, L 1 is a sulfur atom. 3) The photothermographic material according to 1) or 2), wherein the hydrazine derivative is represented by the following general formula (I).

【0014】[0014]

【化13】 Embedded image

【0015】式中、R1 は脂肪族基又は芳香族基ヘテロ
環を表わし、R2 は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ミノ基またはヒドラジノ基を表わし、G1 は−CO−
基、−SO2 −基、−SO−基、
In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic hetero ring, and R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group. G 1 is -CO-
Group, -SO 2 - group, -SO- group,

【0016】[0016]

【化14】 Embedded image

【0017】、−CO−CO−基、チオカルボニル基、
又はイミノメチレン基を表わし、A1、A2 はともに水
素原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは
無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置
換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換の
アシル基を表わす。R3 はR2 に定義した基と同じ範囲
内より選ばれ、R2 と異なってもよい。 4)ヒドラジン誘導体が下記一般式(II)〜(V)で表さ
れる化合物であることを特徴とする1)〜3)のいずれ
かに記載の熱現像感光材料。
A —CO—CO— group, a thiocarbonyl group,
Or A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted group. Represents an acyl group. R 3 is selected from the same range as the groups defined in R 2, may be different from R 2. 4) The photothermographic material according to any one of 1) to 3), wherein the hydrazine derivative is a compound represented by the following general formulas (II) to (V).

【0018】[0018]

【化15】 Embedded image

【0019】式中、R10〜R13は芳香族基もしくは不飽
和ヘテロ環基を表し、A10〜A13,A20〜A23はA1
2 と同じ意味を表す。一般式(III)においてR21は少
なくとも一つの電子吸引性基で置換されたアルキル基、
少なくとも一つの電子吸引性基で置換されたアリール
基、ヘテロ環基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、ヘテロ環アミノ基、ヒドラジノ基、アルコ
キシ基又はアリールオキシ基を表す。一般式(V)におい
てG13は−SO2−基,−SO−基、
In the formula, R 10 to R 13 represent an aromatic group or an unsaturated heterocyclic group, and A 10 to A 13 and A 20 to A 23 represent A 1 ,
Represent the same meaning as A 2. In the general formula (III), R 21 is an alkyl group substituted with at least one electron-withdrawing group,
Represents an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a hydrazino group, an alkoxy group, or an aryloxy group substituted with at least one electron-withdrawing group. In the general formula (V), G 13 represents a —SO 2 — group, a —SO— group,

【0020】[0020]

【化16】 Embedded image

【0021】(R30は一般式(I)のR3と同義の
基)、チオカルボニル基、又はイミノメチレン基を表わ
し、R23はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、ヘテロ環アミノ基又はヒドラジノ基を表
す。 5)熱現像処理後の階調γが、γ>5であることを特徴
とする1)〜4)のいずれかに記載の熱現像感光材料。
(R 30 is a group having the same meaning as R 3 in formula (I)), a thiocarbonyl group or an iminomethylene group, and R 23 is an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an amino group. , An alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group or a hydrazino group. 5) The photothermographic material according to any one of 1) to 4), wherein the gradation γ after the heat development processing is γ> 5.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明に用いられるヒドラジン誘
導体は、下記一般式(I)によって表わされる化合物が
好ましい。 一般式(I)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The hydrazine derivative used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (I). General formula (I)

【0023】[0023]

【化17】 Embedded image

【0024】式中、R1 は脂肪族基又は芳香族基テロ環
基を表わし、R2 は水素原子、アルキル基、アリール
基、不飽和ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミノ基またはヒドラジノ基を表わし、G1 は−C
O−基、−SO2 −基、−SO−基、
In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic telocyclic group, and R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an unsaturated heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or A hydrazino group, G 1 is —C
O- group, -SO 2 - group, -SO- group,

【0025】[0025]

【化18】 Embedded image

【0026】、−CO−CO−基、チオカルボニル基、
又はイミノメチレン基を表わし、A1、A2 はともに水
素原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは
無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置
換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換の
アシル基を表わす。R3 はR2 に定義した基と同じ範囲
内より選ばれ、R2 と異なってもよい。
A —CO—CO— group, a thiocarbonyl group,
Or A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted group. Represents an acyl group. R 3 is selected from the same range as the groups defined in R 2, may be different from R 2.

【0027】一般式(I)において、R1 で表わされる
脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、
特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル
基である。ここで分岐アルキル基はその中に1つまたは
それ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成す
るように環化されていてもよい。また、このアルキル基
は置換基を有していてもよい。一般式(I)において、
1 で表わされる芳香族基は単環または2環のアリール
基または不飽和ヘテロ環基である。ここで、不飽和ヘテ
ロ環基は単環または2環のアリール基と縮環してヘテロ
アリール基を形成してもよい。例えばベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、ピリミジン環、イミダゾール
環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベン
スイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環
等があるが、なかでもベンゼン環を含むものが好まし
い。R1 として特に好ましいものはアリール基である。
1 の脂肪族基または芳香族基は置換されていてもよ
く、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、複素環を含む基、
ピリジニウム基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリー
ロキシ基、アシルオキシ基、アルキルまたはアリールス
ルホニルオキシ基、アミノ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、セミカル
バジド基、チオセミカルバジド基、ウレタン基、ヒドラ
ジド構造を持つ基、4級アンモニウム構造を持つ基、ア
ルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはアリール
スルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル
基、カルボキシル基、スルホ基、アシル基、アルコキシ
またはアリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、ス
ルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、リン酸アミ
ド基、ジアシルアミノ基、イミド基、アシルウレア構造
を持つ基、セレン原子またはテルル原子を含む基、3級
スルホニウム構造または4級スルホニウム構造を持つ基
などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持
つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1
〜30のもの)などである。
In the general formula (I), the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms,
Particularly, it is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Here, the branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. Further, this alkyl group may have a substituent. In the general formula (I),
The aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group. For example, there are a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring and the like. Among them, those containing a benzene ring are preferable. Particularly preferred as R 1 is an aryl group.
The aliphatic group or the aromatic group of R 1 may be substituted, and typical substituents include, for example, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a group containing a heterocyclic ring,
Pyridinium group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkyl or arylsulfonyloxy group, amino group, carbonamide group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, urethane group, hydrazide Group having a quaternary ammonium structure, alkyl or arylthio group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfinyl group, carboxyl group, sulfo group, acyl group, alkoxy or aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl Group, halogen atom, cyano group, phosphoric acid amide group, diacylamino group, imide group, group having an acylurea structure, group containing a selenium atom or tellurium atom, tertiary sulfonium structure, etc. Is a group having a quaternary sulfonium structure. Preferred examples of the substituent include a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms) and an aralkyl group (preferably having an alkyl moiety having a carbon number of 1 to 20). Monocyclic or bicyclic one to three), an alkoxy group (preferably one having 1 to 20 carbon atoms), a substituted amino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), an acylamino Group (preferably having 2 to 30 carbon atoms), sulfonamide group (preferably having 1 to 3 carbon atoms)
0), a ureido group (preferably having 1 to 3 carbon atoms)
0), a phosphoric amide group (preferably having 1 carbon atom)
To 30).

【0028】一般式(I)において、R2 で表わされる
アルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキ
ル基であり、アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものであ
る。ヘテロ環基としては少なくとも1つの窒素、酸素、
および硫黄原子を含む5〜6員環の化合物で、例えばモ
ルフォリノ基、ピペリジノ基、ピロリニル基、イミダゾ
リル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル
基、ピリジル基、ピリジニウム基、キノリニウム基、キ
ノリニル基、インダゾリル基などがある。インダゾリル
基またはピリジニウム基が特に好ましい。アルコキシ基
としては炭素数1〜8のアルコキシ基のものが好まし
く、アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、
アミノ基としては無置換アミノ基、及び炭素数1〜10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましい。R
2 は置換されていても良く、好ましい置換基としてはR
1 の置換基として例示したものがあてはまる。R2 で表
わされる基のうち好ましいものは、G1 が−CO−基の
場合には、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、
トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3
−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニ
ルメチル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロ
キシベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル
基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホン
アミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、
2−ヒドロキシメチルフェニル基など)、−C2F4COOM
(M:水素原子、アルカリ金属原子)、ヘテロ環基(ニ
トロインダゾリル、イミダゾリル等)などである。 ま
た、G1 が−SO 2 −基の場合には、R2 はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、o
−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば、
フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、ジメチ
ルアミノ基など)などが好ましい。G1 が−COCO−
基の場合にはアルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基
が好ましい。一般式(I)のGとしては−CO−基、−
COCO−基が好ましく、−CO−基が最も好ましい。
又、R2 はG1 −R2 の部分を残余分子から分裂させ、
−G1 −R2 部分の原子を含む環式構造を生成させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、その例と
しては、例えば特開昭63−29751号などに記載の
ものが挙げられる。
In the general formula (I), RTwo Represented by
The alkyl group is preferably an alkyl having 1 to 4 carbon atoms.
A monocyclic or bicyclic aryl
Are preferred, for example those containing a benzene ring.
You. At least one nitrogen, oxygen,
And a 5- to 6-membered ring compound containing a sulfur atom, for example,
Ruforino, piperidino, pyrrolinyl, imidazo
Ryl, pyrazolyl, triazolyl, tetrazolyl
Group, pyridyl group, pyridinium group, quinolinium group,
Examples include a norinyl group and an indazolyl group. Indazolyl
Groups or pyridinium groups are particularly preferred. Alkoxy group
Is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms
The aryloxy group is preferably a monocyclic one,
As the amino group, an unsubstituted amino group and 1 to 10 carbon atoms
Are preferably an alkylamino group and an arylamino group. R
Two May be substituted, and a preferred substituent is R
1 The above-mentioned substituents are applicable. RTwo In table
Preferred among the groups mentioned are G1 Is a -CO- group
In such a case, a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group,
Trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3
-Methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfoni
Aralkyl group (e.g., o-hydro
An aryl group (eg, phenyl)
Group, 3,5-dichlorophenyl group, o-methanesulfone
An amidophenyl group, a 4-methanesulfonylphenyl group,
2-hydroxymethylphenyl group), -CTwoFFourCOOM
(M: hydrogen atom, alkali metal atom), heterocyclic group (d
Troindazolyl, imidazolyl, etc.). Ma
G1 Is -SO Two -In the case of a groupTwo Is an alkyl group
(Eg, a methyl group), an aralkyl group (eg, o
-Hydroxybenzyl group), an aryl group (for example,
A phenyl group or the like or a substituted amino group (eg, dimethyl
And the like are preferred. G1 Is -COCO-
In the case of a group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group
Is preferred. In the general formula (I), G represents a -CO- group,-
A COCO- group is preferred, and a -CO- group is most preferred.
Also, RTwo Is G1 -RTwo Is split from the remaining molecules,
-G1 -RTwo Rings that form cyclic structures containing partial atoms
Which may cause a chemical reaction,
As described in, for example, JP-A-63-29751.
Things.

【0029】A1 、A2 は水素原子、炭素数20以下の
アルキルまたはアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基、又はハメットの置換基定数の和が−
0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状、又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置
換基としては、例えばハロゲン原子、エーテル基、スル
ホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ
基、スルホン酸基が挙げられる))である。A1 、A2
としては水素原子が最も好ましい。
A 1 and A 2 represent a hydrogen atom, an alkyl or aryl sulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenyl sulfonyl group or a Hammett having a sum of substituent constants of-
A phenylsulfonyl group substituted so as to have a value of 0.5 or more; an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group or a substituent having a sum of Hammett's substituent constants of -0.5 or more); A benzoyl group or a linear, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic acyl group (for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, a sulfonic acid group; ))). A 1 , A 2
Is most preferably a hydrogen atom.

【0030】一般式(I)のR1 、R2 の置換基はさら
に置換されていても良く、好ましい例としてはR1 の置
換基として例示したものが挙げられる。さらにその置換
基、その置換基の置換基、置換基の置換基の置換基・・
・、というように多重に置換されていても良く、好まし
い例はやはりR1 の置換基として例示したものがあては
まる。
The substituents of R 1 and R 2 in the general formula (I) may be further substituted, and preferred examples include those exemplified as the substituent of R 1 . Furthermore, the substituent, the substituent of the substituent, the substituent of the substituent of the substituent, ...
, Etc. may be substituted multiple times, and preferred examples also include those exemplified as the substituent of R 1 .

【0031】一般式(I)のR1 またはR2 はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性
に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフ
ェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの
中から選ぶことができる。またポリマーとしては、例え
ば特開平1−100530号に記載のものが挙げられ
る。
R 1 or R 2 in the formula (I) may have a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein. A ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inert to photographic properties, for example, an alkyl group,
It can be selected from aralkyl groups, alkoxy groups, phenyl groups, alkylphenyl groups, phenoxy groups, alkylphenoxy groups and the like. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.

【0032】一般式(I)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、アル
キルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、複素環チオ
アミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの
米国特許第4,385,108号、同4,459,34
7号、特開昭59−195233号、同59−2002
31号、同59−201045号、同59−20104
6号、同59−201047号、同59−201048
号、同59−201049号、特開昭61−17073
3号、同61−270744号、同62−948号、同
63−234244号、同63−234245号、同6
3−234246号に記載された基があげられる。
R 1 or R 2 in the general formula (I) may have incorporated therein a group which enhances the adsorption to the surface of the silver halide grains. Examples of such an adsorbing group include U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,34 such as an alkylthio group, an arylthio group, a thiourea group, a heterocyclic thioamide group, a mercapto heterocyclic group, and a triazole group.
7, JP-A-59-195233 and JP-A-59-2002.
No. 31, No. 59-201045, No. 59-20104
No. 6, No. 59-201047, No. 59-201048
No. 59-201049, JP-A-61-17073.
Nos. 3, 61-270744, 62-948, 63-234244, 63-234245, and 6
Groups described in JP-A-3-234246.

【0033】本発明において特に好ましいヒドラジン誘
導体について、以下に説明する。
The hydrazine derivative particularly preferred in the present invention will be described below.

【0034】また、本発明で用いられるヒドラジン誘導
体のうち、更に好ましいものは、次の一般式(II)〜
(V)で表される化合物である。
Further, among the hydrazine derivatives used in the present invention, more preferred ones are represented by the following general formulas (II) to (II).
It is a compound represented by (V).

【0035】[0035]

【化19】 Embedded image

【0036】式中、R10〜R13は芳香族基もしくは不飽
和ヘテロ環基、具体的にはアリール基又は不飽和ヘテロ
環基を表し、A10〜A13,A20〜A23はA1 、A2 と同
じ意味を表す。一般式(III)においてR21は少なくとも
一つの電子吸引性基で置換されたアルキル基、少なくと
も一つの電子吸引性基で置換されたアリール基、ヘテロ
環基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ
基、ヘテロ環アミノ基、ヒドラジノ基、アルコキシ基又
はアリールオキシ基を表す。一般式(V)においてG13
−SO2−基,−SO−基、
In the formula, R 10 to R 13 represent an aromatic group or an unsaturated heterocyclic group, specifically an aryl group or an unsaturated heterocyclic group, and A 10 to A 13 and A 20 to A 23 represent A 1 and A 2 have the same meaning. In the general formula (III), R 21 represents an alkyl group substituted with at least one electron-withdrawing group, an aryl group substituted with at least one electron-withdrawing group, a heterocyclic group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group. A heterocyclic amino group, a hydrazino group, an alkoxy group or an aryloxy group. In the general formula (V), G 13 represents a —SO 2 — group, a —SO— group,

【0037】[0037]

【化20】 Embedded image

【0038】(R30は一般式(I)のR3と同義の
基)、チオカルボニル基、又はイミノメチレン基を表わ
し、R23はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、ヘテロ環アミノ基又はヒドラジノ基を表
す。一般式(II)で表される化合物のうち、更に好まし
いものは次の一般式(II-1)で表される化合物である。
(R 30 is a group having the same meaning as R 3 in formula (I)), a thiocarbonyl group or an iminomethylene group, and R 23 is an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an amino group. , An alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group or a hydrazino group. Among the compounds represented by the general formula (II), more preferred are the compounds represented by the following general formula (II-1).

【0039】[0039]

【化21】 Embedded image

【0040】式中、X10はスルホンアミド基、ウレイド
基、チオウレイド基、オキシカルボニル基、スルホンア
ミド基、ホスホンアミド基、アルキルアミノ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、総炭素数2以上のアルコキシ基、ア
リールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘ
テロ環チオ基、総炭素数3以上のアシルアミノ基、カル
バモイル基、スルファモイル基、又はアルキルもしくは
アリールスルホニル基を表し、m10は0〜5の整数を表
す。Y10はX10で表される基、又はニトロ基、メトキシ
基、アルキル基、あるいはアセトアミド基を表し、n10
は0〜4の整数を表す。但し、m10とn10の和が5を越
えることはなく、またm10が0の時、A 100かA200のい
ずれかは水素原子ではない。A100、A200は一般式(I)
におけるA1,A2と同義である。m10は好ましくは1又
は2、n10は好ましくは0又は1であり、最も好ましく
はm10が1、n10が0である。
Where XTenIs a sulfonamide group, ureido
Group, thioureido group, oxycarbonyl group, sulfone
Amide group, phosphonamide group, alkylamino group, halogen
Atom, cyano group, alkoxy group having 2 or more carbon atoms,
Reeloxy, alkylthio, arylthio, f
Telocyclic thio group, acylamino group having 3 or more carbon atoms,
Bamoyl group, sulfamoyl group, or alkyl or
Represents an arylsulfonyl group, mTenRepresents an integer of 0 to 5
You. YTenIs XTenOr a nitro group or methoxy
Group, alkyl group or acetamido group, nTen
Represents an integer of 0 to 4. Where mTenAnd nTenSum exceeds 5
Never getTenWhen is 0, A 100Or A200No
It is not a hydrogen atom. A100, A200Is the general formula (I)
A in1, ATwoIs synonymous with mTenIs preferably one or
Is 2, nTenIs preferably 0 or 1, most preferably
Is mTenIs 1, nTenIs 0.

【0041】一般式(III)において,R21は好ましくは
ヘテロ環基(例えばモルフォリノ、インダゾリル、イミ
ダゾリル、ピリジル等)、少なくとも一つの電子吸引性
基で置換されたアルキル基、又は少なくとも一つの電子
吸引性基で置換されたアリール基を表す。ここに、電子
吸引性基とはハメットの置換基常数σmが正の値をとる
置換基のことであり、具体的にはハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、アシル基、オキシカルボニル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシ
ルオキシ基(アルキルもしくはアリールスルホニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、又はイミド基等を表す。R21は更に好ま
しくは少なくとも一つの電子吸引性基で置換されたアル
キル基であり、その電子吸引性基としてはフッ素原子、
アルコキシ基、アリールオキシ基が特に好ましい。一般
式(IV)においてR22は好ましくはアミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、又は
アルコキシ基である。一般式(V)においてG13は好まし
くは−SO2 −、チオカルボニル基、
In the general formula (III), R 21 is preferably a heterocyclic group (for example, morpholino, indazolyl, imidazolyl, pyridyl, etc.), an alkyl group substituted with at least one electron-withdrawing group, or at least one electron-withdrawing group. Represents an aryl group substituted with a functional group. Here, the electron-withdrawing group refers to a substituent having a positive Hammett's substituent constant σm, and specifically includes a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an acyl group, an oxycarbonyl group, and a sulfonamide. Group, sulfamoyl group, carbamoyl group, acyloxy group (alkyl or arylsulfonyl group,
Represents an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an imide group, or the like. R 21 is more preferably an alkyl group substituted with at least one electron-withdrawing group, wherein the electron-withdrawing group is a fluorine atom,
An alkoxy group and an aryloxy group are particularly preferred. In the general formula (IV), R 22 is preferably an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, or an alkoxy group. In the general formula (V), G 13 is preferably —SO 2 —, a thiocarbonyl group,

【0042】[0042]

【化22】 Embedded image

【0043】(R30は一般式(I)のR3と同義)であ
る。R23は、G13が−SO2 −のとき、好ましくはアル
キル基、アリール基であり、またG13が上記の(化2
1)の時、アリールオキシ基、アルキルもしくはアリー
ルアミノ基が、また、G13がチオカルボニル基の時、ア
ルキルもしくはアリールアミノ基、ヒドラジノ基が好ま
しい。本発明で用いられるヒドラジン誘導体のうち特に
好ましいものは一般式(III)〜(V) で表わされる化合物
である。
(R 30 is the same as R 3 in formula (I)). R 23 is, G 13 is -SO 2 - when, preferably an alkyl group, an aryl group, also G 13 is the (Formula 2
In the case of 1), an aryloxy group or an alkyl or arylamino group is preferable, and when G 13 is a thiocarbonyl group, an alkyl or arylamino group or a hydrazino group is preferable. Particularly preferred among the hydrazine derivatives used in the present invention are compounds represented by formulas (III) to (V).

【0044】以下に本発明で使用しうるヒドラジン誘導
体の具体例を挙げるが本発明はこれに限定されるもので
はない。
The following are specific examples of the hydrazine derivative that can be used in the present invention, but the present invention is not limited thereto.

【0045】[0045]

【化23】 Embedded image

【0046】[0046]

【化24】 Embedded image

【0047】[0047]

【化25】 Embedded image

【0048】[0048]

【化26】 Embedded image

【0049】[0049]

【化27】 Embedded image

【0050】[0050]

【化28】 Embedded image

【0051】[0051]

【化29】 Embedded image

【0052】[0052]

【化30】 Embedded image

【0053】[0053]

【化31】 Embedded image

【0054】[0054]

【化32】 Embedded image

【0055】[0055]

【化33】 Embedded image

【0056】[0056]

【化34】 Embedded image

【0057】[0057]

【化35】 Embedded image

【0058】[0058]

【化36】 Embedded image

【0059】[0059]

【化37】 Embedded image

【0060】[0060]

【化38】 Embedded image

【0061】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、RESEARCH DISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許第4,080,20
7号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108
号、同4,459,347号、同4,478,928
号、同4,560,638号、同4,686,167
号、同4,912,016号、同4,988,604
号、同4,994,365号、同5,041,355
号、同5,104,769号、英国特許第2,011,
391B号、欧州特許第217,310号、同301,
799号、同356,898号、特開昭60−1797
34号、同61−170733号、同61−27074
4号、同62−178246号、同62−270948
号、同63−29751号、同63−32538号、同
63−104047号、同63−121838号、同6
3−129337号、同63−223744号、同63
−234244号、同63−234245号、同63−
234246号、同63−294552号、同63−3
06438号、同64−10233号、特開平1−90
439号、同1−100530号、同1−105941
号、同1−105943号、同1−276128号、同
1−280747号、同1−283548号、同1−2
83549号、同1−285940号、同2−2541
号、同2−77057号、同2−139538号、同2
−196234号、同2−196235号、同2−19
8440号、同2−198441号、同2−19844
2号、同2−220042号、同2−221953号、
同2−221954号、同2−285342号、同2−
285343号、同2−289843号、同2−302
750号、同2−304550号、同3−37642
号、同3−54549号、同3−125134号、同3
−184039号、同3−240036号、同3−24
0037号、同3−259240号、同3−28003
8号、同3−282536号、同4−51143号、同
4−56842号、同4−84134号、同2−230
233号、同4−96053号、同4−216544
号、同5−45761号、同5−45762号、同5−
45763号、同5−45764号、同5−45765
号、特願平5−94925号に記載されたものを用いる
ことができる。
The hydrazine derivatives used in the present invention include, in addition to the above, RESEARCH DISCLOSURE Item 2
No. 3516 (November 1983, P. 346) and references cited therein, as well as U.S. Pat. No. 4,080,20.
No. 7, 4,269,929, 4,276,364
Nos. 4,278,748 and 4,385,108
No. 4,459,347 and 4,478,928
Nos. 4,560,638 and 4,686,167
Nos. 4,912,016 and 4,988,604
No. 4,994,365, No. 5,041,355
No. 5,104,769, British Patent 2,011,
391B, EP 217,310, EP 301,310,
No. 799, No. 356, 898, JP-A-60-1797.
No. 34, No. 61-170733, No. 61-27074
No. 4, 62-178246, 62-270948
Nos. 63-29751, 63-32538, 63-110407, 63-121838, and 6
3-129337, 63-223744, 63
-234244, 63-234245, 63-
No. 234246, No. 63-294552, No. 63-3
Nos. 06438 and 64-10233, JP-A-1-90
No. 439, No. 1-100530, No. 1-1095941
No. 1-105943, No. 1-276128, No. 1-280747, No. 1-283548, No. 1-2
No. 83549, No. 1-285940, No. 2-2541
No. 2-77057, No. 2-139538, No. 2
196234, 2-196235, 2-19
No. 8440, No. 2-198441, No. 2-19844
No. 2, 2-220042, 2-221953,
2-221954, 2-285342, 2-
No. 285343, No. 2-289843, No. 2-302
No. 750, No. 2-304550, No. 3-37642
No. 3-54549, No. 3-125134, No. 3
Nos. -184039, 3-240036, 3-24
No. 0037, No. 3-259240, No. 3-28003
No. 8, 3-282536, 4-51143, 4-56842, 4-84134, 2-230
No. 233, No. 4-96053, No. 4-216544
Nos. 5-45761, 5-45762, 5-
No. 45763, No. 5-45764, No. 5-45765
And Japanese Patent Application No. 5-94925 can be used.

【0062】またこの他にも特公平6−77138号に
記載の(化1)て表される化合物で、具体的には同公報
3頁、4頁に記載の化合物。特公平6−93082号に
記載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には同
公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物。特開平6
−230497号に記載の一般式(4)、一般式(5)
および一般式(6)で表される化合物で、具体的には同
公報25頁、26頁に記載の化合物4−1〜化合物4−
10、28頁〜36頁に記載の化合物5−1〜5−4
2、および39頁、40頁に記載の化合物6−1〜化合
物6−7。特開平6−289520号に記載の一般式
(I)および一般式(2)で表される化合物で、具体的
には同公報5頁〜7頁に記載の化合物1−1)〜1−1
7)および2−1)。特開平6−313936号に記載
の(化2)および(化3)で表される化合物で、具体的
には同公報6頁〜19頁に記載の化合物。特開平6−3
13951号に記載の(化1)で表される化合物で、具
体的には同公報3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7−
5610号に記載の一般式(I)で表される化合物で、
具体的には同公報5頁〜10頁に記載の化合物I−1〜
I−38。特開平7−77783号に記載の一般式(I
I)で表される化合物で、具体的には同公報10頁〜2
7頁に記載の化合物II−1〜II−102。特開平7−1
04426号に記載の一般式(H)および一般式(H
a)で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜15
頁に記載の化合物H−1〜H−44。に記載されたもの
を用いることができる。
In addition, the compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-B-6-77138, specifically, the compounds described on pages 3 and 4 of the same publication. Compounds represented by the general formula (I) described in JP-B-6-93082, specifically, compounds 1 to 38 described on pages 8 to 18 of the publication. JP 6
General formulas (4) and (5) described in JP-A-230497
And compounds represented by formula (6), specifically, compounds 4-1 to 4-
Compounds 5-1 to 5-4 described on page 10, pages 28 to 36
2, and compounds 6-1 to 6-7 described on pages 39 and 40. Compounds represented by formulas (I) and (2) described in JP-A-6-289520, specifically, compounds 1-1) to 1-1 described on pages 5 to 7 of the same publication
7) and 2-1). Compounds represented by (Chemical Formula 2) and (Chemical Formula 3) described in JP-A-6-313936, specifically, compounds described on pages 6 to 19 of the same. JP-A-6-3
A compound represented by (Chemical Formula 1) described in No. 13951, specifically, a compound described on pages 3 to 5 of the same publication. JP-A-7-
A compound represented by the general formula (I) described in No. 5610,
Specifically, Compounds I-1 to I-5 described on pages 5 to 10 of the publication are described.
I-38. The general formula (I) described in JP-A-7-77783.
Compounds represented by I), specifically, pages 10 to 2 of the publication
Compounds II-1 to II-102 described on page 7. JP-A-7-1
General formula (H) and general formula (H
Compounds represented by a), specifically, pages 8 to 15 of the same publication.
Compounds H-1 to H-44 described on page p. Can be used.

【0063】本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量
としては銀1モルあたり1×10-6モルないし1×10
-1モル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルな
いし5×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
In the present invention, the amount of the hydrazine derivative to be added is 1 × 10 -6 mol to 1 × 10 6 mol / mol silver.
-1 mol is preferable, and a range of 1 × 10 −5 mol to 5 × 10 −2 mol is particularly preferable.

【0064】本発明のヒドラジン誘導体は、適当な有機
溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。また、既に良く知られている乳
化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジル
フォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジ
エチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘ
キサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化
分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分
散法として知られている方法によって、ヒドラジン誘導
体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散して用いることもできる。本発明
ではヒドラジン誘導体と併用して、カブリ防止剤として
インダゾール類(例えばニトロインダゾール)を使用す
ることが好ましい。
The hydrazine derivative of the present invention can be prepared by using a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide,
It can be used by dissolving it in dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve or the like. Also, by an already well-known emulsification dispersion method, dissolution using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsifying and dispersing. An object can be prepared and used. Alternatively, the hydrazine derivative powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used. In the present invention, it is preferable to use indazoles (for example, nitroindazole) as an antifoggant in combination with a hydrazine derivative.

【0065】本感光材料には、ヒドラジン誘導体と併用
して、アミン誘導体、オニウム塩化合物、ジスルフィド
誘導体、およびヒドロキシアミン誘導体などの造核促進
剤を添加することが好ましい。造核促進剤の化合物例を
以下にあげる。
It is preferable to add a nucleation accelerator such as an amine derivative, an onium salt compound, a disulfide derivative and a hydroxyamine derivative to the photographic material in combination with the hydrazine derivative. Examples of compounds for the nucleation accelerator are given below.

【0066】[0066]

【化39】 Embedded image

【0067】[0067]

【化40】 Embedded image

【0068】本発明の造核促進剤添加量は銀1モルに対
し1×10-6〜2×10-2モルが好ましく、1×10-5
〜2×10-2モルがより好ましく、2×10-5〜1×1
-2モルが最も好ましい。
The nucleation accelerator of the present invention is preferably added in an amount of 1 × 10 −6 to 2 × 10 −2 mol per mol of silver, more preferably 1 × 10 −5 mol.
22 × 10 −2 mol is more preferred, and 2 × 10 -5 −1 × 1
0 -2 mol is most preferred.

【0069】本発明の一態様においては、還元剤として
下記一般式(A)で表される化合物を熱現像感光材料中
に含有させる。
In one embodiment of the present invention, a compound represented by the following general formula (A) is contained in the photothermographic material as a reducing agent.

【0070】[0070]

【化41】 Embedded image

【0071】式中Rは水素原子、または炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、−C4H9、2,4,4−トリ
メチルペンチル)を表し、R′およびR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。
In the formula, R is a hydrogen atom or a group having 1 to 1 carbon atoms.
10 alkyl group (e.g., -C 4 H 9, 2,4,4-trimethyl pentyl) represents, R 'and R "is an alkyl group (e.g., methyl 1 to 5 carbon atoms, ethyl, t- butyl ).

【0072】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (A) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0073】[0073]

【化42】 Embedded image

【0074】[0074]

【化43】 Embedded image

【0075】一般式(A)で表わされる化合物の使用量
は好ましくは銀1モル当り1×10 -2〜10モル、特に
1×10-2〜1.5モルである。
The amount of the compound represented by the general formula (A)
Is preferably 1 × 10 per mole of silver. -2-10 mol, especially
1 × 10-21.51.5 mol.

【0076】本発明の一態様においては、還元剤として
下記の一般式(R-I),(R-II),(R-III)、(R-IV)で表さ
れる化合物を熱現像感光材料に含有させる。
In one embodiment of the present invention, a compound represented by the following general formula (RI), (R-II), (R-III) or (R-IV) is used as a reducing agent in a photothermographic material. To be included.

【0077】[0077]

【化44】 Embedded image

【0078】なお、一般式(R-III)においてZが形成す
る環構造は下記のものである。
The ring structure formed by Z in the general formula (R-III) is as follows.

【0079】[0079]

【化45】 Embedded image

【0080】また、一般式(R-IV)においてZが形成す
る環構造は下記のものである。
In the general formula (R-IV), the ring structure formed by Z is as follows.

【0081】[0081]

【化46】 Embedded image

【0082】式中、L1、L2は、>CH(R6)で表さ
れる基もしくは硫黄原子である。nは自然数を表す。式
中、R1 〜R10、R1′〜R5′、R11〜R13、R11′〜
13′、R21〜R28、R21′〜R28′は、水素原子、ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、
アミノ基もしくは−OAで表される基である。但し、R
1 〜R5の少なくとも一つは−OAで表される基であ
り、R1′〜R5′の少なくとも一つは−OAで表される
基であり、R7〜R10の少なくとも一つは−OAで表さ
れる基である。また、R1 〜R10、R1′〜R5′、R11
〜R13、R11′〜R13′、R21〜R28、R21′〜R28
の各々の中の複数個の置換基が互いに結合して環を形成
してもよい。A,A′は、水素原子、アルキル基、アシ
ル基、アリール基、リン酸基、スルホニル基を表す。R
1 〜R10、R1′〜R5′、R11〜R13、R11′〜
13′、R21〜R28、R21′〜R28′A,A′は置換さ
れていてもよい。但し、一般式(R-III)において、R1
〜R5の少なくとも一方、R1′〜R5 ′の少なくとも一
方が−OAで表される基の場合は、L1は硫黄原子であ
る。R1 〜R10、R1′〜R5′、R11〜R13、R11′〜
13′、R21〜R28、R21′〜R28′A,A′の置換基
としては、例えばアルキル基(活性メチレン基を含
む)、ニトロ基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、複素環を含む基、4級化された窒素原子を含むヘ
テロ環(例えばピリジニオ基)を含む基、ヒドロキシ
基、アルコキシ基(エチレンオキシ基、プロピレンオキ
シ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリーロキシ基、
アシルオキシ基、アシル基、アルコキシまたはアリーロ
キシカルボニル基、カルバモイル基、ウレタン基、カル
ボキシル基、イミド基、アミノ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、スル
ファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカル
バジド基、ヒドラジノ基を含む基、4級のアンモニオ基
を含む基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、ヘテロ環チオ基、アルキルまたはアリールスルホ
ニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スル
ホ基、アシル基、スルファモイル基、アシルスルファモ
イル基、アルキルまたはアリールスルホニルウレイド
基、アルキルまたはアリールスルホニルカルバモイル
基、ハロゲン原子、シアノ基、リン酸アミド基、リン酸
エステル構造を含む基、アシルウレア構造を含む基、セ
レン原子またはテルル原子を含む基、3級スルホニウム
構造または4級スルホニウム構造を持つ基などが挙げら
れる。これらの置換基は更に置換されていてもよく、更
なる置換基としては上記に述べたものが挙げられる。以
下に一般式(R-I)〜(R-IV)で表される化合物の具体例
を述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。
In the formula, L 1 and L 2 are a group represented by> CH (R 6 ) or a sulfur atom. n represents a natural number. Wherein R 1 to R 10 , R 1 ′ to R 5 ′, R 11 to R 13 , R 11 ′ to
R 13 ′, R 21 to R 28 , R 21 ′ to R 28 ′ represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom,
It is a group represented by an amino group or -OA. Where R
At least one of the 1 to R 5 is a group represented by -OA, at least one of R 1 '~R 5' is a group represented by -OA, at least one of R 7 to R 10 Is a group represented by -OA. Also, R 1 to R 10 , R 1 ′ to R 5 ′, R 11
~R 13, R 11 '~R 13 ', R 21 ~R 28, R 21 '~R 28'
May be bonded to each other to form a ring. A and A 'represent a hydrogen atom, an alkyl group, an acyl group, an aryl group, a phosphate group, and a sulfonyl group. R
1 ~R 10, R 1 '~R 5', R 11 ~R 13, R 11 '~
R 13 ', R 21 ~R 28 , R 21' ~R 28 'A, A' may be substituted. However, in the general formula (R-III), R 1
At least one of to R 5, if the group in which at least one of R 1 '~R 5' is represented by -OA, L 1 is a sulfur atom. R 1 ~R 10, R 1 ' ~R 5', R 11 ~R 13, R 11 '~
R 13 ', R 21 ~R 28 , R 21' as the substituent of ~R 28 'A, A', for example (including an active methylene group) alkyl group, a nitro group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, Groups containing heterocycles, groups containing quaternary nitrogen-containing heterocycles (eg, pyridinio groups), hydroxy groups, alkoxy groups (including groups that repeatedly contain ethyleneoxy and propyleneoxy units), aryloxy groups ,
Acyloxy group, acyl group, alkoxy or aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, urethane group, carboxyl group, imide group, amino group, carbonamide group,
Sulfonamide group, ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, group containing hydrazino group, group containing quaternary ammonium group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group Group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfinyl group, sulfo group, acyl group, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, alkyl or arylsulfonylureido group, alkyl or arylsulfonylcarbamoyl group, halogen atom, cyano group, phosphorus Examples thereof include an acid amide group, a group containing a phosphate ester structure, a group containing an acylurea structure, a group containing a selenium atom or a tellurium atom, and a group having a tertiary sulfonium structure or a quaternary sulfonium structure. These substituents may be further substituted, and further substituents include those described above. Specific examples of the compounds represented by formulas (RI) to (R-IV) are described below, but the present invention is not limited thereto.

【0083】[0083]

【表1】 [Table 1]

【0084】[0084]

【表2】 [Table 2]

【0085】[0085]

【表3】 [Table 3]

【0086】[0086]

【表4】 [Table 4]

【0087】[0087]

【表5】 [Table 5]

【0088】[0088]

【表6】 [Table 6]

【0089】[0089]

【表7】 [Table 7]

【0090】[0090]

【化47】 Embedded image

【0091】[0091]

【化48】 Embedded image

【0092】一般式(R-I)〜(R-IV)で表される還元剤
の使用量は、好ましくは銀1モル当たり、1×10-3
10モルであり、より好ましくは1×10-2〜1.5モ
ルである。一般式(A)の化合物、一般式(R-I)〜(R-I
V)の化合物はそれぞれ単独で使用してもよいが、併用
してもよい。混合使用する場合、主還元剤に対して、副
還元剤をモル数で1/1000〜1/1、好ましくは1
/100〜1/1の範囲で用いる。
The amount of the reducing agent represented by any of formulas (RI) to (R-IV) is preferably 1 × 10 -3 to 1 mol per silver.
The amount is 10 mol, more preferably 1 × 10 -2 to 1.5 mol. Compounds of general formula (A), general formulas (RI) to (RI)
The compounds of V) may be used alone or in combination. When mixed, the auxiliary reducing agent is used in a molar number of 1/1000 to 1/1, preferably 1 to the main reducing agent.
It is used in the range of / 100 to 1/1.

【0093】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理法
を用いて写真画像を形成するものである。このような熱
現像感光材料としては前述のとおり例えば米国特許第3
152904号、3457075号、及びD.モーガン
(Morgan) とB.シェリー(Shely)による「熱によって
処理される銀システム(Thermally Processed SilverSy
stems) 」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・
マテリアルズ(Imaging Processes and Materials )Neb
lette 第8版、スタージ(Sturge) 、V.ウォールワー
ス(Walworth) 、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、
1969年)等に開示されている。
The photothermographic material of the present invention forms a photographic image using a photothermographic processing method. Such a photothermographic material is disclosed in, for example, US Pat.
No. 152904, 3457075, and D.C. Morgan and B.A. "Thermally Processed SilverSy" by Shely
stems) "(Imaging Processors and
Materials (Imaging Processes and Materials) Neb
lette 8th edition, Sturge, V. Walworth, A .; Edited by Shepp, page 2,
1969).

【0094】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理を
用いて写真画像を形成するものであり、還元可能な銀源
(有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハロゲン化
銀)、銀の色調を抑制する色調剤及び還元剤を通常(有
機)バインダーマトリックス中に分散した状態で含有し
ている熱現像感光材料であることが好ましい。本発明の
熱現像感光材料は常温で安定であるが、露光後高温(例
えば、80℃以上)に加熱することで現像される。加熱
することで還元可能な銀源(酸化剤として機能する)と
還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。こ
の酸化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によっ
て促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生
成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照
をなし、画像の形成がなされる。
The photothermographic material of the present invention forms a photographic image using a heat development process, and includes a reducible silver source (organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (for example, silver halide), It is preferable that the photothermographic material contains a color tone agent and a reducing agent for suppressing the color tone of silver, which are usually dispersed in an (organic) binder matrix. The photothermographic material of the present invention is stable at room temperature, but is developed by heating to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure. Heating produces silver through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and the reducing agent. This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.

【0095】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。感光層に通過す
る光の量または波長分布を制御するために感光層と同じ
側または反対側にフィルター層を形成しても良いし、感
光層に染料または顔料を含ませても良い。染料としては
特願平7−11184号の化合物が好ましい。感光層は
複数層にしても良く、また階調の調節のため感度を高感
層/低感層または低感層/高感層にしても良い。各種の
添加剤は感光層、非感光層、またはその他の形成層のい
ずれに添加しても良い。本発明の熱現像感光材料には例
えば、界面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫
外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良い。好適なバイン
ダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィル
ムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、
ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。バイ
ンダーは水又は有機溶媒またはエマルジョンから被覆形
成してもよい。
The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. In order to control the amount or wavelength distribution of light passing through the photosensitive layer, a filter layer may be formed on the same side as or opposite to the photosensitive layer, or a dye or pigment may be included in the photosensitive layer. As the dye, a compound described in Japanese Patent Application No. 7-11184 is preferred. The photosensitive layer may be composed of a plurality of layers, and the sensitivity may be a high-sensitive layer / low-sensitive layer or a low-sensitive layer / high-sensitive layer for adjusting the gradation. Various additives may be added to any of the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, and other forming layers. The photothermographic material of the invention may contain, for example, a surfactant, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and a coating aid. Suitable binders are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymer synthetic resins and polymers and copolymers, and other film-forming media such as: gelatin, gum arabic,
Poly (vinyl alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid) ), Copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (ester) ), Poly (urethane), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (epoxide),
Poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate),
There are cellulose esters and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.

【0096】色調剤の添加は非常に望ましい。好適な色
調剤の例は調査報告第17029号に開示されており、
次のものがある:イミド類(例えば、フタルイミド);
環状イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリ
ノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピ
ラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾ
リン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイ
ミド類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタール
イミド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミ
ントリフルオロアセテート)、メルカプタン類(例え
ば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N
−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例
えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);
ブロックされたピラゾール類、イソチウロニウム(isot
hiuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ
(例えば、N,N′ヘキサメチレン(1−カルバモイル
−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−(3,6−
ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオ
ロアセテート)、及び2−(トリブロモメチルスルホニ
ル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロシアニン染
料(例えば、3−エチル−5−((3−エチル−2−ベ
ンゾチアゾリニリデン(benzpthiazolinylidene))−1
−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4−オキサゾリ
ジンジオン(oxazolidinedione));フタラジノン、フタ
ラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、
4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラ
ジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び
2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタ
ラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、
6−クロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリ
ウム又は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸
ナトリウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フ
タラジン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無
水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸
又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、
フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及
びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なく
とも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン
類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズ
オキサジン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベン
ズオキサジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不
斉−トリアジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリ
ミジン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、
3,6−ジメロカプト−1,4−ジフェニル−1H、4
H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン。好ま
しい色調剤としてはフタラゾンである。
The addition of toning agents is highly desirable. Examples of suitable toning agents are disclosed in Research Report No. 17029,
There are the following: imides (eg, phthalimide);
Cyclic imides, pyrazolin-5-ones, and quinazolinones (eg, succinimide, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline, and 2,4-thiazolidinedione); naphthalimides (eg, , N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, hexamine trifluoroacetate of cobalt), mercaptans (eg, 3-mercapto-1,2,4-triazole); N
-(Aminomethyl) aryldicarboximides (eg, N- (dimethylaminomethyl) phthalimide);
Blocked pyrazoles, isothiuronium (isot
hiuronium) derivatives and certain photobleaching combinations (eg, N, N'hexamethylene (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-
A combination of dioxaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2- (tribromomethylsulfonyl) benzothiazole; a merocyanine dye (e.g., 3-ethyl-5-((3-ethyl-2-benzothia) Zolinylidene (benzpthiazolinylidene) -1
-Methylethylidene) -2-thio-2,4-oxazolidinedione); phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (e.g.,
4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); a combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (for example, ,
6-chlorophthalazinone + sodium benzenesulfinate or 8-methylphthalazinone + sodium p-trisulfonate); a combination of phthalazine + phthalic acid; phthalazine (including an adduct of phthalazine), maleic anhydride, and phthalic acid , 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof (for example,
A combination with at least one compound selected from phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride); quinazolinediones, benzoxazine, naltoxazine derivatives; benzoxazine-2,4-dione (Eg, 1,3-benzoxazine-2,4-dione); pyrimidines and asymmetric-triazines (eg, 2,4-dihydroxypyrimidine), and tetraazapentalene derivatives (eg,
3,6-dimerocapto-1,4-diphenyl-1H, 4
H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene. A preferred toning agent is phthalazone.

【0097】触媒活性量の光触媒として有用なハロゲン
化銀は感光性のいかなるハロゲン化銀(例えば、臭化
銀、ヨウ化銀、銀化銀、塩臭化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ
臭化銀等)であってもよいがヨウ素イオンを含むことが
好ましい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像形成
層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元可
能な銀源に近接するように配置する。一般にハロゲン化
銀は還元可能銀源に対して0.75〜30重量%の量を
含有することが好ましい。ハロゲン化銀は、ハロゲンイ
オンとの反応による銀石鹸部の変換によって調製しても
よく、予備形成して石鹸の発生時にこれを添加してもよ
く、またはこれらの方法の組み合わせも可能である。後
者が好ましい。
Silver halides useful as photocatalysts in catalytically active amounts can be any photosensitive silver halide (eg, silver bromide, silver iodide, silver chloride, silver chlorobromide, silver iodobromide, chloroiodobromide). Silver iodide), but preferably contains iodine ions. The silver halide may be added to the image forming layer by any method, in which case the silver halide is arranged close to the reducible silver source. In general, it is preferred that the silver halide contains from 0.75 to 30% by weight, based on the reducible silver source. Silver halide may be prepared by conversion of the silver soap portion by reaction with a halide ion, may be preformed and added during the generation of the soap, or a combination of these methods is possible. The latter is preferred.

【0098】還元可能な銀源は還元可能な銀イオン源を
含有する有機及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10
〜30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の脂肪族
カルボン酸が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の
銀イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀
塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Research Dis
closure 第17029及び29963に記載されてお
り、次のものがある:有機酸の塩(例えば、没食子酸、
シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラ
ウリン酸等);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例
えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−
(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿
素等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸
とのポリマー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアル
デヒド)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、
安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チ
オジサリチル酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例え
ば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメ
チル−4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3−カル
ボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオエン)、イミ
ダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チア
ゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベン
ジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリア
ゾールから選択される窒素酸と銀との錯体また塩;サッ
カリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及
びメルカプチド類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀で
ある。還元可能な銀源は好ましくは銀量として3g/m2
以下である。さらに好ましくは2g/m2以下である。
The reducible silver source is a silver salt of organic and heteroorganic acids containing a reducible silver ion source, especially long-chain (10
Aliphatic carboxylic acids of up to 30 (preferably 15 to 25 carbon atoms) are preferred. Organic or inorganic silver salt complexes wherein the ligand has a total stability constant for silver ions of 4.0 to 10.0 are also useful. An example of a suitable silver salt is Research Dis
closures described in 17029 and 29996, and include: salts of organic acids (eg, gallic acid,
Oxalic acid, behenic acid, stearic acid, palmitic acid, lauric acid, etc.); carboxyalkylthiourea salt of silver (for example, 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1-
(3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea, etc.); silver complexes of polymer reaction products of aldehydes and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids (for example, aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde), hydroxy-substituted acids) (Eg, salicylic acid,
Benzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 5,5-thiodisalicylic acid), silver salts or complexes of thioenes (for example, 3- (2-carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4- (thiazoline-2) -Thioene and 3-carboxymethyl-4-thiazoline-2-thioene), imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,4- Complexes or salts of silver with nitrogen acids selected from triazoles and benzotriazoles; silver salts such as saccharin, 5-chlorosalicylaldoxime; and silver salts of mercaptides, the preferred silver source being silver behenate. Silver source is preferably 3 g / m 2 in terms of silver amount.
It is as follows. More preferably, it is 2 g / m 2 or less.

【0099】このような感光材料中にはかぶり防止剤が
含まれて良い。最も有効なかぶり防止剤は水銀イオンで
あった。感光材料中にかぶり防止剤として水銀化合物を
使用することについては、例えば米国特許第35899
03号に開示されている。しかし、水銀化合物は環境的
に好ましくない。非水銀かぶり防止剤としては例えば米
国特許第4546075号及び4452885号及び日
本特許公開第59−57234号に開示されているよう
なかぶり防止剤が好ましい。
Such a light-sensitive material may contain an antifoggant. The most effective antifoggant was mercury ion. The use of mercury compounds as antifoggants in light-sensitive materials is described, for example, in US Pat.
No. 03. However, mercury compounds are environmentally unfriendly. As the non-mercury antifoggant, antifoggants such as those disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,454,075 and 4,452,885 and Japanese Patent Publication No. 59-57234 are preferred.

【0100】特に好ましい非水銀かぶり防止剤は、米国
特許第3874946号及び4756999号に開示さ
れているような化合物、−C(X1)(X2)(X3)(ここ
でX 1 及びX2 はハロゲン(例えば、F、Cl、Br及
びI)でX3 は水素又はハロゲン)で表される1以上の
置換基を備えたヘテロ環状化合物である。好適なかぶり
防止剤の例としては次のものがある。
Particularly preferred non-mercury antifoggants are US
Patents 3,874,946 and 4,756,999 disclose
A compound such as -C (X1) (XTwo) (XThree)(here
And X 1 And XTwo Is a halogen (eg, F, Cl, Br and
And I) with XThree Is hydrogen or halogen)
It is a heterocyclic compound having a substituent. Suitable cover
Examples of inhibitors include:

【0101】[0101]

【化49】 Embedded image

【0102】[0102]

【化50】 Embedded image

【0103】更により好適なかぶり防止剤は米国特許第
5028523号及び英国特許出願第9222138
3.4号、9300147.7号、9311790.1
号に開示されている。
Even more suitable antifoggants are disclosed in US Pat. No. 5,028,523 and British Patent Application No. 9222138.
3.4, 9300147.7, 93111790.1
Issue.

【0104】本発明の熱現像感光材料には、例えば特開
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
4639414号、同4740455号、同47419
66号、同4751175号、同4835096号に記
載された増感色素が使用できる。本発明に使用される有
用な増感色素は例えば RESEARCH DISCLOSURE I tem 1
7643IV−A項(1978年12月p.23)、同 I
tem 1831X項(1978年8月p.437)に記載
もしくは引用された文献に記載されている。特に各種ス
キャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感
色素を有利に選択することができる。例えばA)アルゴ
ンレーザー光源に対しては、特開昭60−162247
号、特開平2−48653号、米国特許2,161,3
31号、西独特許936,071号、特願平3−189
532号記載のシンプルメロシアニン類、B)ヘリウム
−ネオンレーザー光源に対しては、特開昭50−624
25号、同54−18726号、同59−102229
号に示された三核シアニン色素類、特願平6−1032
72号に示されたメロシアニン類、C)LED光源及び
赤色半導体レーザーに対しては特公昭48−42172
号、同51−9609号、同55−39818号へ特開
昭62−284343号、特開平2−105135号に
記載されたチアカルボシアニン類、D)赤外半導体レー
ザー光源に対しては特開昭59−191032号、特開
昭60−80841号に記載されたトリカルボシアニン
類、特開昭59−192242号、特開平3−6724
2号の一般式(IIIa)、一般式(IIIb)に記載された4−
キノリン核を含有するジカルボシアニン類などが有利に
選択される。これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
The photothermographic materials of the present invention include, for example, JP-A Nos. 63-159841, 60-140335, 63-231437, 63-259651, and 6
Nos. 3-304242, 63-15245, U.S. Pat. Nos. 4,639,414, 4,740,455, and 4,419.
Sensitizing dyes described in JP-A Nos. 66, 4751175 and 48335096 can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 1
7643 IV-A (p.23, December 1978), I
tem 1831X (August 1978, p. 437). In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, A) Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-162247 discloses an argon laser light source.
JP-A-2-48653, U.S. Pat. No. 2,161,3
No. 31, West German Patent 936,071, Japanese Patent Application No. 3-189
No. 532, simple merocyanines, and B) a helium-neon laser light source.
No. 25, No. 54-18726, No. 59-102229
No. 6-1032
JP-B-48-42172 discloses merocyanines, C) LED light sources and red semiconductor lasers described in
Thiacarbocyanines described in JP-A-62-284343 and JP-A-2-105135; Tricarbocyanines described in JP-A-59-19032 and JP-A-60-80841; JP-A-59-192242; JP-A-3-6724.
4- (4-) described in the general formulas (IIIa) and (IIIb) of No. 2
Dicarbocyanines containing a quinoline nucleus are advantageously selected. These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and a combination of sensitizing dyes is often used particularly for supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization.

【0105】本発明の熱現像感光材料の露光は、Arレ
ーザー(488nm)、He−Neレーザー(633n
m)、赤色半導体レーザー(670nm)、赤外半導体
レーザー(780nm、830nm)などが好ましい。
Exposure of the photothermographic material of the present invention is performed using an Ar laser (488 nm) and a He-Ne laser (633n).
m), a red semiconductor laser (670 nm), an infrared semiconductor laser (780 nm, 830 nm) and the like.

【0106】本発明の熱現像感光材料にはハレーション
防止層として、染料を含有する層を設ける事ができる。
Arレーザー、He−Neレーザー、赤色半導体レーザ
ー用には400nm〜750nmの範囲で、露光波長に
少なくとも0.3以上、好ましくは0.8以上の吸収と
なるように染料を添加する。赤外半導体レーザー用には
750nm〜1500nmの範囲で、露光波長に少なく
とも0.3以上、好ましくは0.8以上の吸収となるよ
うに染料を添加する。染料は1種でも数種を組み合わせ
ても良い。該染料は感光層と同じ側の支持体に近い染料
層あるいは、感光層と反対側の染料層に添加する事がで
きる。
In the photothermographic material of the present invention, a layer containing a dye can be provided as an antihalation layer.
For an Ar laser, a He-Ne laser, and a red semiconductor laser, a dye is added so as to absorb at least 0.3 or more, preferably 0.8 or more at an exposure wavelength within a range of 400 nm to 750 nm. For an infrared semiconductor laser, a dye is added so as to absorb at least 0.3 or more, preferably 0.8 or more at the exposure wavelength in the range of 750 nm to 1500 nm. One or more dyes may be used in combination. The dye can be added to the dye layer near the support on the same side as the photosensitive layer or to the dye layer on the side opposite to the photosensitive layer.

【0107】本発明で用いられる支持体は、紙、合成
紙、合成樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン)をラミネートした紙、プラスチック
フイルム(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリ
アセテート)、金属板(例えば、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、亜鉛、鉄、銅)、上記のような金属がラミ
ネートあるいは蒸着された紙やプラスチックフイルムな
どが用いられる。一方、プラスチックフイルムを熱現像
機に通すとフイルムの寸法が伸縮する。印刷感光材料と
して使用する場合、この伸縮は精密多色印刷を行う時に
重大な問題となる。よって本発明では寸法変化の小さい
フイルムを用いることが好ましい。例えば、シンジオタ
クチック構造を有するスチレン系重合体や熱処理したポ
リエチレンなどがある。ガラス転移点の高いものも好ま
しく、ポリエーテルエチルケトン、ポリスチレン、ポリ
スルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート
等が使用できる。
The support used in the present invention may be paper, synthetic paper, paper laminated with a synthetic resin (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene), plastic film (eg, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, nylon, cellulose triacetate). A metal plate (for example, aluminum, an aluminum alloy, zinc, iron, or copper), paper or a plastic film on which the above-mentioned metal is laminated or vapor-deposited, or the like is used. On the other hand, when a plastic film is passed through a heat developing machine, the dimensions of the film expand and contract. When used as a printing photosensitive material, this expansion and contraction becomes a serious problem when performing precision multicolor printing. Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change. For example, there are a styrene-based polymer having a syndiotactic structure and a heat-treated polyethylene. Those having a high glass transition point are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate and the like can be used.

【0108】[0108]

【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto.

【0109】実施例1 感光性乳剤Aの調製 溶液 ステアリン酸 131g ベヘン酸 635g 蒸留水 13リットル 90℃ 15分で混合 溶液 NaOH 89g 蒸留水 1.5リットル 溶液 濃 HNO3 19ml 蒸留水 50ml 溶液 AgNO3 365g 蒸留水 2.5リットル 溶液 ポリビニルブチラール 86g 酢酸エチル 4.3リットル 溶液 ポリビニルブチラール 290g イソプロパノール 3.6リットル 溶液 N−ブロモサクシンイミド 9.7g アセトン 690ml[0109] Example 1 Photosensitive emulsion A mixed solution NaOH 89 g Distilled water 1.5 l solution prepared solution stearate 131g behenic acid 635g of distilled water 13 liters 90 ° C. 15 minutes of concentrated HNO 3 19 ml of distilled water 50ml solution AgNO 3 365 g Distilled water 2.5 liter solution polyvinyl butyral 86 g ethyl acetate 4.3 liter solution polyvinyl butyral 290 g isopropanol 3.6 liter solution N-bromosuccinimide 9.7 g acetone 690 ml

【0110】溶液を90℃に保温した状態で激しく攪
拌しながら溶液を5分かけて添加しその後溶液を2
5分かけて添加する。そのまま20分攪拌した後、35
℃に降温する。35℃でより激しく攪拌しながら溶液
を5分かけて添加し、そのまま90分間攪拌し続ける。
その後、溶液を加え、攪拌を止めて放置し、水層を含
まれる塩と共に抜き、油相を得、脱溶媒して残りの水を
抜いた後、溶液を添加して50℃で激しく攪拌した
後、溶液を20分かけて添加し、105分攪拌して乳
剤Aを得た。
While maintaining the temperature of the solution at 90 ° C., the solution was added over 5 minutes with vigorous stirring.
Add over 5 minutes. After stirring for 20 minutes as it is, 35
Cool down to ° C. Add the solution over 5 minutes with more vigorous stirring at 35 ° C. and continue stirring for 90 minutes.
Thereafter, the solution was added, the stirring was stopped, and the mixture was left to stand. The aqueous layer was removed together with the salt contained therein to obtain an oil phase. After removing the solvent and removing the remaining water, the solution was added and the mixture was stirred vigorously at 50 ° C. Thereafter, the solution was added over 20 minutes and stirred for 105 minutes to obtain Emulsion A.

【0111】熱処理したポリエチレンテレフタレート支
持体の上に以下の各層を順次形成し、試料を作成した。
尚、乾燥は各々75℃ 5分間で行った。
The following layers were sequentially formed on a heat-treated polyethylene terephthalate support to prepare a sample.
The drying was performed at 75 ° C. for 5 minutes.

【0112】バック面側塗布:以下の組成の液を湿潤厚
さ80ミクロンになるように塗布した。 ポリビニルブチラール(10%イソプロパノール溶液) 150ml 染料−B 70mg 染料−C 70mg
Back side coating: A solution having the following composition was applied to a wet thickness of 80 microns. Polyvinyl butyral (10% isopropanol solution) 150 ml Dye-B 70 mg Dye-C 70 mg

【0113】[0113]

【化51】 Embedded image

【0114】感光層面側塗布 感光層1:以下の組成の液を湿潤厚さ140ミクロンに
なるように塗布した。 感光性乳剤A 73g 増感色素−1(0.1%DMF溶液) 2ml カブリ防止剤−1(0.01%メタノール溶液) 3ml カブリ防止剤−2(0.85%メタノール溶液) 10ml カブリ防止剤−3(0.85%メタノール溶液) 10ml フタラゾン(4.5%DMF溶液) 8ml 現像剤−1(10%アセトン溶液) 13ml 造核促進剤−1(1%メタノール溶液) 1ml かぶり防止剤−4(1%メタノール溶液) 2ml ヒドラジン誘導体(1%メタノール/DMF =4:1溶液:表8の種類)2ml
Photosensitive layer side coating Photosensitive layer 1: A solution having the following composition was applied to a wet thickness of 140 μm. Photosensitive emulsion A 73 g Sensitizing dye-1 (0.1% DMF solution) 2 ml Antifoggant-1 (0.01% methanol solution) 3 ml Antifoggant-2 (0.85% methanol solution) 10 ml Antifoggant -3 (0.85% methanol solution) 10 ml Phthalazone (4.5% DMF solution) 8 ml Developer-1 (10% acetone solution) 13 ml Nucleation promoter-1 (1% methanol solution) 1 ml Antifoggant-4 (1% methanol solution) 2 ml Hydrazine derivative (1% methanol / DMF = 4: 1 solution: kind of Table 8) 2 ml

【0115】[0115]

【化52】 Embedded image

【0116】[0116]

【化53】 Embedded image

【0117】[0117]

【化54】 Embedded image

【0118】[0118]

【化55】 Embedded image

【0119】感光層2 上記感光層に対して、現像剤−1を本発明の化合物か
ら、本発明ではない化合物である現像剤−2に変更し、
他は感光層1と同様にして感光層2を作った。
Photosensitive Layer 2 For the above-mentioned photosensitive layer, developer-1 was changed from the compound of the present invention to developer-2, which is a compound not of the present invention.
Other than that, photosensitive layer 2 was formed in the same manner as photosensitive layer 1.

【0120】[0120]

【化56】 Embedded image

【0121】表面保護層:以下の組成の液を湿潤厚さ1
00ミクロンになるように塗布した。 アセトン 175ml 2−プロパノール 40ml メタノール 15ml セルロースアセテート 8.0g フタラジン 1.0g 4−メチルフタル酸 0.72g テトラクロロフタル酸 0.22g テトラクロロフタル酸無水物 0.5g
Surface protective layer: A solution having the following composition was wetted to a thickness of 1
It was applied so as to be 00 microns. Acetone 175 ml 2-propanol 40 ml methanol 15 ml cellulose acetate 8.0 g phthalazine 1.0 g 4-methylphthalic acid 0.72 g tetrachlorophthalic acid 0.22 g tetrachlorophthalic anhydride 0.5 g

【0122】センシトメトリー 上記で作成した熱現像感光材料を半切サイズに加工し、
830nmのレーザーダイオードを垂直面より13°傾
いたビームで露光した。その後ヒートドラムを用いて1
20℃ 10秒熱現像処理した。濃度0.3を与える露
光量の逆数を感度とし、相対感度で濃度0.1と3.0
の点を結ぶ直線の傾きをγ(階調)として、Dmaxと
ともに表8に示した。
Sensitometry The photothermographic material prepared above is processed into half-cut sizes,
An 830 nm laser diode was exposed with a beam tilted 13 ° from the vertical. Then use a heat drum for 1
Heat development was performed at 20 ° C. for 10 seconds. The reciprocal of the exposure amount giving a density of 0.3 is defined as the sensitivity, and the relative sensitivity is defined as a density of 0.1 or 3.0.
Table 8 shows the inclination of the straight line connecting the points (1) and (2) with Dmax.

【0123】画質評価 センシトメトリーと同じ露光機で、網点を発生させて画
質を評価した。当社スキャナーフイルムLS555を当
社カラースキャナーMAGNASCANで露光したとき
の網点品質を4点として、それよりもよければ5点。悪
ければ3,2,1点の5点法で評価した。なお3点以上
は印刷感光材料として実用レベルである。
Evaluation of Image Quality Using the same exposure machine as for sensitometry, image quality was evaluated by generating halftone dots. The dot quality when exposing our scanner film LS555 with our color scanner MAGNASCAN is 4 points, and 5 points if better. If it was not good, it was evaluated by a 5-point method of 3, 2, and 1 points. Note that three or more points are at a practical level as a printing photosensitive material.

【0124】[0124]

【表8】 [Table 8]

【0125】表8からわかるように、本発明は感度、D
maxともに高い。また、その中でも階調が大きいもの
は画質が良いことがわかる。また、本発明の現像剤を用
いたもののみが画質が良好なことがわかる。
As can be seen from Table 8, the sensitivity, D
Both max are high. Also, it can be seen that among them, those having a large gradation have good image quality. In addition, it can be seen that only those using the developer of the present invention have good image quality.

【0126】実施例2 感光層面側塗布 感光層:増感色素を次の増感色素−2(0.1%DMF
溶液)に変更し、ヒドラジン誘導体(1% メタノール
/DMF=4:1溶液)2mlを表−9のように添加した
以外は実施例1と同様に感光層用溶液を調製し、塗布を
行った。
Example 2 Photosensitive Layer Side Coating Photosensitive layer: The sensitizing dye was changed to the following sensitizing dye-2 (0.1% DMF).
Solution), and a solution for a photosensitive layer was prepared and coated in the same manner as in Example 1 except that 2 ml of a hydrazine derivative (1% methanol / DMF = 4: 1 solution) was added as shown in Table-9. .

【0127】[0127]

【化57】 Embedded image

【0128】[0128]

【化58】 Embedded image

【0129】表面保護層:実施例1と同様に塗布を行っ
た。
Surface protective layer: Coating was performed in the same manner as in Example 1.

【0130】バック面側塗布:実施例1と同様に塗布を
行った。
Coating on back side: Coating was performed in the same manner as in Example 1.

【0131】センシトメトリー 上記で作成した熱現像感光材料を780nmのレーザー
ダイオードで露光した。それ以外は実施例1と同様に行
った。 画質評価 上記で作成した熱現像感光材料を780nmのレーザー
ダイオードで露光した他は、実施例1と同様に行った。
Sensitometry The photothermographic material prepared above was exposed with a 780 nm laser diode. Other than that, it carried out similarly to Example 1. Image quality evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that the photothermographic material prepared above was exposed with a 780 nm laser diode.

【0132】[0132]

【表9】 [Table 9]

【0133】表9からわかるように、本発明は感度、D
maxともに高い。また、その中でも階調が高いものは
Dmaxも高いことがわかる。
As can be seen from Table 9, the sensitivity, D
Both max are high. Also, it can be seen that among them, those having high gradation have high Dmax.

【0134】実施例3 (ハロゲン化銀粒子Bの調製)水900ml中にイナー
トゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解し
て温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74
gを含む水溶液370mlと(96/4)のモル比の臭
化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液をpAg7.7
に保ちながら、コントロールダブルジェット法で10分
間かけて添加した。このときに硝酸銀添加開始と同時に
ヘキサシアノ鉄(III)酸塩とヘキサクロロイリジウム(I
II)錯塩を1×10-5モル/Agモル添加した。その
後、4−ヒドロキシ−6−メチル−1、3、3a、7−
テトラザインデン0.3gを添加し、水酸化ナトリウム
でpHを5に調整して、平均粒子サイズ0.06μm、
投影直径面積の変動係数8%、[100]面比率87%
の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集
剤を用いて凝集沈殿させ脱塩処理し、フェノキシエタノ
ール0.1gを加え、pH5.9,pAg7.5に調整
した。
Example 3 (Preparation of silver halide particles B) 7.5 g of inert gelatin and 10 mg of potassium bromide were dissolved in 900 ml of water, the temperature was adjusted to 35 ° C. and the pH was adjusted to 3.0.
g of an aqueous solution containing 370 ml of an aqueous solution containing potassium bromide and potassium iodide in a molar ratio (96/4) of pAg 7.7.
, And added over 10 minutes by the control double jet method. At this time, the hexacyanoferrate (III) and hexachloroiridium (I
II) 1 × 10 −5 mol / Ag mol of complex salt was added. Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-
0.3 g of tetrazaindene was added, the pH was adjusted to 5 with sodium hydroxide, and the average particle size was 0.06 μm.
Coefficient of variation of projected diameter area 8%, [100] face ratio 87%
Of cubic silver iodobromide grains were obtained. This emulsion was coagulated and precipitated using a gelatin coagulant, and desalted, and adjusted to pH 5.9 and pAg 7.5 with 0.1 g of phenoxyethanol.

【0135】(有機脂肪酸銀乳剤Bの調製)水300m
l中にベヘン酸10.6gを入れ、90℃に加熱溶解
し、充分攪拌した状態de1Nの水酸化ナトリウム3
1.1mlを添加し、そのままの状態で1時間放置し
た。その後、30℃に冷却し、1Nのリン酸7.0ml
を添加して充分攪拌した状態で、N−ブロモコハク酸イ
ミド0.13gを添加した。その後、あらかじめ調製し
たハロゲン化銀粒子Bをベヘン酸に対して銀量として1
0モル%となるように40℃に加熱した状態で攪拌しな
がら添加した。更に1Nの硝酸銀水溶液25mlを2分
間かけて連続添加し、そのまま攪拌した状態で1時間放
置した。この水系混合物を攪拌しながら、ポリ酢酸ビニ
ルの酢酸n−ブチル溶液1.2wt%37gを徐々に添
加して分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に
2回の水洗と水の除去を行った後、ポリビニルブチラー
ル(平均分子量3000)の2.5wt%の酢酸ブチル
とイソプロピルアルコールの1:2混合溶液20gを攪
拌しながら加えた後、こうして得られたゲル状のベヘン
酸銀及びハロゲン化銀の混合物にポリビニルブチラール
(平均分子量4000)12.5g、イソプロピルアル
コール57gを加え分散した。
(Preparation of Organic Fatty Acid Silver Emulsion B) 300 m of water
10.6 g of behenic acid was added to the mixture, dissolved at 90 ° C. with heating, and sufficiently stirred.
1.1 ml was added and left as it was for 1 hour. Thereafter, the mixture was cooled to 30 ° C., and 7.0 ml of 1N phosphoric acid was added.
Was added and, with sufficient stirring, 0.13 g of N-bromosuccinimide was added. Thereafter, the silver halide grains B prepared in advance were added to behenic acid in a silver amount of 1%.
It was added while stirring at a temperature of 40 ° C. so as to be 0 mol%. Further, 25 ml of a 1N aqueous silver nitrate solution was continuously added over 2 minutes, and the mixture was allowed to stand for 1 hour with stirring. While stirring this aqueous mixture, 37 g of a 1.2 wt% solution of polyvinyl acetate in n-butyl acetate was gradually added to form a floc of the dispersion, water was removed, and water was washed twice and water was removed. After the addition, 20 g of a 1: 2 mixed solution of 2.5 wt% of butyl acetate and isopropyl alcohol of polyvinyl butyral (average molecular weight: 3000) was added with stirring, and the thus obtained gel-like silver behenate and halide were obtained. 12.5 g of polyvinyl butyral (average molecular weight 4000) and 57 g of isopropyl alcohol were added to the silver mixture and dispersed.

【0136】熱処理したポリエチレンテレフタレート支
持体の上に以下の各層を順次塗布し試料を作成した。な
お、乾燥は各々75℃、5分間行った。
The following layers were sequentially coated on the heat-treated polyethylene terephthalate support to prepare a sample. In addition, each drying was performed at 75 ° C. for 5 minutes.

【0137】バック面側塗布::以下の組成の液を湿潤
厚さ100ミクロンになるように感光層を設ける面の反
対面に塗布した。 ポリビニルブチラール#4000−2(電気化学工業株式会社製) (10%イソプロパノール溶液) 60g イソプロピルアルコール 10g 3−イソシアナートメチル−3、5、5−トリメチルシクロ ヘキシルイソシアナート(和光純薬株式会社製)の酢酸エ チルエステル8%溶液 8g 以上の溶液に染料S−1を添加した(染料S−1の0.
2gをメタノール10g+アセトン20gの混合溶媒に
溶解した溶液をバック層の露光波長における吸収が0.
8になるように添加)。
Back side coating: A solution having the following composition was applied to the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer was provided so that the wet thickness was 100 μm. Polyvinyl butyral # 4000-2 (manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK) (10% isopropanol solution) 60 g isopropyl alcohol 10 g 3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Dye S-1 was added to a solution of 8 g or more of an 8% solution of ethyl acetate.
A solution obtained by dissolving 2 g in a mixed solvent of 10 g of methanol and 20 g of acetone has an absorption at the exposure wavelength of the back layer of 0.
8).

【0138】[0138]

【化59】 Embedded image

【0139】感光層面側塗布感光層B:以下の組成の液
を塗布銀量が1.5g/m2になるようにバック層の反
対面に塗布して感光層を作った。ヒドラジン誘導体を表
10に示すように変更して、表10に示した各種の試料
を作製した。 有機脂肪酸銀塩乳剤B 73g 増感色素D−1(0.05%メタノール溶液) 4ml フタラジン(5%メタノール溶液) 2.5ml カブリ防止剤−1(1.7%DMF溶液) 2.5ml 現像剤−1(10%アセトン溶液) 13ml ヒドラジン誘導体 表10記載のもの(1%メタノール溶液) 2ml 2−メルカプト−5−メチルベンゾトリアゾール (0.5%DMF溶液) 5ml CaBr2(0.3%メタノール溶液) 6.5ml
Photosensitive layer side coated photosensitive layer B: A solution having the following composition was applied to the opposite side of the back layer so that the coated silver amount was 1.5 g / m 2 to form a photosensitive layer. The hydrazine derivatives were changed as shown in Table 10, and various samples shown in Table 10 were produced. Organic fatty acid silver salt emulsion B 73 g Sensitizing dye D-1 (0.05% methanol solution) 4 ml Phthalazine (5% methanol solution) 2.5 ml Antifoggant-1 (1.7% DMF solution) 2.5 ml Developer -1 (10% acetone solution) 13 ml hydrazine derivative Those listed in Table 10 (1% methanol solution) 2 ml 2-mercapto-5-methylbenzotriazole (0.5% DMF solution) 5 ml CaBr 2 (0.3% methanol solution) ) 6.5 ml

【0140】[0140]

【化60】 Embedded image

【0141】感光層C:上記感光層Bに対して、現像剤
−1を本発明外の現像剤−2に変更し、他は感光層Bと
同じにして感光層Cを作った。
Photosensitive layer C: A photosensitive layer C was prepared in the same manner as the photosensitive layer B, except that the developer-1 was changed to the developer-2 outside the present invention.

【0142】[0142]

【化61】 Embedded image

【0143】表面保護層:以下の組成の液を湿潤厚さ1
00ミクロンになるように感光層の上に塗布した。 アセトン 175ml メタノール 15ml セルロースアセテート 8.0g 4−メチルフタル酸 0.72g テトラクロロフタル酸 0.22g テトラクロロフタル酸無水物 0.5g
Surface protective layer: A solution having the following composition was wetted to a thickness of 1
It was applied on the photosensitive layer so as to be 00 microns. Acetone 175 ml Methanol 15 ml Cellulose acetate 8.0 g 4-methylphthalic acid 0.72 g Tetrachlorophthalic acid 0.22 g Tetrachlorophthalic anhydride 0.5 g

【0144】センシトメトリー 上記で作製した熱現像感光材料を670nmにピークを
持つ干渉フィルターを介して、発光時間10-3秒でキセ
ノンフラッシュ光で露光した。その後、ヒートドラムを
用いて115℃、15秒間熱現像した。感度は濃度3.
0を与える露光量の逆数を感度とし相対感度で示した。
また特性曲線で濃度0.1と1.5の点を結ぶ直線の傾
きを脚部の切れを表す階調(γ)として示した。バック
層の染料は、熱現像処理後にハロゲンランプを15秒照
射することにより消色した。
Sensitometry The photothermographic material prepared above was exposed to xenon flash light with an emission time of 10 -3 seconds through an interference filter having a peak at 670 nm. Thereafter, heat development was performed at 115 ° C. for 15 seconds using a heat drum. The sensitivity is 3.
The reciprocal of the exposure amount giving 0 was taken as the sensitivity and indicated by relative sensitivity.
The slope of the straight line connecting the points of density 0.1 and 1.5 in the characteristic curve is shown as the gradation (γ) indicating the cut of the leg. The dye in the back layer was erased by irradiating a halogen lamp for 15 seconds after the heat development treatment.

【0145】[0145]

【表10】 [Table 10]

【0146】[0146]

【化62】 Embedded image

【0147】表10からわかるように、本発明の試料は
感度、γともに高い値を示す。
As can be seen from Table 10, the sample of the present invention shows high values for both sensitivity and γ.

【0148】実施例4Embodiment 4

【0149】熱処理したポリエチレンテレフタレート支
持体の上に以下の各層を順次塗布し試料を作成した。な
お、乾燥は各々75℃、5分間行った。
The following layers were sequentially coated on the heat-treated polyethylene terephthalate support to prepare a sample. In addition, each drying was performed at 75 ° C. for 5 minutes.

【0150】バック面側塗布:実施例3のバック層と同
じ処方の塗布液を同様に塗布した。
Back side coating: A coating solution having the same formulation as the back layer of Example 3 was applied in the same manner.

【0151】感光層面側塗布感光層D:以下の組成の液
を塗布銀量ga1.5g/m2になるようにバック層の
反対面に塗布して感光層を作った。現像剤を表11に示
すように変更して、表11に示した各種の試料を作製し
た。 有機脂肪酸銀塩乳剤B 73g 増感色素D−1(0.05%メタノール溶液) 4ml フタラジン(5%メタノール溶液) 2.5ml カブリ防止剤−1(1.7%DMF溶液) 2.5ml 現像剤(表11参照)(10%アセトン溶液) 13ml ヒドラジン誘導体(表11参照)(1%メタノール溶液) 2ml 2−メルカプト−5−メチルベンゾトリアゾール (0.5%DMF溶液) 5ml CaBr2(0.3%メタノール溶液) 6.5ml
Photosensitive layer side coated photosensitive layer D: A solution having the following composition was applied to the opposite side of the back layer so that the applied silver amount was ga1.5 g / m 2 to form a photosensitive layer. Various samples shown in Table 11 were prepared by changing the developer as shown in Table 11. Organic fatty acid silver salt emulsion B 73 g Sensitizing dye D-1 (0.05% methanol solution) 4 ml Phthalazine (5% methanol solution) 2.5 ml Antifoggant-1 (1.7% DMF solution) 2.5 ml Developer (See Table 11) (10% acetone solution) 13 ml Hydrazine derivative (see Table 11) (1% methanol solution) 2 ml 2-mercapto-5-methylbenzotriazole (0.5% DMF solution) 5 ml CaBr 2 (0.3 6.5% methanol solution)

【0152】[0152]

【化63】 Embedded image

【0153】表面保護層:実施例3の表面保護層と同一
処方の塗布液を同様に塗布した。 センシトメトトリー 上記で作製した熱現像感光材料を670nmにピークを
持つ干渉フィルターを介して、発光時間10-3秒でキセ
ノンフラッシュ光で露光した。その後、ヒートドラムを
用いて115℃、15秒間熱現像した。感度は濃度3.
0を与える露光量の逆数を感度とし相対感度で示した。
また特性曲線で濃度0.1と1.5の点を結ぶ直線の傾
きを脚部の切れを表す階調(γ)として示した。バック
層の染料は、熱現像処理後にハロゲンランプを15秒照
射することにより消色した。
Surface protective layer: A coating solution having the same formulation as the surface protective layer of Example 3 was applied in the same manner. Sensitometry The photothermographic material prepared above was exposed to xenon flash light with an emission time of 10 -3 seconds through an interference filter having a peak at 670 nm. Thereafter, heat development was performed at 115 ° C. for 15 seconds using a heat drum. The sensitivity is 3.
The reciprocal of the exposure amount giving 0 was taken as the sensitivity and indicated by relative sensitivity.
The slope of the straight line connecting the points of density 0.1 and 1.5 in the characteristic curve is shown as the gradation (γ) indicating the cut of the leg. The dye in the back layer was erased by irradiating a halogen lamp for 15 seconds after the heat development treatment.

【0154】[0154]

【表11】 [Table 11]

【0155】表11からわかるように、本発明の試料は
感度、γともに高い値を示す。
As can be seen from Table 11, the sample of the present invention shows high values for both sensitivity and γ.

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成9年3月28日[Submission date] March 28, 1997

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0015[Correction target item name] 0015

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0015】式中、R1 は脂肪族基又は芳香族基を表わ
し、R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ
環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基また
はヒドラジノ基を表わし、G1 は−CO−基、−SO2
−基、−SO−基、
In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group; G 1 is a —CO— group, —SO 2
— Group, —SO— group,

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0024[Correction target item name] 0024

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0024】式中、R1 は脂肪族基又は芳香族基を表わ
し、R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ
環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基また
はヒドラジノ基を表わし、G1 は−CO−基、−SO2
−基、−SO−基、
In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group; G 1 is a —CO— group, —SO 2
— Group, —SO— group,

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0041[Correction target item name] 0041

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0041】一般式(III)において,R21は好ましくは
ヘテロ環基(例えばモルフォリノ、インダゾリル、イミ
ダゾリル、ピリジル等)、少なくとも一つの電子吸引性
基で置換されたアルキル基、又は少なくとも一つの電子
吸引性基で置換されたアリール基を表す。ここに、電子
吸引性基とはハメットの置換基常数σmが正の値をとる
置換基のことであり、具体的にはハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、アシル基、オキシカルボニル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシ
ルオキシ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、又はイミド基等を表す。R21は更
に好ましくは少なくとも一つの電子吸引性基で置換され
たアルキル基であり、その電子吸引性基としてはフッ素
原子、アルコキシ基、アリールオキシ基が特に好まし
い。一般式(IV)においてR22は好ましくはアミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ
基、又はアルコキシ基である。一般式(V)においてG13
は好ましくは−SO2 −、チオカルボニル基、
In the general formula (III), R 21 is preferably a heterocyclic group (for example, morpholino, indazolyl, imidazolyl, pyridyl, etc.), an alkyl group substituted with at least one electron-withdrawing group, or at least one electron-withdrawing group. Represents an aryl group substituted with a functional group. Here, the electron-withdrawing group refers to a substituent having a positive Hammett's substituent constant σm, and specifically includes a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an acyl group, an oxycarbonyl group, and a sulfonamide. Group, sulfamoyl group, carbamoyl group, acyloxy group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, imide group and the like. R 21 is more preferably an alkyl group substituted with at least one electron-withdrawing group, and as the electron-withdrawing group, a fluorine atom, an alkoxy group, and an aryloxy group are particularly preferable. In the general formula (IV), R 22 is preferably an amino group,
It is an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, or an alkoxy group. G 13 in the general formula (V)
Is preferably -SO 2 -, thiocarbonyl group,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田耕三郎 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 加藤 和信 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kosaburo Yamada 210 Nakanakanuma, Minamiashigara-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fuji Photo Film Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機酸銀とハロゲン化銀を含む熱現像感
光材料において、下記一般式(A)の化合物とヒドラジ
ン誘導体を含有することを特徴とする熱現像感光材料。 【化1】 式中Rは水素原子、または炭素原子数1〜10のアルキ
ル基を表し、R′およびR″は炭素原子数1〜5のアル
キル基を表す。
1. A photothermographic material containing a silver salt of an organic acid and silver halide, comprising a compound represented by the following general formula (A) and a hydrazine derivative. Embedded image In the formula, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R ′ and R ″ represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
【請求項2】 有機酸銀とハロゲン化銀を含む熱現像感
光材料において、下記一般式(R-I)、(R-II)、(R-III)も
しくは(R-IV)で表される化合物とヒドラジン誘導体を
含有することを特徴とする熱現像感光材料。 【化2】 なお、一般式(R-III)においてZが形成する環構造は下
記のものである。 【化3】 また、一般式(R-IV)においてZが形成する環構造は下
記のものである。 【化4】 式中、L1、L2は、>CH(R6)で表される基もしく
は硫黄原子である。nは自然数を表す。式中、R1 〜R
10、R1′〜R5′、R11〜R13、R11′〜R13′、R21
〜R28、R21′〜R28′は、水素原子、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基、ハロゲン原子、アミノ基もし
くは−OAで表される基である。但し、R1 〜R5の少
なくとも一つは−OAで表される基であり、R1′〜
5′の少なくとも一つは−OAで表される基であり、
7〜R10の少なくとも一つは−OAで表される基であ
る。また、R1 〜R10、R1′〜R5′、R11〜R13、R
11′〜R13′、R 21〜R28、R21′〜R28′の各々の中
の複数個の置換基が互いに結合して環を形成してもよ
い。A,A′は、水素原子、アルキル基、アシル基、ア
リール基、リン酸基、スルホニル基を表す。R1
10、R1′〜R5′、R11〜R13、R11′〜R13′、R
21〜R28、R21′〜R28′、A,A′は置換されていて
もよい。但し、一般式(R-III)において、R1 〜R5
少なくとも一方、R1′〜R5 ′の少なくとも一方が−
OAで表される基の場合は、L1は硫黄原子である。
2. A thermal developing sensation containing an organic acid silver salt and a silver halide.
In optical materials, the following general formulas (R-I), (R-II), (R-III)
Or the compound represented by (R-IV) and a hydrazine derivative
A photothermographic material characterized by containing: Embedded imageThe ring structure formed by Z in the general formula (R-III) is
It is the one of the note. Embedded imageIn the general formula (R-IV), the ring structure formed by Z is
It is the one of the note. Embedded imageWhere L1, LTwoIs> CH (R6)
Is a sulfur atom. n represents a natural number. Where R1 ~ R
Ten, R1'~ RFive', R11~ R13, R11'~ R13', Rtwenty one
~ R28, Rtwenty one'~ R28′ Represents a hydrogen atom, an alkyl group,
Reel group, aralkyl group, halogen atom, amino group
Or a group represented by -OA. Where R1 ~ RFiveLittle
At least one is a group represented by -OA,1'~
RFiveAt least one is a group represented by -OA;
R7~ RTenAt least one is a group represented by -OA
You. Also, R1 ~ RTen, R1'~ RFive', R11~ R13, R
11'~ R13', R twenty one~ R28, Rtwenty one'~ R28′ In each
A plurality of substituents of the above may be bonded to each other to form a ring.
No. A and A 'represent a hydrogen atom, an alkyl group, an acyl group,
Represents a reel group, a phosphate group, or a sulfonyl group. R1 ~
RTen, R1'~ RFive', R11~ R13, R11'~ R13', R
twenty one~ R28, Rtwenty one'~ R28', A, A' are substituted
Is also good. However, in the general formula (R-III), R1 ~ RFiveof
At least one, R1'~ RFive 'Is at least one of-
In the case of a group represented by OA, L1Is a sulfur atom.
【請求項3】 ヒドラジン誘導体が下記一般式(I)で
表されるものであることを特徴とする請求項1又は2記
載の熱現像感光材料。 【化5】 式中、R1 は脂肪族基又は芳香族基を表わし、R2 は水
素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヒドラジノ
基を表わし、G1 は−CO−基、−SO2 −基、−SO
−基、 【化6】 、−CO−CO−基、チオカルボニル基、又はイミノメ
チレン基を表わし、A1、A2 はともに水素原子、ある
いは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアル
キルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアリール
スルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表
わす。R3 はR2 に定義した基と同じ範囲内より選ば
れ、R2 と異なってもよい。
3. The photothermographic material according to claim 1, wherein the hydrazine derivative is represented by the following general formula (I). Embedded image In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group, G 1 is —CO— group, —SO 2 — group, —SO
-Group, , -CO-CO-, thiocarbonyl, or iminomethylene, wherein A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group; Represents a substituted arylsulfonyl group or a substituted or unsubstituted acyl group. R 3 is selected from the same range as the groups defined in R 2, may be different from R 2.
【請求項4】 ヒドラジン誘導体が下記一般式(II)〜
(V)で表される化合物であることを特徴とする請求項1
〜3のいずれかに記載の熱現像感光材料。 【化7】 式中、R10〜R13は芳香族基もしくは不飽和ヘテロ環基
を表し、A10〜A13,A20〜A23はA1 、A2 と同じ意
味を表す。一般式(III)においてR21は少なくとも一つ
の電子吸引性基で置換されたアルキル基、少なくとも一
つの電子吸引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、
ヘテロ環アミノ基、ヒドラジノ基、アルコキシ基又はア
リールオキシ基を表す。一般式(V)においてG13は−S
O2−基,−SO−基、 【化8】 (R30は一般式(I)のR3と同義の基)、チオカルボ
ニル基、又はイミノメチレン基を表わし、R23はアルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテ
ロ環アミノ基又はヒドラジノ基を表す。
4. A hydrazine derivative represented by the following general formula (II):
2. A compound represented by the formula (V):
4. The photothermographic material according to any one of items 1 to 3, Embedded image In the formula, R 10 to R 13 represent an aromatic group or an unsaturated heterocyclic group, and A 10 to A 13 and A 20 to A 23 have the same meaning as A 1 and A 2 . In the general formula (III), R 21 represents an alkyl group substituted with at least one electron-withdrawing group, an aryl group substituted with at least one electron-withdrawing group, a heterocyclic group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group. Group,
Represents a heterocyclic amino group, hydrazino group, alkoxy group or aryloxy group. In the general formula (V), G 13 is -S
O2- group, -SO- group, (R 30 represents a group having the same meaning as R 3 in formula (I)), a thiocarbonyl group or an iminomethylene group, and R 23 represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group,
Represents an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group or a hydrazino group.
【請求項5】 熱現像処理後の階調γが、γ>5である
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の熱現
像感光材料。
5. The photothermographic material according to claim 1, wherein the gradation γ after the heat development processing is γ> 5.
JP21582296A 1995-08-15 1996-08-15 Photothermographic material Expired - Lifetime JP3720131B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21582296A JP3720131B2 (en) 1995-08-15 1996-08-15 Photothermographic material

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22862795 1995-08-15
JP7-228627 1996-04-26
JP8-107933 1996-04-26
JP10793396 1996-04-26
JP21582296A JP3720131B2 (en) 1995-08-15 1996-08-15 Photothermographic material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1010672A true JPH1010672A (en) 1998-01-16
JP3720131B2 JP3720131B2 (en) 2005-11-24

Family

ID=27311106

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21582296A Expired - Lifetime JP3720131B2 (en) 1995-08-15 1996-08-15 Photothermographic material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3720131B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013502386A (en) * 2009-08-20 2013-01-24 バイエル・クロップサイエンス・アーゲー 3- [1- (3-haloalkyl) -triazolyl] -phenyl-sulfide derivatives for use as acaricides and insecticides
JP2013502387A (en) * 2009-08-20 2013-01-24 バイエル・クロップサイエンス・アーゲー 3-Triazolylphenyl substituted sulfide derivatives as acaricides and insecticides

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013502386A (en) * 2009-08-20 2013-01-24 バイエル・クロップサイエンス・アーゲー 3- [1- (3-haloalkyl) -triazolyl] -phenyl-sulfide derivatives for use as acaricides and insecticides
JP2013502387A (en) * 2009-08-20 2013-01-24 バイエル・クロップサイエンス・アーゲー 3-Triazolylphenyl substituted sulfide derivatives as acaricides and insecticides

Also Published As

Publication number Publication date
JP3720131B2 (en) 2005-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0762196B1 (en) Heat developable light-sensitive material
JPH06301141A (en) Photosensitive and thermosensitive duplicate image formation material and sensitizer for it
JPH10120928A (en) Thermally developable photosensitive material, new 2,3-dihydrothiazole derivative and halogenated silver photographic photosensitive material
US6074814A (en) Photothermographic material comprising an infra-red sensitizer
JP3600663B2 (en) Photothermographic material
JP3720131B2 (en) Photothermographic material
JP3821403B2 (en) Thermal development recording material
US6403297B1 (en) Thermally developable material and packing method of the same
JPH11202444A (en) Heat-developable photosensitive material
JPH09160164A (en) Heat-developable photosensitive material
JP3501425B2 (en) Photothermographic material
JP2000002965A (en) Heat developable photosensitive material, image forming method and antifog agent
JPH09274274A (en) Heat developable photosensitive material and image forming method using the same
JPH1031282A (en) Heat-developable photosensitive material
JP3812771B2 (en) Recording material
JP3675598B2 (en) Photothermographic material
JPH09304870A (en) Heat developable photosensitive material
JPH08201959A (en) Heat-developable photosensitive material
JPH09292671A (en) Heat-developable photosensitive material
JPH09304872A (en) Heat developable photosensitive material
JPH11119372A (en) Heat-developable recording material
JP2000284403A (en) Recording material with photo-decolorable colored layer and heat developable photosensitive material
JPH10171063A (en) Sliver halide photographic sensitive material, and novel polyhalogen compound
JP2006133818A (en) Heat developable recording material
JPH1010671A (en) Heat developing photosensitive material

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041124

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050124

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050413

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050613

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050824

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050907

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080916

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080916

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090916

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090916

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100916

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100916

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110916

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120916

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130916

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term