JPH10107003A - オゾン水処理装置およびそれを用いた洗浄処理装置 - Google Patents
オゾン水処理装置およびそれを用いた洗浄処理装置Info
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- JPH10107003A JPH10107003A JP25465196A JP25465196A JPH10107003A JP H10107003 A JPH10107003 A JP H10107003A JP 25465196 A JP25465196 A JP 25465196A JP 25465196 A JP25465196 A JP 25465196A JP H10107003 A JPH10107003 A JP H10107003A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明はオゾン水からオゾンガスを安価
に、しかも確実に脱気することができるようにしたオゾ
ン水処理装置を提供することにある。 【解決手段】 オゾン水からオゾンガスを脱気するため
のオゾン水処理装置において、オゾン水が供給される処
理タンク１２と、この処理タンク内のオゾン水に加圧気
体を供給してオゾンガスを脱気させる第１の制御弁１４
が設けられた気体供給管１３と、脱気されたオゾンガス
を上記処理タンクから排出する第４の制御弁１９が設け
られた排ガス管１７と、オゾンガスが脱気された液体を
上記処理タンクから排出する第３の制御弁１８が設けら
れた排液管１６とを具備したことを特徴とする。
に、しかも確実に脱気することができるようにしたオゾ
ン水処理装置を提供することにある。 【解決手段】 オゾン水からオゾンガスを脱気するため
のオゾン水処理装置において、オゾン水が供給される処
理タンク１２と、この処理タンク内のオゾン水に加圧気
体を供給してオゾンガスを脱気させる第１の制御弁１４
が設けられた気体供給管１３と、脱気されたオゾンガス
を上記処理タンクから排出する第４の制御弁１９が設け
られた排ガス管１７と、オゾンガスが脱気された液体を
上記処理タンクから排出する第３の制御弁１８が設けら
れた排液管１６とを具備したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は被洗浄物を洗浄し
たオゾン水を処理するオゾン水処理装置およびそのオゾ
ン水処理装置が用いられた洗浄処理装置に関する。
たオゾン水を処理するオゾン水処理装置およびそのオゾ
ン水処理装置が用いられた洗浄処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、液晶製造装置や半導体製造装
置などでは、被洗浄物としての液晶用ガラス基板や半導
体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求される工程
がある。被洗浄物には微粒子が付着しているだけでな
く、脂肪などの有機物が付着している場合もある。
置などでは、被洗浄物としての液晶用ガラス基板や半導
体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求される工程
がある。被洗浄物には微粒子が付着しているだけでな
く、脂肪などの有機物が付着している場合もある。
【０００３】微粒子を洗浄する場合には、被洗浄物に純
水を単に吹き付けたり、純水に超音波振動を付与して吹
き付けるなどして除去することができる。しかしなが
ら、有機物の場合、純水では除去できないため、純水に
通常はオゾンと酸素の混合ガスであるオゾン含有ガスを
封入して溶解させたオゾン水が用いられる。
水を単に吹き付けたり、純水に超音波振動を付与して吹
き付けるなどして除去することができる。しかしなが
ら、有機物の場合、純水では除去できないため、純水に
通常はオゾンと酸素の混合ガスであるオゾン含有ガスを
封入して溶解させたオゾン水が用いられる。
【０００４】オゾン水は周知のように酸化力が強く、限
られた種類の弗素系樹脂以外の材料は腐食するというこ
とがある。そのため、使用済みのオゾン水をそのままの
状態で廃棄すると、配管などを腐食させるなどのことが
あるため、その有害性を低減したり、除去してからでな
ければ廃棄できないということがあった。
られた種類の弗素系樹脂以外の材料は腐食するというこ
とがある。そのため、使用済みのオゾン水をそのままの
状態で廃棄すると、配管などを腐食させるなどのことが
あるため、その有害性を低減したり、除去してからでな
ければ廃棄できないということがあった。
【０００５】従来、使用済みのオゾン水は、純水などで
希釈して濃度を下げてから廃棄したり、オゾン分解作用
のある薬品や物質を混入して分解してから廃棄するとい
うことが行われていた。
希釈して濃度を下げてから廃棄したり、オゾン分解作用
のある薬品や物質を混入して分解してから廃棄するとい
うことが行われていた。
【０００６】しかしながら、前者の手段によると、大量
の純水を使用するため、純水の製造コストが増大した
り、オゾン水を希釈した廃液の処理コストが増大するな
どのことがあった。
の純水を使用するため、純水の製造コストが増大した
り、オゾン水を希釈した廃液の処理コストが増大するな
どのことがあった。
【０００７】後者の手段によると、オゾン水を分解する
ために使用する薬品や物質のコストが高くなるばかり
か、それらの供給設備が必要となるから、それによって
もコスト高を招くことになる。
ために使用する薬品や物質のコストが高くなるばかり
か、それらの供給設備が必要となるから、それによって
もコスト高を招くことになる。
【０００８】さらに、両者に共通して言えることは、オ
ゾン水からオゾンガス（酸素ガスも含む）を確実に分解
できないため、オゾンガスを含む液体を排出することに
なり、配管や設備などを早期に損傷させるということが
あった。
ゾン水からオゾンガス（酸素ガスも含む）を確実に分解
できないため、オゾンガスを含む液体を排出することに
なり、配管や設備などを早期に損傷させるということが
あった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来はオ
ゾン水を純水で希釈したり、薬液などで分解してから廃
棄していたので、そのためのランニングコストが高くな
るということがあった。しかも、オゾン水からオゾンガ
スを確実に分解することができないため、配管や設備に
悪影響を及ぼすことがあった。
ゾン水を純水で希釈したり、薬液などで分解してから廃
棄していたので、そのためのランニングコストが高くな
るということがあった。しかも、オゾン水からオゾンガ
スを確実に分解することができないため、配管や設備に
悪影響を及ぼすことがあった。
【００１０】この発明の目的は、安価なランニングコス
トでオゾン水からオゾンガスを確実に脱気できるように
したオゾン水分解処理装置およびそれを用いた洗浄処理
装置を提供することにある。
トでオゾン水からオゾンガスを確実に脱気できるように
したオゾン水分解処理装置およびそれを用いた洗浄処理
装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、オゾ
ン水からオゾンガスを脱気するためのオゾン水処理装置
において、オゾン水が供給される処理タンクと、この処
理タンク内のオゾン水に加圧気体を供給してオゾンガス
を脱気させる気体供給手段と、脱気されたオゾンガスを
上記処理タンクから排出する排気手段と、オゾンガスが
脱気された液体を上記処理タンクから排出する排液手段
とを具備したことを特徴とする。
ン水からオゾンガスを脱気するためのオゾン水処理装置
において、オゾン水が供給される処理タンクと、この処
理タンク内のオゾン水に加圧気体を供給してオゾンガス
を脱気させる気体供給手段と、脱気されたオゾンガスを
上記処理タンクから排出する排気手段と、オゾンガスが
脱気された液体を上記処理タンクから排出する排液手段
とを具備したことを特徴とする。
【００１２】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記加圧気体の圧力を調整自在としたことを特徴と
する。請求項３の発明は、請求項１または請求項２の発
明において、上記排気手段は、オゾンガスを強制的に排
出する排気装置を有することを特徴とする。
て、上記加圧気体の圧力を調整自在としたことを特徴と
する。請求項３の発明は、請求項１または請求項２の発
明において、上記排気手段は、オゾンガスを強制的に排
出する排気装置を有することを特徴とする。
【００１３】請求項４の発明は、被洗浄物をオゾン水で
洗浄処理するための洗浄処理装置において、上記オゾン
水を被処理物に吹き付けて洗浄処理する処理チャンバ
と、この処理チャンバから排出されるオゾン水を蓄える
バッファタンクと、このバッファタンクに蓄えられたオ
ゾン水が所定量づつ供給される処理タンクと、この処理
タンク内のオゾン水に加圧気体を供給してオゾンガスを
脱気させる気体供給手段と、上記処理タンクから脱気さ
れたオゾンガスを排出する排気手段と、上記処理タンク
からオゾンガスが脱気された液体を排出する廃液手段と
を具備したことを特徴とする。
洗浄処理するための洗浄処理装置において、上記オゾン
水を被処理物に吹き付けて洗浄処理する処理チャンバ
と、この処理チャンバから排出されるオゾン水を蓄える
バッファタンクと、このバッファタンクに蓄えられたオ
ゾン水が所定量づつ供給される処理タンクと、この処理
タンク内のオゾン水に加圧気体を供給してオゾンガスを
脱気させる気体供給手段と、上記処理タンクから脱気さ
れたオゾンガスを排出する排気手段と、上記処理タンク
からオゾンガスが脱気された液体を排出する廃液手段と
を具備したことを特徴とする。
【００１４】請求項５の発明は、請求項４の発明におい
て、上記加圧気体の圧力を調整自在としたことを特徴と
する。請求項６の発明は、請求項４または請求項５の発
明において、上記排気手段は、オゾンガスを強制的に排
出する排気装置を有することを特徴とする。
て、上記加圧気体の圧力を調整自在としたことを特徴と
する。請求項６の発明は、請求項４または請求項５の発
明において、上記排気手段は、オゾンガスを強制的に排
出する排気装置を有することを特徴とする。
【００１５】請求項１の発明によれば、処理タンク内の
オゾン水に加圧気体を供給すると、そのオゾン水に含ま
れるオゾンガスが脱気されるから、オゾン水がオゾンガ
スと液体とに分離される。
オゾン水に加圧気体を供給すると、そのオゾン水に含ま
れるオゾンガスが脱気されるから、オゾン水がオゾンガ
スと液体とに分離される。
【００１６】請求項２と請求項５の発明によれば、加圧
気体の圧力を調整することで、液体からオゾンガスを脱
気させる速度を制御できる。請求項３と請求項６の発明
によれば、オゾンガスを処理タンクから強制的に排気す
ることで、脱気速度を高めることが可能となる。
気体の圧力を調整することで、液体からオゾンガスを脱
気させる速度を制御できる。請求項３と請求項６の発明
によれば、オゾンガスを処理タンクから強制的に排気す
ることで、脱気速度を高めることが可能となる。
【００１７】請求項４の発明によれば、処理チャンバで
被洗浄物を洗浄したオゾン水をバッファタンクに蓄え、
所定量づつ処理タンクに供給し、この処理タンク内でオ
ゾン水に加圧気体を供給することで、そのオゾン水に含
まれるオゾンガスが脱気されるから、オゾン水がオゾン
ガスと液体とに分離される。
被洗浄物を洗浄したオゾン水をバッファタンクに蓄え、
所定量づつ処理タンクに供給し、この処理タンク内でオ
ゾン水に加圧気体を供給することで、そのオゾン水に含
まれるオゾンガスが脱気されるから、オゾン水がオゾン
ガスと液体とに分離される。
【００１８】
【発明の実施形態】以下、この発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。図１に示す洗浄処理装置は処理チ
ャンバ１を有する。この処理チャンバ１内には液晶用ガ
ラス基板や半導体ウエハなどの被洗浄物２が駆動源３に
よって回転駆動される回転テ−ブル４によって着脱自在
に保持されている。
を参照して説明する。図１に示す洗浄処理装置は処理チ
ャンバ１を有する。この処理チャンバ１内には液晶用ガ
ラス基板や半導体ウエハなどの被洗浄物２が駆動源３に
よって回転駆動される回転テ−ブル４によって着脱自在
に保持されている。
【００１９】上記被洗浄物２の上方にはノズル体５が配
置されている。このノズル体５はオゾン水の供給源６に
連通されていて、上記被洗浄物２に向けてオゾン水を噴
射できるようになっている。それによって、上記被洗浄
物２は、とくにその板面に付着した有機物を分解洗浄で
きるようになっている。
置されている。このノズル体５はオゾン水の供給源６に
連通されていて、上記被洗浄物２に向けてオゾン水を噴
射できるようになっている。それによって、上記被洗浄
物２は、とくにその板面に付着した有機物を分解洗浄で
きるようになっている。
【００２０】上記処理チャンバ１の底部には排液管７の
一端が接続されている。この排液管７の他端はバッファ
タンク８に連通していて、上記処理チャンバ１からのオ
ゾン水を蓄えることができるようになっている。このバ
ッファタンク８にはここに蓄えられるオゾン水の量を検
出するセンサ１０が設けられている。
一端が接続されている。この排液管７の他端はバッファ
タンク８に連通していて、上記処理チャンバ１からのオ
ゾン水を蓄えることができるようになっている。このバ
ッファタンク８にはここに蓄えられるオゾン水の量を検
出するセンサ１０が設けられている。
【００２１】上記バッファタンク８の底部には供給管９
の一端が接続されている。この供給管９の中途部には第
１の制御弁１１が接続され、他端はオゾン水の処理装置
を構成する気密構造の処理タンク１２に接続されてい
る。
の一端が接続されている。この供給管９の中途部には第
１の制御弁１１が接続され、他端はオゾン水の処理装置
を構成する気密構造の処理タンク１２に接続されてい
る。
【００２２】上記処理タンク１２の底部には一端側に多
数のノズル部１３ａを有する気体供給管１３が配設され
ている。この気体供給管１３の他端は処理タンク１２か
ら気密に導出され、第２の制御弁１４を介して加圧気体
の供給源１５に接続されている。したがって、制御弁１
４の開閉によって気体供給管１３から処理タンク１２内
のオゾン水へ供給される気体によってオゾン水をバブリ
ングできるようになっている。処理タンク１２内へ供給
する気体としてはドライエア−あるいは窒素などの不活
性ガスなどがよい。
数のノズル部１３ａを有する気体供給管１３が配設され
ている。この気体供給管１３の他端は処理タンク１２か
ら気密に導出され、第２の制御弁１４を介して加圧気体
の供給源１５に接続されている。したがって、制御弁１
４の開閉によって気体供給管１３から処理タンク１２内
のオゾン水へ供給される気体によってオゾン水をバブリ
ングできるようになっている。処理タンク１２内へ供給
する気体としてはドライエア−あるいは窒素などの不活
性ガスなどがよい。
【００２３】上記処理タンク１２の底部には、排液管１
６の一端が接続され、上部には排ガス管１７の一端が接
続されている。上記排液管１６は、第３の制御弁１８の
一端に接続され、この制御弁１８の他端は図示しない下
水道などに連通される。上記排ガス管１７には第４の制
御弁１９を介してオゾン分解器２１の接続されている。
６の一端が接続され、上部には排ガス管１７の一端が接
続されている。上記排液管１６は、第３の制御弁１８の
一端に接続され、この制御弁１８の他端は図示しない下
水道などに連通される。上記排ガス管１７には第４の制
御弁１９を介してオゾン分解器２１の接続されている。
【００２４】なお、第４の制御弁１９とオゾン分解器２
１の間には、たとえば送風機等からなる排気装置２０を
介在させ、加圧気体の供給源１５からのアエ圧と排気装
置２０の排気量とを設定することで、最適の処理時間に
することが可能である。
１の間には、たとえば送風機等からなる排気装置２０を
介在させ、加圧気体の供給源１５からのアエ圧と排気装
置２０の排気量とを設定することで、最適の処理時間に
することが可能である。
【００２５】上記第１乃至第４の制御弁１１、１４、１
８、１９は、制御装置２２によって図２に示すタイムチ
ャ−トに基づき開閉制御されるようになっている。つま
り、制御装置２２は、上記バッファタンク８に設けられ
たセンサ１０がこのタンク８内にオゾン水が所定量以上
たまったことを検知すると、その検知信号で上記各制御
弁を上記タイムチャ−トにしたがって開閉制御し、被洗
浄物２を洗浄処理したオゾン水を後述するように脱気処
理するようになっている。
８、１９は、制御装置２２によって図２に示すタイムチ
ャ−トに基づき開閉制御されるようになっている。つま
り、制御装置２２は、上記バッファタンク８に設けられ
たセンサ１０がこのタンク８内にオゾン水が所定量以上
たまったことを検知すると、その検知信号で上記各制御
弁を上記タイムチャ−トにしたがって開閉制御し、被洗
浄物２を洗浄処理したオゾン水を後述するように脱気処
理するようになっている。
【００２６】図３と図４は実験結果を示す。図３は処理
方法の違いがオゾン水分解速度に及ぼす影響を実験した
もので、横軸は経過時間（分）で、縦軸は溶存オゾンガ
ス濃度（ｐｐｍ）である。図中直線Ａはバブリングだけ
で脱気する場合で、直線Ｂはバブリングと強制排気とを
組み合わせた場合である。また、直線Ｃは排気だけであ
り、直線Ｄは放置した場合である。
方法の違いがオゾン水分解速度に及ぼす影響を実験した
もので、横軸は経過時間（分）で、縦軸は溶存オゾンガ
ス濃度（ｐｐｍ）である。図中直線Ａはバブリングだけ
で脱気する場合で、直線Ｂはバブリングと強制排気とを
組み合わせた場合である。また、直線Ｃは排気だけであ
り、直線Ｄは放置した場合である。
【００２７】この図から分かるように、本願発明のよう
にバブリングあるいはバブリングと強制排気を組み合わ
せると、他の処理方法に比べて溶存オゾンガス濃度を短
時間で低下せることができる。つまり、脱気速度を速め
ることができる。
にバブリングあるいはバブリングと強制排気を組み合わ
せると、他の処理方法に比べて溶存オゾンガス濃度を短
時間で低下せることができる。つまり、脱気速度を速め
ることができる。
【００２８】図４はバブリング圧力がオゾン分解処理速
度に及ぼす影響を実験したもので、横軸は経過時間
（分）を示し、縦軸は溶存オゾンガス濃度（ｐｐｍ）を
示す。図中直線Ｅはバブリングせずに放置した場合であ
り、直線Ｆはバブリング圧力１Kg／cm2 の場合であり、
直線Ｇは2.5 Kg／cm2 、直線Ｈは5.0 Kg／cm2 の場合で
ある。
度に及ぼす影響を実験したもので、横軸は経過時間
（分）を示し、縦軸は溶存オゾンガス濃度（ｐｐｍ）を
示す。図中直線Ｅはバブリングせずに放置した場合であ
り、直線Ｆはバブリング圧力１Kg／cm2 の場合であり、
直線Ｇは2.5 Kg／cm2 、直線Ｈは5.0 Kg／cm2 の場合で
ある。
【００２９】この図から分かるように、バブリング圧力
を高くすると、溶存オゾンガス濃度を短時間で低下せる
ことができる。つまり、脱気速度を速めることができ
る。以上のことから、オゾン水のバブリング、処理タン
ク１２で発生するオゾンの強制排気およびバブリング時
の圧力設定を組み合わせることで、オゾン水からのオゾ
ンの脱気を効率よく確実に行えることが判明した。
を高くすると、溶存オゾンガス濃度を短時間で低下せる
ことができる。つまり、脱気速度を速めることができ
る。以上のことから、オゾン水のバブリング、処理タン
ク１２で発生するオゾンの強制排気およびバブリング時
の圧力設定を組み合わせることで、オゾン水からのオゾ
ンの脱気を効率よく確実に行えることが判明した。
【００３０】たとえば、密閉した処理タンク１２内にオ
ゾン水を放置した場合、オゾン牛の溶存オゾン濃度を５
ppm から0.2ppmまで下げるのに要した時間は５４分であ
ったが、バブリングの圧力が１Kg／cm2 のときには２２
分であり、5.0 Kg／cm2 のときには３．６分であった。
ゾン水を放置した場合、オゾン牛の溶存オゾン濃度を５
ppm から0.2ppmまで下げるのに要した時間は５４分であ
ったが、バブリングの圧力が１Kg／cm2 のときには２２
分であり、5.0 Kg／cm2 のときには３．６分であった。
【００３１】さらに、強制排気を併用すると、分解速度
をより一層向上させることができ、たとえばバブリング
の圧力が5.0 Kg／cm2 のときに、排気を100pa （処理タ
ンク１２内は300pa の陽圧）の条件では、約２．５分と
なり、放置した場合の約２０分の１に処理時間を短縮で
きた。
をより一層向上させることができ、たとえばバブリング
の圧力が5.0 Kg／cm2 のときに、排気を100pa （処理タ
ンク１２内は300pa の陽圧）の条件では、約２．５分と
なり、放置した場合の約２０分の１に処理時間を短縮で
きた。
【００３２】つぎに、上記構成の装置の動作について説
明する。処理チャンバ１内の回転テ−ブル４に被洗浄物
２を保持したならば、この回転テ−ブル４を回転駆動す
るとともに、ノズル体５からオゾン水を上記被洗浄物２
に向けて噴射する。それによって、オゾン水は被洗浄物
２に付着した有機物を分解洗浄する。
明する。処理チャンバ１内の回転テ−ブル４に被洗浄物
２を保持したならば、この回転テ−ブル４を回転駆動す
るとともに、ノズル体５からオゾン水を上記被洗浄物２
に向けて噴射する。それによって、オゾン水は被洗浄物
２に付着した有機物を分解洗浄する。
【００３３】被洗浄物２を洗浄したオゾン水は処理チャ
ンバ１から排液管７を通りバッファタンク８に流入す
る。バッファタンク８に所定量のオゾン水がたまり、そ
のことが上記バッファタンク８に設けられたセンサ１０
によって検出されると、第１乃至第４の制御弁１１，１
４、１８、１９が図２のタイムチャ−トに基づいて開閉
制御される。
ンバ１から排液管７を通りバッファタンク８に流入す
る。バッファタンク８に所定量のオゾン水がたまり、そ
のことが上記バッファタンク８に設けられたセンサ１０
によって検出されると、第１乃至第４の制御弁１１，１
４、１８、１９が図２のタイムチャ−トに基づいて開閉
制御される。
【００３４】すなわち、まず、第１の制御弁１１が時間
Ｔ1 から時間Ｔ2 の間、開放される。第１の制御弁１１
が所定時間開放されることで、バッファタンク８内のオ
ゾン水が供給管９を通じて処理タンク１２へ所定量供給
される。
Ｔ1 から時間Ｔ2 の間、開放される。第１の制御弁１１
が所定時間開放されることで、バッファタンク８内のオ
ゾン水が供給管９を通じて処理タンク１２へ所定量供給
される。
【００３５】時間Ｔ2 では第１の制御弁１１が閉じ、第
２の制御弁１４が開放される。それによって、供給源１
５から気体供給管１３を通じて加圧気体である、加圧エ
ア−が上記処理タンク１２内のオゾン水へ供給される。
２の制御弁１４が開放される。それによって、供給源１
５から気体供給管１３を通じて加圧気体である、加圧エ
ア−が上記処理タンク１２内のオゾン水へ供給される。
【００３６】加圧エア−が供給されると、処理タンク１
２内オゾン水がバブリングされ、オゾン水に含まれたオ
ゾンガスが脱気し、液体と分離される。上記第２の開閉
弁１４は時間Ｔ3 で閉じられる。ついで、時間Ｔ3 では
第３の制御弁１８と第４の制御弁１９とが開放される。
第３の制御弁１８が開放されることで、オゾンガスが分
離された液体が排液管１６から排出される。また、第４
の制御弁１９が開放されることでオゾン水から脱気され
たオゾンガスが排ガス管１７を通ってオゾン分解器２１
に供給される。
２内オゾン水がバブリングされ、オゾン水に含まれたオ
ゾンガスが脱気し、液体と分離される。上記第２の開閉
弁１４は時間Ｔ3 で閉じられる。ついで、時間Ｔ3 では
第３の制御弁１８と第４の制御弁１９とが開放される。
第３の制御弁１８が開放されることで、オゾンガスが分
離された液体が排液管１６から排出される。また、第４
の制御弁１９が開放されることでオゾン水から脱気され
たオゾンガスが排ガス管１７を通ってオゾン分解器２１
に供給される。
【００３７】排ガス管１７を通って供給されたオゾンガ
スはオゾン分解器２１で分解されて酸素などになってか
ら大気中に排出されるから、無害であり、また排液管１
６から排出される液体中には、オゾンガスがほとんど含
まれていないから、その液体も無害である。つまり、処
理タンク１２内にたとえばエア−などの加圧気体を供給
することで、オゾン水からオゾンガスを確実に脱気する
ことができるから、純水で希釈したり、薬液などを用い
る場合などに比べてそのランニングコストを低減するこ
とができる。
スはオゾン分解器２１で分解されて酸素などになってか
ら大気中に排出されるから、無害であり、また排液管１
６から排出される液体中には、オゾンガスがほとんど含
まれていないから、その液体も無害である。つまり、処
理タンク１２内にたとえばエア−などの加圧気体を供給
することで、オゾン水からオゾンガスを確実に脱気する
ことができるから、純水で希釈したり、薬液などを用い
る場合などに比べてそのランニングコストを低減するこ
とができる。
【００３８】また、上述した実施形態では第３の制御弁
１８と第４の制御弁１９を同時に開放するようにした
が、処理タンク１２内のオゾン水へ加圧エア−を供給中
（第２の制御弁１４を開放中）、第４の制御弁１９を開
放してもよい。また、処理タンク１２内のオゾン水から
のオゾンの脱気を速めるため、処理タンク１２内に回転
駆動される撹拌翼を設け、オゾン水を撹拌したり、ヒ−
タなどの加熱器を設け、加熱するようにしてもよく、こ
れらの方法を併用することで脱気速度を向上させること
が可能である。
１８と第４の制御弁１９を同時に開放するようにした
が、処理タンク１２内のオゾン水へ加圧エア−を供給中
（第２の制御弁１４を開放中）、第４の制御弁１９を開
放してもよい。また、処理タンク１２内のオゾン水から
のオゾンの脱気を速めるため、処理タンク１２内に回転
駆動される撹拌翼を設け、オゾン水を撹拌したり、ヒ−
タなどの加熱器を設け、加熱するようにしてもよく、こ
れらの方法を併用することで脱気速度を向上させること
が可能である。
【００３９】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、処理タンク内
のオゾン水に加圧気体を供給することで、そのオゾン水
からオゾンガスおよび酸素ガスを分離し、このオゾンガ
スおよび酸素ガスと、これらのガスが脱気された液体と
を別々に排出できるようにした。
のオゾン水に加圧気体を供給することで、そのオゾン水
からオゾンガスおよび酸素ガスを分離し、このオゾンガ
スおよび酸素ガスと、これらのガスが脱気された液体と
を別々に排出できるようにした。
【００４０】そのため、エア−などの安価な気体によっ
てオゾン水からオゾンガスを分離できるから、大量の純
水を用いて希釈したり、薬液を用いて分解する従来の手
段に比べてランニングコストを大幅に低減することがで
きるばかりか、オゾン水からのオゾンガスおよび酸素ガ
スの分離を確実に行なうことができる。
てオゾン水からオゾンガスを分離できるから、大量の純
水を用いて希釈したり、薬液を用いて分解する従来の手
段に比べてランニングコストを大幅に低減することがで
きるばかりか、オゾン水からのオゾンガスおよび酸素ガ
スの分離を確実に行なうことができる。
【００４１】請求項４の発明によれば、処理チャンバで
被洗浄物を洗浄したオゾン水をバッファタンクに蓄え、
所定量づつ処理タンクに供給し、ここで加圧気体を供給
することで、そのオゾン水に含まれるオゾンガスおよび
酸素ガスを分離するようにした。
被洗浄物を洗浄したオゾン水をバッファタンクに蓄え、
所定量づつ処理タンクに供給し、ここで加圧気体を供給
することで、そのオゾン水に含まれるオゾンガスおよび
酸素ガスを分離するようにした。
【００４２】すなわち、処理チャンバと処理タンクとの
間にバッファタンクを設けたことで、処理チャンバから
排出されるオゾン水の量に左右されることなく、常に一
定量のオゾン水を処理タンクで処理することができる。
間にバッファタンクを設けたことで、処理チャンバから
排出されるオゾン水の量に左右されることなく、常に一
定量のオゾン水を処理タンクで処理することができる。
【００４３】請求項２と請求項５の発明によれば、加圧
気体の圧力を調整することで、液体からオゾンガスを脱
気させる速度を制御できる。請求項３と請求項６の発明
によれば、オゾンガスを処理タンクから強制的に排気す
ることで、脱気速度を高めることが可能となる。
気体の圧力を調整することで、液体からオゾンガスを脱
気させる速度を制御できる。請求項３と請求項６の発明
によれば、オゾンガスを処理タンクから強制的に排気す
ることで、脱気速度を高めることが可能となる。
【図１】この発明の一実施形態を示す洗浄処理装置の全
体構成図。
体構成図。
【図２】同じく第１乃至第４の制御弁の動作を説明する
ためのタイムチャ−ト。
ためのタイムチャ−ト。
【図３】同じくオゾン水にバブリングを与えたり、脱気
されたオゾンガスを強制排気するなどした場合に、オゾ
ン水の溶存オゾンガス濃度の変化を測定したグラフ。
されたオゾンガスを強制排気するなどした場合に、オゾ
ン水の溶存オゾンガス濃度の変化を測定したグラフ。
【図４】同じくバブリング時の圧力を変えたときに、オ
ゾン水の溶存オゾンガス濃度の変化を測定したグラフ。
ゾン水の溶存オゾンガス濃度の変化を測定したグラフ。
１…処理チャンバ ６…オゾン水の供給源 ８…バッファタンク １２…処理タンク １３…気体供給管 １４…第１の制御弁 １５…加圧気体の供給源 １６…排液管 １７…排ガス管 １８…第３の制御弁 １９…第４の制御弁 ２０…排気装置 ２１…オゾン分解器 ２２…制御装置
Claims (6)
- 【請求項１】 オゾン水からオゾンガスを脱気するため
のオゾン水処理装置において、 オゾン水が供給される処理タンクと、 この処理タンク内のオゾン水に加圧気体を供給してオゾ
ンガスを脱気させる気体供給手段と、 脱気されたオゾンガスを上記処理タンクから排出する排
気手段と、 オゾンガスが脱気された液体を上記処理タンクから排出
する排液手段とを具備したことを特徴とするオゾン水処
理装置。 - 【請求項２】 上記加圧気体の圧力を調整自在としたこ
とを特徴とする請求項１記載のオゾン水処理装置。 - 【請求項３】 上記排気手段は、オゾンガスを強制的に
排出する排気装置を有することを特徴とする請求項１ま
たは請求項２記載のオゾン水処理装置。 - 【請求項４】 被洗浄物をオゾン水で洗浄処理するため
の洗浄処理装置において、 上記オゾン水を被処理物に吹き付けて洗浄処理する処理
チャンバと、 この処理チャンバから排出されるオゾン水を蓄えるバッ
ファタンクと、 このバッファタンクに蓄えられたオゾン水が所定量づつ
供給される処理タンクと、 この処理タンク内のオゾン水に加圧気体を供給してオゾ
ンガスを脱気させる気体供給手段と、 上記処理タンクから脱気されたオゾンガスを排出する排
気手段と、 上記処理タンクからオゾンガスが脱気された液体を排出
する廃液手段とを具備したことを特徴とする洗浄処理装
置。 - 【請求項５】 上記加圧気体の圧力を調整自在としたこ
とを特徴とする請求項４記載の洗浄処理装置。 - 【請求項６】 上記排気手段は、オゾンガスを強制的に
排出する排気装置を有することを特徴とする請求項４ま
たは請求項５記載の洗浄処理装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP25465196A JP4347426B2 (ja) | 1996-09-26 | 1996-09-26 | 洗浄処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25465196A JP4347426B2 (ja) | 1996-09-26 | 1996-09-26 | 洗浄処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10107003A true JPH10107003A (ja) | 1998-04-24 |
| JP4347426B2 JP4347426B2 (ja) | 2009-10-21 |
Family
ID=17267981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25465196A Expired - Fee Related JP4347426B2 (ja) | 1996-09-26 | 1996-09-26 | 洗浄処理装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4347426B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1088603A1 (en) * | 1999-09-30 | 2001-04-04 | Purex Co.Ltd. | Method of removing contamination adhered to surfaces and apparatus used therefor |
| JP2001179268A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-03 | Mitsubishi Electric Corp | 基板処理装置 |
| JP2003047954A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-18 | Nittetu Chemical Engineering Ltd | オゾンの回収方法およびオゾン再利用方法 |
| JP2009033163A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及び汚染除去又は防止方法 |
| JP2011026187A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-02-10 | Taiyo Nippon Sanso Corp | オゾン供給方法および装置 |
| WO2014074455A1 (en) * | 2012-11-08 | 2014-05-15 | Mks Instruments, Inc. | Pressure-less ozonated d i -water (di03) recirculation reclaim system and method |
| US9158206B2 (en) | 2007-07-24 | 2015-10-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method |
| CN104903245B (zh) * | 2012-11-08 | 2016-11-30 | Mks仪器股份有限公司 | 无压力的臭氧化去离子水(dio3)的再循环回收系统和方法 |
| KR20180045653A (ko) * | 2016-10-26 | 2018-05-04 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치, 공정 유체 처리기 및 오존 분해 방법 |
| JP2021122798A (ja) * | 2020-02-06 | 2021-08-30 | 株式会社荏原製作所 | ガス溶解液製造装置 |
-
1996
- 1996-09-26 JP JP25465196A patent/JP4347426B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1088603A1 (en) * | 1999-09-30 | 2001-04-04 | Purex Co.Ltd. | Method of removing contamination adhered to surfaces and apparatus used therefor |
| KR100707126B1 (ko) * | 1999-09-30 | 2007-04-16 | 노무라 마이크로 싸이언스 가부시키가이샤 | 표면 부착 오염 물질의 제거방법 및 이에 사용되는 장치 |
| JP2001179268A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-03 | Mitsubishi Electric Corp | 基板処理装置 |
| JP2003047954A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-18 | Nittetu Chemical Engineering Ltd | オゾンの回収方法およびオゾン再利用方法 |
| US9599908B2 (en) | 2007-07-24 | 2017-03-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method |
| US9158206B2 (en) | 2007-07-24 | 2015-10-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method |
| JP2009033163A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及び汚染除去又は防止方法 |
| US9019466B2 (en) | 2007-07-24 | 2015-04-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, reflective member and a method of irradiating the underside of a liquid supply system |
| JP2011026187A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-02-10 | Taiyo Nippon Sanso Corp | オゾン供給方法および装置 |
| CN104903245B (zh) * | 2012-11-08 | 2016-11-30 | Mks仪器股份有限公司 | 无压力的臭氧化去离子水(dio3)的再循环回收系统和方法 |
| CN104903245A (zh) * | 2012-11-08 | 2015-09-09 | Mks仪器股份有限公司 | 无压力的臭氧化去离子水(dio3)的再循环回收系统和方法 |
| US9056262B2 (en) | 2012-11-08 | 2015-06-16 | Mks Instruments, Inc. | Pressure-less ozonated Di-water (DIO3) recirculation reclaim system |
| WO2014074455A1 (en) * | 2012-11-08 | 2014-05-15 | Mks Instruments, Inc. | Pressure-less ozonated d i -water (di03) recirculation reclaim system and method |
| US9597613B2 (en) | 2012-11-08 | 2017-03-21 | Mks Instruments, Inc. | Pressure-less ozonated DI-water (DIO3) recirculation reclaim system |
| US9796603B2 (en) | 2012-11-08 | 2017-10-24 | Mks Instruments, Inc. | Pressure-less ozonated di-water (DIO3) recirculation reclaim system |
| KR20180045653A (ko) * | 2016-10-26 | 2018-05-04 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치, 공정 유체 처리기 및 오존 분해 방법 |
| JP2021122798A (ja) * | 2020-02-06 | 2021-08-30 | 株式会社荏原製作所 | ガス溶解液製造装置 |
| TWI878444B (zh) * | 2020-02-06 | 2025-04-01 | 日商荏原製作所股份有限公司 | 氣體溶解液製造裝置 |
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| Publication number | Publication date |
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