JPH10112504A - Wiring delay adjustment circuit, semiconductor integrated circuit, and wiring delay adjustment method - Google Patents
Wiring delay adjustment circuit, semiconductor integrated circuit, and wiring delay adjustment methodInfo
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- JPH10112504A JPH10112504A JP26397796A JP26397796A JPH10112504A JP H10112504 A JPH10112504 A JP H10112504A JP 26397796 A JP26397796 A JP 26397796A JP 26397796 A JP26397796 A JP 26397796A JP H10112504 A JPH10112504 A JP H10112504A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 配線ディレイを容易に調整するための技術を
提供することにある。
【解決手段】 信号伝達経路(17)の近傍にレイアウ
トされたディレイ調整用ライン(10,20,30)
と、このディレイ調整用ラインに選択的に基準電圧レベ
ルを供給可能なスイッチ(Q1,Q2,Q3)と、この
スイッチのオン・オフ状態を決定するためのプログラマ
ブルリンクとを含んで配線ディレイ調整回路を形成し、
プログラマブルリンクによりスイッチのオン・オフ状態
を決定することで、信号伝達経路の近傍にレイアウトさ
れたディレイ調整用ラインと、このディレイ調整用ライ
ンとの間に形成される容量を選択的に配線ディレイ調整
に関与させ、それにより配線ディレイ調整の容易化を図
る。
(57) [Problem] To provide a technique for easily adjusting a wiring delay. SOLUTION: A delay adjustment line (10, 20, 30) laid out near a signal transmission path (17).
A wiring delay adjusting circuit including a switch (Q1, Q2, Q3) capable of selectively supplying a reference voltage level to the delay adjusting line, and a programmable link for determining the ON / OFF state of the switch To form
By determining the ON / OFF state of the switch using a programmable link, the delay adjustment line laid out near the signal transmission path and the capacitance formed between the delay adjustment line can be selectively adjusted. And thereby facilitate the wiring delay adjustment.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、配線ディレイ調整
技術に関し、例えば半導体集積回路におけるクロック信
号の伝達経路のディレイ調整に適用して有効な技術に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring delay adjusting technique, and more particularly to a technique effective when applied to delay adjustment of a clock signal transmission path in a semiconductor integrated circuit.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体集積回路(LSI)のレイアウト
設計を行う際には、設計に要する時間や労力を削減した
り、各種検証を容易にするために、トランジスタやキャ
パシタ等の素子をチップ上に一個づつレイアウトするの
ではなく、ある程度の論理機能を持った単位、すなわ
ち、機能ブロック毎のレイアウト設計を予め完了してお
いた後に、これら機能ブロックの配置、及び機能ブロッ
ク間の配線を行うのが一般的である。2. Description of the Related Art When designing the layout of a semiconductor integrated circuit (LSI), elements such as transistors and capacitors are mounted on a chip to reduce the time and labor required for the design and to facilitate various verifications. Rather than laying out one by one, it is necessary to arrange these functional blocks and wire between them after completing layout design for each functional block, that is, for each functional block. General.
【0003】近年、半導体集積回路の集積度が高くな
り、且つ、大型化するに伴って半導体集積回路内での配
線長、特にクロック信号を、各機能ブロックに供給する
ための配線が長くなり、クロック信号の遅延が無視でき
なくなっている。すなわち、複数の機能ブロックに共通
に供給されるクロック信号の位相が、配線ディレイによ
り各機能ブロック間でずれてしまうと、半導体集積回路
全体としての動作に支障を来すため、配線ディレイ調整
が必要となる。In recent years, as the degree of integration of semiconductor integrated circuits has increased and the size thereof has increased, the length of wiring within the semiconductor integrated circuit, particularly the wiring for supplying clock signals to each functional block, has become longer. The delay of the clock signal cannot be ignored. That is, if the phase of the clock signal commonly supplied to a plurality of functional blocks is shifted between the functional blocks due to the wiring delay, the operation of the semiconductor integrated circuit as a whole is hindered. Becomes
【0004】尚、クロック信号のタイミングのずれを知
るための技術として、特開昭64−2334号公報に記
載されているように、分岐した同一の信号それぞれ又
は、所定の位相関係にある信号それぞれを各回路ブロッ
クに供給する信号線の終端にバッファ手段を設け、この
バッファ手段から出力される信号を比較し、この比較結
果より信号の位相差を検出するようにした技術が公知で
ある。As a technique for knowing the timing shift of a clock signal, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-2334, each of the same branched signal or each signal having a predetermined phase relationship is disclosed. A technique is known in which buffer means is provided at the end of a signal line for supplying the signal to each circuit block, the signals output from the buffer means are compared, and the phase difference between the signals is detected based on the comparison result.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】半導体集積回路の外部
から供給されたクロック信号を当該半導体集積回路の各
部に分配する場合、クロック伝達経路の端部におけるク
ロックスキュー(クロック位相ずれ)の低減を図るた
め、クロック入力用の外部端子から上記各部までのクロ
ック伝達経路の長さが均等になるように配置配線され
る。When a clock signal supplied from outside a semiconductor integrated circuit is distributed to various parts of the semiconductor integrated circuit, clock skew (clock phase shift) at an end of a clock transmission path is reduced. For this reason, the wiring is arranged and wired so that the lengths of the clock transmission paths from the external terminal for clock input to the above-mentioned parts become equal.
【0006】しかしながら、実際には上記クロック伝達
経路の近傍に配置される信号伝達経路との間で不所望な
容量が形成されたりして、クロック伝達経路の配線ディ
レイが設計値からずれてしまうことがある。クロック伝
達経路の端部においてクロックスキューを無視できる程
度にまで抑えることができない場合、多くの場合、半導
体チップ完成後のテストにおいてディレイ不良と判断さ
れてしまい、半導体集積回路の歩留りに影響する。However, in practice, an undesired capacitance is formed between the clock transmission path and a signal transmission path arranged near the clock transmission path, and the wiring delay of the clock transmission path deviates from a designed value. There is. If the clock skew cannot be suppressed to a negligible level at the end of the clock transmission path, in many cases, a test after the completion of the semiconductor chip is determined to be a delay defect, which affects the yield of the semiconductor integrated circuit.
【0007】本発明の目的は、配線ディレイを容易に調
整するための技術を提供することにある。An object of the present invention is to provide a technique for easily adjusting a wiring delay.
【0008】本発明の別の目的は、配線ディレイ調整を
可能とすることで、半導体集積回路の歩留りの向上を図
ることにある。Another object of the present invention is to improve the yield of semiconductor integrated circuits by enabling wiring delay adjustment.
【0009】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application.
【0011】すなわち、信号伝達経路(17)の近傍に
レイアウトされたディレイ調整用ライン(10,20,
30)と、このディレイ調整用ラインに選択的に基準電
圧レベルを供給可能なスイッチ(Q1,Q2,Q3)
と、このスイッチのオン・オフ状態を決定するためのプ
ログラマブルリンク(F1,F2,F3)とを含んで配
線ディレイ調整回路を形成する。That is, the delay adjusting lines (10, 20,...) Laid out near the signal transmission path (17).
30) and switches (Q1, Q2, Q3) capable of selectively supplying a reference voltage level to the delay adjustment line
And a programmable link (F1, F2, F3) for determining the ON / OFF state of the switch, to form a wiring delay adjustment circuit.
【0012】論理回路(FF)と、この論理回路に信号
を伝達するための信号伝達経路(17)とを含んで半導
体集積回路が形成されるとき、上記信号伝達経路の近傍
にレイアウトされたディレイ調整用ライン(10,2
0,30)と、このディレイ調整用ラインに選択的に基
準電圧レベルを供給可能な半導体スイッチ(Q1,Q
2,Q3)と、上記半導体スイッチのオン・オフ状態を
決定するためのプログラマブルリンク(F1,F2,F
3)とを設ける。When a semiconductor integrated circuit including a logic circuit (FF) and a signal transmission path (17) for transmitting a signal to the logic circuit is formed, a delay laid out near the signal transmission path is formed. Adjustment line (10, 2
0, 30) and semiconductor switches (Q1, Q2) that can selectively supply a reference voltage level to this delay adjustment line.
, Q3) and a programmable link (F1, F2, F2) for determining the ON / OFF state of the semiconductor switch.
3) is provided.
【0013】このとき、上記ディレイ調整用ラインは、
自動配置配線における配線レイアウトの最小ピッチで上
記信号伝達経路に対して平行に形成されたライン(1
1,12)を含んで形成することができる。また、上記
プログラマブルリンクの状態にかかわらず、上記半導体
スイッチの動作を制御可能な信号を半導体集積回路の外
部から取込むための第1外部端子(T1,T2,T3)
を設けることができる。さらに、信号反転を行うための
論理反転回路(81)と、上記論理反転回路及び上記信
号伝達経路(17)を含んでリングオシレータを形成可
能なリングオシレータ形成用スイッチ(82)と、形成
されたリングオシレータの発振周波数の測定を可能とす
る第2外部端子(T82)とを含めることができる。配
線ディレイの微調整を効率良く行うため、複数のディレ
イ調整用ラインとして複数のラインを形成して、上記複
数のラインの長さの比を、1:2:4:8に設定すると
良い。At this time, the delay adjustment line is
Lines (1) formed parallel to the signal transmission path at the minimum pitch of the wiring layout in the automatic placement and routing.
1, 12). A first external terminal (T1, T2, T3) for receiving a signal capable of controlling the operation of the semiconductor switch from outside the semiconductor integrated circuit irrespective of the state of the programmable link;
Can be provided. Further, a logic inversion circuit (81) for performing signal inversion, and a ring oscillator forming switch (82) capable of forming a ring oscillator including the logic inversion circuit and the signal transmission path (17) are formed. A second external terminal (T82) that enables measurement of the oscillation frequency of the ring oscillator can be included. In order to efficiently perform fine adjustment of the wiring delay, a plurality of lines may be formed as a plurality of delay adjustment lines, and the length ratio of the plurality of lines may be set to 1: 2: 4: 8.
【0014】信号伝達経路の近傍にレイアウトされたデ
ィレイ調整用ライン(10,20,30)と、このディ
レイ調整用ラインに選択的に基準電圧レベルを供給可能
なスイッチ(Q1,Q2,Q3)と、このスイッチのオ
ン・オフ状態を決定するためのプログラマブルリンク
(F1,F2,F3)とを含んで成る配線ディレイ調整
回路を用いて配線ディレイ調整を行うに際して、上記ス
イッチの動作制御により所望の配線ディレイ状態を検出
し(S2,S3,S4)、この検出結果に基づいて上記
プログラマブルリンクのリンク状態を設定する(S
5)。A delay adjusting line (10, 20, 30) laid out near the signal transmission path, and switches (Q1, Q2, Q3) capable of selectively supplying a reference voltage level to the delay adjusting line. When performing a wiring delay adjustment using a wiring delay adjusting circuit including programmable links (F1, F2, F3) for determining the ON / OFF state of the switch, a desired wiring is controlled by controlling the operation of the switch. The delay state is detected (S2, S3, S4), and the link state of the programmable link is set based on the detection result (S2).
5).
【0015】論理回路(FF)と、この論理回路に信号
を伝達するための信号伝達経路(17)と、この信号伝
達経路の近傍にレイアウトされたディレイ調整用ライン
(10,20,30)と、このディレイ調整用ラインに
選択的に基準電圧レベルを供給可能な半導体スイッチ
(Q1,Q2,Q3)と、この半導体スイッチのオン・
オフ状態を決定するためのプログラマブルリンク(F
1,F2,F3)とを含んで成る半導体集積回路で配線
ディレイ調整を行うに際して、上記スイッチの動作制御
により所望の配線ディレイ状態を検出し(S2,S3,
S4)、この検出結果に基づいて上記プログラマブルリ
ンクのリンク状態を設定する(S5)。A logic circuit (FF), a signal transmission path (17) for transmitting a signal to the logic circuit, and delay adjustment lines (10, 20, 30) laid out near the signal transmission path. A semiconductor switch (Q1, Q2, Q3) capable of selectively supplying a reference voltage level to the delay adjustment line;
Programmable link (F
1, F2, F3), a desired wiring delay state is detected by controlling the operation of the switch (S2, S3).
S4) The link state of the programmable link is set based on the detection result (S5).
【0016】論理回路(FF)と、この論理回路に信号
を伝達するための信号伝達経路(17)と、この信号伝
達経路の近傍にレイアウトされたディレイ調整用ライン
(10,20,30)と、このディレイ調整用ラインに
選択的に基準電圧レベルを供給可能な半導体スイッチ
(Q1,Q2,Q3)と、この半導体スイッチのオン・
オフ状態を決定するためのプログラマブルリンク(F
1,F2,F3)と、このプログラマブルリンクの状態
にかかわらず、半導体スイッチの動作を制御可能な信号
を半導体集積回路の外部から取込むための第1外部端子
(T0)とを含んで成る半導体集積回路で配線ディレイ
調整を行うに際して、上記第1外部端子を介して外部か
ら供給される動作制御信号に基づく上記スイッチの動作
制御により所望の配線ディレイ状態を検出し(S2,S
3,S4)、この検出結果に基づいて上記プログラマブ
ルリンクのリンク状態を設定する(S5)。A logic circuit (FF), a signal transmission path (17) for transmitting a signal to the logic circuit, and delay adjustment lines (10, 20, 30) laid out near the signal transmission path; A semiconductor switch (Q1, Q2, Q3) capable of selectively supplying a reference voltage level to the delay adjustment line;
Programmable link (F
1, F2, F3) and a first external terminal (T0) for receiving a signal capable of controlling the operation of the semiconductor switch from outside the semiconductor integrated circuit irrespective of the state of the programmable link. When performing the wiring delay adjustment in the integrated circuit, a desired wiring delay state is detected by controlling the operation of the switch based on an operation control signal supplied from outside via the first external terminal (S2, S
3, S4), based on the detection result, sets the link state of the programmable link (S5).
【0017】論理回路(FF)と、この論理回路に信号
を伝達するための信号伝達経路(17)と、この信号伝
達経路の近傍にレイアウトされたディレイ調整用ライン
(10,20,30)と、このディレイ調整用ラインに
選択的に基準電圧レベルを供給可能な半導体スイッチ
(Q1,Q2,Q3)と、この半導体スイッチのオン・
オフ状態を決定するためのプログラマブルリンク(F
1,F2,F3)と、このプログラマブルリンクの状態
にかかわらず、上記半導体スイッチの動作を制御可能な
信号を半導体集積回路の外部から取込むための第1外部
端子(T0)と、信号反転を行うための論理反転回路
(81)と、上記論理反転回路及び上記信号伝達経路を
含んでリングオシレータを形成可能なリングオシレータ
形成用スイッチ(82)と、形成されたリングオシレー
タの発振周波数の外部測定を可能とする第2外部端子
(T82)とを含んで成る半導体集積回路で配線ディレ
イ調整を行うに際して、上記第1外部端子を介して外部
から供給される動作制御信号に基づく上記スイッチの動
作制御毎に、上記リングオシレータの発振周波数を、上
記第2外部端子を介して測定し(S2,S3)、この測
定結果に基づいて上記プログラマブルリンクのリンク状
態設定のための情報を求め(S4)、この情報に基づい
て上記プログラマブルリンクのリンク状態を設定する
(S5)。A logic circuit (FF), a signal transmission path (17) for transmitting a signal to the logic circuit, and delay adjustment lines (10, 20, 30) laid out near the signal transmission path. A semiconductor switch (Q1, Q2, Q3) capable of selectively supplying a reference voltage level to the delay adjustment line;
Programmable link (F
1, F2, F3), a first external terminal (T0) for taking in a signal capable of controlling the operation of the semiconductor switch from outside the semiconductor integrated circuit irrespective of the state of the programmable link, and a signal inversion. Logic inversion circuit (81), a ring oscillator forming switch (82) capable of forming a ring oscillator including the logic inversion circuit and the signal transmission path, and external measurement of the oscillation frequency of the formed ring oscillator When performing wiring delay adjustment in a semiconductor integrated circuit including a second external terminal (T82) that enables the operation of the switch based on an operation control signal supplied from outside through the first external terminal. Each time, the oscillation frequency of the ring oscillator is measured via the second external terminal (S2, S3), and based on this measurement result, For information for link status setting log llama Bull link (S4), it sets the link state of the programmable link based on this information (S5).
【0018】上記した手段によれば、上記プログラマブ
ルリンクにより、スイッチのオン・オフ状態を決定する
ことで、信号伝達経路の近傍にレイアウトされたディレ
イ調整用ラインと、信号ラインとディレイ調整用ライン
との間に形成される容量を選択的に配線ディレイ調整に
関与させることができ、このことが、配線ディレイ調整
の容易化を達成する。そしてそのような配線ディレイ調
整を可能とすることが、ディレイ不良の低減、さらには
半導体集積回路の歩留りの向上を達成する。According to the above-mentioned means, the on / off state of the switch is determined by the programmable link, so that the delay adjustment line laid out near the signal transmission path, the signal line and the delay adjustment line The capacitance formed between them can be selectively involved in the wiring delay adjustment, which facilitates the wiring delay adjustment. By enabling such wiring delay adjustment, delay defects can be reduced, and the yield of semiconductor integrated circuits can be improved.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】図7には本発明にかかる半導体集
積回路の一例が示される。FIG. 7 shows an example of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.
【0020】図7に示される半導体集積回路71は、特
に制限されないが、複数のフリップフロップ回路FFを
含み、公知の半導体集積回路製造技術により、単結晶シ
リコン基板などの一つの半導体基板に形成される。上記
複数のフリップフロップ回路FFは、半導体集積回路の
クロック入力用外部端子T72を介して外部から供給さ
れるクロック信号に同期動作される。The semiconductor integrated circuit 71 shown in FIG. 7 includes, but is not limited to, a plurality of flip-flop circuits FF, and is formed on one semiconductor substrate such as a single crystal silicon substrate by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique. You. The plurality of flip-flop circuits FF are operated in synchronization with a clock signal supplied from outside via a clock input external terminal T72 of the semiconductor integrated circuit.
【0021】上記複数のフリップフロップ回路FFに伝
達されるクロック信号のスキューの低減を図るため、上
記クロック入力用外部端子T72から供給されたクロッ
ク信号は、半導体集積回路71の中心部に伝達され、そ
こから放射状に分配されるようになっている。すなわ
ち、半導体集積回路の中心部から複数のフリップフロッ
プ回路FFのクロック入力端子に至るクロック伝達経路
17の長さが互いに等しくなるように自動配置配線され
ることにより、当該伝達経路での配線ディレイを揃える
ようにしている。In order to reduce the skew of the clock signal transmitted to the plurality of flip-flop circuits FF, the clock signal supplied from the clock input external terminal T72 is transmitted to the center of the semiconductor integrated circuit 71. From there it is distributed radially. That is, by automatically arranging and wiring the clock transmission paths 17 from the central part of the semiconductor integrated circuit to the clock input terminals of the plurality of flip-flop circuits FF, the wiring delay on the transmission paths is reduced. They are aligned.
【0022】しかしながら、実際には上記クロック伝達
経路17の近傍に配置される信号伝達経路との間で不所
望な容量が形成されたりして、クロック伝達経路17の
配線ディレイが設計値からずれてしまうことがある。However, in practice, an undesired capacitance is formed between the clock transmission path 17 and a signal transmission path arranged near the clock transmission path 17, and the wiring delay of the clock transmission path 17 deviates from the design value. Sometimes.
【0023】そこで、次のように配線ディレイ調整を行
うことにより、クロック伝達経路の端部においてクロッ
クスキューの低減を図るようにする。Therefore, the clock skew is reduced at the end of the clock transmission path by adjusting the wiring delay as follows.
【0024】配線ディレイ調整を可能とするため、図7
に示されるクロック伝達経路における主要箇所には、ク
ロック伝達経路に隣接して、nチャンネル型MOSトラ
ンジスタによる半導体スイッチに結合されたディレイ調
整用ラインがレイアウトされる。FIG.
In the main part of the clock transmission path shown in FIG. 1, a delay adjustment line coupled to a semiconductor switch composed of an n-channel MOS transistor is laid out adjacent to the clock transmission path.
【0025】図1(a)には、図7に示されるクロック
伝達経路17の一部と、その近傍にレイアウトされたデ
ィレイ調整用ラインとが示される。図1(a)では、上
記ディレイ調整用ラインとして第1ディレイ調整用ライ
ン10、第2ディレイ調整用ライン20、及び第3ディ
レイ調整用ライン30が代表的に示される。特に制限さ
れないが、第1ディレイ調整用ライン10、第2ディレ
イ調整用ライン20、及び第3ディレイ調整用ライン3
0は、互いに同一構成とされる。例えば、第1ディレイ
調整用ライン10は、クロック伝達経路17の近傍に、
当該クロック伝達経路17に平行にレイアウトされた第
1ライン11と、クロック伝達経路17を介して上記第
1ライン11に対向配置された第2ライン12と、上記
第1ライン11の端部と上記第2ライン12の端部とを
結合するようにレイアウトされた第3ライン13とを含
んで成る。上記クロック伝達経路17や上記第1ライン
11及び上記第2ライン12が、第1層金属配線により
形成されるとき、上記第3ライン13は、上記クロック
伝達経路17との電気的な接触を避けるため、上記第1
層金属配線とは異なる配線層である第2金属配線により
形成される。そして、上記第1ライン11と上記第3ラ
イン13、及び上記第3ライン13と上記第2ライン1
2は、それぞれスルーホールTHにより電気的に結合さ
れている。尚、第2ディレイ調整用ライン20及び第3
ディレイ調整用ライン30も上記した第1ディレイ調整
用ライン10と同一構成とされる。FIG. 1A shows a part of the clock transmission path 17 shown in FIG. 7 and a delay adjustment line laid out in the vicinity thereof. In FIG. 1A, a first delay adjustment line 10, a second delay adjustment line 20, and a third delay adjustment line 30 are representatively shown as the delay adjustment lines. Although not particularly limited, the first delay adjustment line 10, the second delay adjustment line 20, and the third delay adjustment line 3
0 have the same configuration as each other. For example, the first delay adjustment line 10 is located near the clock transmission path 17,
The first line 11 laid out in parallel with the clock transmission path 17, the second line 12 disposed opposite the first line 11 via the clock transmission path 17, the end of the first line 11, And a third line 13 laid out to join the end of the second line 12. When the clock transmission path 17, the first line 11, and the second line 12 are formed by first-layer metal wiring, the third line 13 avoids electrical contact with the clock transmission path 17. Therefore, the first
The second metal wiring is a wiring layer different from the layer metal wiring. The first line 11 and the third line 13, and the third line 13 and the second line 1
2 are electrically connected to each other by through holes TH. Note that the second delay adjustment line 20 and the third delay adjustment line
The delay adjustment line 30 also has the same configuration as the first delay adjustment line 10 described above.
【0026】第1ディレイ調整用ライン10、第2ディ
レイ調整用ライン20、及び第3ディレイ調整用ライン
30のそれぞれと、クロック伝達経路17との間には、
図1(b)に示されるように所定の容量Cが形成され
る。この容量Cは、クロック伝達経路17での配線ディ
レイ調整用として機能する。A clock transmission path 17 is provided between each of the first delay adjustment line 10, the second delay adjustment line 20, and the third delay adjustment line 30, and the clock transmission path 17.
A predetermined capacitance C is formed as shown in FIG. This capacitance C functions for adjusting the wiring delay in the clock transmission path 17.
【0027】図2(a)には、クロック伝達経路17と
その近傍にレイアウトされる第1ライン11との平面図
が示され、図2(b)には、図2(a)におけるA−
A’線断面図が示される。尚、図2(a)では、絶縁膜
CVD,SOGが省略されている。FIG. 2A is a plan view of the clock transmission path 17 and the first line 11 laid out in the vicinity thereof, and FIG.
A sectional view taken along line A 'is shown. In FIG. 2A, the insulating films CVD and SOG are omitted.
【0028】クロック伝達経路17及び第1ライン11
の厚みを「a」で示し、クロック伝達経路17と第1ラ
イン11との平行配線長を「b」で示し、クロック伝達
経路17と第1ライン11との距離を「d」で示し、ク
ロック伝達経路17と第1ライン11との間の誘電率を
εで示すとき、クロック伝達経路17と第1ライン11
との間に形成される容量Cは、 C=ε・S/d=ε・a・b/d で示される。Clock transmission path 17 and first line 11
Is indicated by “a”, the parallel wiring length between the clock transmission path 17 and the first line 11 is indicated by “b”, the distance between the clock transmission path 17 and the first line 11 is indicated by “d”, When the dielectric constant between the transmission path 17 and the first line 11 is represented by ε, the clock transmission path 17 and the first line 11
And C = ε · S / d = ε · a · b / d.
【0029】クロック伝達経路17と第1ライン11と
の距離dは、自動配置配線における最小配線ピッチに等
しくされる。配線ピッチはプロセス固定とされるので、
平行配線長bによって容量Cの値を調整する。尚、クロ
ック伝達経路17と第2ライン12との距離も同様に自
動配置配線における最小配線ピッチとされる。The distance d between the clock transmission path 17 and the first line 11 is made equal to the minimum wiring pitch in the automatic placement and routing. Since the wiring pitch is fixed in the process,
The value of the capacitance C is adjusted according to the parallel wiring length b. Note that the distance between the clock transmission path 17 and the second line 12 is also the minimum wiring pitch in the automatic placement and routing.
【0030】図1(a)において、第1ディレイ調整用
ライン10、第2ディレイ調整用ライン20、及び第3
ディレイ調整用ライン30には、それらを基準電圧18
のレベルに設定するためのnチャンネル型MOSトラン
ジスタQ1,Q2,Q3が設けられている。nチャンネ
ル型MOSトランジスタQ1,Q2,Q3のドレイン電
極は、それぞれ上記第1ディレイ調整用ライン10,第
2ディレイ調整用ライン20,第3ディレイ調整用ライ
ン30における第2ライン12に、第2層金属配線によ
るライン14を介して結合される。nチャンネル型MO
SトランジスタQ1,Q2,Q3のソース電極には、基
準電圧18が供給される。この基準電圧18は、特に制
限されないが、回路の接地電位(例えば低電位側電源V
ssレベル)とされる。さらに、nチャンネル型MOS
トランジスタQ1,Q2,Q3のゲート電極には、ディ
レイ調整信号φ1,φ2,φ3が入力されるようになっ
ている。ディレイ調整信号φ1がハイレベルにアサート
されると、第1ディレイ調整用ライン10が回路の接地
電位とされ、ディレイ調整信号φ2がハイレベルにアサ
ートされると、第2ディレイ調整用ライン20が回路の
接地電位とされ、ディレイ調整信号φ3がハイレベルに
アサートされると、第3ディレイ調整用ライン30が回
路の接地電位とされる。そのようにディレイ調整用ライ
ンが回路の接地電位とされることにより、クロック伝達
経路17と、第1ディレイ調整用ライン10、第2ディ
レイ調整用ライン20、及び第3ディレイ調整用ライン
30との間に形成される容量Cは、上記クロック伝達経
路17を介して伝達されるクロックを遅延するように作
用する。容量Cの値が大きいほどディレイ量が多くなる
から、図1(a)に示される例では、nチャンネル型M
OSトランジスタQ1,Q2,Q3の全てがオンされる
場合が最もディレイ量が多くなり、オンされるnチャン
ネル型MOSトランジスタの数が少ないほどディレイ量
が少なくなる。従って、上記nチャンネル型MOSトラ
ンジスタQ1,Q2,Q3のオン・オフの組合わせによ
って、そこでの配線ディレイを細かく変化させることが
できる。In FIG. 1A, a first delay adjusting line 10, a second delay adjusting line 20, and a third
The delay adjustment line 30 includes the reference voltage 18
N-type MOS transistors Q1, Q2, Q3 for setting to the level of. The drain electrodes of the n-channel MOS transistors Q1, Q2, and Q3 are connected to the second line 12 of the first delay adjustment line 10, the second delay adjustment line 20, and the third delay adjustment line 30, respectively. They are connected via a line 14 made of metal wiring. n-channel type MO
The reference voltage 18 is supplied to the source electrodes of the S transistors Q1, Q2, Q3. Although the reference voltage 18 is not particularly limited, it is not limited to the ground potential of the circuit (for example,
ss level). Furthermore, n-channel type MOS
Delay adjustment signals φ1, φ2, φ3 are input to the gate electrodes of the transistors Q1, Q2, Q3. When the delay adjustment signal φ1 is asserted to the high level, the first delay adjustment line 10 is set to the ground potential of the circuit, and when the delay adjustment signal φ2 is asserted to the high level, the second delay adjustment line 20 is set to the circuit potential. When the delay adjustment signal φ3 is asserted to a high level, the third delay adjustment line 30 is set to the circuit ground potential. By setting the delay adjustment line to the ground potential of the circuit, the clock transmission path 17 and the first delay adjustment line 10, the second delay adjustment line 20, and the third delay adjustment line 30 are connected. The capacitance C formed therebetween acts to delay the clock transmitted through the clock transmission path 17. Since the delay amount increases as the value of the capacitance C increases, in the example shown in FIG.
When all of the OS transistors Q1, Q2, and Q3 are turned on, the delay amount is the largest, and the smaller the number of n-channel MOS transistors that are turned on, the smaller the delay amount. Therefore, the wiring delay at the n-channel type MOS transistors Q1, Q2, Q3 can be finely changed by the combination of ON and OFF.
【0031】図5には上記ディレイ調整信号φ1〜φ3
を生成するためのスイッチ制御回路50が示される。こ
のスイッチ制御回路50は、図7に示される半導体集積
回路71に搭載される。FIG. 5 shows the delay adjustment signals φ1 to φ3.
Is shown. This switch control circuit 50 is mounted on the semiconductor integrated circuit 71 shown in FIG.
【0032】図5に示されるように、スイッチ制御回路
50は、特に制限されないが、プログラマブルリンクの
一例としてのヒューズF1,F2,F3と、セレクタ5
1,52,53と、抵抗R1,R2,R3,R4とを含
む。セレクタ51,52,53は、それぞれ入力端子I
N1,IN2、出力端子OUT、及び選択入力端子SE
Iを有し、半導体集積回路の外部端子T0を介して入力
されるセレクタ切換え信号SELによって、上記入力端
子IN1,IN2からの入力論理が選択的に出力端子O
UTから出力されるようになっている。As shown in FIG. 5, the switch control circuit 50 includes, but is not limited to, fuses F1, F2, F3 as an example of a programmable link, and a selector 5
1, 52, and 53, and resistors R1, R2, R3, and R4. The selectors 51, 52, and 53 each have an input terminal I
N1, IN2, output terminal OUT, and select input terminal SE
I, and the input logic from the input terminals IN1 and IN2 is selectively changed to the output terminal O by the selector switching signal SEL input through the external terminal T0 of the semiconductor integrated circuit.
The data is output from the UT.
【0033】セレクタ51における入力端子IN1は、
プルダウン用抵抗R1を介して低電位側電源Vssに結
合されるとともに、ヒューズF1を介して高電位側電源
Vccに結合され、セレクタ52における入力端子IN
1は、プルダウン用抵抗R2を介して低電位側電源Vs
sに結合されるとともに、ヒューズF2を介して高電位
側電源Vccに結合され、セレクタ53における入力端
子IN1は、プルダウン用抵抗R3を介して低電位側電
源Vssに結合されるとともに、ヒューズF3を介して
高電位側電源Vccに結合されている。セレクタ51,
52,53の選択入力端子SEIは、プルダウン用抵抗
R4を介して低電位側電源Vssに結合されるととも
に、セレクタ切換え信号SEL取込みのための外部端子
T0に共通接続されている。The input terminal IN1 of the selector 51 is
The input terminal IN of the selector 52 is coupled to the low-potential power supply Vss via the pull-down resistor R1 and to the high-potential power supply Vcc via the fuse F1.
1 is a low-potential-side power supply Vs via a pull-down resistor R2.
s, is coupled to the high-potential power supply Vcc via the fuse F2, and the input terminal IN1 of the selector 53 is coupled to the low-potential power supply Vss via the pull-down resistor R3. The power supply is connected to the high-potential-side power supply Vcc. Selector 51,
The selection input terminals SEI of 52 and 53 are coupled to the low-potential-side power supply Vss via the pull-down resistor R4, and are commonly connected to an external terminal T0 for taking in the selector switching signal SEL.
【0034】例えば、セレクト信号SELがハイレベル
の場合には、入力端子IN1からの入力論理が出力端子
OUTに出力され、セレクト信号SELがローレベルの
場合には、入力端子IN2からの入力論理が出力端子O
UTに出力される。半導体集積回路71のテストモード
においては、セレクト信号SELがローレベルにされ
て、セレクタ51,52,53により、それぞれ半導体
集積回路の外部端子T1,T2,T3を介してそれぞれ
入力されるMOSトランジスタ制御信号CON1,CO
N2,CON3が選択される。この状態では、半導体集
積回路の外部から入力されるMOSトランジスタ制御信
号CON1,CON2,CON3により、それぞれ図1
に示されるnチャンネル型MOSトランジスタQ1,Q
2,Q3の動作制御が可能とされる。For example, when the select signal SEL is at a high level, the input logic from the input terminal IN1 is output to the output terminal OUT. When the select signal SEL is at a low level, the input logic from the input terminal IN2 is changed to the input logic. Output terminal O
Output to UT. In the test mode of the semiconductor integrated circuit 71, the select signal SEL is set to the low level, and the selectors 51, 52, and 53 control the MOS transistors respectively input via the external terminals T1, T2, and T3 of the semiconductor integrated circuit. Signals CON1 and CO
N2 and CON3 are selected. In this state, the MOS transistor control signals CON1, CON2, and CON3 input from outside the semiconductor integrated circuit respectively cause the signals shown in FIG.
N-channel MOS transistors Q1, Q shown in FIG.
2 and Q3.
【0035】また、半導体集積回路71の実使用状態で
は、セレクト信号SELが常にハイレベルにされて、セ
レクタ51,52,53において、入力端子IN1から
の入力論理が選択される。この場合、ヒューズF1,F
2,F3が熔断されているか否かによってセレクタ5
1,52,53の出力端子OUTからの出力論理が異な
る。例えば、ヒューズF1が熔断されていなければ、出
力端子OUTから出力されるディレイ調整信号φ1はハ
イレベルとされるし、ヒューズF1が熔断されている場
合には、出力端子OUTから出力されるディレイ調整信
号φ1はローレベルとされる。In the actual use state of the semiconductor integrated circuit 71, the select signal SEL is always set to the high level, and the selectors 51, 52, and 53 select the input logic from the input terminal IN1. In this case, the fuses F1, F
2, selector 3 depending on whether F3 is melted or not.
Output logics from the output terminals OUT of 1, 52 and 53 are different. For example, if the fuse F1 is not blown, the delay adjustment signal φ1 output from the output terminal OUT is set to a high level. If the fuse F1 is blown, the delay adjustment signal φ1 output from the output terminal OUT is changed. The signal φ1 is at a low level.
【0036】図8には、上記半導体集積回路71の配線
ディレイ調整における結線状態が示される。FIG. 8 shows a connection state in the wiring delay adjustment of the semiconductor integrated circuit 71.
【0037】クロック入力用外部端子T72から一つの
フリップフロップ回路FFに至るクロック伝達経路17
には、複数のディレイ調整用ラインがレイアウトされて
いるが、図8では第1ディレイ調整用ライン10のみが
代表的に示される。また、上記クロック伝達経路17を
含んでリングオシレータを形成するためのインバータ
(論理反転回路)81及びスイッチ82が設けられる。
スイッチ82がオンされた状態では、リングオシレータ
が形成され、クロック入力用外部端子T72からクロッ
ク信号が1個入力されることによってこのリングオシレ
ータの発振動作が開始される。発振周波数は、基本的に
はクロック伝達経路17における配線ディレイ量によっ
て決定される。そのため、周波数測定のための外部端子
T82に、周波数測定用のカウンタあるいはLSIテス
タなどを接続して、上記リングオシレータの発振周波数
を測定することができる。Clock transmission path 17 from clock input external terminal T72 to one flip-flop circuit FF
In FIG. 8, a plurality of delay adjustment lines are laid out. In FIG. 8, only the first delay adjustment line 10 is representatively shown. Further, an inverter (logic inversion circuit) 81 and a switch 82 for forming a ring oscillator including the clock transmission path 17 are provided.
In a state where the switch 82 is turned on, a ring oscillator is formed, and when one clock signal is input from the clock input external terminal T72, the oscillation operation of the ring oscillator is started. The oscillation frequency is basically determined by the amount of wiring delay in the clock transmission path 17. Therefore, by connecting a frequency measurement counter or an LSI tester to the external terminal T82 for frequency measurement, the oscillation frequency of the ring oscillator can be measured.
【0038】図6には配線ディレイ調整のフローチャー
トが示される。FIG. 6 shows a flowchart of the wiring delay adjustment.
【0039】先ず、セレクト信号SELがローレベルに
されて、セレクタ51,52,53が外部入力に切換え
られる(ステップS1)。この状態で、外部から与えら
れるMOSトランジスタ制御信号CON1,CON2,
CON3によりnチャンネル型MOSトランジスタQ
1,Q2,Q3のオン・オフ制御が可能とされる。この
状態で、nチャンネル型MOSトランジスタQ1,Q
2,Q3のオン・オフ制御が行われ(ステップS2)、
nチャンネル型MOSトランジスタQ1,Q2,Q3の
オン・オフの組合わせ毎にスイッチ82がオンされてリ
ングオシレータが形成され、周波数測定のための外部端
子T82に接続された上記リングオシレータの発振周波
数が測定される。クロック入力用外部端子T72から別
のフリップフロップ回路FFに至るクロック伝達経路に
ついても同様に周波数測定が行われる。First, the select signal SEL is set to low level, and the selectors 51, 52 and 53 are switched to external inputs (step S1). In this state, externally applied MOS transistor control signals CON1, CON2, CON2
CON3 allows n-channel MOS transistor Q
1, Q2, Q3 can be turned on / off. In this state, n-channel MOS transistors Q1, Q
2, on / off control of Q3 is performed (step S2),
The switch 82 is turned on for each combination of on / off of the n-channel MOS transistors Q1, Q2, Q3 to form a ring oscillator, and the oscillation frequency of the ring oscillator connected to the external terminal T82 for frequency measurement is changed. Measured. The frequency measurement is similarly performed on the clock transmission path from the clock input external terminal T72 to another flip-flop circuit FF.
【0040】そして、異なるクロック伝達経路において
リングオシレータの発振周波数が等しくなるようなヒュ
ーズ加工パターンが決定される(ステップS4)。この
ヒューズ加工パターンは、図1(a)に示されるnチャ
ンネル型MOSトランジスタQ1,Q2,Q3のオン・
オフの組合わせに相当する。Then, a fuse processing pattern is determined so that the oscillation frequencies of the ring oscillators are equal in different clock transmission paths (step S4). This fuse processing pattern is used to turn on / off the n-channel MOS transistors Q1, Q2, Q3 shown in FIG.
This corresponds to the combination of OFF.
【0041】上記ステップS4でヒューズ加工パターン
が作成されたら、それに基づいて、対応するヒューズが
熔断される(ステップS5)。ヒューズ熔断がヒューズ
加工パターンに従って正しく行われているか否かは、セ
レクタ51,52,53をヒューズ側に切換えて、その
場合のリングオシレータの発振周波数を再度測定するこ
とで確認することができる(ステップS6)。セレクタ
51,52,53をヒューズ側に切換えて、その場合の
リングオシレータの発振周波数を再度測定した場合の値
が、先に測定した発振周波数の値に等しい場合、ヒュー
ズ熔断はヒューズ加工パターンに従って正しく行われて
いることになる。After the fuse processing pattern is created in step S4, the corresponding fuse is blown based on the fuse processing pattern (step S5). Whether or not the fuse has been blown correctly according to the fuse processing pattern can be confirmed by switching the selectors 51, 52, 53 to the fuse side and measuring the oscillation frequency of the ring oscillator again in that case (step). S6). When the selectors 51, 52 and 53 are switched to the fuse side and the value obtained by measuring the oscillation frequency of the ring oscillator again in this case is equal to the value of the previously measured oscillation frequency, the fuse is blown correctly according to the fuse processing pattern. It will be done.
【0042】半導体集積回路71の実使用状態では、セ
レクト信号SELが常にハイレベルにされて、セレクタ
51,52,53において、入力端子IN1からの入力
論理が選択される。また、実使用状態ではリングオシレ
ータを形成する必要がないから、スイッチ82はオフ状
態とされる。In the actual use state of the semiconductor integrated circuit 71, the select signal SEL is always set to the high level, and the selectors 51, 52 and 53 select the input logic from the input terminal IN1. In the actual use state, it is not necessary to form a ring oscillator, so the switch 82 is turned off.
【0043】上記の例によれば、以下の作用効果を得る
ことができる。According to the above example, the following functions and effects can be obtained.
【0044】(1)クロック伝達経路17の近傍にレイ
アウトされた第1ディレイ調整用ライン10、第2ディ
レイ調整用ライン20、及び第3ディレイ調整用ライン
30と、このディレイ調整用ラインに選択的に基準電圧
レベルを供給可能なnチャンネル型MOSトランジスタ
Q1,Q2,Q3と、このnチャンネル型MOSトラン
ジスタのオン・オフ状態を決定するためのヒューズF
1,F2,F3とが設けられることにより、上記ディレ
イ調整用ライン10,20,30と、クロック伝達経路
17とディレイ調整用ライン10,20,30との間に
形成される容量を選択的に配線ディレイ調整に関与させ
ることができ、それによって、配線ディレイ調整を容易
に行うことができる。そして、そのような配線ディレイ
調整が可能とされることにより、ディレイ不良の低減、
さらには半導体集積回路の歩留りの向上を図ることがで
きる。(1) A first delay adjustment line 10, a second delay adjustment line 20, and a third delay adjustment line 30 laid out in the vicinity of the clock transmission path 17; N-channel MOS transistors Q1, Q2, and Q3 capable of supplying a reference voltage level to each other, and a fuse F for determining the ON / OFF state of the n-channel MOS transistor
1, F2, and F3, the capacitances formed between the delay adjustment lines 10, 20, and 30 and the clock transmission path 17 and the delay adjustment lines 10, 20, and 30 are selectively provided. It is possible to be involved in the wiring delay adjustment, whereby the wiring delay adjustment can be easily performed. By enabling such wiring delay adjustment, it is possible to reduce delay defects,
Further, the yield of semiconductor integrated circuits can be improved.
【0045】(2)一般的な自動配置配線においては、
クロック伝達経路17と、それに隣接する配線ラインと
の間には、配線ライン1本分のスペースが確保されるよ
うになっている。これは、クロック伝達経路17とそれ
に隣接する配線ラインとの間に、不所望な容量が形成さ
れるのを避けるためである。それに対して、上記した例
では、積極的に容量を形成するため、クロック伝達経路
17と第1ライン11との距離、及びクロック伝達経路
17と第2ライン12との距離は、自動配置配線におけ
る最小配線ピッチに等しくされる。従って、この第1ラ
イン11や第2ラインをクロック伝達経路17と等しい
配線層を用いて形成した場合でも、半導体チップサイズ
に影響しない。また、第1ライン11や第2ラインが接
地電位に等しくされた場合には、この第1ライン11や
第2ラインは上記クロック伝達経路17をシールドする
ように作用するから、他の信号ラインとの間でのクロス
トーク防止を図る上で有利となる。(2) In general automatic placement and routing,
A space for one wiring line is secured between the clock transmission path 17 and a wiring line adjacent thereto. This is to prevent formation of an undesired capacitance between the clock transmission path 17 and the wiring line adjacent thereto. On the other hand, in the above example, since the capacitance is positively formed, the distance between the clock transmission path 17 and the first line 11 and the distance between the clock transmission path 17 and the second line 12 are different from those in the automatic placement and routing. It is made equal to the minimum wiring pitch. Therefore, even when the first line 11 and the second line are formed using the same wiring layer as the clock transmission path 17, the size of the semiconductor chip is not affected. Also, when the first line 11 and the second line are set to the ground potential, the first line 11 and the second line act to shield the clock transmission path 17, so that the first line 11 and the second line are connected to other signal lines. This is advantageous in preventing crosstalk between the two.
【0046】(3)クロック伝達経路17に対して第1
ライン11や第2ライン12を平行にレイアウトするこ
とでディレイ調整用の容量Cを得ており、そのような容
量形成は、例えばMOSのゲート容量を利用する場合と
異なり、既に終了された論理設計に影響を与えないで済
む。このことからしても、上記した配線ディレイ調整は
容易に実施することができる。(3) First with respect to the clock transmission path 17
The capacitance C for delay adjustment is obtained by laying out the line 11 and the second line 12 in parallel, and such capacitance formation is different from, for example, the case of using the gate capacitance of a MOS. Does not need to be affected. Even from this, the wiring delay adjustment described above can be easily performed.
【0047】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々変更可能であることは言うまでもない。Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, it is needless to say that the present invention is not limited to the embodiment and can be variously modified without departing from the gist of the invention. No.
【0048】例えば、図3に示されるように、クロック
伝達経路17が第1層金属配線によって形成されると
き、第2層金属配線により配線ディレイ調整用ラインを
形成し、この配線ディレイ調整用ラインと上記クロック
伝達経路17との間で配線ディレイ調整用の容量Cを形
成するようにしても良い。For example, as shown in FIG. 3, when the clock transmission path 17 is formed by a first layer metal wiring, a wiring delay adjustment line is formed by a second layer metal wiring, and the wiring delay adjustment line is formed. A capacitor C for adjusting the wiring delay may be formed between the clock transmission path 17 and the clock transmission path 17.
【0049】上記のように配線ディレイ調整用の容量
は、平行配線長bの長さによって調整可能であるから、
例えば図4に示されるように、ディレイ調整用とされる
複数の調整用ライン41,42,43,44の長さの比
を、b:2b:4b:8b=1:2:4:8に設定する
ようにすれば、それらの組合わせによって配線ディレイ
調整用の容量Cを、0〜15の16段階に細かく調整す
ることができる。As described above, the capacitance for adjusting the wiring delay can be adjusted by the length of the parallel wiring b.
For example, as shown in FIG. 4, the length ratio of the plurality of adjustment lines 41, 42, 43, 44 used for delay adjustment is set to b: 2b: 4b: 8b = 1: 2: 4: 8. If set, the capacitance C for adjusting the wiring delay can be finely adjusted in 16 steps from 0 to 15 by a combination thereof.
【0050】上記の例ではクロック伝達経路の配線ディ
レイ調整を行うようにしたが、クロック以外の信号を伝
達する信号伝達経路の配線ディレイ調整に適用すること
ができる。In the above example, the wiring delay of the clock transmission path is adjusted. However, the present invention can be applied to the wiring delay adjustment of the signal transmission path for transmitting signals other than the clock.
【0051】また、図5に示されるセレクタ51,5
2,53に代えて、それぞれ2入力オア(OR)ゲート
を適用することができる。この場合、入力端子IN1を
オアゲートの一方の入力端子に対応させ、入力端子IN
2をオアゲートの他方の入力端子に対応させ、出力端子
OUTをオアゲートの出力端子に対応させる。そのよう
に、2入力オアを適用する場合、セレクト信号SELの
外部からの取込みは不要とされるので、その分、必要と
される外部端子数の低減を図ることができる。The selectors 51 and 5 shown in FIG.
Instead of 2 and 53, a 2-input OR (OR) gate can be applied. In this case, the input terminal IN1 is made to correspond to one input terminal of the OR gate, and the input terminal IN
2 corresponds to the other input terminal of the OR gate, and the output terminal OUT corresponds to the output terminal of the OR gate. As described above, when the two-input OR is applied, it is not necessary to take in the select signal SEL from outside, so that the required number of external terminals can be reduced accordingly.
【0052】さらに、基準電圧18として、高電位側電
源Vcc、あるいはハーフ電圧Vcc/2を供給するよ
うにしても良い。Further, as the reference voltage 18, a high-potential-side power supply Vcc or a half voltage Vcc / 2 may be supplied.
【0053】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野である半導体
集積回路内部の配線ディレイ調整について説明したが、
それに限定されるものではなく、例えば複数の半導体集
積回路が搭載されるプリント基板において複数の半導体
集積回路を相互に結合するように形成された信号伝達経
路の配線ディレイ調整に適用することができる。In the above description, the invention made by the present inventor has been mainly described with respect to the adjustment of the wiring delay inside the semiconductor integrated circuit, which is the application field in which the invention is based.
The present invention is not limited to this, and can be applied to, for example, wiring delay adjustment of a signal transmission path formed so as to mutually connect a plurality of semiconductor integrated circuits on a printed circuit board on which a plurality of semiconductor integrated circuits are mounted.
【0054】本発明は、少なくとも信号伝達経路を含む
ことを条件に適用することができる。The present invention can be applied on condition that at least a signal transmission path is included.
【0055】[0055]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
【0056】すなわち、プログラマブルリンクにより、
スイッチのオン・オフ状態を決定することで、信号伝達
経路の近傍にレイアウトされたディレイ調整用ライン
と、このディレイ調整用ラインとの間に形成される容量
を選択的に配線ディレイ調整に関与させることができ、
それにより配線ディレイ調整を容易に行うことができ
る。そして、そのような配線ディレイ調整を可能とする
ことにより、ディレイ不良の低減を図ることができ、さ
らには半導体集積回路の歩留りの向上を図ることができ
る。That is, by the programmable link,
By determining the ON / OFF state of the switch, the delay adjustment line laid out near the signal transmission path and the capacitance formed between the delay adjustment line are selectively involved in the wiring delay adjustment. It is possible,
Thereby, the wiring delay adjustment can be easily performed. By making such wiring delay adjustment possible, delay defects can be reduced, and the yield of semiconductor integrated circuits can be improved.
【図1】本発明に係る配線ディレイ調整回路の一例説明
図である。FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a wiring delay adjustment circuit according to the present invention.
【図2】上記配線ディレイ調整回路の主要部の平面及び
それの切断断面を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a plane of a main part of the wiring delay adjustment circuit and a cross section thereof.
【図3】上記配線ディレイ調整回路の他の形成例を示す
断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating another example of forming the wiring delay adjustment circuit.
【図4】上記配線ディレイ調整回路の他のレイアウト例
の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of another layout example of the wiring delay adjustment circuit.
【図5】上記配線ディレイ調整回路に含まれるスイッチ
制御回路の構成例回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a switch control circuit included in the wiring delay adjustment circuit;
【図6】上記配線ディレイ調整回路を用いた配線ディレ
イ調整のフローチャートである。FIG. 6 is a flowchart of wiring delay adjustment using the wiring delay adjustment circuit.
【図7】上記配線ディレイ調整回路が適用される半導体
集積回路の全体的な説明図である。FIG. 7 is an overall explanatory diagram of a semiconductor integrated circuit to which the wiring delay adjustment circuit is applied.
【図8】上記配線ディレイ調整回路を用いた配線ディレ
イ調整において形成されるリングオシレータの回路図図
である。FIG. 8 is a circuit diagram of a ring oscillator formed in wiring delay adjustment using the wiring delay adjustment circuit.
10 第1ディレイ調整用ライン 20 第2ディレイ調整用ライン 30 第3ディレイ調整用ライン 11 第1ライン 12 第2ライン 13 第3ライン 17 クロック伝達経路 71 半導体集積回路 T0,T1,T2,T3,T72,T82 外部端子 Q1,Q2,Q3 nチャンネル型MOSトランジスタ C 容量 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st delay adjustment line 20 2nd delay adjustment line 30 3rd delay adjustment line 11 1st line 12 2nd line 13 3rd line 17 Clock transmission path 71 Semiconductor integrated circuit T0, T1, T2, T3, T72 , T82 External terminals Q1, Q2, Q3 n-channel MOS transistor C capacitance
Claims (10)
ための配線ディレイ調整回路であって、 上記信号伝達経路の近傍にレイアウトされたディレイ調
整用ラインと、 上記ディレイ調整用ラインに選択的に基準電圧レベルを
供給可能なスイッチと、 上記スイッチのオン・オフ状態を決定するためのプログ
ラマブルリンクと、 を含むことを特徴とする配線ディレイ調整回路。1. A wiring delay adjusting circuit for adjusting a wiring delay of a signal transmission path, wherein a delay adjustment line laid out near the signal transmission path and a delay adjustment line are selectively referred to. A wiring delay adjustment circuit, comprising: a switch capable of supplying a voltage level; and a programmable link for determining an on / off state of the switch.
するための信号伝達経路とを含んで一つの半導体基板に
形成された半導体集積回路において、 上記信号伝達経路の近傍にレイアウトされたディレイ調
整用ラインと、 上記ディレイ調整用ラインに選択的に基準電圧レベルを
供給可能な半導体スイッチと、 上記半導体スイッチのオン・オフ状態を決定するための
プログラマブルリンクと、 を含むことを特徴とする半導体集積回路。2. A semiconductor integrated circuit formed on one semiconductor substrate including a logic circuit and a signal transmission path for transmitting a signal to the logic circuit, wherein a delay laid out near the signal transmission path A semiconductor comprising: an adjustment line; a semiconductor switch capable of selectively supplying a reference voltage level to the delay adjustment line; and a programmable link for determining an on / off state of the semiconductor switch. Integrated circuit.
配線における配線レイアウトの最小ピッチで上記信号伝
達経路に対して平行に形成されたラインを含む請求項2
記載の半導体集積回路。3. The delay adjustment line includes a line formed in parallel with the signal transmission path at a minimum pitch of a wiring layout in automatic placement and routing.
A semiconductor integrated circuit as described in the above.
わらず、上記半導体スイッチの動作を制御可能な信号を
半導体集積回路の外部から取込むための第1外部端子を
含む請求項2又は3記載の半導体集積回路。4. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, further comprising a first external terminal for receiving a signal capable of controlling the operation of the semiconductor switch from outside the semiconductor integrated circuit irrespective of the state of the programmable link. circuit.
オシレータを形成可能なリングオシレータ形成用スイッ
チと、 形成されたリングオシレータの発振周波数の測定を可能
とする第2外部端子と、 を含む請求項2乃至4のいずれか1項記載の半導体集積
回路。5. A logic inversion circuit for performing signal inversion, a ring oscillator forming switch capable of forming a ring oscillator including the logic inversion circuit and the signal transmission path, and an oscillation frequency of the formed ring oscillator. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, further comprising: a second external terminal that enables measurement.
ンが形成され、上記複数のラインの長さの比が、1:
2:4:8に設定されて成る請求項2乃至5のいずれか
1項記載の半導体集積回路。6. A plurality of lines are formed for a plurality of delay adjustments, and the length ratio of the plurality of lines is 1: 1:
6. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the ratio is set to 2: 4: 8.
ディレイ調整用ラインと、 上記ディレイ調整用ラインに選択的に基準電圧レベルを
供給可能なスイッチと、 上記スイッチのオン・オフ状態を決定するためのプログ
ラマブルリンクと、 を含んで成る配線ディレイ調整回路を用いた配線ディレ
イ調整方法であって、 上記スイッチの動作制御により所望の配線ディレイ状態
を検出する第1ステップと、 上記第1ステップでの検出結果に基づいて上記プログラ
マブルリンクのリンク状態を設定する第2ステップとを
含むことを特徴とする配線ディレイ調整方法。7. A delay adjustment line laid out near a signal transmission path, a switch capable of selectively supplying a reference voltage level to the delay adjustment line, and an on / off state of the switch A wiring delay adjustment method using a wiring delay adjustment circuit comprising: a first step of detecting a desired wiring delay state by controlling the operation of the switch; and a detection in the first step. Setting a link state of the programmable link based on the result.
するための信号伝達経路と、 上記信号伝達経路の近傍にレイアウトされたディレイ調
整用ラインと、 上記ディレイ調整用ラインに選択的に基準電圧レベルを
供給可能な半導体スイッチと、 上記半導体スイッチのオン・オフ状態を決定するための
プログラマブルリンクと、 を含んで成る半導体集積回路における配線ディレイ調整
方法であって、 上記スイッチの動作制御により所望の配線ディレイ状態
を検出する第1ステップと、 上記第1ステップでの検出結果に基づいて、上記プログ
ラマブルリンクのリンク状態を設定する第2ステップと
を含むことを特徴とする配線ディレイ調整方法。8. A logic circuit, a signal transmission path for transmitting a signal to the logic circuit, a delay adjustment line laid out near the signal transmission path, and a reference selectively to the delay adjustment line. A wiring delay adjustment method in a semiconductor integrated circuit, comprising: a semiconductor switch capable of supplying a voltage level; and a programmable link for determining an on / off state of the semiconductor switch. A first step of detecting the wiring delay state, and a second step of setting a link state of the programmable link based on a result of the detection in the first step.
するための信号伝達経路と、 上記信号伝達経路の近傍にレイアウトされたディレイ調
整用ラインと、 上記ディレイ調整用ラインに選択的に基準電圧レベルを
供給可能な半導体スイッチと、 上記半導体スイッチのオン・オフ状態を決定するための
プログラマブルリンクと、 上記プログラマブルリンクとは別に、半導体集積回路の
外部から上記半導体スイッチの動作制御信号の取込みを
可能とする第1外部端子と、 を含んで成る半導体集積回路における配線ディレイ調整
方法であって、 上記第1外部端子を介して外部から供給される動作制御
信号に基づく上記スイッチの動作制御により所望の配線
ディレイ状態を検出する第1ステップと、 上記第1ステップでの検出結果に基づいて、上記プログ
ラマブルリンクのリンク状態を設定する第2ステップと
を含むことを特徴とする配線ディレイ調整方法。9. A logic circuit, a signal transmission path for transmitting a signal to the logic circuit, a delay adjustment line laid out near the signal transmission path, and a reference selectively to the delay adjustment line. A semiconductor switch capable of supplying a voltage level; a programmable link for determining the on / off state of the semiconductor switch; separately from the programmable link, an operation control signal of the semiconductor switch is taken in from outside the semiconductor integrated circuit. A method of adjusting a wiring delay in a semiconductor integrated circuit, comprising: a first external terminal that enables the first external terminal; and a control circuit that controls the operation of the switch based on an operation control signal that is externally supplied through the first external terminal. A first step of detecting the wiring delay state of the above, and based on the detection result in the first step, Wiring delay adjustment method characterized by comprising a second step of setting the link status of the programmable link.
達するための信号伝達経路と、 上記信号伝達経路の近傍にレイアウトされたディレイ調
整用ラインと、 上記ディレイ調整用ラインに選択的に基準電圧レベルを
供給可能な半導体スイッチと、 上記半導体スイッチのオン・オフ状態を決定するための
プログラマブルリンクと、 上記プログラマブルリンクの状態にかかわらず、上記半
導体スイッチの動作を制御可能な信号を半導体集積回路
の外部から取込むための第1外部端子と、 信号反転を行うための論理反転回路と、 上記論理反転回路及び上記信号伝達経路を含んでリング
オシレータを形成可能なリングオシレータ形成用スイッ
チと、 形成されたリングオシレータの発振周波数の外部測定を
可能とする第2外部端子と、 を含んで成る半導体集積回路における配線ディレイ調整
方法であって、 上記第1外部端子を介して外部から供給される動作制御
信号に基づく上記スイッチの動作制御毎に、上記リング
オシレータの発振周波数を、上記第2外部端子を介して
測定する第1ステップと、 上記第1ステップでの測定結果に基づいて上記プログラ
マブルリンクのリンク状態設定のための情報を得る第2
ステップと、 上記第2ステップで得られた情報に基づいて上記プログ
ラマブルリンクのリンク状態を設定する第3ステップと
を含むことを特徴とする配線ディレイ調整方法。10. A logic circuit, a signal transmission path for transmitting a signal to the logic circuit, a delay adjustment line laid out near the signal transmission path, and a reference selectively to the delay adjustment line. A semiconductor switch capable of supplying a voltage level; a programmable link for determining the on / off state of the semiconductor switch; and a semiconductor integrated circuit for transmitting a signal capable of controlling the operation of the semiconductor switch regardless of the state of the programmable link. A first external terminal for taking in the signal from outside, a logic inversion circuit for inverting a signal, a ring oscillator forming switch capable of forming a ring oscillator including the logic inversion circuit and the signal transmission path, A second external terminal that allows an external measurement of the oscillation frequency of the ring oscillator provided. A method of adjusting a wiring delay in a conductor integrated circuit, comprising: for each operation control of the switch based on an operation control signal supplied from outside via the first external terminal, changing the oscillation frequency of the ring oscillator to the second external A first step of measuring via a terminal; and a second step of obtaining information for setting a link state of the programmable link based on the measurement result in the first step.
And a third step of setting a link state of the programmable link based on the information obtained in the second step.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26397796A JPH10112504A (en) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | Wiring delay adjustment circuit, semiconductor integrated circuit, and wiring delay adjustment method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26397796A JPH10112504A (en) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | Wiring delay adjustment circuit, semiconductor integrated circuit, and wiring delay adjustment method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10112504A true JPH10112504A (en) | 1998-04-28 |
Family
ID=17396847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26397796A Withdrawn JPH10112504A (en) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | Wiring delay adjustment circuit, semiconductor integrated circuit, and wiring delay adjustment method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10112504A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7202725B2 (en) | 2002-01-28 | 2007-04-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Delay control circuit device, and a semiconductor integrated circuit device and a delay control method using said delay control circuit device |
| JP2016531424A (en) * | 2013-07-17 | 2016-10-06 | エイアールエム リミテッド | Integrated circuit manufacturing using direct lithography |
-
1996
- 1996-10-04 JP JP26397796A patent/JPH10112504A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7202725B2 (en) | 2002-01-28 | 2007-04-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Delay control circuit device, and a semiconductor integrated circuit device and a delay control method using said delay control circuit device |
| JP2016531424A (en) * | 2013-07-17 | 2016-10-06 | エイアールエム リミテッド | Integrated circuit manufacturing using direct lithography |
| US10303840B2 (en) | 2013-07-17 | 2019-05-28 | Arm Limited | Integrated circuit manufacture using direct write lithography |
| KR20210037758A (en) * | 2013-07-17 | 2021-04-06 | 에이알엠 리미티드 | Integrated circuit manufacture using direct write lithography |
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