JPH10118655A - 水性塩溶液の電気処理 - Google Patents
水性塩溶液の電気処理Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 水性塩溶液の電気分解処理を通じて滅菌用溶
液を製造するための方法及び装置を開示する。 【解決手段】 水性塩溶液を加圧のもとで電気分解セル
のワーキングチャンバーへと運ぶ。そのセルは浸透膜に
よりワーキングチャンバーと補助チャンバーとに分けら
れている。この溶液を膜を通じて濾過し、そして補助チ
ャンバーの出口から集める。電気分解の際にワーキング
チャンバー内に遊離する気体、例えば塩素を供給水に溶
解し、そしてこの供給水を補助チャンバーの排出物と部
分的又は完全に混合して滅菌用溶液を製造する。開示の
方法及び装置は従来技術よりも少ないエネルギー消費量
及び原材料で滅菌用溶液を製造せしめる。
液を製造するための方法及び装置を開示する。 【解決手段】 水性塩溶液を加圧のもとで電気分解セル
のワーキングチャンバーへと運ぶ。そのセルは浸透膜に
よりワーキングチャンバーと補助チャンバーとに分けら
れている。この溶液を膜を通じて濾過し、そして補助チ
ャンバーの出口から集める。電気分解の際にワーキング
チャンバー内に遊離する気体、例えば塩素を供給水に溶
解し、そしてこの供給水を補助チャンバーの排出物と部
分的又は完全に混合して滅菌用溶液を製造する。開示の
方法及び装置は従来技術よりも少ないエネルギー消費量
及び原材料で滅菌用溶液を製造せしめる。
Description
【０００１】本発明は酸化及び／又は還元特性をもつ溶
液を作製するため、そして特に、しかしながら排他的に
ではなく、滅菌用溶液を作製するための水性塩溶液の電
気分解処理のための方法及び装置に関する。
液を作製するため、そして特に、しかしながら排他的に
ではなく、滅菌用溶液を作製するための水性塩溶液の電
気分解処理のための方法及び装置に関する。
【０００２】その開示内容を引用することで本明細書に
組入れるＧＢ ２，２５３，８６０号から公知の通り、
水を孔質膜により分けられている陰極及び陽極フローチ
ャンバーを有する電気分解セルに通すことにより水を処
理するには、一方のチャンバーは処理すべき水が上方方
向で通過するワーキングチャンバーであり、そして他方
は電気分解セルより高いレベルに位置する気体分離チャ
ンバーと密閉連結した補助チャンバーである。処理すべ
き水よりも高い鉱物含有量を有する水を補助チャンバー
を通じて気体分離チャンバーに上方方向へと運び、そし
て対流により及び補助チャンバー内の電極上に発生する
気泡の発生を介して水にかけられる剪断力により補助チ
ャンバーへと再循環される。ワーキングチャンバーの中
の水圧は補助チャンバーの中それより高く、そして気性
電気分解生成物は気体解放バルブを介して気体分離チャ
ンバーから追い出される。
組入れるＧＢ ２，２５３，８６０号から公知の通り、
水を孔質膜により分けられている陰極及び陽極フローチ
ャンバーを有する電気分解セルに通すことにより水を処
理するには、一方のチャンバーは処理すべき水が上方方
向で通過するワーキングチャンバーであり、そして他方
は電気分解セルより高いレベルに位置する気体分離チャ
ンバーと密閉連結した補助チャンバーである。処理すべ
き水よりも高い鉱物含有量を有する水を補助チャンバー
を通じて気体分離チャンバーに上方方向へと運び、そし
て対流により及び補助チャンバー内の電極上に発生する
気泡の発生を介して水にかけられる剪断力により補助チ
ャンバーへと再循環される。ワーキングチャンバーの中
の水圧は補助チャンバーの中それより高く、そして気性
電気分解生成物は気体解放バルブを介して気体分離チャ
ンバーから追い出される。
【０００３】この方法は処理する水のpH値を、ワーキン
グチャンバーとして陰極チャンバーを使用したときは７
から２前後に下げる。ワーキングチャンバーとして陽極
チャンバーを使用すると、処理する水のpH値は１２前後
にまで上昇しうる。この公知の電気分解処理方法は比較
的低濃度の溶解塩及び鉱物濃度（１０ gdm-3以下）を有
する水にのみ適用され、そしてワーキングチャンバー中
の水の電気分解処理のために供給する電気は約２００〜
３，０００ Cdm-3にすぎない。処理する水はこのような
低い溶解塩及び鉱物濃度を有するため、結果として低い
有効電気分解生成物（例えば補助チャンバーの中に塩化
ナトリウム溶液を用いたときに生成され、そして消毒剤
として使用される次亜塩素（Ｉ）イオンＣｌＯ- ）濃度
となる。更に、低濃度の塩及び鉱物を有する水は高いオ
ーム抵抗を有し、このことは電気分解を実施するときに
エネルギーが非効率的に使用されることを意味する。更
に、ワーキングチャンバー中の水に適用される少量の電
気（２００〜３０００ Cdm -3）では溶解した塩のイオン
（例えば塩素イオンＣｌ- ）の有効電気分解生成物（例
えば次亜塩素酸（Ｉ）イオンＣｌＯ- ）に至る完全変換
を確保するのに不十分である。溶解塩の不完全な電気分
解は、必須たる電気分解生成物濃度を供するために理論
的に必要な量より多い塩をまず溶解せねばならないこと
を意味する。この過剰な溶解塩は、電気分解セルの出口
が過度に腐蝕性となり、そして消毒洗浄剤として使用し
たとき、洗浄した表面上に結晶塩コーティングを残す傾
向にあることを意味する。
グチャンバーとして陰極チャンバーを使用したときは７
から２前後に下げる。ワーキングチャンバーとして陽極
チャンバーを使用すると、処理する水のpH値は１２前後
にまで上昇しうる。この公知の電気分解処理方法は比較
的低濃度の溶解塩及び鉱物濃度（１０ gdm-3以下）を有
する水にのみ適用され、そしてワーキングチャンバー中
の水の電気分解処理のために供給する電気は約２００〜
３，０００ Cdm-3にすぎない。処理する水はこのような
低い溶解塩及び鉱物濃度を有するため、結果として低い
有効電気分解生成物（例えば補助チャンバーの中に塩化
ナトリウム溶液を用いたときに生成され、そして消毒剤
として使用される次亜塩素（Ｉ）イオンＣｌＯ- ）濃度
となる。更に、低濃度の塩及び鉱物を有する水は高いオ
ーム抵抗を有し、このことは電気分解を実施するときに
エネルギーが非効率的に使用されることを意味する。更
に、ワーキングチャンバー中の水に適用される少量の電
気（２００〜３０００ Cdm -3）では溶解した塩のイオン
（例えば塩素イオンＣｌ- ）の有効電気分解生成物（例
えば次亜塩素酸（Ｉ）イオンＣｌＯ- ）に至る完全変換
を確保するのに不十分である。溶解塩の不完全な電気分
解は、必須たる電気分解生成物濃度を供するために理論
的に必要な量より多い塩をまず溶解せねばならないこと
を意味する。この過剰な溶解塩は、電気分解セルの出口
が過度に腐蝕性となり、そして消毒洗浄剤として使用し
たとき、洗浄した表面上に結晶塩コーティングを残す傾
向にあることを意味する。
【０００４】電気分解セルの陰極及び陽極チャンバーの
中で生ずる基礎化学反応を考慮することが有用である。
もしワーキングチャンバーが陰極を含むなら、以下の反
応が進む：塩素イオンが下記の式に従って気性塩素に変
換する： ２Ｃｌ- →Ｃｌ2 ＋２ｅ-
中で生ずる基礎化学反応を考慮することが有用である。
もしワーキングチャンバーが陰極を含むなら、以下の反
応が進む：塩素イオンが下記の式に従って気性塩素に変
換する： ２Ｃｌ- →Ｃｌ2 ＋２ｅ-
【０００５】気性塩素は水に溶け、そして以下の式に従
って次亜塩素酸を形成する： Ｃｌ2 ＋Ｈ2 Ｏ→Ｈ+ ＋Ｃｌ- ＋ＨＣｌＯ
って次亜塩素酸を形成する： Ｃｌ2 ＋Ｈ2 Ｏ→Ｈ+ ＋Ｃｌ- ＋ＨＣｌＯ
【０００６】水の電気分解は陰極チャンバーの中でも進
行する。その式は下記の通りである： ２Ｈ2 Ｏ→４Ｈ+ ＋Ｏ2 ＋４ｅ-
行する。その式は下記の通りである： ２Ｈ2 Ｏ→４Ｈ+ ＋Ｏ2 ＋４ｅ-
【０００７】この反応の結果、気性酸素は遊離し、そし
て水は水素イオンで飽和となる。その結果、水のpHは陰
極チャンバーの中で低下する。水の中の塩素の溶解度は
pHが下がると低下し、そして気性塩素は酸素と共に遊離
する。
て水は水素イオンで飽和となる。その結果、水のpHは陰
極チャンバーの中で低下する。水の中の塩素の溶解度は
pHが下がると低下し、そして気性塩素は酸素と共に遊離
する。
【０００８】水の電気分解は陽極チャンバーの中で進行
する。その式は下記の通りである： ２Ｈ2 Ｏ＋２ｅ- →２ＯＨ- ＋Ｈ2
する。その式は下記の通りである： ２Ｈ2 Ｏ＋２ｅ- →２ＯＨ- ＋Ｈ2
【０００９】その結果気性水素が陽極において遊離し、
そして水酸化物イオンの濃度は上昇し、これにより陽極
チャンバーの中の水のpHは上昇する。
そして水酸化物イオンの濃度は上昇し、これにより陽極
チャンバーの中の水のpHは上昇する。
【００１０】この分析から水の酸化能力は次亜塩素酸の
濃度により決定され、そして還元能力は水酸化物イオン
の濃度により決定される。ＧＢ ２，２５３，８６０号
に記載の方法に従う電気分解処理下にある水は、初期水
の低い鉱物化に基づき低い次亜塩素酸及び水酸化物イオ
ン濃度を有する。
濃度により決定され、そして還元能力は水酸化物イオン
の濃度により決定される。ＧＢ ２，２５３，８６０号
に記載の方法に従う電気分解処理下にある水は、初期水
の低い鉱物化に基づき低い次亜塩素酸及び水酸化物イオ
ン濃度を有する。
【００１１】塩溶液の電気分解処理により製造された滅
菌用溶液の有効性を評価する一の方法は「遊離塩素」の
濃度の測定にあり、それは水の中の次亜塩素酸の濃度及
び塩素酸塩（次亜塩素酸の解離により生成）の濃度と理
解されている。
菌用溶液の有効性を評価する一の方法は「遊離塩素」の
濃度の測定にあり、それは水の中の次亜塩素酸の濃度及
び塩素酸塩（次亜塩素酸の解離により生成）の濃度と理
解されている。
【００１２】ＧＢ ２，２５３，８６０号の電気分解セ
ルの陰極チャンバーの中で処理される水の中の遊離塩素
の濃度は０．２〜０．６ gdm-3を通常超えないが、水の
中の気性塩素の溶解度ははるかに高い（２０℃において
７．３ gdm-3）。従って、公知の方法に従って電気分解
処理されている水は可能な最大値の３〜１０％より高い
遊離塩素濃度をもたない。
ルの陰極チャンバーの中で処理される水の中の遊離塩素
の濃度は０．２〜０．６ gdm-3を通常超えないが、水の
中の気性塩素の溶解度ははるかに高い（２０℃において
７．３ gdm-3）。従って、公知の方法に従って電気分解
処理されている水は可能な最大値の３〜１０％より高い
遊離塩素濃度をもたない。
【００１３】本発明の第一の観点に従うと、電気分解セ
ル中の水性塩溶液を処理する方法を提供し、ここで当該
セルは浸透膜により分けられているワーキングチャンバ
ー及び補助チャンバーを含んで成り、一方のチャンバー
は陰極を、そして他方は陽極を含むものであり、ここで
この方法は ｉ）水性塩溶液を大気圧より高い圧力でワーキングチャ
ンバーに供給する； ii）この溶液を加圧のもとで前記浸透膜を通じて前記補
助チャンバーへと濾過する； iii) 前記水性塩溶液の電気分解を引き起こすように陽
極と陰極との内で前記水性塩溶液と浸透膜とにわたり電
流を適用する；そして iv）この溶液を実質的に全て前記補助チャンバーから出
す；ことを含んで成る。
ル中の水性塩溶液を処理する方法を提供し、ここで当該
セルは浸透膜により分けられているワーキングチャンバ
ー及び補助チャンバーを含んで成り、一方のチャンバー
は陰極を、そして他方は陽極を含むものであり、ここで
この方法は ｉ）水性塩溶液を大気圧より高い圧力でワーキングチャ
ンバーに供給する； ii）この溶液を加圧のもとで前記浸透膜を通じて前記補
助チャンバーへと濾過する； iii) 前記水性塩溶液の電気分解を引き起こすように陽
極と陰極との内で前記水性塩溶液と浸透膜とにわたり電
流を適用する；そして iv）この溶液を実質的に全て前記補助チャンバーから出
す；ことを含んで成る。
【００１４】本発明の第二の観点に従うと、水性塩溶液
の電気分解処理のための装置を提供し、この装置は浸透
膜により分けられているワーキングチャンバー及び補助
チャンバーを有する電気分解セルを含んで成り、ここで
一方のチャンバーは陰極を含み、そして他方は陽極を含
むものであり、ここで使用時に： ｉ）水性塩溶液を大気圧より高い圧力においてワーキン
グチャンバーに供給し； ii）前記溶液を浸透膜を通じて加圧のもとで前記補助チ
ャンバーに濾過し； iii) 電流を前記陽極と陰極との間で前記水性塩溶液及
び前記浸透膜にわたり適用して水性塩溶液を電気分解さ
せ；そして iv）前記溶液を前記補助チャンバーから実質的に全て出
す；ものとする。
の電気分解処理のための装置を提供し、この装置は浸透
膜により分けられているワーキングチャンバー及び補助
チャンバーを有する電気分解セルを含んで成り、ここで
一方のチャンバーは陰極を含み、そして他方は陽極を含
むものであり、ここで使用時に： ｉ）水性塩溶液を大気圧より高い圧力においてワーキン
グチャンバーに供給し； ii）前記溶液を浸透膜を通じて加圧のもとで前記補助チ
ャンバーに濾過し； iii) 電流を前記陽極と陰極との間で前記水性塩溶液及
び前記浸透膜にわたり適用して水性塩溶液を電気分解さ
せ；そして iv）前記溶液を前記補助チャンバーから実質的に全て出
す；ものとする。
【００１５】好適な態様において、ワーキングチャンバ
ーは陰極を含み、そして補助チャンバーは陽極を含む。
以下の説明はこの好適な態様に関連するが、一定の用途
にとってこの陰極及び陽極は逆であってよいことが当業
者に明らかであろう。
ーは陰極を含み、そして補助チャンバーは陽極を含む。
以下の説明はこの好適な態様に関連するが、一定の用途
にとってこの陰極及び陽極は逆であってよいことが当業
者に明らかであろう。
【００１６】水性塩溶液を調製するのに適当な塩には塩
化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム及び任意の
それらの組合せが含まれる。
化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム及び任意の
それらの組合せが含まれる。
【００１７】電気分解セルは好都合には水性塩溶液が上
方方向に運ばれるような形態となっている。ワーキング
及び補助チャンバーは浸透膜により分けられている同軸
陰極／陽極対により規定されていてよい。水性塩溶液は
ワーキングチャンバーの底部から入り、そして補助チャ
ンバーの頂部から出るようになっていてよい。
方方向に運ばれるような形態となっている。ワーキング
及び補助チャンバーは浸透膜により分けられている同軸
陰極／陽極対により規定されていてよい。水性塩溶液は
ワーキングチャンバーの底部から入り、そして補助チャ
ンバーの頂部から出るようになっていてよい。
【００１８】ＧＢ ２，２５３，８６０号に開示のシス
テムに反して、本発明は比較的高い溶解塩濃度（一般に
は５〜３５重量％）を有する水性塩溶液に対して又は飽
和塩溶液に対してさえも有効でありうる。これは加圧の
もとでワーキングチャンバーに通され、そして２つのチ
ャンバー間の圧力勾配により浸透膜を通じて補助チャン
バーの中へと強制される。ワーキングチャンバーに至る
水性塩溶液の流速はセル内の電気条件が３０，０００か
ら１，０００，０００ Cdm-3まで一般に範囲するように
設定する。電気分解の結果ワーキングチャンバーの中で
遊離する気体はワーキングチャンバーの上部から除去さ
れ、そしてこの水に酸化特性を授けるように別の供給水
の中に溶解してよい。還元特性をもつ補助チャンバー由
来の液体排出物は酸化特性をもつ水と部分的又は完全に
混合してよい。
テムに反して、本発明は比較的高い溶解塩濃度（一般に
は５〜３５重量％）を有する水性塩溶液に対して又は飽
和塩溶液に対してさえも有効でありうる。これは加圧の
もとでワーキングチャンバーに通され、そして２つのチ
ャンバー間の圧力勾配により浸透膜を通じて補助チャン
バーの中へと強制される。ワーキングチャンバーに至る
水性塩溶液の流速はセル内の電気条件が３０，０００か
ら１，０００，０００ Cdm-3まで一般に範囲するように
設定する。電気分解の結果ワーキングチャンバーの中で
遊離する気体はワーキングチャンバーの上部から除去さ
れ、そしてこの水に酸化特性を授けるように別の供給水
の中に溶解してよい。還元特性をもつ補助チャンバー由
来の液体排出物は酸化特性をもつ水と部分的又は完全に
混合してよい。
【００１９】本発明の態様は酸化又は還元特性をもち、
そして比較的高い例えば遊離塩素又はアルカリの濃度を
もつ水性溶液を、公知のシステムより著しく低い電気消
費量及び塩供給量で製造しうる。これは比較的濃厚な、
そしてある態様においては飽和の水性塩溶液を比較的低
い割合でワーキングチャンバーに通すことにより達成し
得る。塩濃度は一般に５０〜３５０ gdm-3であり、これ
はＧＢ ２，２５３，８６０号の公知のシステムのもの
より２０〜１００倍高く、そして流速は一般に５０〜２
００分の１である。比較的高い塩溶液濃度を理由に、そ
のオーム抵抗は比較的低く、これは必要たる電気分解を
実施するのに比較的少ない電気量が必要とされることを
意味する。ワーキングチャンバーへの入口は大気より高
い圧力にあり、これは膜を横断する圧力降下をもたら
し、このことはワーキングチャンバーを通過する溶液の
実質的に全てが浸透膜を通じて補助膜へと濾過されるこ
とを意味する。圧力降下の程度は一般に０．２〜１．５
bar の範囲にある。膜に広がるこの流れは水酸化物イオ
ンが補助チャンバーからワーキングチャンバーへと運ば
れることを阻止するのに役立ち、それ故比較的低いpH値
（ある場合には１又は１近く）がワーキングチャンバー
内で保たれるようにする。気性塩素の溶解度は低pHの溶
液の中では急降下するため、この条件はワーキングチャ
ンバー内の気性塩素の遊離にとって非常に好都合であ
る。
そして比較的高い例えば遊離塩素又はアルカリの濃度を
もつ水性溶液を、公知のシステムより著しく低い電気消
費量及び塩供給量で製造しうる。これは比較的濃厚な、
そしてある態様においては飽和の水性塩溶液を比較的低
い割合でワーキングチャンバーに通すことにより達成し
得る。塩濃度は一般に５０〜３５０ gdm-3であり、これ
はＧＢ ２，２５３，８６０号の公知のシステムのもの
より２０〜１００倍高く、そして流速は一般に５０〜２
００分の１である。比較的高い塩溶液濃度を理由に、そ
のオーム抵抗は比較的低く、これは必要たる電気分解を
実施するのに比較的少ない電気量が必要とされることを
意味する。ワーキングチャンバーへの入口は大気より高
い圧力にあり、これは膜を横断する圧力降下をもたら
し、このことはワーキングチャンバーを通過する溶液の
実質的に全てが浸透膜を通じて補助膜へと濾過されるこ
とを意味する。圧力降下の程度は一般に０．２〜１．５
bar の範囲にある。膜に広がるこの流れは水酸化物イオ
ンが補助チャンバーからワーキングチャンバーへと運ば
れることを阻止するのに役立ち、それ故比較的低いpH値
（ある場合には１又は１近く）がワーキングチャンバー
内で保たれるようにする。気性塩素の溶解度は低pHの溶
液の中では急降下するため、この条件はワーキングチャ
ンバー内の気性塩素の遊離にとって非常に好都合であ
る。
【００２０】水性塩溶液がワーキングチャンバーに入る
際の比較的低い流速とは、溶液が陰極と陽極との間を流
れる電流により比較的高い温度に加熱されることを意味
する（少なくとも１０℃、そしてより好ましくは少なく
とも２０℃の温度上昇を受ける）。４０℃の如き比較的
高い温度は気性塩素の遊離のためにも好都合であり、そ
の理由は４０℃の水の中での気性塩素の溶解度は１０℃
のそれの半分以下だからである。
際の比較的低い流速とは、溶液が陰極と陽極との間を流
れる電流により比較的高い温度に加熱されることを意味
する（少なくとも１０℃、そしてより好ましくは少なく
とも２０℃の温度上昇を受ける）。４０℃の如き比較的
高い温度は気性塩素の遊離のためにも好都合であり、そ
の理由は４０℃の水の中での気性塩素の溶解度は１０℃
のそれの半分以下だからである。
【００２１】一般に塩素と酸素との混合物であろうが、
とりわけオゾン及び二酸化塩素をも含むワーキングチャ
ンバー内で遊離する気体はワーキングチャンバーの上部
から採取し、そして浸透膜にわたる圧力降下の維持を担
う導管及び圧力減少器を通され、そしてこの水に酸化特
性を授けるように水に溶解されうる。これらの気体は例
えばベンチュリポンプにより水の中は溶解されうるか、
又は単に水全体に吹き込まれ、そしてこれはバッチ式又
は連続式に行ってよい。この方法はＧＢ ２，２５３，
８６０号に記載の方法よりも著しく高い遊離塩素濃度が
達成されるように気性塩素を水の中に溶解する。
とりわけオゾン及び二酸化塩素をも含むワーキングチャ
ンバー内で遊離する気体はワーキングチャンバーの上部
から採取し、そして浸透膜にわたる圧力降下の維持を担
う導管及び圧力減少器を通され、そしてこの水に酸化特
性を授けるように水に溶解されうる。これらの気体は例
えばベンチュリポンプにより水の中は溶解されうるか、
又は単に水全体に吹き込まれ、そしてこれはバッチ式又
は連続式に行ってよい。この方法はＧＢ ２，２５３，
８６０号に記載の方法よりも著しく高い遊離塩素濃度が
達成されるように気性塩素を水の中に溶解する。
【００２２】上述の通り、飽和でありうる水性塩溶液は
ワーキングチャンバーから浸透膜を介して補助チャンバ
ーへと供給されうる。ワーキングチャンバー内には比較
的高いＮａ+ 及びＨ+ イオン濃度があり、一方補助チャ
ンバー内には比較的高い水酸化物イオン濃度がある。補
助チャンバーにわたる低い流速を理由に、補助チャンバ
ーを出る溶液は高いpH（一般には１１〜１３）を有し、
そして強アルカリ性である。
ワーキングチャンバーから浸透膜を介して補助チャンバ
ーへと供給されうる。ワーキングチャンバー内には比較
的高いＮａ+ 及びＨ+ イオン濃度があり、一方補助チャ
ンバー内には比較的高い水酸化物イオン濃度がある。補
助チャンバーにわたる低い流速を理由に、補助チャンバ
ーを出る溶液は高いpH（一般には１１〜１３）を有し、
そして強アルカリ性である。
【００２３】気性塩素を水に溶解するとき、水のpHは下
がる：Ｃｌ2 ＋Ｈ2 Ｏ→Ｈ+ ＋Ｃｌ- ＋ＨＣｌＯ
がる：Ｃｌ2 ＋Ｈ2 Ｏ→Ｈ+ ＋Ｃｌ- ＋ＨＣｌＯ
【００２４】pHの低下は気性塩素の溶解度を下げる。遊
離塩素の濃度を高めるため、電気分解器の補助チャンバ
ーを出たアルカリの一部又は全部を気性塩素が溶解して
いる水に加えてpHの低下に対向させ、それ故気性塩素の
溶解度を高める。これにより、４ gdm-3以上の遊離塩素
濃度の達成が可能となり、それはＧＢ ２，２５３，８
６０号の方法により達成される濃度よりも著しく高い
（一般に１０倍以上）。
離塩素の濃度を高めるため、電気分解器の補助チャンバ
ーを出たアルカリの一部又は全部を気性塩素が溶解して
いる水に加えてpHの低下に対向させ、それ故気性塩素の
溶解度を高める。これにより、４ gdm-3以上の遊離塩素
濃度の達成が可能となり、それはＧＢ ２，２５３，８
６０号の方法により達成される濃度よりも著しく高い
（一般に１０倍以上）。
【００２５】本発明において利用する初期水性塩溶液の
濃度はＧＢ ２，２５３，８６０号において利用される
ものよりも著しく高いが、電気分解セルを通じる低流速
は塩の全消費量が一般に１０分の１以下でありうること
を意味する。更に、補助チャンバーを通じる流速は低い
ため、陽極上での硬質塩、例えば炭酸塩の付着率は低
い。
濃度はＧＢ ２，２５３，８６０号において利用される
ものよりも著しく高いが、電気分解セルを通じる低流速
は塩の全消費量が一般に１０分の１以下でありうること
を意味する。更に、補助チャンバーを通じる流速は低い
ため、陽極上での硬質塩、例えば炭酸塩の付着率は低
い。
【００２６】水性溶液が電気分解により遊離される気体
と共にワーキングチャンバーから出たら、気相及び液相
を気体／液体分離体で分離し、そして液相をワーキング
チャンバーにもどす。
と共にワーキングチャンバーから出たら、気相及び液相
を気体／液体分離体で分離し、そして液相をワーキング
チャンバーにもどす。
【００２７】同様にして、補助チャンバーを出る排出物
である溶液は電気分解の際に発生する気性水素から気体
／液体分離体により分けられ、そして補助チャンバーに
もどされる。気性水素は大気に放出されるか、又は貯蔵
槽へと運ばれうる。
である溶液は電気分解の際に発生する気性水素から気体
／液体分離体により分けられ、そして補助チャンバーに
もどされる。気性水素は大気に放出されるか、又は貯蔵
槽へと運ばれうる。
【００２８】電気分解セルの過熱が認められたら、冷却
水を補助チャンバーに供給してよい。更に、補助チャン
バー内の電極上の硬質塩の任意の構築物を除去するた
め、これらの沈着物を洗浄するように洗浄酸溶液を補助
チャンバーに添加してよい。
水を補助チャンバーに供給してよい。更に、補助チャン
バー内の電極上の硬質塩の任意の構築物を除去するた
め、これらの沈着物を洗浄するように洗浄酸溶液を補助
チャンバーに添加してよい。
【００２９】本発明のより良い理解のため及びそれをど
のようにして実施するかを示すため、添付図面を参照さ
れたい。
のようにして実施するかを示すため、添付図面を参照さ
れたい。
【００３０】図１に示すように、比較的高い塩（例えば
ＮａＣｌ）濃度を有する水性塩溶液を電気分解セル１の
ワーキング（陰極）チャンバー２の中に大気圧よりも高
い圧力のもとで通す。ワーキングチャンバーは浸透膜６
及び陰極４により結合している。溶液をワーキングチャ
ンバー２から、陽極５及び浸透膜６により結合した補助
（陽極）チャンバー３の中に浸透膜６を介して運び入れ
る。電流を陰極４と陽極５との間にワーキング及び補助
チャンバー２，３並びに孔質膜６における水性塩溶液を
介して通す。電流は前述の通り一連の電気分解反応を起
こさせ、気性塩素及び水素、次亜塩素酸及び溶液中の様
々なイオンを含む様々な電気分解生成物を発生させる。
水性溶液の単位容量当りに費される電力の量が大きい
と、電気分解工程の効率は高まる。水性塩溶液中の塩の
濃度、ワーキングチャンバーに至る流速、及び陰極４と
陽極５との間の電流は全て水性塩溶液の注目の生成物、
例えば気性塩素及び次亜塩素酸に至る電気分解変換に影
響する。
ＮａＣｌ）濃度を有する水性塩溶液を電気分解セル１の
ワーキング（陰極）チャンバー２の中に大気圧よりも高
い圧力のもとで通す。ワーキングチャンバーは浸透膜６
及び陰極４により結合している。溶液をワーキングチャ
ンバー２から、陽極５及び浸透膜６により結合した補助
（陽極）チャンバー３の中に浸透膜６を介して運び入れ
る。電流を陰極４と陽極５との間にワーキング及び補助
チャンバー２，３並びに孔質膜６における水性塩溶液を
介して通す。電流は前述の通り一連の電気分解反応を起
こさせ、気性塩素及び水素、次亜塩素酸及び溶液中の様
々なイオンを含む様々な電気分解生成物を発生させる。
水性溶液の単位容量当りに費される電力の量が大きい
と、電気分解工程の効率は高まる。水性塩溶液中の塩の
濃度、ワーキングチャンバーに至る流速、及び陰極４と
陽極５との間の電流は全て水性塩溶液の注目の生成物、
例えば気性塩素及び次亜塩素酸に至る電気分解変換に影
響する。
【００３１】本発明の典型的な態様において、ワーキン
グチャンバーに至る溶液の流速は電気の特異的な消費が
３０，０００〜１，０００，０００ Cdm-3に範囲するよ
うに選定する。このレベルの消費量では、水性塩溶液中
の塩素イオンはほぼ完全に気性塩素へと変換する。
グチャンバーに至る溶液の流速は電気の特異的な消費が
３０，０００〜１，０００，０００ Cdm-3に範囲するよ
うに選定する。このレベルの消費量では、水性塩溶液中
の塩素イオンはほぼ完全に気性塩素へと変換する。
【００３２】ＧＢ ２，２５３，８６０号の方法におい
て、２〜６のpHは電気分解中にワーキング（陰極）チャ
ンバー内で達成し得るが、かかるpHレベルでの水の中の
水性塩素の溶解度はいまだ比較的高い。一方、本発明の
典型的な態様において、１に近いpHレベルがワーキング
チャンバー２の中で達成し得る。このレベルでは、気性
塩素の溶解度はかなり低く、これはワーキングチャンバ
ー２内の溶液からの気性塩素の遊離を促進するのに役立
つ。この低いpHレベルは水性塩溶液を大気圧より高い圧
力下でワーキングチャンバー２の中に運び入れ、しかも
補助チャンバー３内を大気圧に維持することにより成し
遂げられる。その結果の浸透膜６にわたる圧力降下は溶
液を浸透膜を通じて補助チャンバー３へと強制濾過し、
これにより水酸化物イオンから補助チャンバー３からワ
ーキングチャンバー２へと移動することを妨げる。水酸
化物イオンは補助チャンバー３内に保たれるため、これ
らはワーキングチャンバー２の中のＨ+ イオンを中和で
きず、それ故低pHは保たれうる。ほとんどの場合、浸透
膜６にわたる０．２〜１．５bar の圧力降下がワーキン
グチャンバー２に至る水酸化物イオンの移動の阻止に十
分である。
て、２〜６のpHは電気分解中にワーキング（陰極）チャ
ンバー内で達成し得るが、かかるpHレベルでの水の中の
水性塩素の溶解度はいまだ比較的高い。一方、本発明の
典型的な態様において、１に近いpHレベルがワーキング
チャンバー２の中で達成し得る。このレベルでは、気性
塩素の溶解度はかなり低く、これはワーキングチャンバ
ー２内の溶液からの気性塩素の遊離を促進するのに役立
つ。この低いpHレベルは水性塩溶液を大気圧より高い圧
力下でワーキングチャンバー２の中に運び入れ、しかも
補助チャンバー３内を大気圧に維持することにより成し
遂げられる。その結果の浸透膜６にわたる圧力降下は溶
液を浸透膜を通じて補助チャンバー３へと強制濾過し、
これにより水酸化物イオンから補助チャンバー３からワ
ーキングチャンバー２へと移動することを妨げる。水酸
化物イオンは補助チャンバー３内に保たれるため、これ
らはワーキングチャンバー２の中のＨ+ イオンを中和で
きず、それ故低pHは保たれうる。ほとんどの場合、浸透
膜６にわたる０．２〜１．５bar の圧力降下がワーキン
グチャンバー２に至る水酸化物イオンの移動の阻止に十
分である。
【００３３】本発明の典型的な態様における電気の高い
比消費量を理由に、ワーキングチャンバー２内の溶液の
濃度は一般に１０〜５０℃上昇する。溶液の温度が上昇
すると、気性塩素の溶解度は下降し、そして遊離速度は
その結果速まる。
比消費量を理由に、ワーキングチャンバー２内の溶液の
濃度は一般に１０〜５０℃上昇する。溶液の温度が上昇
すると、気性塩素の溶解度は下降し、そして遊離速度は
その結果速まる。
【００３４】浸透膜６を介してワーキングチャンバー２
から補助チャンバー３に運ばれる溶液は高いＨ+ 及びＮ
ａ+ イオン濃度を有す。補助チャンバー３内で、水の電
気分解は陽極において過剰の水酸化物イオンを発生させ
る： ２Ｈ2 Ｏ→２ＯＨ- ＋Ｈ2 ↑
から補助チャンバー３に運ばれる溶液は高いＨ+ 及びＮ
ａ+ イオン濃度を有す。補助チャンバー３内で、水の電
気分解は陽極において過剰の水酸化物イオンを発生させ
る： ２Ｈ2 Ｏ→２ＯＨ- ＋Ｈ2 ↑
【００３５】水酸化物イオンはＨ+ イオンと反応して水
を生成する： Ｈ+ ＋ＯＨ- →Ｈ2 Ｏ
を生成する： Ｈ+ ＋ＯＨ- →Ｈ2 Ｏ
【００３６】その結果、補助チャンバー内の溶液は高い
水酸化物イオン及びＮａ+ イオン濃度を有し、そして一
般に１１〜１３に範囲するpHレベルを有す。この溶液は
補助チャンバー３の上部に由来する電気分解セル１から
の排出物であり、そしてタンク９へと運ばれる。
水酸化物イオン及びＮａ+ イオン濃度を有し、そして一
般に１１〜１３に範囲するpHレベルを有す。この溶液は
補助チャンバー３の上部に由来する電気分解セル１から
の排出物であり、そしてタンク９へと運ばれる。
【００３７】ワーキングチャンバー内の主として塩素及
び酸素、しかしながらとりわけオゾン及び二酸化塩素も
含まれる気性生成物をワーキングチャンバー２の上部か
ら採取し、そしてワーキングチャンバー２内の圧力を維
持するのに役立つ圧力減少器７を介してタンク８へと運
び、そこでそれらは水の中に溶解される。水のpHが、気
性塩素の溶解度が有意に減少したレベルにまで低下する
のを防ぐため、タンク９の中に保持された所定量のアル
カリ溶液を加えてよい。水の中の気性塩素の溶解度は２
０℃で７．３ gdm-3であるため、酸化特性をもち、且つ
ＧＢ ２，２５３，８６０号の方法により達成できるも
のよりも１０倍高い塩素濃度をもつ滅菌用溶液を製造す
ることができる。
び酸素、しかしながらとりわけオゾン及び二酸化塩素も
含まれる気性生成物をワーキングチャンバー２の上部か
ら採取し、そしてワーキングチャンバー２内の圧力を維
持するのに役立つ圧力減少器７を介してタンク８へと運
び、そこでそれらは水の中に溶解される。水のpHが、気
性塩素の溶解度が有意に減少したレベルにまで低下する
のを防ぐため、タンク９の中に保持された所定量のアル
カリ溶液を加えてよい。水の中の気性塩素の溶解度は２
０℃で７．３ gdm-3であるため、酸化特性をもち、且つ
ＧＢ ２，２５３，８６０号の方法により達成できるも
のよりも１０倍高い塩素濃度をもつ滅菌用溶液を製造す
ることができる。
【００３８】補助チャンバー３は導管を介して排水し
得、そして洗浄／酸溶液を補助チャンバー３内に運び入
れて陽極上の硬質塩付着物を除去する。
得、そして洗浄／酸溶液を補助チャンバー３内に運び入
れて陽極上の硬質塩付着物を除去する。
【００３９】本発明の別の態様を図２に示す。図１の態
様について用いたものと同じ符号を図２の態様における
類似の部品に用いた。
様について用いたものと同じ符号を図２の態様における
類似の部品に用いた。
【００４０】水性塩溶液は電気分解セル１のワーキング
（陰極）チャンバー２の中に大気圧より高い圧力下で運
び入れられ、そして図１の態様に関して説明した通りに
電気分解される。補助チャンバー３の上部由来のアルカ
リ溶液排出物を気体／液体分離体１１に通し、そこで気
体の補助チャンバー３内で遊離し、例えば水素は大気圧
又は貯蔵槽へと追い出せる。補助チャンバー３由来の排
出物の液体部を次に気体／液体分離体１１からタンク１
２へと運ぶか、又は補助チャンバー３に再循環させてよ
い。
（陰極）チャンバー２の中に大気圧より高い圧力下で運
び入れられ、そして図１の態様に関して説明した通りに
電気分解される。補助チャンバー３の上部由来のアルカ
リ溶液排出物を気体／液体分離体１１に通し、そこで気
体の補助チャンバー３内で遊離し、例えば水素は大気圧
又は貯蔵槽へと追い出せる。補助チャンバー３由来の排
出物の液体部を次に気体／液体分離体１１からタンク１
２へと運ぶか、又は補助チャンバー３に再循環させてよ
い。
【００４１】ワーキングチャンバー２内の電気分解気性
生成物（主として塩素及び酸素、しかしながらとりわけ
若干のオゾン及び二酸化塩素も含む）及び蒸気状の若干
の液体を含んで成るワーキングチャンバー２の排出物を
ワーキングチャンバー２の上部から取り出し、そして気
体−液体分離体１３へと運ぶ。液相をワーキングチャン
バー２に再循環し、そして気相を、ワーキングチャンバ
ー２内の圧力を保つのに役立つ圧力減少器７を介して、
気相の少なくとも一部を供給水１５の中に溶解するベン
チュリ１４へと運ぶ。次いでベンチュリ１４の排出物を
タンク１６へと運ぶ。タンク１６内の溶液は再循環ポン
プ１７によりベンチュリ１４を介して再循環してよい。
生成物（主として塩素及び酸素、しかしながらとりわけ
若干のオゾン及び二酸化塩素も含む）及び蒸気状の若干
の液体を含んで成るワーキングチャンバー２の排出物を
ワーキングチャンバー２の上部から取り出し、そして気
体−液体分離体１３へと運ぶ。液相をワーキングチャン
バー２に再循環し、そして気相を、ワーキングチャンバ
ー２内の圧力を保つのに役立つ圧力減少器７を介して、
気相の少なくとも一部を供給水１５の中に溶解するベン
チュリ１４へと運ぶ。次いでベンチュリ１４の排出物を
タンク１６へと運ぶ。タンク１６内の溶液は再循環ポン
プ１７によりベンチュリ１４を介して再循環してよい。
【００４２】気性塩素の溶解度が著しく低下するレベル
に至るまで溶液のpHが低下するのを防ぐため、タンク１
２内の所定量のアルカリ溶液をポンプ１８を介して加え
てよい。タンク１６内の溶液のpHは理想的には５．０〜
９．０の範囲内に保つ。遊離塩素溶液の腐蝕活性を低レ
ベルに保つことが必要なときは７．０〜９．０の範囲が
好ましい。水の中の気性塩素の溶解度が２０℃で７．３
gdm-3のとき、酸化特性をもち、且つＧＢ ２，２５
３，８６０号の方法により達成し得るものよりも１０倍
高い遊離塩素濃度をもつ滅菌用溶液を製造することが可
能である。
に至るまで溶液のpHが低下するのを防ぐため、タンク１
２内の所定量のアルカリ溶液をポンプ１８を介して加え
てよい。タンク１６内の溶液のpHは理想的には５．０〜
９．０の範囲内に保つ。遊離塩素溶液の腐蝕活性を低レ
ベルに保つことが必要なときは７．０〜９．０の範囲が
好ましい。水の中の気性塩素の溶解度が２０℃で７．３
gdm-3のとき、酸化特性をもち、且つＧＢ ２，２５
３，８６０号の方法により達成し得るものよりも１０倍
高い遊離塩素濃度をもつ滅菌用溶液を製造することが可
能である。
【００４３】補助チャンバー３は導管１０を介して排水
し得、そして洗剤／酸溶液を導管１９を介して補助チャ
ンバー３の中に運び入れて陽極上の硬質塩を除去してよ
い。更に、補助チャンバー３によりアルカリ溶液を希釈
するため、更には過熱した場合に電気分解セル１を冷却
するために導管１９を介して補助チャンバー３内に水を
導入してよい。
し得、そして洗剤／酸溶液を導管１９を介して補助チャ
ンバー３の中に運び入れて陽極上の硬質塩を除去してよ
い。更に、補助チャンバー３によりアルカリ溶液を希釈
するため、更には過熱した場合に電気分解セル１を冷却
するために導管１９を介して補助チャンバー３内に水を
導入してよい。
【００４４】本発明の態様の利用の特異的な例をこれよ
り示し、その結果をＧＢ ２，２５３，８６０号に開示
のシステムにより達成されたものと比較する。
り示し、その結果をＧＢ ２，２５３，８６０号に開示
のシステムにより達成されたものと比較する。
【００４５】電気分解セル１を、チタンより成り、そし
てその内面に酸化ルテニウムのコーティングされた外部
シリンダー陰極と、チタンより成る内部棒状陽極とより
成形した。陰極と陽極とは同軸状で配置されている。陰
極と陽極との間に厚さ１mm及び７０cm2 の有効濾過表面
を有する酸化ジルコニウム製の浸透セラミックシリンダ
ーを配置した。水性塩溶液の電気分解処理の結果を表１
に示す。
てその内面に酸化ルテニウムのコーティングされた外部
シリンダー陰極と、チタンより成る内部棒状陽極とより
成形した。陰極と陽極とは同軸状で配置されている。陰
極と陽極との間に厚さ１mm及び７０cm2 の有効濾過表面
を有する酸化ジルコニウム製の浸透セラミックシリンダ
ーを配置した。水性塩溶液の電気分解処理の結果を表１
に示す。
【００４６】 表 １ 本発明 従来技術 （GB 2,253,860号） 初期水性塩（NaCl) 溶液の濃度／(gdm-3) 300 3 ワーキングチャンバー内の水流速 0.1 18 ／(dm3／時間) セルに適用される電位差／Ｖ 4.0 18.0 セルに供給される電流（Ａ） 15.0 15.0 ワーキングチャンバー内の比電気消費量 500,000 3,000 ／ Cdm-3 酸化特性を付与した溶液内の遊離塩素濃度 1.5 0.4 ／ gdm-3 酸化特性をもつ水の流速 18 18 遊離塩素生産率（ｇ／時間） 27 7.2 遊離塩素に至る塩化ナトリウムの転換率 0.90 0.12 （ｇ〔 ClO- 〕／ｇ〔NaCl〕） 電気分解セルの電力消費／（Ｗ／時間） 0.06 0.27 比電力消費（１kgの遊離塩素を発生する 3.3 37.5 のに必要）
【００４７】本発明のこの態様は従来技術に勝る以下の
利点を有する： ｉ）１８０分の１の水がワーキングチャンバーを通過
し、これは陽極上での炭酸塩の付着を大いに低める。 ii）滅菌用溶液内で生成される遊離塩素の量及び有効濃
度は３．７５倍高い。 iii) 遊離塩素に至る塩化ナトリウムの転換率は７．５
倍高い。 iv）電気分解セル内で利用される電力は４．５分の１で
ある。 ｖ）１kgの遊離塩素を発生するのに必要な電力は１１．
４分の１である。
利点を有する： ｉ）１８０分の１の水がワーキングチャンバーを通過
し、これは陽極上での炭酸塩の付着を大いに低める。 ii）滅菌用溶液内で生成される遊離塩素の量及び有効濃
度は３．７５倍高い。 iii) 遊離塩素に至る塩化ナトリウムの転換率は７．５
倍高い。 iv）電気分解セル内で利用される電力は４．５分の１で
ある。 ｖ）１kgの遊離塩素を発生するのに必要な電力は１１．
４分の１である。
【図１】本発明の第一態様の詳細図。
【図２】本発明の第二態様の詳細図。
１…電気分解セル ２，３…補助チャンバー ４…陰極 ５…陽極 ６…浸透膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５６０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５６０Ｆ 1/76 1/76 Ａ (71)出願人 597081075 イアン ウッドコック イギリス国，バークシャー アールジー17 ０アールビー，ハンガーフォード，スタ ンデン マナー エステイト，ジオールド ファームハウス (71)出願人 597081086 ノウザー ジェイラニシビリ ロシア国，モスクワ 117071，レニンスキ ー プロスペクト 18，21 (71)出願人 597081097 セルゲイ ボーティン ロシア国，モスクワ，リボコレニー ペレ ウロク 11／13，18 (71)出願人 597081101 マリナ カーク イギリス国，ハンプシャー ジーユー11 ３ジェイワイ，アルダーショット，カンブ リッジ ロード 44 (71)出願人 597081112 アレクセイ ジュリエビッチ ポポブ ロシア国，モスクワ 117149，ソロビニ プロエツド ２，53 (72)発明者 ジュリアン ブライソン イギリス国，ウィルトシャー エスエヌ11 ０エルゼット，カルネ，ボウッド ハウ ス，ザ ステイブル フラット (72)発明者 ジェームス スピッカーネル イギリス国，ロンドン ダブリュ６ ９イ ーエックス，スケルウィズ ロード １ (72)発明者 イアン ウッドコック イギリス国，バークシャー アールジー17 ０アールビー，ハンガーフォード，スタ ンデン マナー エステイト，ジ オール ド ファームハウス (72)発明者 ノウザー ジェイラニシビリ ロシア国，モスクワ 117071，レニンスキ ー プロスペクト 18，21 (72)発明者 セルゲイ ボーティン ロシア国，モスクワ，リボコレニー ペレ ウロク 11／13，18 (72)発明者 マリナ カーク イギリス国，ハンプシャー ジーユー11 ３ジェイワイ，アルダーショット，カンブ リッジ ロード 44 (72)発明者 アレクセイ ジュリエビッチ ポポブ ロシア国，モスクワ 117149，ソロビニ プロエツド ２，53
Claims (18)
- 【請求項１】 電気分解セル中の水性塩溶液を処理する
方法であって、ここで当該セルは浸透膜により分けられ
ているワーキングチャンバー及び補助チャンバーを含ん
で成り、一方のチャンバーは陰極を、そして他方は陽極
を含むものであり、ここで ｉ）水性塩溶液を大気圧より高い圧力でワーキングチャ
ンバーに供給する； ii）この溶液を加圧のもとで前記浸透膜を通じて前記補
助チャンバーへと濾過する； iii) 前記水性塩溶液の電気分解を引き起こすように陽
極と陰極との内で前記水性塩溶液と浸透膜とにわたり電
流を適用する；そして iv）この溶液を実質的に全て前記補助チャンバーから出
す；ことを含んで成る方法。 - 【請求項２】 前記ワーキングチャンバーが陰極を含
み、そして前記補助チャンバーが陽極を含む、請求項１
記載の方法。 - 【請求項３】 前記水性塩溶液が水と、塩化ナトリウ
ム、塩化カリウム及び塩化リチウムを含んで成る群から
選ばれる少なくとも一種の塩とより成る、請求項１又は
２記載の方法。 - 【請求項４】 前記水性塩溶液中の塩の濃度が５〜３５
重量％である、先の請求項のいづれか１項記載の方法。 - 【請求項５】 前記水性塩溶液中の塩の濃度が５０〜３
５０ gdm-3の域にある、請求項１〜３のいづれか１項記
載の方法。 - 【請求項６】 前記水性塩溶液が飽和溶液である、請求
項１〜３のいづれか１項記載の方法。 - 【請求項７】 前記水性塩溶液を、前記浸透膜にわたっ
て０．２〜１．５bar の圧力低下が起こるような圧力で
供給する、先の請求項のいづれか１項記載の方法。 - 【請求項８】 前記水性塩溶液に供給する電気が３０，
０００〜１，０００，０００ Cdm-3の域にある、先の請
求項のいづれか１項記載の方法。 - 【請求項９】 前記ワーキングチャンバーの中の陰極に
より発生する気体を前記ワーキングチャンバーから採取
し、そして供給水に溶かして酸化特性をもつ溶液を作り
上げる、請求項２〜８のいづれか１項記載の方法。 - 【請求項１０】 前記供給水及び／又は酸化特性をもつ
溶液を滅菌用溶液が形成されるように所定の比率で前記
補助チャンバーから出た溶液と混合する、請求項９記載
の方法。 - 【請求項１１】 電流が前記セルの中の溶液の温度を、
前記セルに最初に供給される溶液の温度よりも少なくと
も１０℃高く上昇させる、先の請求項のいづれか１項記
載の方法。 - 【請求項１２】 水性塩溶液の電気分解処理のための装
置であって、浸透膜により分けられているワーキングチ
ャンバー及び補助チャンバーを有する電気分解セルを含
んで成り、ここで一方のチャンバーは陰極を含み、そし
て他方は陽極を含むものであり、ここで使用時に： ｉ）水性塩溶液を大気圧より高い圧力においてワーキン
グチャンバーに供給し； ii）前記溶液を浸透膜を通じて加圧のもとで前記補助チ
ャンバーに濾過し； iii) 電流を前記陽極と陰極との間で前記水性塩溶液及
び前記浸透膜にわたり適用して水性塩溶液を電気分解さ
せ；そして iv）前記溶液を前記補助チャンバーから実質的に全て出
す；ものである装置。 - 【請求項１３】 前記ワーキングチャンバーが陰極を含
み、そして前記補助チャンバーが陽極を含む、請求項１
２記載の装置。 - 【請求項１４】 前記浸透膜がセラミック材料より成
る、請求項１２又は１３記載の装置。 - 【請求項１５】 前記浸透膜が酸化ジルコニウムより成
る、請求項１２，１３又は１４記載の装置。 - 【請求項１６】 気体／液体分離体が前記セルのワーキ
ングチャンバーの出口に接続されている、請求項１２〜
１５のいづれか１項記載の装置。 - 【請求項１７】 気体／液体分離体が前記セルの補助チ
ャンバーの出口に接続されている、請求項１２〜１６の
いづれか１項記載の装置。 - 【請求項１８】 請求項１０記載の方法により製造され
た滅菌用溶液。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9622111:4 | 1996-10-23 | ||
| GB9622111A GB2316091B (en) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | Electrolytic treatment of aqueous salt solutions |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10118655A true JPH10118655A (ja) | 1998-05-12 |
Family
ID=10801875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9151286A Pending JPH10118655A (ja) | 1996-10-23 | 1997-06-09 | 水性塩溶液の電気処理 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5938916A (ja) |
| EP (1) | EP0838434A3 (ja) |
| JP (1) | JPH10118655A (ja) |
| GB (1) | GB2316091B (ja) |
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| JP5140218B2 (ja) | 2001-09-14 | 2013-02-06 | 有限会社コヒーレントテクノロジー | 表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽及びその製造法、並びに使用方法 |
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| BRPI0609711B8 (pt) | 2005-03-23 | 2021-05-25 | Oculus Innovative Sciences Inc | uso de uma solução aquosa com potencial redutivo oxidativo (orp) |
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- 1997-06-05 EP EP97303891A patent/EP0838434A3/en not_active Ceased
- 1997-06-05 US US08/869,710 patent/US5938916A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-09 JP JP9151286A patent/JPH10118655A/ja active Pending
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