JPH10120604A - ヒドロクロロフルオロエタンの精製方法 - Google Patents
ヒドロクロロフルオロエタンの精製方法Info
- Publication number
- JPH10120604A JPH10120604A JP9285507A JP28550797A JPH10120604A JP H10120604 A JPH10120604 A JP H10120604A JP 9285507 A JP9285507 A JP 9285507A JP 28550797 A JP28550797 A JP 28550797A JP H10120604 A JPH10120604 A JP H10120604A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrochlorofluoroethane
- chlorine
- component
- impurities
- olefin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims description 11
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims abstract description 39
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 28
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 21
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims abstract description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 11
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 11
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical group ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 4
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical group FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 2-Chloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)CCl CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- -1 antimony halide Chemical class 0.000 description 9
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 8
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 7
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 7
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 6
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical class CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- JNUZADQZHYFJGW-JOCHJYFZSA-N (2R)-N-[3-[5-fluoro-2-(2-fluoro-3-methylsulfonylanilino)pyrimidin-4-yl]-1H-indol-7-yl]-3-methoxy-2-(4-methylpiperazin-1-yl)propanamide Chemical compound FC=1C(=NC(=NC=1)NC1=C(C(=CC=C1)S(=O)(=O)C)F)C1=CNC2=C(C=CC=C12)NC([C@@H](COC)N1CCN(CC1)C)=O JNUZADQZHYFJGW-JOCHJYFZSA-N 0.000 description 1
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoroethane Chemical compound CC(F)(F)F UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQAMAOOEZDRHHB-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trichloro-1,1-difluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(Cl)Cl FQAMAOOEZDRHHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)F BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Cl OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001669134 Heraeus Species 0.000 description 1
- PIWKPBJCKXDKJR-UHFFFAOYSA-N Isoflurane Chemical compound FC(F)OC(Cl)C(F)(F)F PIWKPBJCKXDKJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003444 anaesthetic effect Effects 0.000 description 1
- 229940035674 anesthetics Drugs 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229960003537 desflurane Drugs 0.000 description 1
- DPYMFVXJLLWWEU-UHFFFAOYSA-N desflurane Chemical compound FC(F)OC(F)C(F)(F)F DPYMFVXJLLWWEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003193 general anesthetic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229960003132 halothane Drugs 0.000 description 1
- BCQZXOMGPXTTIC-UHFFFAOYSA-N halothane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Br BCQZXOMGPXTTIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000005828 hydrofluoroalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002725 isoflurane Drugs 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002572 peristaltic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003822 preparative gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical class [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C17/395—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification of at least one compound
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S210/00—Liquid purification or separation
- Y10S210/902—Materials removed
- Y10S210/915—Fluorine containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 式CF3−CHClX(X=H、FまたはC
l)のヒドロクロロフルオロエタンからオレフィン不純
物を除去する。 【解決手段】 ヒドロクロロフルオロエタンを光塩素化
段階に付す。
l)のヒドロクロロフルオロエタンからオレフィン不純
物を除去する。 【解決手段】 ヒドロクロロフルオロエタンを光塩素化
段階に付す。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は一般に用語HCFC
下で言及されるヒドロクロロフルオロアルカンの分野に
関し、そしてその主題は一層特には、式CF3−CHC
lXのヒドロクロロフルオロエタンの精製であり、しか
してXは水素、フッ素または塩素原子を表す。
下で言及されるヒドロクロロフルオロアルカンの分野に
関し、そしてその主題は一層特には、式CF3−CHC
lXのヒドロクロロフルオロエタンの精製であり、しか
してXは水素、フッ素または塩素原子を表す。
【0002】
【従来の技術】商業下でそれぞれF133a、F123
およびF124の呼称で知られている、1−クロロ−
2,2,2−トリフルオロエタン、1,1−ジクロロ−
2,2,2−トリフルオロエタンおよび1−クロロ−
1,2,2,2−テトラフルオロエタンは、トリクロロ
エチレンもしくはペルクロロエチレンのような塩素化オ
レフィンまたは1,1,2−トリクロロ−2,2−ジフ
ルオロエタン(F122)のようなフッ素化中間体の接
触フッ素化により工業的に得られ、しかしてこの操作は
気相または液相のいずれかにて行われることが可能であ
る。
およびF124の呼称で知られている、1−クロロ−
2,2,2−トリフルオロエタン、1,1−ジクロロ−
2,2,2−トリフルオロエタンおよび1−クロロ−
1,2,2,2−テトラフルオロエタンは、トリクロロ
エチレンもしくはペルクロロエチレンのような塩素化オ
レフィンまたは1,1,2−トリクロロ−2,2−ジフ
ルオロエタン(F122)のようなフッ素化中間体の接
触フッ素化により工業的に得られ、しかしてこの操作は
気相または液相のいずれかにて行われることが可能であ
る。
【0003】液相において、反応は、一般に、ハロゲン
化アンチモンで触媒される(例えば、F133aに関す
る欧州特許462,514および547,930を参
照。)。数多くの触媒が気相フッ素化について提案され
ており、しかしてそれらは特に、バルク状にあるか、ま
たは好ましくはアルミナもしくはフッ素化アルミナのよ
うな支持体上にデポジットしているZn、Ni、Mn、
Mg、Fe、CoもしくはCrの酸化物もしくはハロゲ
ン化物である(F133aの場合の特許EP583,7
03、US5,026,930およびWO92/164
80、並びにF123の場合の特許FR1,315,3
51またはJP2157235)。
化アンチモンで触媒される(例えば、F133aに関す
る欧州特許462,514および547,930を参
照。)。数多くの触媒が気相フッ素化について提案され
ており、しかしてそれらは特に、バルク状にあるか、ま
たは好ましくはアルミナもしくはフッ素化アルミナのよ
うな支持体上にデポジットしているZn、Ni、Mn、
Mg、Fe、CoもしくはCrの酸化物もしくはハロゲ
ン化物である(F133aの場合の特許EP583,7
03、US5,026,930およびWO92/164
80、並びにF123の場合の特許FR1,315,3
51またはJP2157235)。
【0004】これらのフッ素化の選択性は一般に良好で
あるけれども、得られる生成物はそれでも多種の不純
物、特に多かれ少なかれフッ素化された化合物(CF2
ClCH2Cl、CFCl2CH2Cl、CF3CH2F、
CF3CHCl2、CF3CH3)、CF2=CHCl、C
F2=CFCl、CF2=CCl2およびCFCl=CC
l2のようなC2オレフィン、およびCF3CH=CHC
F3、CF3CH=CFCF3、CF3CH=CClCF3
およびCF3CF=CClCF3のようなC4オレフィン
の不純物を伴う。
あるけれども、得られる生成物はそれでも多種の不純
物、特に多かれ少なかれフッ素化された化合物(CF2
ClCH2Cl、CFCl2CH2Cl、CF3CH2F、
CF3CHCl2、CF3CH3)、CF2=CHCl、C
F2=CFCl、CF2=CCl2およびCFCl=CC
l2のようなC2オレフィン、およびCF3CH=CHC
F3、CF3CH=CFCF3、CF3CH=CClCF3
およびCF3CF=CClCF3のようなC4オレフィン
の不純物を伴う。
【0005】これらの不純物は気相法において比較的多
量に得られ、特に触媒活性を安定化させるために酸素の
存在下で行われる場合そうである(特許EP583,7
03)。かくして、次の条件、即ち 温度 :350℃ 圧力 :15バール 接触時間 :14秒 HF/TCEのモル比 :10 O2/TCEのモル比 :0.06 にてバルク状酸化クロムでのトリクロロエチレン(TC
E)のフッ素化中、おおよそ3%のC4オレフィン生成
物(本質的に、CF3CH=CHCF3)を含有するF1
33aが得られた。
量に得られ、特に触媒活性を安定化させるために酸素の
存在下で行われる場合そうである(特許EP583,7
03)。かくして、次の条件、即ち 温度 :350℃ 圧力 :15バール 接触時間 :14秒 HF/TCEのモル比 :10 O2/TCEのモル比 :0.06 にてバルク状酸化クロムでのトリクロロエチレン(TC
E)のフッ素化中、おおよそ3%のC4オレフィン生成
物(本質的に、CF3CH=CHCF3)を含有するF1
33aが得られた。
【0006】これらのC4不純物は除去するのが特に困
難であり、何故ならそれらは求める生成物、特にF13
3aまたはF123の揮発度に非常に接近した揮発度を
有するからであり、またそれらのいくつかは特に毒性で
ある。
難であり、何故ならそれらは求める生成物、特にF13
3aまたはF123の揮発度に非常に接近した揮発度を
有するからであり、またそれらのいくつかは特に毒性で
ある。
【0007】F123は、冷凍工業(refrigeration in
dustry)において、特に空調プラントにおいて用いられ
る。それはまた、合成中間体として用いられる。
dustry)において、特に空調プラントにおいて用いられ
る。それはまた、合成中間体として用いられる。
【0008】F133aは、麻酔剤であるハロタンCF
3CHBrClの製造のための中間体製品として、また
はイソフルラン(CF3CHClOCHF2)およびデス
フルラン(CF3CHFOCHF2)のような他の麻酔剤
の製造のためにそれ自体必須的に用いられるトリフルオ
ロエタノールCF3CH2OHの製造のための中間体製品
として工業的に用いられる。これらの製品について要求
される純度の標準規格は、できる限り純粋でありそして
毒性不純物を生じることの可能な生成物を特に含有しな
いF133aを用いることが有利であるようなものであ
る。
3CHBrClの製造のための中間体製品として、また
はイソフルラン(CF3CHClOCHF2)およびデス
フルラン(CF3CHFOCHF2)のような他の麻酔剤
の製造のためにそれ自体必須的に用いられるトリフルオ
ロエタノールCF3CH2OHの製造のための中間体製品
として工業的に用いられる。これらの製品について要求
される純度の標準規格は、できる限り純粋でありそして
毒性不純物を生じることの可能な生成物を特に含有しな
いF133aを用いることが有利であるようなものであ
る。
【0009】F133aの別の必須的適用は、現今で
は、成層圏のオゾン層に対する影響の故クロロフルオロ
アルカンに取って代わったヒドロフルオロアルカンの一
つである1,1,1,2−テトラフルオロエタン(F1
34a)の工業的製造である。
は、成層圏のオゾン層に対する影響の故クロロフルオロ
アルカンに取って代わったヒドロフルオロアルカンの一
つである1,1,1,2−テトラフルオロエタン(F1
34a)の工業的製造である。
【0010】F134aへのF133aのフッ素化は、
一般に、過剰のHFの存在下で350〜400℃の程度
の温度において気相にて行われる。
一般に、過剰のHFの存在下で350〜400℃の程度
の温度において気相にて行われる。
【0011】F134aへのF133aのこのフッ素化
中に形成される多種のオレフィン不純物は、F133a
の製造中形成され、この第2のフッ素化のために原料と
して用いられるF133a中に前在するものと同じもの
である。
中に形成される多種のオレフィン不純物は、F133a
の製造中形成され、この第2のフッ素化のために原料と
して用いられるF133a中に前在するものと同じもの
である。
【0012】F123の精製、特にそのオレフィン不純
物の除去は、アルカリ金属過マンガン酸塩のような酸化
剤を用いて(特許EP357,328)、または金属酸
化物上に好ましくは90℃と130℃の間の温度にて通
すことにより(特許EP370,688)、または水素
化物および/または強塩基を用いた処理により(特許E
P493,760)行われている。
物の除去は、アルカリ金属過マンガン酸塩のような酸化
剤を用いて(特許EP357,328)、または金属酸
化物上に好ましくは90℃と130℃の間の温度にて通
すことにより(特許EP370,688)、または水素
化物および/または強塩基を用いた処理により(特許E
P493,760)行われている。
【0013】他のヒドロクロロフルオロカーボンと同様
に、F123およびF124もまた、特許出願WO93
/14052に指摘されているような接触水素化によ
り、それらのオレフィン不純物が除去され得る。
に、F123およびF124もまた、特許出願WO93
/14052に指摘されているような接触水素化によ
り、それらのオレフィン不純物が除去され得る。
【0014】我々の知るところでは、F133aの特定
的精製、特にF133a中に存在するオレフィンの除去
のための方法を記載する文書は存在しない。
的精製、特にF133a中に存在するオレフィンの除去
のための方法を記載する文書は存在しない。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、それ故、オ
レフィン生成物、特にC4F7H、C4F6H2、C4F6H
ClおよびC4F6Cl2のようなC4オレフィン(それら
のいくつかは、精製されるべき生成物から蒸留により分
離するのが非常に困難である。)を除去するために、ヒ
ドロクロロフルオロエタン、特にF133aを精製する
方法を目的とする。
レフィン生成物、特にC4F7H、C4F6H2、C4F6H
ClおよびC4F6Cl2のようなC4オレフィン(それら
のいくつかは、精製されるべき生成物から蒸留により分
離するのが非常に困難である。)を除去するために、ヒ
ドロクロロフルオロエタン、特にF133aを精製する
方法を目的とする。
【0016】更に、F133aは容易に塩素化されてF
123およびF113a(CF3CCl3)を生じ得る、
ということが知られている。かかる塩素化は、触媒の存
在下でまたは不存在下で熱的開始を用いて(特許EP5
26,908およびUS4,145,368)並びに光
化学的開始を用いて(特許US4,060,469およ
びEP407,989)行われ得る。気相にて(特許U
S4,060,469)および液相にて(特許EP40
7,989)同等に良好に行われ得るこれらの光化学的
塩素化は非常に容易であるので、それらはF123の製
造のための種々の方法の基礎を成す。
123およびF113a(CF3CCl3)を生じ得る、
ということが知られている。かかる塩素化は、触媒の存
在下でまたは不存在下で熱的開始を用いて(特許EP5
26,908およびUS4,145,368)並びに光
化学的開始を用いて(特許US4,060,469およ
びEP407,989)行われ得る。気相にて(特許U
S4,060,469)および液相にて(特許EP40
7,989)同等に良好に行われ得るこれらの光化学的
塩素化は非常に容易であるので、それらはF123の製
造のための種々の方法の基礎を成す。
【0017】
【課題を解決するための手段】光塩素化に関してF13
3aおよびヒドロクロロフルオロエタンの高反応性にも
かかわらず、塩素の適度の量の使用により、オレフィン
不純物の塩素化を非常に選択的に行うことが可能とな
る、即ちF133aまたは精製されるべき生成物を不許
容な具合に塩素化することなく行い得る、ということが
今般見出された。かくして、光塩素化により、Xが水
素、フッ素または塩素原子を表す式CF3−CHClX
のヒドロクロロフルオロエタンからオレフィン不純物
(特に、C4オレフィン不純物)を除去することが可能
である。
3aおよびヒドロクロロフルオロエタンの高反応性にも
かかわらず、塩素の適度の量の使用により、オレフィン
不純物の塩素化を非常に選択的に行うことが可能とな
る、即ちF133aまたは精製されるべき生成物を不許
容な具合に塩素化することなく行い得る、ということが
今般見出された。かくして、光塩素化により、Xが水
素、フッ素または塩素原子を表す式CF3−CHClX
のヒドロクロロフルオロエタンからオレフィン不純物
(特に、C4オレフィン不純物)を除去することが可能
である。
【0018】それ故、本発明の主題は、オレフィン不純
物を含有するかかるヒドロクロロフルオロエタンの精製
方法において、該ヒドロクロロフルオロエタンを塩素の
存在下で320nmと500nmの間の波長のUV線ま
たは可視光線での照射に付すことからなる段階を含むこ
とを特徴とする上記方法である。
物を含有するかかるヒドロクロロフルオロエタンの精製
方法において、該ヒドロクロロフルオロエタンを塩素の
存在下で320nmと500nmの間の波長のUV線ま
たは可視光線での照射に付すことからなる段階を含むこ
とを特徴とする上記方法である。
【0019】不所望のオレフィン不純物を完全にすべて
除去することができるようにするために、0.75と2
0の間、好ましくは0.9と1.5の間の塩素/オレフ
ィン不純物のモル比が用いられる。この比率の最適値
は、オレフィンの初期濃度および所望精製度に依存す
る。
除去することができるようにするために、0.75と2
0の間、好ましくは0.9と1.5の間の塩素/オレフ
ィン不純物のモル比が用いられる。この比率の最適値
は、オレフィンの初期濃度および所望精製度に依存す
る。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明による光化学的塩素化は、
気相にてまたは液相にて行われ得る。“液相”は、ここ
において、自生圧(autogenous pressure)下での液体、
または例えば四塩化炭素もしくはトリフルオロトリクロ
ロエタンのような用いられる輻射線に透明でかつ塩素化
に不活性な溶媒中の溶液のいずれかを意味するよう意図
されている。
気相にてまたは液相にて行われ得る。“液相”は、ここ
において、自生圧(autogenous pressure)下での液体、
または例えば四塩化炭素もしくはトリフルオロトリクロ
ロエタンのような用いられる輻射線に透明でかつ塩素化
に不活性な溶媒中の溶液のいずれかを意味するよう意図
されている。
【0021】F133a(6.1℃)、F123(27
℃)およびF124(−12℃)の沸点のため、光塩素
化は、精製されるべき粗製ヒドロクロロフルオロエタン
をそれが液体状態に保たれるのに十分に冷却することに
より、大気圧において液相にて行われ得る。しかしなが
ら、過度の冷却をすることなく周囲温度にて塩素化を遂
行することができるように、および揮発による生成物の
損失を避けることができるように、わずかに加圧して操
作することが好ましい。液相での塩素化のこれらの条件
において、温度は非常に広範な範囲内で、例えば−35
℃から用いられる圧力における精製されるべき生成物の
沸騰温度まで変えられ得るが、しかし冷却または加熱の
ために必要とされるエネルギーの出費を最小にするよう
に、および生成物を比較的わずかに上げられた圧力(5
バールより低く)に保つことができるよう、10℃と5
0℃の間の温度にて実施することが一般に好ましい。
℃)およびF124(−12℃)の沸点のため、光塩素
化は、精製されるべき粗製ヒドロクロロフルオロエタン
をそれが液体状態に保たれるのに十分に冷却することに
より、大気圧において液相にて行われ得る。しかしなが
ら、過度の冷却をすることなく周囲温度にて塩素化を遂
行することができるように、および揮発による生成物の
損失を避けることができるように、わずかに加圧して操
作することが好ましい。液相での塩素化のこれらの条件
において、温度は非常に広範な範囲内で、例えば−35
℃から用いられる圧力における精製されるべき生成物の
沸騰温度まで変えられ得るが、しかし冷却または加熱の
ために必要とされるエネルギーの出費を最小にするよう
に、および生成物を比較的わずかに上げられた圧力(5
バールより低く)に保つことができるよう、10℃と5
0℃の間の温度にて実施することが一般に好ましい。
【0022】塩素化はまた−12〜100℃の程度の温
度において気相にて行われ得るが、しかしこの場合もま
た温度は好ましくは10℃と50℃の間に保つ。これら
の条件において、反応は、好ましくは、大気圧にてまた
は大気圧をごくわずかに越える圧力にて行われる。
度において気相にて行われ得るが、しかしこの場合もま
た温度は好ましくは10℃と50℃の間に保つ。これら
の条件において、反応は、好ましくは、大気圧にてまた
は大気圧をごくわずかに越える圧力にて行われる。
【0023】塩素化反応を触媒するのに要求される光エ
ネルギーは、一般に、光塩素化反応器中の物質の滞留時
間に逆比例する。それは、オレフィンおよび塩素のそれ
ぞれの濃度に依り、5kJ/h/lと1000kJ/h
/lの間、好ましくは50kJ/h/lと500kJ/
h/lの間にあり得る。
ネルギーは、一般に、光塩素化反応器中の物質の滞留時
間に逆比例する。それは、オレフィンおよび塩素のそれ
ぞれの濃度に依り、5kJ/h/lと1000kJ/h
/lの間、好ましくは50kJ/h/lと500kJ/
h/lの間にあり得る。
【0024】本発明による光塩素化法により精製される
べき粗製ヒドロクロロフルオロエタンは、可変量のオレ
フィン化合物を含有し得る。これらの化合物の量および
性質は、本質的には、該ヒドロクロロフルオロエタンが
得られた条件並びに光塩素化段階の前に粗製生成物につ
いて行われた種々の処理(例えば、蒸留)に左右され
る。F133aまたはF123中に存在し得、且つ本発
明による方法により除去され得る主要なC4不純物は、
(いかなる限定も含蓄されることなく) CF3CH
=CHCF3、CF3CCl=CHCF3およびCF3CF
=CHCF3のようなフッ素化ブテンである。該方法は
また、CF2=CFCl、CF2=CCl2、CCl2=C
FCl、F1122(CHCl=CF2)および部分的
にフッ素化されたプロペン(CF3CH=CH2、CF3
CF=CH2、CF3CH=CHF、CF3CF=CHF
およびCF3CH=CF2)のような他のオレフィンを除
去することを可能にする。上記に述べたように、C4オ
レフィンの除去は、それらの物理的および化学的性質の
ためにC4オレフィンが他の精製技法によりF133a
からまたはF123から分離するのが困難であるので特
に重要である。F124の場合、不純物は、F1122
および上記に挙げた部分的にフッ素化されたプロペンの
ようなC2またはC3オレフィンである傾向にある。
べき粗製ヒドロクロロフルオロエタンは、可変量のオレ
フィン化合物を含有し得る。これらの化合物の量および
性質は、本質的には、該ヒドロクロロフルオロエタンが
得られた条件並びに光塩素化段階の前に粗製生成物につ
いて行われた種々の処理(例えば、蒸留)に左右され
る。F133aまたはF123中に存在し得、且つ本発
明による方法により除去され得る主要なC4不純物は、
(いかなる限定も含蓄されることなく) CF3CH
=CHCF3、CF3CCl=CHCF3およびCF3CF
=CHCF3のようなフッ素化ブテンである。該方法は
また、CF2=CFCl、CF2=CCl2、CCl2=C
FCl、F1122(CHCl=CF2)および部分的
にフッ素化されたプロペン(CF3CH=CH2、CF3
CF=CH2、CF3CH=CHF、CF3CF=CHF
およびCF3CH=CF2)のような他のオレフィンを除
去することを可能にする。上記に述べたように、C4オ
レフィンの除去は、それらの物理的および化学的性質の
ためにC4オレフィンが他の精製技法によりF133a
からまたはF123から分離するのが困難であるので特
に重要である。F124の場合、不純物は、F1122
および上記に挙げた部分的にフッ素化されたプロペンの
ようなC2またはC3オレフィンである傾向にある。
【0025】精製されるべき物質は、数十ppmないし
百部当たり数部のC4オレフィン化合物を含有し得る。
本発明の主題である精製方法は、これらのオレフィン並
びにヒドロクロロフルオロエタン中に存在し得る他のオ
レフィンを非常に低い濃度においてさえ、完全に除去す
ることを可能にする。
百部当たり数部のC4オレフィン化合物を含有し得る。
本発明の主題である精製方法は、これらのオレフィン並
びにヒドロクロロフルオロエタン中に存在し得る他のオ
レフィンを非常に低い濃度においてさえ、完全に除去す
ることを可能にする。
【0026】オレフィンの塩素化は、出発物質の沸点よ
りもはるかに高い沸点を有する塩素化合物を生じる。か
くして、 CF2=CHCl(−17.7℃) → CF2ClCH
Cl2(72℃) CF3CH=CClCF3(35℃) → CF3CHC
lCCl2CF3(104℃) CF3CH=CHCF3(8.5℃) → CF3CHC
lCHClCF3(78℃) CF3CH=CFCF3(8℃) → CF3CHClC
FClCF3(67℃ ,計算値) 従って、これらの塩素化合物は、その後、処理されたF
133a、F123またはF124から単に蒸留により
分離され得る。塩素化により得ることができる生成物は
また処理されるべき物質よりも揮発性でないので、光塩
素化およびそれに続く蒸留による精製は、優秀な純度の
F133a、F123またはF124が得られることを
可能にする。
りもはるかに高い沸点を有する塩素化合物を生じる。か
くして、 CF2=CHCl(−17.7℃) → CF2ClCH
Cl2(72℃) CF3CH=CClCF3(35℃) → CF3CHC
lCCl2CF3(104℃) CF3CH=CHCF3(8.5℃) → CF3CHC
lCHClCF3(78℃) CF3CH=CFCF3(8℃) → CF3CHClC
FClCF3(67℃ ,計算値) 従って、これらの塩素化合物は、その後、処理されたF
133a、F123またはF124から単に蒸留により
分離され得る。塩素化により得ることができる生成物は
また処理されるべき物質よりも揮発性でないので、光塩
素化およびそれに続く蒸留による精製は、優秀な純度の
F133a、F123またはF124が得られることを
可能にする。
【0027】
【実施例】次の例は本発明を例示するが、本発明を限定
するものではない。別段記載されていなければ、百万部
当たりの部数(ppm)は重量による。
するものではない。別段記載されていなければ、百万部
当たりの部数(ppm)は重量による。
【0028】実施例1 UV/可視光のエミッターの周りに110mmの高さに
わたって巻かれた12/14mmの管から作られた全長
0.945mのパイレックスガラスコイルから成る光化
学反応器を用いた。
わたって巻かれた12/14mmの管から作られた全長
0.945mのパイレックスガラスコイルから成る光化
学反応器を用いた。
【0029】その全体を、直径250mmの反射壁を有
する円筒状ジャー内に置いた。106mlの総容積を有
する該コイルは、47mmの内径の5.5巻きからなっ
ていた。下流においてそれを10℃の温度に維持された
凝縮器に連結し、そして次いでサンプリング点に連結し
た。上流には、混合室、塩素ガスの入口および処理され
るべき溶液を連続的に送出する蠕動ポンプを設置した。
塩素流量は、溶液の流量およびそのオレフィン濃度に対
して質量流量計を用いて調節した。
する円筒状ジャー内に置いた。106mlの総容積を有
する該コイルは、47mmの内径の5.5巻きからなっ
ていた。下流においてそれを10℃の温度に維持された
凝縮器に連結し、そして次いでサンプリング点に連結し
た。上流には、混合室、塩素ガスの入口および処理され
るべき溶液を連続的に送出する蠕動ポンプを設置した。
塩素流量は、溶液の流量およびそのオレフィン濃度に対
して質量流量計を用いて調節した。
【0030】光源は、320〜500nmの帯域にて1
6ワットの放射電力を送出するヘレウス(Heraeu
s)TQ150高圧水銀ランプから成っていた。該ラン
プは、38mmの外径の同心石英ジャケットにより冷却
された。発光アーク(luminous arc)の長さは41mm
であった。
6ワットの放射電力を送出するヘレウス(Heraeu
s)TQ150高圧水銀ランプから成っていた。該ラン
プは、38mmの外径の同心石英ジャケットにより冷却
された。発光アーク(luminous arc)の長さは41mm
であった。
【0031】該コイルに、重量基準で 90.0%のF133a 9.35%のトランスC4F7H+C4F6H2(80%の
トランスC4F7H) 0.2%のシスC4F7H 0.45%のC4F6HCl を含有する粗製F133aをトリフルオロトリクロロエ
タン(F113)中に25重量%含有する溶液であっ
て、ガス状塩素を3.42l/h(0.15mol/
h)の流量にてバブリングさせて溶解させた該溶液を供
給した。該溶液の流量は530ml/hであり、そして
これらの条件においてCl2/オレフィン(C4F7H、
C4F6H2およびC4F6HCl)のモル比は1に等し
く、塩素濃度は0.28モル/リットルであった。反応
体の流量は、720秒の暴露時間に相当した。
トランスC4F7H) 0.2%のシスC4F7H 0.45%のC4F6HCl を含有する粗製F133aをトリフルオロトリクロロエ
タン(F113)中に25重量%含有する溶液であっ
て、ガス状塩素を3.42l/h(0.15mol/
h)の流量にてバブリングさせて溶解させた該溶液を供
給した。該溶液の流量は530ml/hであり、そして
これらの条件においてCl2/オレフィン(C4F7H、
C4F6H2およびC4F6HCl)のモル比は1に等し
く、塩素濃度は0.28モル/リットルであった。反応
体の流量は、720秒の暴露時間に相当した。
【0032】ランプのスイッチを入れそして全体を運転
条件にした後、2つの3mlのサンプル溶液を光塩素化
装置の入口および出口にて取り、そして蒸気相クロマト
グラフィーにより分析した。それらの2つのクロマトグ
ラムの面積を規格化(normalizing)した後、トランス
C4F7H+C4F6H2群の98.7%およびシスC4F7
Hの99%が除去されていたことが分かり、一方存在す
るF133aはわずかに2.1%が失われた。
条件にした後、2つの3mlのサンプル溶液を光塩素化
装置の入口および出口にて取り、そして蒸気相クロマト
グラフィーにより分析した。それらの2つのクロマトグ
ラムの面積を規格化(normalizing)した後、トランス
C4F7H+C4F6H2群の98.7%およびシスC4F7
Hの99%が除去されていたことが分かり、一方存在す
るF133aはわずかに2.1%が失われた。
【0033】反応器の出口において得られた溶液は、重
量基準で 21.78%のF133a 0.03%のトランスC4F7H+C4F6H2 0.63%のF123 <0.01%のC4F6HCl 2.6%のC4F7HCl2(C4F7Hの塩素化の生成
物,2種の異性体) 0.6%のC4F6H2Cl2(C4F6H2の塩素化の生成
物) 0.15%のC4F6HCl3(C4F6HClの塩素化の
生成物) を含有していた。
量基準で 21.78%のF133a 0.03%のトランスC4F7H+C4F6H2 0.63%のF123 <0.01%のC4F6HCl 2.6%のC4F7HCl2(C4F7Hの塩素化の生成
物,2種の異性体) 0.6%のC4F6H2Cl2(C4F6H2の塩素化の生成
物) 0.15%のC4F6HCl3(C4F6HClの塩素化の
生成物) を含有していた。
【0034】溶媒(F113)および塩素化生成物を除
去するための蒸留後、99.86%のF133aに精製
されたF133a(今やわずか1400ppmのオレフ
ィンを含有する。)が得られた。
去するための蒸留後、99.86%のF133aに精製
されたF133a(今やわずか1400ppmのオレフ
ィンを含有する。)が得られた。
【0035】実施例2 直径12/18mmの肉厚パイレックス管中に6.51
gの純粋なF133aおよび0.487gのオレフィン
C4F7H/C4F6H2(11.2モル%のトランスC4F
7H)の混合物を入れ、そして該混合物に0.24gの
塩素(3.3ミリモル)を添加した。
gの純粋なF133aおよび0.487gのオレフィン
C4F7H/C4F6H2(11.2モル%のトランスC4F
7H)の混合物を入れ、そして該混合物に0.24gの
塩素(3.3ミリモル)を添加した。
【0036】該管を封鎖し、そして6ワットの電力を有
し、365nmに波長の中心を有する輻射線を放射する
長さ210mmおよび直径15.5mmの管型UVラン
プにより放射される光に45分間暴露した。該管の軸線
は、該ランプの軸線に平行にかつ後者から40mm離し
て置かれた。
し、365nmに波長の中心を有する輻射線を放射する
長さ210mmおよび直径15.5mmの管型UVラン
プにより放射される光に45分間暴露した。該管の軸線
は、該ランプの軸線に平行にかつ後者から40mm離し
て置かれた。
【0037】試験後、該管を開放しそして十分な容量の
CCl4中に回収されたその内容物を気相クロマトグラ
フィーにより分析した。オレフィンの99.3%がC4
F6H2Cl2およびC4F7HCl2の形態にて除去され、
一方F133aのわずか0.60%がF123(0.5
4%)およびF113a(0.06%)に転化した、と
いうことが分かった。
CCl4中に回収されたその内容物を気相クロマトグラ
フィーにより分析した。オレフィンの99.3%がC4
F6H2Cl2およびC4F7HCl2の形態にて除去され、
一方F133aのわずか0.60%がF123(0.5
4%)およびF113a(0.06%)に転化した、と
いうことが分かった。
【0038】実施例3 実施例2においてと同じ装置を用い、F133aを30
0ppmのF1122(CF2=CHCl)を含有する
F124のサンプルで置き換えた。
0ppmのF1122(CF2=CHCl)を含有する
F124のサンプルで置き換えた。
【0039】7gのこのサンプルを12mmの内径の肉
厚パイレックス管中に入れ、そして標準温度と圧力の条
件にて測定して0.5mlの塩素ガスを適当な装置を用
いて添加した。
厚パイレックス管中に入れ、そして標準温度と圧力の条
件にて測定して0.5mlの塩素ガスを適当な装置を用
いて添加した。
【0040】該管を次いで封鎖し、そして実施例2にお
いて用いられたランプの輻射線に80分間暴露した。試
験の終わりに該管を開放しそしてその内容物を十分な容
量のトリフルオロトリクロロエタン(F113)中に回
収した後、クロマトグラフィー分析により、精製された
F124中のF1122の濃度が4ppmに落ちていた
こと並びにF124のわずか1.2%が蒸留により容易
に分離できるF122(CF2ClCHCl2)(b.
p.71℃)に塩素化されていたことが示された。
いて用いられたランプの輻射線に80分間暴露した。試
験の終わりに該管を開放しそしてその内容物を十分な容
量のトリフルオロトリクロロエタン(F113)中に回
収した後、クロマトグラフィー分析により、精製された
F124中のF1122の濃度が4ppmに落ちていた
こと並びにF124のわずか1.2%が蒸留により容易
に分離できるF122(CF2ClCHCl2)(b.
p.71℃)に塩素化されていたことが示された。
【0041】実施例4 1.5重量%のオレフィン、トランスC4F7HおよびC
4F6H2を含有する粗製F133aを気相にてサンプリ
ングしそして塩素ガスの流れと混合し、そして次いでパ
イレックスガラスコイル中に導入し、しかして該コイル
は、255mlの総容積を有し、10/12mmの管か
ら作られた110mmの直径の10巻きから成りそして
その軸線上に実施例1において用いられたランプが設置
されていた。
4F6H2を含有する粗製F133aを気相にてサンプリ
ングしそして塩素ガスの流れと混合し、そして次いでパ
イレックスガラスコイル中に導入し、しかして該コイル
は、255mlの総容積を有し、10/12mmの管か
ら作られた110mmの直径の10巻きから成りそして
その軸線上に実施例1において用いられたランプが設置
されていた。
【0042】F133aのガス流量(2l/h)は質量
流量計を用いて調節し、そして10に等しいCl2/オ
レフィンのモル比を得るために必要とされる容量の塩素
を、窒素中25%に希釈してシリンジ駆動タイプの装置
を用いて導入した。
流量計を用いて調節し、そして10に等しいCl2/オ
レフィンのモル比を得るために必要とされる容量の塩素
を、窒素中25%に希釈してシリンジ駆動タイプの装置
を用いて導入した。
【0043】かくして処理されたF133aの蒸気相ク
ロマトグラフィー分析により、オレフィンC4F7Hおよ
びC4F6H2の相対濃度が1.5%から1035ppm
に変化していたことが示された。
ロマトグラフィー分析により、オレフィンC4F7Hおよ
びC4F6H2の相対濃度が1.5%から1035ppm
に変化していたことが示された。
【0044】実施例5 100mlの容積を有する環状反応器を通じて、4重量
%の2種のオレフィンC4F7HおよびC4F6H2および
0.5重量%のC4F6HClを含有する不純なF133
aを循環した。この装置はその中心においてランプキャ
リヤーを含有しており、該キャリヤーにはハナウ(Ha
nau)TQ150Z1光エミッター管が設置されてお
り、そしてその主要な輝線は366、405、417お
よび436nmにある。
%の2種のオレフィンC4F7HおよびC4F6H2および
0.5重量%のC4F6HClを含有する不純なF133
aを循環した。この装置はその中心においてランプキャ
リヤーを含有しており、該キャリヤーにはハナウ(Ha
nau)TQ150Z1光エミッター管が設置されてお
り、そしてその主要な輝線は366、405、417お
よび436nmにある。
【0045】該反応器それ自体は、厚さ1.8mmおよ
び直径それぞれ38および46.6mmの2つのパイレ
ックス管により画定された環状空間から成っていた。反
応混合物を通る輻射線の最大路は、それ故8.6mmを
越えなかった。作用高さは18cmであり、そして装置
は4.5バールの作動圧に耐えるよう設計されていた。
び直径それぞれ38および46.6mmの2つのパイレ
ックス管により画定された環状空間から成っていた。反
応混合物を通る輻射線の最大路は、それ故8.6mmを
越えなかった。作用高さは18cmであり、そして装置
は4.5バールの作動圧に耐えるよう設計されていた。
【0046】該F133aを計量型ポンプを用いて55
0ml/hの流量にて注入し、そして0.31mol/
hの流量の塩素ガスと混合した。光塩素化装置の出口に
おいて混合物を0℃に冷却し、そして気相クロマトグラ
フィーにより分析した。それは、重量基準で、90.9
1%のF133a、0.02%のC4F7H/C4F
6H2、0.006%のC4F6HCl、2.9%のF12
3および6.1%のオレフィンの塩素化生成物(C4F6
H2Cl2、C4F7HCl2およびC4F6HCl3)を含有
していた。
0ml/hの流量にて注入し、そして0.31mol/
hの流量の塩素ガスと混合した。光塩素化装置の出口に
おいて混合物を0℃に冷却し、そして気相クロマトグラ
フィーにより分析した。それは、重量基準で、90.9
1%のF133a、0.02%のC4F7H/C4F
6H2、0.006%のC4F6HCl、2.9%のF12
3および6.1%のオレフィンの塩素化生成物(C4F6
H2Cl2、C4F7HCl2およびC4F6HCl3)を含有
していた。
【0047】重質画分の蒸留および除去後、10ppm
未満のC4F6HClおよび215ppmのオレフィンC
4F7HおよびC4F6H2を含有する99.97重量%の
純度のF133aが最終的に得られた。精製操作中のF
133aの損失は、2.45%であった。
未満のC4F6HClおよび215ppmのオレフィンC
4F7HおよびC4F6H2を含有する99.97重量%の
純度のF133aが最終的に得られた。精製操作中のF
133aの損失は、2.45%であった。
【0048】実施例6 8/10mmの管から作られた相接巻きの容積40ml
のコイルから成るパイレックスガラス反応器を通じて、
四塩化炭素中2モル%のF123を含有する溶液を循環
させた。用いられたF123は、400ppmのオレフ
ィンC4F6HCl(CF3CCl=CHCF3)を含有し
ていた。実施例1においてと同じランプを該コイルの軸
線上に設置したが、しかしその面積の75%を黒色スク
リーンにより覆った。
のコイルから成るパイレックスガラス反応器を通じて、
四塩化炭素中2モル%のF123を含有する溶液を循環
させた。用いられたF123は、400ppmのオレフ
ィンC4F6HCl(CF3CCl=CHCF3)を含有し
ていた。実施例1においてと同じランプを該コイルの軸
線上に設置したが、しかしその面積の75%を黒色スク
リーンにより覆った。
【0049】出口の流れのクロマトグラフィー分析によ
り、F123のわずか2.5%がF113aに塩素化さ
れたのに対して、オレフィンの94.9%が、蒸留によ
りF123から容易に分離され得る生成物であるC4F6
HCl3の形態にて除去されたことが示された。CCl4
の除去後、今やわずか26ppmのオレフィンC4F6H
Clを含有するF123がかくして得られた。
り、F123のわずか2.5%がF113aに塩素化さ
れたのに対して、オレフィンの94.9%が、蒸留によ
りF123から容易に分離され得る生成物であるC4F6
HCl3の形態にて除去されたことが示された。CCl4
の除去後、今やわずか26ppmのオレフィンC4F6H
Clを含有するF123がかくして得られた。
【0050】実施例7 350mlの総容積を有する縦型環状循環反応器が用い
られ、その外壁は50.4mmの内径を有しそして内壁
は20mmの外径のパイレックスランプキャリヤー管か
ら成っており、そして外径70.5mmのジャケットに
より全体を冷却することが可能にされていた。
られ、その外壁は50.4mmの内径を有しそして内壁
は20mmの外径のパイレックスランプキャリヤー管か
ら成っており、そして外径70.5mmのジャケットに
より全体を冷却することが可能にされていた。
【0051】実施例2においてと同じUVランプを管キ
ャリヤー中に設置し、しかしてその2つの電極間に28
5mlの作用容積を画定していた。
ャリヤー中に設置し、しかしてその2つの電極間に28
5mlの作用容積を画定していた。
【0052】該UVランプのスイッチを入れて、該反応
器に0.57l/hの塩素流、および四塩化炭素中のF
133aとオレフィンC4F7H/C4F6H2(11.2
モル%のC4F7H)との混合物の溶液(希釈後、84g
/lのF133aおよび5.6g/lの2種のオレフィ
ンを含有していた。)を連続的に供給した。溶液の流量
は、0.94の塩素/オレフィンのモル比を有するよう
0.75l/hに調節された。
器に0.57l/hの塩素流、および四塩化炭素中のF
133aとオレフィンC4F7H/C4F6H2(11.2
モル%のC4F7H)との混合物の溶液(希釈後、84g
/lのF133aおよび5.6g/lの2種のオレフィ
ンを含有していた。)を連続的に供給した。溶液の流量
は、0.94の塩素/オレフィンのモル比を有するよう
0.75l/hに調節された。
【0053】塩素濃度の平衡後、反応器の出口における
溶液のクロマトグラフィー分析により、2種のオレフィ
ンの83.7%が除去されており、そしてF133aの
損失はわずか0.33%であったことが示された。
溶液のクロマトグラフィー分析により、2種のオレフィ
ンの83.7%が除去されており、そしてF133aの
損失はわずか0.33%であったことが示された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アンドレ・ランツ フランス国、69390・ベルネゾン、ドメー ヌ・ドウ・ラ・エトレ(番地なし) (72)発明者 ダニエル・ロザン フランス国、69007・リヨン、リユ・マチ ユー・バリル、29 (72)発明者 ベルトラン・コリエ フランス国、69230・サン・ジエニ・ラバ ル、リユ・リユシアン・ブギユル、3
Claims (10)
- 【請求項1】 オレフィン不純物を含有する、Xが水
素、フッ素または塩素原子を表す式CF3−CHClX
のヒドロクロロフルオロエタンの精製方法において、か
かる不純なヒドロクロロフルオロエタンを塩素の存在下
で320nmと500nmの間の波長のUV線または可
視光線での照射に付すことからなる段階を含むことを特
徴とする上記方法。 - 【請求項2】 塩素対オレフィン不純物のモル比が0.
75と20の間、好ましくは0.9と1.5の間にあ
る、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 照射が、−12〜100℃の範囲、好ま
しくは10℃と50℃の間の温度において気相にて遂行
される、請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 照射が、−35℃から用いられる圧力に
おけるヒドロクロロフルオロエタンの沸騰温度までの範
囲の温度において、好ましくは10℃と50℃の間の温
度において液相にて遂行される、請求項1または2に記
載の方法。 - 【請求項5】 ヒドロクロロフルオロエタンが、用いら
れる輻射線に対して透明でかつ塩素化に対して不活性な
溶媒中に溶解されている、請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 溶媒が四塩化炭素またはトリクロロトリ
フルオロエタンである、請求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 光エネルギーが5kJ/h/lと100
0kJ/h/lの間、好ましくは50kJ/h/lと5
00kJ/h/lの間にある、請求項1から6のいずれ
か一項に記載の方法。 - 【請求項8】 照射後、ヒドロクロロフルオロエタンを
蒸留して、形成された塩素化合物を分離する、請求項1
から7のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項9】 合成中間体としてのヒドロクロロフルオ
ロエタンの使用に先立つ、該ヒドロクロロフルオロエタ
ンの精製への、請求項1から8のいずれか一項に記載の
方法の適用。 - 【請求項10】 1−クロロ−2,2,2−トリフルオ
ロエタンの精製への、請求項1から8のいずれか一項に
記載の方法の適用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9612713A FR2754816B1 (fr) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | Procede de purification d'hydrogenochlorofluoroethanes |
| FR9612713 | 1996-10-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10120604A true JPH10120604A (ja) | 1998-05-12 |
Family
ID=9496793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9285507A Pending JPH10120604A (ja) | 1996-10-18 | 1997-10-17 | ヒドロクロロフルオロエタンの精製方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5951830A (ja) |
| JP (1) | JPH10120604A (ja) |
| DE (1) | DE19744604A1 (ja) |
| FR (1) | FR2754816B1 (ja) |
| GB (1) | GB2318350B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003502298A (ja) * | 1999-06-16 | 2003-01-21 | ゾルファイ フルーオル ウント デリヴァーテ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Uv−活性化塩素化 |
| JP2007500228A (ja) * | 2003-05-23 | 2007-01-11 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ヒドロフルオロカーボンの製造法 |
| WO2021002343A1 (ja) * | 2019-07-01 | 2021-01-07 | ダイキン工業株式会社 | アルカンの製造方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6143938A (en) * | 1998-11-10 | 2000-11-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for perhalocycloalkane purification |
| DE19942305C2 (de) | 1999-09-04 | 2001-06-28 | Solvay Fluor & Derivate | Herstellung hochreiner Fluorverbindungen |
| US6288294B1 (en) * | 2001-03-06 | 2001-09-11 | Atofina Chemicals, Inc. | Purification of HCFC-133A |
| US6551469B1 (en) | 2001-11-27 | 2003-04-22 | Honeywell International | Photochlorination of 1,1,1,3,3-pentafluoropropane |
| US20050087434A1 (en) * | 2003-10-22 | 2005-04-28 | Gregorio Tarancon | Method and apparatus for transforming chemical fluids using halogen or oxygen in a photo-treatment process |
| US20080076950A1 (en) * | 2004-12-22 | 2008-03-27 | Velliyur Nott Mallikarjuna Rao | Photochlorination And Dehydrohalogenation Process For Preparation Of Olefinic Compounds |
| EP2170789A1 (en) * | 2007-07-20 | 2010-04-07 | Solvay Fluor GmbH | Process for obtaining a purified hydrofluoroalkane |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1315351A (fr) * | 1962-02-07 | 1963-01-18 | Sicedison Spa | Procédé pour obtenir des composés organiques par la fluoration catalytique d'halooléfines |
| US4060469A (en) * | 1976-12-21 | 1977-11-29 | Allied Chemical Corporation | Preparation of 1,1,1-trifluoro-2,2-dichloroethane |
| US4145368A (en) * | 1977-10-20 | 1979-03-20 | Allied Chemical Corporation | Process for the production of 1,1,1-trifluoro-2,2-dichloroethane |
| US5026930A (en) * | 1987-08-13 | 1991-06-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Gas-phase fluorination process |
| JPH07106998B2 (ja) * | 1988-05-17 | 1995-11-15 | ダイキン工業株式会社 | 1,1,1−トリフルオロ−2,2−ジクロロエタンの製造方法 |
| EP0357328A1 (en) * | 1988-09-01 | 1990-03-07 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Purification of 2,2-dichloro -1,1,1-trifluoroethane |
| CA2003039A1 (en) * | 1988-11-22 | 1990-05-22 | Richard E. Fernandez | Purification of saturated halocarbons |
| JPH02157235A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-18 | Central Glass Co Ltd | 2,2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタンの製造法 |
| US4948479A (en) * | 1989-06-07 | 1990-08-14 | Atochem North America, Inc. | Removal of unsaturated carbon compounds from 1,1-dichloro-1-fluoroethane |
| DE3923255A1 (de) * | 1989-07-14 | 1991-01-24 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von 1,1,1,-triflour-2,2-dichlorethan durch photochlorierung |
| JPH085817B2 (ja) * | 1990-06-18 | 1996-01-24 | ダイキン工業株式会社 | 1―クロロ―2,2,2―トリフルオロエタンの製造方法 |
| US5189230A (en) * | 1990-12-21 | 1993-02-23 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the removal of olefinic impurities from hydrochlorofluorocarbons |
| WO1992016480A1 (en) * | 1991-03-20 | 1992-10-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the manufacture of 2-chloro-1,1,1-trifluoroethane |
| JPH04300842A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-23 | Showa Denko Kk | ハイドロクロロフルオロカーボン及びハイドロフルオロカーボンの精製方法 |
| FR2684987B1 (fr) * | 1991-12-17 | 1994-03-18 | Atochem | Procede ameliore de fluoration en phase liquide et produits organiques fluores en resultant. |
| US5336377A (en) * | 1991-12-18 | 1994-08-09 | Allied-Signal Inc. | Process for removing 2-chloro-1,1-difluoroethylene from 1,1,1,2-tetrafluoroethane and co-producing 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoroethane |
| US5569797A (en) * | 1992-01-07 | 1996-10-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method of removing olefinic impurities from hydrochlorofluorocarbons |
| IT1255781B (it) * | 1992-08-14 | 1995-11-15 | Ausimont Spa | Procedimento per preparare 1,1,1-trifluoro-2-cloroetano |
-
1996
- 1996-10-18 FR FR9612713A patent/FR2754816B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-10-10 DE DE19744604A patent/DE19744604A1/de not_active Ceased
- 1997-10-16 US US08/951,476 patent/US5951830A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-17 JP JP9285507A patent/JPH10120604A/ja active Pending
- 1997-10-17 GB GB9722046A patent/GB2318350B/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003502298A (ja) * | 1999-06-16 | 2003-01-21 | ゾルファイ フルーオル ウント デリヴァーテ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Uv−活性化塩素化 |
| JP4891503B2 (ja) * | 1999-06-16 | 2012-03-07 | ゾルファイ フルーオル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Uv−活性化塩素化 |
| JP2007500228A (ja) * | 2003-05-23 | 2007-01-11 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ヒドロフルオロカーボンの製造法 |
| WO2021002343A1 (ja) * | 2019-07-01 | 2021-01-07 | ダイキン工業株式会社 | アルカンの製造方法 |
| JP2021008431A (ja) * | 2019-07-01 | 2021-01-28 | ダイキン工業株式会社 | アルカンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2754816A1 (fr) | 1998-04-24 |
| DE19744604A1 (de) | 1998-05-14 |
| FR2754816B1 (fr) | 1998-12-04 |
| GB9722046D0 (en) | 1997-12-17 |
| GB2318350B (en) | 2000-08-02 |
| GB2318350A (en) | 1998-04-22 |
| US5951830A (en) | 1999-09-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7943015B2 (en) | Use of copolymers of perfluoro(alkyl vinyl ether) for photochemical reactions | |
| US6077982A (en) | Purification of 1,1,1,3,3-pentafluoropropane (R-245fa) | |
| EP0401493B1 (en) | Removal of unsaturated carbon compounds from 1,1-dichloro-1-fluoroethane | |
| US7750195B2 (en) | Process for obtaining a purified hydrofluoroalkane | |
| US20070265368A1 (en) | Functionalized Copolymers of Terminally Functionalized Perfluoro (Alkyl Vinyl Ether) Reactor Wall for Photochemical Reactions, Process for Increasing Fluorine Content in Hydrocaebons and Halohydrocarbons and Olefin Production | |
| US20020125122A1 (en) | UV-activated chlorination process | |
| JP5266902B2 (ja) | 含フッ素オレフィン化合物の製造方法 | |
| JP2013121971A (ja) | 1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンの光塩素化 | |
| JPH06256234A (ja) | ペンタフルオロエタンの精製 | |
| US5336377A (en) | Process for removing 2-chloro-1,1-difluoroethylene from 1,1,1,2-tetrafluoroethane and co-producing 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoroethane | |
| JPH10120604A (ja) | ヒドロクロロフルオロエタンの精製方法 | |
| EP0563292B1 (en) | Process for removing vinylidene chloride and other unsaturated compounds from 1,1-dichloro-1-fluoroethane | |
| US5944962A (en) | Process for photochlorination | |
| EP1843838B1 (en) | Photochlorination and dehydrohalogenation process for preparation of olefinic compounds | |
| RU2010789C1 (ru) | Непрерывный способ получения 1,1-дихлортетрафторэтана | |
| US5750010A (en) | Process for photochlorination | |
| US6720465B2 (en) | Preparation of highly pure fluorine compounds | |
| WO2006069108A1 (en) | Photochlorination and fluorination process for preparation of fluorine-containing hydrocarbons | |
| US6702929B2 (en) | Purification of 1,1,1,3,3-pentafluorobutane | |
| KR100479747B1 (ko) | 1,1,1,3,3-펜타플루오로프로판(R-245fa)의정제방법 | |
| RU2157362C2 (ru) | Способ очистки 1,1,1-фтордихлорэтана | |
| Nappa et al. | The chlorination of 1, 2-difluoroethane (HFC-152) |