JPH10120610A - 非晶性カリックスアレーン組成物およびそれを用いる膜製造方法 - Google Patents
非晶性カリックスアレーン組成物およびそれを用いる膜製造方法Info
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- JPH10120610A JPH10120610A JP27819196A JP27819196A JPH10120610A JP H10120610 A JPH10120610 A JP H10120610A JP 27819196 A JP27819196 A JP 27819196A JP 27819196 A JP27819196 A JP 27819196A JP H10120610 A JPH10120610 A JP H10120610A
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、十分に厚い塗膜を形成してもク
ラックが発生することがなく、また、結晶化することが
なく、絶縁膜や、レジスト等の目的にも使用しうる非晶
性カリックスアレーン組成物を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 例えば式（Ｉ）で表される非晶性カリッ
クスアレーン類と例えば式（ＩＩ）で表される結晶性カ
リックスアレーン類からなり、この非晶性カリックスア
レーン類の割合が１〜８０重量％である非晶性カリック
スアレーン組成物。 【化５】 【化６】
ラックが発生することがなく、また、結晶化することが
なく、絶縁膜や、レジスト等の目的にも使用しうる非晶
性カリックスアレーン組成物を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 例えば式（Ｉ）で表される非晶性カリッ
クスアレーン類と例えば式（ＩＩ）で表される結晶性カ
リックスアレーン類からなり、この非晶性カリックスア
レーン類の割合が１〜８０重量％である非晶性カリック
スアレーン組成物。 【化５】 【化６】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、非晶性のカリック
スアレーン組成物に関し、特に非晶性の塗膜を形成する
カリックスアレーン組成物に関する。
スアレーン組成物に関し、特に非晶性の塗膜を形成する
カリックスアレーン組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】カリックスアレーン類はフェノールとホ
ルムアルデヒドの縮合により合成される環状のオリゴマ
およびその誘導体である。１９８０年ころにモノマから
の一段合成法が確立してから広く研究されるようになっ
た。
ルムアルデヒドの縮合により合成される環状のオリゴマ
およびその誘導体である。１９８０年ころにモノマから
の一段合成法が確立してから広く研究されるようになっ
た。
【０００３】この化合物は環状のフェノール樹脂とも見
なされるが、物性は通常のフェノール樹脂とは大きく異
なり、一般には有機溶剤や水への溶解性に乏しく、多く
の場合結晶性で、高融点であり融点が４００℃を超える
ものもある。
なされるが、物性は通常のフェノール樹脂とは大きく異
なり、一般には有機溶剤や水への溶解性に乏しく、多く
の場合結晶性で、高融点であり融点が４００℃を超える
ものもある。
【０００４】カリックスアレーンは、杯状の分子形状を
とることが多く、従来からこの空孔に他の原子や分子が
はまりこむ包接現象に関心が集まっていた。
とることが多く、従来からこの空孔に他の原子や分子が
はまりこむ包接現象に関心が集まっていた。
【０００５】しかし、カリックスアレーンの物性的特徴
からこの化合物をうまく修飾すれば有用な素材となりう
る。本出願人は、カリックスアレーンの素材としての応
用を図るべく研究を進め、特公平７−２３３４０に有機
溶剤に可溶で、高耐熱性で、非晶性であるために溶液か
らの均一な膜形成が可能なメチルカリックス［６］アレ
ーンアセチル化物を明らかにしている。メチルカリック
ス［６］アレーンアセチル化物による膜は非常に平滑で
強固な膜であったが、約０．８μｍより厚い膜を形成す
るとクラックを生じやすいという問題があった。
からこの化合物をうまく修飾すれば有用な素材となりう
る。本出願人は、カリックスアレーンの素材としての応
用を図るべく研究を進め、特公平７−２３３４０に有機
溶剤に可溶で、高耐熱性で、非晶性であるために溶液か
らの均一な膜形成が可能なメチルカリックス［６］アレ
ーンアセチル化物を明らかにしている。メチルカリック
ス［６］アレーンアセチル化物による膜は非常に平滑で
強固な膜であったが、約０．８μｍより厚い膜を形成す
るとクラックを生じやすいという問題があった。
【０００６】一方、１，３−ジメトキシ４ｔ−ブチルカ
リックス［４］アレーン（Ｃ．Ｄ．グッチェ他、テトラ
ヘドロン ３９巻４０９頁、１９８３）は例外的に有機
溶剤に対して極めて良好な溶解性を示す。本出願人は、
１，３−ジメトキシ４ｔ−ブチルカリックス［４］アレ
ーンの１０重量％溶液をスピン塗布で基板上に膜形成し
たが、成膜直後から膜内に部分結晶を生じた。
リックス［４］アレーン（Ｃ．Ｄ．グッチェ他、テトラ
ヘドロン ３９巻４０９頁、１９８３）は例外的に有機
溶剤に対して極めて良好な溶解性を示す。本出願人は、
１，３−ジメトキシ４ｔ−ブチルカリックス［４］アレ
ーンの１０重量％溶液をスピン塗布で基板上に膜形成し
たが、成膜直後から膜内に部分結晶を生じた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、十分に厚い
塗膜を形成してもクラックが発生することがなく、ま
た、結晶化することがなく、絶縁膜や、レジスト等の目
的にも使用しうる非晶性カリックスアレーン組成物を提
供することを目的とする。
塗膜を形成してもクラックが発生することがなく、ま
た、結晶化することがなく、絶縁膜や、レジスト等の目
的にも使用しうる非晶性カリックスアレーン組成物を提
供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、非晶性カリッ
クスアレーン類と結晶性カリックスアレーン類からな
り、この非晶性カリックスアレーン類の割合が１〜８０
重量％である非晶性カリックスアレーン組成物に関す
る。
クスアレーン類と結晶性カリックスアレーン類からな
り、この非晶性カリックスアレーン類の割合が１〜８０
重量％である非晶性カリックスアレーン組成物に関す
る。
【０００９】一般にカリックスアレーン類は結晶化しや
すい性質であるが、本発明では非晶性のカリックスアレ
ーンを添加することで結晶化を妨げる結果、非晶性のカ
リックスアレーン組成物が得られるのである。そして本
発明のカリックスアレーン組成物は、約０．８μｍ以上
の比較的厚い膜を形成してもクラックが生ずることがな
く、また結晶化することがなく、絶縁膜やレジスト等の
目的にも使用することができる。また種々の機能を有す
る結晶性カリックスアレーン類を含む膜を形成すること
もできる。
すい性質であるが、本発明では非晶性のカリックスアレ
ーンを添加することで結晶化を妨げる結果、非晶性のカ
リックスアレーン組成物が得られるのである。そして本
発明のカリックスアレーン組成物は、約０．８μｍ以上
の比較的厚い膜を形成してもクラックが生ずることがな
く、また結晶化することがなく、絶縁膜やレジスト等の
目的にも使用することができる。また種々の機能を有す
る結晶性カリックスアレーン類を含む膜を形成すること
もできる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明のカリックスアレーン類と
は、フェノールとホルムアルデヒドの環状縮合物および
その誘導体をいう。
は、フェノールとホルムアルデヒドの環状縮合物および
その誘導体をいう。
【００１１】本発明の非晶性カリックスアレーン組成物
は、非晶性カリックスアレーン類を１〜８０重量％含む
ものであり、好ましくは２〜５０重量％、さらに好まし
くは３〜２０重量％含むものである。
は、非晶性カリックスアレーン類を１〜８０重量％含む
ものであり、好ましくは２〜５０重量％、さらに好まし
くは３〜２０重量％含むものである。
【００１２】ここで、非晶性カリックスアレーン類と
は、通常の化学的・物理的操作によっては結晶化しない
カリックスアレーンであり、例えば、ｔ−ブチルカリッ
クス［６］アレーンのアセチル化物、メチルカリックス
［６］アレーンのアセチル化物、クロルメチルカリック
ス［６］アレーンのメチルエーテル等を挙げることがで
きる。この中でも、式（Ｉ）で表されるメチルカリック
ス［６］アレーンアセチル化物（5,11,17,23,29,35-hex
amethyl-37,38,39,40,41,42-hexaacetoxycalix[6]aren
e）は高い耐熱性を有しているので膜形成用に用いる場
合に特に好ましい。
は、通常の化学的・物理的操作によっては結晶化しない
カリックスアレーンであり、例えば、ｔ−ブチルカリッ
クス［６］アレーンのアセチル化物、メチルカリックス
［６］アレーンのアセチル化物、クロルメチルカリック
ス［６］アレーンのメチルエーテル等を挙げることがで
きる。この中でも、式（Ｉ）で表されるメチルカリック
ス［６］アレーンアセチル化物（5,11,17,23,29,35-hex
amethyl-37,38,39,40,41,42-hexaacetoxycalix[6]aren
e）は高い耐熱性を有しているので膜形成用に用いる場
合に特に好ましい。
【００１３】
【化３】
【００１４】結晶性カリックスアレーン類とは、通常の
結晶化方法によって容易に結晶化するカリックスアレー
ンであり、既知のカリックスアレーンの多くは結晶性で
ある。例えば、ｔ−ブチルカリックス［４］アレーン、
ｔ−ブチルカリックス［６］アレーン、ｔ−ブチルカリ
ックス［８］アレーン、カリックス［５］アレーン、ｔ
−ブチルカリックス［４］アレーンアセチル化物、ｔ−
ブチルカリックス［８］アレーンアセチル化物等を挙げ
ることができる。結晶性カリックスアレーンのなかで
も、式（ＩＩ）で表される１，３−ジメトキシ４ｔ−ブ
チルカリックス［４］アレーン（5,11,17,23-tetra-t-b
utyl-25,27-dimethoxy-26,28-dihydroxycalix[4]aren
e）が好ましい。
結晶化方法によって容易に結晶化するカリックスアレー
ンであり、既知のカリックスアレーンの多くは結晶性で
ある。例えば、ｔ−ブチルカリックス［４］アレーン、
ｔ−ブチルカリックス［６］アレーン、ｔ−ブチルカリ
ックス［８］アレーン、カリックス［５］アレーン、ｔ
−ブチルカリックス［４］アレーンアセチル化物、ｔ−
ブチルカリックス［８］アレーンアセチル化物等を挙げ
ることができる。結晶性カリックスアレーンのなかで
も、式（ＩＩ）で表される１，３−ジメトキシ４ｔ−ブ
チルカリックス［４］アレーン（5,11,17,23-tetra-t-b
utyl-25,27-dimethoxy-26,28-dihydroxycalix[4]aren
e）が好ましい。
【００１５】
【化４】
【００１６】本発明のカリックスアレーン溶液は、有機
溶媒と上記の非晶性カリックスアレーン組成物とからな
るものであり、有機溶媒に非晶性カリックスアレーン組
成物を構成するカリックスアレーン類を溶解して調製す
る。
溶媒と上記の非晶性カリックスアレーン組成物とからな
るものであり、有機溶媒に非晶性カリックスアレーン組
成物を構成するカリックスアレーン類を溶解して調製す
る。
【００１７】有機溶媒としては、非晶性カリックスアレ
ーン類および結晶性カリックスアレーン類を溶解するも
のであれば制限はなく、例えばベンゼン、トルエンおよ
びキシレン等の芳香族系溶媒、クロルベンゼンおよびジ
クロロベンゼン等の塩素化芳香族系溶媒、クロロフォル
ム等の塩素化脂肪族炭化水素等を挙げることができる
が、目的に合わせて適宜選択することが好ましい。膜形
成の目的には揮発性が高すぎないこと方が好ましく、例
えば沸点が約１００℃前後の溶媒を選択して使用するこ
とができる。また必要に応じて溶媒を混合して用いても
良い。
ーン類および結晶性カリックスアレーン類を溶解するも
のであれば制限はなく、例えばベンゼン、トルエンおよ
びキシレン等の芳香族系溶媒、クロルベンゼンおよびジ
クロロベンゼン等の塩素化芳香族系溶媒、クロロフォル
ム等の塩素化脂肪族炭化水素等を挙げることができる
が、目的に合わせて適宜選択することが好ましい。膜形
成の目的には揮発性が高すぎないこと方が好ましく、例
えば沸点が約１００℃前後の溶媒を選択して使用するこ
とができる。また必要に応じて溶媒を混合して用いても
良い。
【００１８】また、カリックスアレーン溶液中に含まれ
るカリックスアレーン組成物の濃度としては、目的に応
じて適宜調整できるが、膜を形成する場合には所定の膜
厚が得られるように、例えば０．５〜２０重量％程度で
ある。
るカリックスアレーン組成物の濃度としては、目的に応
じて適宜調整できるが、膜を形成する場合には所定の膜
厚が得られるように、例えば０．５〜２０重量％程度で
ある。
【００１９】非晶性カリックスアレーンの膜の形成は、
このカリックスアレーン溶液を用いて、例えばシリコン
基板、ガラス基板等の基板上にスピンコート等で塗布し
た後、必要に応じて４００℃以下の温度で加熱しながら
溶媒を乾燥することで行うことができる。
このカリックスアレーン溶液を用いて、例えばシリコン
基板、ガラス基板等の基板上にスピンコート等で塗布し
た後、必要に応じて４００℃以下の温度で加熱しながら
溶媒を乾燥することで行うことができる。
【００２０】
【実施例】クロルベンゼン９０重量部に対し、１，３−
ジメトキシ４ｔ−ブチルカリックス［４］アレーン（ア
クロス・ヒミカ製）を１０重量部溶解し、さらにメチル
カリックス［６］アレーンアセチル化物を２重量部溶解
して均一な溶液を得た。これを０．２μｍのフィルター
で濾過してから、清浄なシリコン基板上にスピンコータ
を用いて種々の回転速度で塗布し平坦な膜を形成した。
その後窒素雰囲気下で２００℃で２０分程度乾燥した。
ジメトキシ４ｔ−ブチルカリックス［４］アレーン（ア
クロス・ヒミカ製）を１０重量部溶解し、さらにメチル
カリックス［６］アレーンアセチル化物を２重量部溶解
して均一な溶液を得た。これを０．２μｍのフィルター
で濾過してから、清浄なシリコン基板上にスピンコータ
を用いて種々の回転速度で塗布し平坦な膜を形成した。
その後窒素雰囲気下で２００℃で２０分程度乾燥した。
【００２１】例えば８００ｒｐｍの回転数で塗布した膜
の厚さは１．５μｍであった。顕微鏡で観察したとこ
ろ、クラックの発生がなく、結晶化もしていなかった。
数日間放置後再度観察したが結晶化の兆候は全くなく、
塗膜の一部をピンセットで押して外力を加えたがクラッ
クは発生しなかった。
の厚さは１．５μｍであった。顕微鏡で観察したとこ
ろ、クラックの発生がなく、結晶化もしていなかった。
数日間放置後再度観察したが結晶化の兆候は全くなく、
塗膜の一部をピンセットで押して外力を加えたがクラッ
クは発生しなかった。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、十分に厚い塗膜を形成
してもクラックが発生することがなく、また、結晶化す
ることがなく、絶縁膜や、レジスト等の目的にも使用し
うる非晶性カリックスアレーン組成物を提供することが
できる。
してもクラックが発生することがなく、また、結晶化す
ることがなく、絶縁膜や、レジスト等の目的にも使用し
うる非晶性カリックスアレーン組成物を提供することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ２９Ｌ 7:00
Claims (6)
- 【請求項１】 非晶性カリックスアレーン類と結晶性カ
リックスアレーン類からなり、この非晶性カリックスア
レーン類の割合が１〜８０重量％である非晶性カリック
スアレーン組成物。 - 【請求項２】 前記非晶性カリックスアレーン類が式
（Ｉ）で示されるメチルカリックス［６］アレーンアセ
チル化物である請求項１記載の非晶性カリックスアレー
ン組成物。 【化１】 - 【請求項３】 前記結晶性カリックスアレーン類が式
（ＩＩ）で示される１，３−ジメトキシ４ｔ−ブチルカ
リックス［４］アレーンである請求項１または２に記載
の非晶性カリックスアレーン組成物。 【化２】 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の非晶性
カリックスアレーン組成物からなる塗膜。 - 【請求項５】 有機溶媒と請求項１〜３のいずれかに記
載の非晶性カリックスアレーン組成物とからなるカリッ
クスアレーン溶液。 - 【請求項６】 請求項５記載のカリックスアレーン溶液
を、基板上に塗布し、ついで溶媒を除去すること工程を
含むカリックスアレーン膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27819196A JP2798072B2 (ja) | 1996-10-21 | 1996-10-21 | 非晶性カリックスアレーン組成物およびそれを用いる膜製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27819196A JP2798072B2 (ja) | 1996-10-21 | 1996-10-21 | 非晶性カリックスアレーン組成物およびそれを用いる膜製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10120610A true JPH10120610A (ja) | 1998-05-12 |
| JP2798072B2 JP2798072B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=17593868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27819196A Expired - Fee Related JP2798072B2 (ja) | 1996-10-21 | 1996-10-21 | 非晶性カリックスアレーン組成物およびそれを用いる膜製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004039483A1 (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Ajinomoto Co., Inc. | カリックスアレーン化合物含有分散剤または可溶化剤 |
| GB2411267A (en) * | 2003-10-31 | 2005-08-24 | Via Tech Inc | Power saving circuit |
| WO2008029673A1 (en) | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Jsr Corporation | Radiation-sensitive composition and process for producing low-molecular compound for use therein |
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| US7615330B2 (en) | 2006-03-27 | 2009-11-10 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition and pattern formation method using the same |
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-
1996
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004039483A1 (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Ajinomoto Co., Inc. | カリックスアレーン化合物含有分散剤または可溶化剤 |
| GB2411267A (en) * | 2003-10-31 | 2005-08-24 | Via Tech Inc | Power saving circuit |
| GB2411267B (en) * | 2003-10-31 | 2006-03-15 | Via Tech Inc | Power-saving control circuitry of electronic device and operating method thereof |
| US7615330B2 (en) | 2006-03-27 | 2009-11-10 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition and pattern formation method using the same |
| WO2008029673A1 (en) | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Jsr Corporation | Radiation-sensitive composition and process for producing low-molecular compound for use therein |
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