JPH10120859A - 紫外線吸収性ポリマー粒子 - Google Patents
紫外線吸収性ポリマー粒子Info
- Publication number
- JPH10120859A JPH10120859A JP22044697A JP22044697A JPH10120859A JP H10120859 A JPH10120859 A JP H10120859A JP 22044697 A JP22044697 A JP 22044697A JP 22044697 A JP22044697 A JP 22044697A JP H10120859 A JPH10120859 A JP H10120859A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- polymer
- acrylate
- polymer particles
- ultraviolet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/815—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by means for filtering or absorbing ultraviolet light, e.g. optical bleaching
- G03C1/8155—Organic compounds therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/388—Processes for the incorporation in the emulsion of substances liberating photographically active agents or colour-coupling substances; Solvents therefor
- G03C7/3882—Processes for the incorporation in the emulsion of substances liberating photographically active agents or colour-coupling substances; Solvents therefor characterised by the use of a specific polymer or latex
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 画像形成要素として特に有用な紫外線吸収性
ポリマー粒子を提供する。 【解決手段】 本発明の紫外線吸収性ポリマー粒子組成
物は、紫外線吸収性化合物及び式（Ｉ） （Ａ）x （Ｂ）y （Ｉ） ［式中、Ａは多官能価エチレン列不飽和モノマーであ
り、Ｂは一官能価エチレン列不飽和モノマーであり、ｘ
は０．１〜９０モル％であり、且つｙは（１００−ｘ）
モル％である］のポリマーを含む。
ポリマー粒子を提供する。 【解決手段】 本発明の紫外線吸収性ポリマー粒子組成
物は、紫外線吸収性化合物及び式（Ｉ） （Ａ）x （Ｂ）y （Ｉ） ［式中、Ａは多官能価エチレン列不飽和モノマーであ
り、Ｂは一官能価エチレン列不飽和モノマーであり、ｘ
は０．１〜９０モル％であり、且つｙは（１００−ｘ）
モル％である］のポリマーを含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像要素、さらに
詳しくは新規な紫外線吸収性ポリマー粒子を含む写真要
素に関する。
詳しくは新規な紫外線吸収性ポリマー粒子を含む写真要
素に関する。
【０００２】
【従来の技術】特定の波長領域の光を吸収するために
は、吸収性化合物または吸収剤、特に、紫外線吸収剤を
画像要素に混和するのが一般的である。紫外線吸収性光
不感受性層を、例えば、ハロゲン化銀写真要素に使用す
ることにより、写真乳剤層に入射する光の分光組成がコ
ントロールされ、且つ製造プロセスもしくは処理プロセ
スにおいて写真要素表面が互いに接触する時に発生する
静電放電によって生じる紫外線が吸収または除去され
る。電荷は分離の摩擦によって発生する。帯電によって
蓄積した静電気がある一定の極限値に達すると、ある特
定の瞬間に大気の放電が起こり、それと同時に放電スパ
ークが発生する。写真要素が放電による光に暴露される
と、現像後に静電マーク(static mark) が現れる。
は、吸収性化合物または吸収剤、特に、紫外線吸収剤を
画像要素に混和するのが一般的である。紫外線吸収性光
不感受性層を、例えば、ハロゲン化銀写真要素に使用す
ることにより、写真乳剤層に入射する光の分光組成がコ
ントロールされ、且つ製造プロセスもしくは処理プロセ
スにおいて写真要素表面が互いに接触する時に発生する
静電放電によって生じる紫外線が吸収または除去され
る。電荷は分離の摩擦によって発生する。帯電によって
蓄積した静電気がある一定の極限値に達すると、ある特
定の瞬間に大気の放電が起こり、それと同時に放電スパ
ークが発生する。写真要素が放電による光に暴露される
と、現像後に静電マーク(static mark) が現れる。
【０００３】紫外線吸収剤を写真要素に組み入れる種々
の方法が、例えば、米国特許第２，７３９，８８８号、
同第３，２１５，５３０号、同第３，３５２，６８１号
及び同第３，７０７，３７５号に記載されている。写真
要素への油溶性紫外線吸収剤の混和は、油溶性吸収剤を
高沸点有機溶剤に溶解させ、そして高剪断または乱流下
で有機溶剤を水性媒体と混合することによって行され
る。水性媒体は界面活性剤を含むこともできる。このよ
うな混合を行うのは、有機相を連続水相に分散されたサ
ブミクロンの粒子とするためである。しかし、このよう
な分散液を光不感受性層に使用すると、層は柔らかくな
り、層の機械的性質が低下する。さらに、高沸点溶剤を
使用しなかったとしても、多くの紫外線吸収剤はそれ自
体が液体であるため、層の機械的性質及び隣接層との付
着に有害な影響を及ぼすおそれがある。これらの問題を
防ぐために、紫外線吸収剤を含む層に多量のゼラチンが
使用される。紫外線吸収剤は、写真要素の最外層に混和
すると、層の表面で結晶化したり移動したりすることが
多い。このため、この不所望なブーミング現象を最小に
するために、追加の上塗り層が使用される。
の方法が、例えば、米国特許第２，７３９，８８８号、
同第３，２１５，５３０号、同第３，３５２，６８１号
及び同第３，７０７，３７５号に記載されている。写真
要素への油溶性紫外線吸収剤の混和は、油溶性吸収剤を
高沸点有機溶剤に溶解させ、そして高剪断または乱流下
で有機溶剤を水性媒体と混合することによって行され
る。水性媒体は界面活性剤を含むこともできる。このよ
うな混合を行うのは、有機相を連続水相に分散されたサ
ブミクロンの粒子とするためである。しかし、このよう
な分散液を光不感受性層に使用すると、層は柔らかくな
り、層の機械的性質が低下する。さらに、高沸点溶剤を
使用しなかったとしても、多くの紫外線吸収剤はそれ自
体が液体であるため、層の機械的性質及び隣接層との付
着に有害な影響を及ぼすおそれがある。これらの問題を
防ぐために、紫外線吸収剤を含む層に多量のゼラチンが
使用される。紫外線吸収剤は、写真要素の最外層に混和
すると、層の表面で結晶化したり移動したりすることが
多い。このため、この不所望なブーミング現象を最小に
するために、追加の上塗り層が使用される。
【０００４】米国特許第５，１１０，７０７号は、結晶
材料を材料にとって溶剤ではない液体中で所望の粒度に
機械的に粉砕し、結晶粒子をそれらの融点より高温に加
熱し、そして溶融粒子を冷却して非晶質粒子を形成する
ことによる、紫外線吸収性化合物またはカプラーの混和
方法を記載している。
材料を材料にとって溶剤ではない液体中で所望の粒度に
機械的に粉砕し、結晶粒子をそれらの融点より高温に加
熱し、そして溶融粒子を冷却して非晶質粒子を形成する
ことによる、紫外線吸収性化合物またはカプラーの混和
方法を記載している。
【０００５】紫外線吸収性モノマーの重合によって得ら
れる紫外線吸収性ポリマー粒子もまた、公知である。こ
のような粒子を製造するためには、種々の方法、例え
ば、乳化重合または予め形成された紫外線吸収性ポリマ
ーの分散などの方法を使用できる。このようなポリマー
粒子の使用は、コストが高く且つ光安定性が低いという
点で不利である。
れる紫外線吸収性ポリマー粒子もまた、公知である。こ
のような粒子を製造するためには、種々の方法、例え
ば、乳化重合または予め形成された紫外線吸収性ポリマ
ーの分散などの方法を使用できる。このようなポリマー
粒子の使用は、コストが高く且つ光安定性が低いという
点で不利である。
【０００６】写真要素に紫外線吸収剤を組み入れる別の
方法は、米国特許第４，１９９，３６３号、同第４，３
０４，７６９号、同第４，２４７，６２７号及び同第
４，３６８，２５８号に記載されているように、予め形
成されたラテックス粒子へのこのような吸収剤を配合す
ることである。この方法においては、紫外線吸収剤のよ
うな疎水性物質を最初に水混和性有機溶剤中に溶解し、
次いで、水性ラテックスとブレンドする。しかし、配合
後の水混和性溶剤の除去には、大規模の処理装置と非常
に長い処理時間が必要であるため、配合操作の経費及び
得られる製品のコストが増加する。
方法は、米国特許第４，１９９，３６３号、同第４，３
０４，７６９号、同第４，２４７，６２７号及び同第
４，３６８，２５８号に記載されているように、予め形
成されたラテックス粒子へのこのような吸収剤を配合す
ることである。この方法においては、紫外線吸収剤のよ
うな疎水性物質を最初に水混和性有機溶剤中に溶解し、
次いで、水性ラテックスとブレンドする。しかし、配合
後の水混和性溶剤の除去には、大規模の処理装置と非常
に長い処理時間が必要であるため、配合操作の経費及び
得られる製品のコストが増加する。
【０００７】米国特許第５，５３６，６２８号は、予め
形成されたラテックスポリマー粒子への吸収剤の配合方
法を記載している。この方法においては、既知の固体樹
脂のポリマーラテックスを撹拌しながら７０〜８０℃に
加熱する。吸収性化合物を液体状態に達するまで加熱
し、高剪断においてポリマーラテックスと混合して乳濁
液を生成する。次いで、乳濁液を少なくとも１回、高エ
ネルギーホモジナイザーに通して、吸収剤含浸ラテック
スポリマー分散液を形成する。
形成されたラテックスポリマー粒子への吸収剤の配合方
法を記載している。この方法においては、既知の固体樹
脂のポリマーラテックスを撹拌しながら７０〜８０℃に
加熱する。吸収性化合物を液体状態に達するまで加熱
し、高剪断においてポリマーラテックスと混合して乳濁
液を生成する。次いで、乳濁液を少なくとも１回、高エ
ネルギーホモジナイザーに通して、吸収剤含浸ラテック
スポリマー分散液を形成する。
【０００８】米国特許第５，５３６，６２８号、同第
４，１９９，３６３号、同第４，３０４，７６９号、同
第４，２４７，６２７号、及び同第４，３６８，２５８
号に記載された方法では、配合が不完全となって、水相
中に残留紫外線吸収剤が残されるおそれがある。それは
次に、貯蔵及び使用中に結晶化するか大きな油滴を形成
するおそれがある。紫外線吸収剤はまた、ポリマー粒子
を拡散させて、結晶化するか油滴を形成し、それが紫外
線吸収性ポリマー粒子の保存寿命を短くするおそれがあ
る。さらに、少量の油滴または結晶でも、最終塗布層中
に斑点という欠陥を生じることによって、写真要素の物
理的且つ写真学的性質を著しく劣化させるおそれがあ
る。
４，１９９，３６３号、同第４，３０４，７６９号、同
第４，２４７，６２７号、及び同第４，３６８，２５８
号に記載された方法では、配合が不完全となって、水相
中に残留紫外線吸収剤が残されるおそれがある。それは
次に、貯蔵及び使用中に結晶化するか大きな油滴を形成
するおそれがある。紫外線吸収剤はまた、ポリマー粒子
を拡散させて、結晶化するか油滴を形成し、それが紫外
線吸収性ポリマー粒子の保存寿命を短くするおそれがあ
る。さらに、少量の油滴または結晶でも、最終塗布層中
に斑点という欠陥を生じることによって、写真要素の物
理的且つ写真学的性質を著しく劣化させるおそれがあ
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ポリマー粒子の貯蔵及び使用中におけるポリマー粒
子からの紫外線吸収剤の拡散に対して優れた安定性を有
する、改良された紫外線吸収性ポリマー粒子を提供する
ことにある。
は、ポリマー粒子の貯蔵及び使用中におけるポリマー粒
子からの紫外線吸収剤の拡散に対して優れた安定性を有
する、改良された紫外線吸収性ポリマー粒子を提供する
ことにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、紫外線吸収剤
及び式（Ｉ）： （Ａ）x （Ｂ）y （Ｉ） ［式中、Ａは多官能価エチレン列不飽和モノマーであ
り、Ｂは一官能価エチレン列不飽和モノマーであり、ｘ
は０．１〜９０モル％であり、且つｙは（１００−ｘ）
モル％である］のポリマーを含んでなる紫外線吸収性ポ
リマー粒子を提供する。
及び式（Ｉ）： （Ａ）x （Ｂ）y （Ｉ） ［式中、Ａは多官能価エチレン列不飽和モノマーであ
り、Ｂは一官能価エチレン列不飽和モノマーであり、ｘ
は０．１〜９０モル％であり、且つｙは（１００−ｘ）
モル％である］のポリマーを含んでなる紫外線吸収性ポ
リマー粒子を提供する。
【００１１】具体的な実施態様においては、本発明は、
支持体及び層を含んでなる画像形成要素に関し、層が結
合剤とポリマーが式（Ｉ）で表される紫外線吸収性ポリ
マー粒子を含むことを特徴とする。
支持体及び層を含んでなる画像形成要素に関し、層が結
合剤とポリマーが式（Ｉ）で表される紫外線吸収性ポリ
マー粒子を含むことを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の画像形成要素は、使用目
的に応じて多くの種々の型がある。このような要素とし
ては、例えば、写真、電子写真、静電写真、フォトサー
モグラフィー、泳動、エレクトロサーモグラフィー、誘
電記録、及び熱色素転写画像形成要素が挙げられる。写
真要素は種々のポリマーフィルム、紙、ガラスなどを含
むことができるが、周知の酢酸エステル及びポリエステ
ルの両支持体が好ましい。支持体の厚さは重要ではな
い。２〜１０mil （０．００２〜０．０１０インチ）の
厚さの支持体を使用できる。支持体は代表的には、公知
のアンダーコート、すなわち、下塗り層を、例えば、ポ
リエステル支持体に関しては、塩化ビニリデン／アクリ
ル酸メチル／イタコン酸ターポリマーまたは塩化ビニリ
デン／アクリロニトリル／アクリル酸ターポリマーを含
む公知のアンダーコート、すなわち、下塗り層を使用す
る。
的に応じて多くの種々の型がある。このような要素とし
ては、例えば、写真、電子写真、静電写真、フォトサー
モグラフィー、泳動、エレクトロサーモグラフィー、誘
電記録、及び熱色素転写画像形成要素が挙げられる。写
真要素は種々のポリマーフィルム、紙、ガラスなどを含
むことができるが、周知の酢酸エステル及びポリエステ
ルの両支持体が好ましい。支持体の厚さは重要ではな
い。２〜１０mil （０．００２〜０．０１０インチ）の
厚さの支持体を使用できる。支持体は代表的には、公知
のアンダーコート、すなわち、下塗り層を、例えば、ポ
リエステル支持体に関しては、塩化ビニリデン／アクリ
ル酸メチル／イタコン酸ターポリマーまたは塩化ビニリ
デン／アクリロニトリル／アクリル酸ターポリマーを含
む公知のアンダーコート、すなわち、下塗り層を使用す
る。
【００１３】本発明によれば、紫外線吸収性ポリマー粒
子に含まれるポリマーは式（Ｉ）［式中、Ａは多官能価
エチレン列不飽和モノマーであり、且つＢは一官能価エ
チレン列不飽和モノマーである］で示される組成を有す
る。ｘは０．１〜９０モル％、より好ましくは１〜５０
モル％、最も好ましくは１〜２５モル％、ｙ＝（１００
−ｘ）モル％である。紫外線吸収性ポリマー粒子は平均
粒度が０．０１〜５０μｍ、好ましくは０．０２〜１０
μｍ及び最も好ましくは０．０３〜５μｍである。
子に含まれるポリマーは式（Ｉ）［式中、Ａは多官能価
エチレン列不飽和モノマーであり、且つＢは一官能価エ
チレン列不飽和モノマーである］で示される組成を有す
る。ｘは０．１〜９０モル％、より好ましくは１〜５０
モル％、最も好ましくは１〜２５モル％、ｙ＝（１００
−ｘ）モル％である。紫外線吸収性ポリマー粒子は平均
粒度が０．０１〜５０μｍ、好ましくは０．０２〜１０
μｍ及び最も好ましくは０．０３〜５μｍである。
【００１４】本発明の成分Ａとして使用できる適当な多
官能価エチレン列不飽和モノマーは、重合反応に関して
多官能価であるモノマーであり、例えば、以下のモノマ
ー及びそれらの混合物を含むことができる：不飽和一価
アルコールと不飽和モノカルボン酸とのエステル、例え
ば、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリル、アクリル
酸ブテニル、アクリル酸ウンデセニル、メタクリル酸ウ
ンデセニル、アクリル酸ビニル及びメタクリル酸ビニ
ル；ジエン、例えば、ブタジエン及びイソプレン；飽和
グリコールまたはジオールと不飽和モノカルボン酸との
エステル、例えば、エチレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオー
ルジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタク
リレート；及び多官能価芳香族化合物、例えば、ジビニ
ルベンゼン。好ましくは、モノマーＡはエチレングリコ
ールジメタクリレート、エチレングリコールジアクリレ
ート、またはジビニルベンゼンである。
官能価エチレン列不飽和モノマーは、重合反応に関して
多官能価であるモノマーであり、例えば、以下のモノマ
ー及びそれらの混合物を含むことができる：不飽和一価
アルコールと不飽和モノカルボン酸とのエステル、例え
ば、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリル、アクリル
酸ブテニル、アクリル酸ウンデセニル、メタクリル酸ウ
ンデセニル、アクリル酸ビニル及びメタクリル酸ビニ
ル；ジエン、例えば、ブタジエン及びイソプレン；飽和
グリコールまたはジオールと不飽和モノカルボン酸との
エステル、例えば、エチレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオー
ルジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタク
リレート；及び多官能価芳香族化合物、例えば、ジビニ
ルベンゼン。好ましくは、モノマーＡはエチレングリコ
ールジメタクリレート、エチレングリコールジアクリレ
ート、またはジビニルベンゼンである。
【００１５】ジビニルベンゼンは実験用には純粋なモノ
マーとして入手できるが、最も普通に市販されているの
はジビニルベンゼンとエチルビニルベンゼンとの混合物
の形である。例えば、Dow Chemical CompanyからＤＶＢ
−５５（代表的組成：ジビニルベンゼン５５．８％及び
エチルビニルベンゼン４３．０％）またはＤＶＢ−ＨＰ
（代表的組成：ジビニルベンゼン８０．５％及びエチル
ビニルベンゼン１８．３％）として入手できる。
マーとして入手できるが、最も普通に市販されているの
はジビニルベンゼンとエチルビニルベンゼンとの混合物
の形である。例えば、Dow Chemical CompanyからＤＶＢ
−５５（代表的組成：ジビニルベンゼン５５．８％及び
エチルビニルベンゼン４３．０％）またはＤＶＢ−ＨＰ
（代表的組成：ジビニルベンゼン８０．５％及びエチル
ビニルベンゼン１８．３％）として入手できる。
【００１６】本発明の成分Ｂとして使用できる適当な一
官能価エチレン列不飽和モノマーとしては、例えば、以
下のモノマー及びそれらの混合物が挙げられる：アクリ
ル酸モノマー、例えば、アクリル酸もしくはメタクリル
酸、及びそれらのアクリルエステル、例えば、メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
ヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ラウ
リル、２−エチルヘキシルメタクリレート、アクリル酸
ノニル、メタクリル酸ベンジル；同じ酸のヒドロキシア
ルキルエステル、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、及び２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート；同じ酸のニトリ
ル及びアミド、例えば、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、アクリルアミド及びメタクリルアミド、酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニル、塩化ビニリデン、塩化ビ
ニル；ならびにビニル芳香族化合物、例えば、スチレ
ン、ｔ−ブチルスチレン、エチルビニルベンゼン、ビニ
ルトルエン、マレイン酸ジアルキル、イタコン酸ジアル
キル、ジアルキルメチレン−マロネート、イソプレン及
びブタジエン。
官能価エチレン列不飽和モノマーとしては、例えば、以
下のモノマー及びそれらの混合物が挙げられる：アクリ
ル酸モノマー、例えば、アクリル酸もしくはメタクリル
酸、及びそれらのアクリルエステル、例えば、メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
ヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ラウ
リル、２−エチルヘキシルメタクリレート、アクリル酸
ノニル、メタクリル酸ベンジル；同じ酸のヒドロキシア
ルキルエステル、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、及び２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート；同じ酸のニトリ
ル及びアミド、例えば、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、アクリルアミド及びメタクリルアミド、酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニル、塩化ビニリデン、塩化ビ
ニル；ならびにビニル芳香族化合物、例えば、スチレ
ン、ｔ−ブチルスチレン、エチルビニルベンゼン、ビニ
ルトルエン、マレイン酸ジアルキル、イタコン酸ジアル
キル、ジアルキルメチレン−マロネート、イソプレン及
びブタジエン。
【００１７】一般に、ポリマー粒子中に存在する紫外線
吸収剤の量は、紫外線吸収剤対ポリマーの重量比に換算
して１：４０〜３：１の範囲であることができる。重量
比は好ましくは１：１０〜２：１、最も好ましくは１：
５〜１：１の範囲である。本発明の実施に使用できる紫
外線吸収剤の種類は特に限定されないが、それらの吸収
極大波長は３００〜４００nmの範囲であり、要素の画像
形成特性に有害な影響を及ぼさないものである。このよ
うなＵＶ化合物は、チアゾリドン型、ベンゾトリアゾー
ル型、桂皮酸エステル型、ベンゾフェノン型及びアミノ
ブタジエン型の紫外線吸収剤を含み、例えば、米国特許
第１，０２３，８５９号、同第２，６８５，５１２号、
同第２，７３９，８８８号、同第２，７４８，０２１
号、同第３，００４，８９６号、同第３，０５２，６３
６号、同第３，２１５，５３０号、同第３，２５３，９
２１号、同第３，５３３，７９４号、同第３，６９２，
５２５号、同第３，７０５，８０５号、同第３，７０
７，３７５号、同第３，７３８，８３７号及び同第３，
７５４，９１９号ならびに英国特許第１，３２１，３５
５号に詳述されている。
吸収剤の量は、紫外線吸収剤対ポリマーの重量比に換算
して１：４０〜３：１の範囲であることができる。重量
比は好ましくは１：１０〜２：１、最も好ましくは１：
５〜１：１の範囲である。本発明の実施に使用できる紫
外線吸収剤の種類は特に限定されないが、それらの吸収
極大波長は３００〜４００nmの範囲であり、要素の画像
形成特性に有害な影響を及ぼさないものである。このよ
うなＵＶ化合物は、チアゾリドン型、ベンゾトリアゾー
ル型、桂皮酸エステル型、ベンゾフェノン型及びアミノ
ブタジエン型の紫外線吸収剤を含み、例えば、米国特許
第１，０２３，８５９号、同第２，６８５，５１２号、
同第２，７３９，８８８号、同第２，７４８，０２１
号、同第３，００４，８９６号、同第３，０５２，６３
６号、同第３，２１５，５３０号、同第３，２５３，９
２１号、同第３，５３３，７９４号、同第３，６９２，
５２５号、同第３，７０５，８０５号、同第３，７０
７，３７５号、同第３，７３８，８３７号及び同第３，
７５４，９１９号ならびに英国特許第１，３２１，３５
５号に詳述されている。
【００１８】本発明の実施に有用な、好ましい紫外線吸
収剤は式（II）で表される。
収剤は式（II）で表される。
【００１９】
【化１】
【００２０】［式中、Ｒ4 は同一であっても異なっても
よく、各々、水素原子もしくはハロゲン原子、アルキル
基、炭素数６〜２０のアリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミ
ン基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキ
シル基、シアノ基、ニトロ基、アシルアミノ基、スルホ
ニル基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、またはオ
キシカルボニル基を表し、あるいは隣接する２つのＲ4
基は閉環によって５員または６員環を形成できる。Ｒ1
は水素原子、またはアルキル基を表す。Ｒ2 またはＲ3
は各々、シアノ基、−COOR9 、−CO−NHR9、−SO2R9 、
CO−Ｒ9 （式中、Ｒ9 はアルキル基及びアリール基を表
す）を表す。］
よく、各々、水素原子もしくはハロゲン原子、アルキル
基、炭素数６〜２０のアリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミ
ン基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキ
シル基、シアノ基、ニトロ基、アシルアミノ基、スルホ
ニル基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、またはオ
キシカルボニル基を表し、あるいは隣接する２つのＲ4
基は閉環によって５員または６員環を形成できる。Ｒ1
は水素原子、またはアルキル基を表す。Ｒ2 またはＲ3
は各々、シアノ基、−COOR9 、−CO−NHR9、−SO2R9 、
CO−Ｒ9 （式中、Ｒ9 はアルキル基及びアリール基を表
す）を表す。］
【００２１】式（II）で表される最も好ましい紫外線吸
収剤は、式(III) で示される。
収剤は、式(III) で示される。
【００２２】
【化２】
【００２３】以下は、式(III) で示される化合物の限定
例である。 化合物番号 Ｒ10 Ｒ11 Ｒ12 UV−１ H H CO2C16H33 UV−２ CH3 H CO2C16H33 UV−３ CH3 H CO2C3H7 UV−４ CH3 H CO2C12H25 UV−５ CH3 H SO2C12H25 UV−６ OCH3 H CO2C3H7 UV−７ OCH3 H CO2C5H11 UV−８ OCH3 H 2-エチルヘキシル UV−９ OCH3 H CO2C8H17 UV−10 OCH3 H CO2C9H19 UV−11 OCH3 H CO2C10H21 UV−12 OCH3 H CO2C12H25 UV−13 OCH3 H CO2C16H33 UV−14 OCH3 H CO2C18H37 UV−15 OCH3 H SO2C12H25 UV−16 OCH3 H SO2C10H21 UV−17 OCH3 H SO2C8H17 UV−18 OCH3 H SO2C6H13 UV−19 OCH3 H SO2C4H9 UV−20 OCH3 H SO2C3H7 UV−21 OCH3 H SO2CH3 UV−22 OC3H7 H CO2C3H7 UV−22 OC3H7 H CO2C5H11 UV−23 OC3H7 H 2-エチルヘキシル UV−24 OC3H7 H CO2C8H17 UV−25 OC3H7 H CO2C9H19 UV−26 OC3H7 H CO2C10H21 UV−27 OC3H7 H CO2C12H25 UV−28 OC3H7 H CO2C16H33 UV−29 OC3H7 H CO2C18H37 UV−30 OC3H7 H SO2C12H25 UV−31 OC3H7 H SO2C10H21 UV−32 OC3H7 H SO2C8H17 UV−33 OC3H7 H SO2C6H13 UV−34 OC3H7 H SO2C4H9 UV−35 OC3H7 H SO2C3H7 UV−36 OC3H7 H SO2CH3 UV−37 OC2H5 OCH3 CO2C2H5 UV−38 OC4H9 OCH3 CO2C2H5 UV−39 OC6H5 OCH3 CO2C2H52OH UV−40 OCH2C6H5 OH CO2C2H5 UV−41 OC4H9 OCH3 CO2C2H5 UV−42 OCH2OCO2C2H5 OCH3 CONHC6H5 UV−43 OC2H4OCOCH3 OCH3 CONHCH2C6H5
例である。 化合物番号 Ｒ10 Ｒ11 Ｒ12 UV−１ H H CO2C16H33 UV−２ CH3 H CO2C16H33 UV−３ CH3 H CO2C3H7 UV−４ CH3 H CO2C12H25 UV−５ CH3 H SO2C12H25 UV−６ OCH3 H CO2C3H7 UV−７ OCH3 H CO2C5H11 UV−８ OCH3 H 2-エチルヘキシル UV−９ OCH3 H CO2C8H17 UV−10 OCH3 H CO2C9H19 UV−11 OCH3 H CO2C10H21 UV−12 OCH3 H CO2C12H25 UV−13 OCH3 H CO2C16H33 UV−14 OCH3 H CO2C18H37 UV−15 OCH3 H SO2C12H25 UV−16 OCH3 H SO2C10H21 UV−17 OCH3 H SO2C8H17 UV−18 OCH3 H SO2C6H13 UV−19 OCH3 H SO2C4H9 UV−20 OCH3 H SO2C3H7 UV−21 OCH3 H SO2CH3 UV−22 OC3H7 H CO2C3H7 UV−22 OC3H7 H CO2C5H11 UV−23 OC3H7 H 2-エチルヘキシル UV−24 OC3H7 H CO2C8H17 UV−25 OC3H7 H CO2C9H19 UV−26 OC3H7 H CO2C10H21 UV−27 OC3H7 H CO2C12H25 UV−28 OC3H7 H CO2C16H33 UV−29 OC3H7 H CO2C18H37 UV−30 OC3H7 H SO2C12H25 UV−31 OC3H7 H SO2C10H21 UV−32 OC3H7 H SO2C8H17 UV−33 OC3H7 H SO2C6H13 UV−34 OC3H7 H SO2C4H9 UV−35 OC3H7 H SO2C3H7 UV−36 OC3H7 H SO2CH3 UV−37 OC2H5 OCH3 CO2C2H5 UV−38 OC4H9 OCH3 CO2C2H5 UV−39 OC6H5 OCH3 CO2C2H52OH UV−40 OCH2C6H5 OH CO2C2H5 UV−41 OC4H9 OCH3 CO2C2H5 UV−42 OCH2OCO2C2H5 OCH3 CONHC6H5 UV−43 OC2H4OCOCH3 OCH3 CONHCH2C6H5
【００２４】本発明の実施に好ましい第２の紫外線吸収
剤は式（IV）で表される構造を有する：
剤は式（IV）で表される構造を有する：
【００２５】
【化３】
【００２６】［式中、Ｒ13及びＲ14は、同一でも異なっ
てもよく、各々水素原子、アルキル基、アリール基を表
し、Ｒ15及びＲ16は各々、シアノ基、−COOR17、CO
R17 、SO2R 17を表す（Ｒ17はアルキル基またはアリール
基を表す）］。
てもよく、各々水素原子、アルキル基、アリール基を表
し、Ｒ15及びＲ16は各々、シアノ基、−COOR17、CO
R17 、SO2R 17を表す（Ｒ17はアルキル基またはアリール
基を表す）］。
【００２７】本発明の実施に好ましい第３の紫外線吸収
剤は、式（Ｖ）で表される構造を有する：
剤は、式（Ｖ）で表される構造を有する：
【００２８】
【化４】
【００２９】［式中、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及
びＲ23は同一であっても異なってもよく、各々、水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、アルアルキルチオ
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキ
ルスルホニル基、モノもしくはジアルキルアミノ基など
を表す］。
びＲ23は同一であっても異なってもよく、各々、水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、アルアルキルチオ
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキ
ルスルホニル基、モノもしくはジアルキルアミノ基など
を表す］。
【００３０】本発明の紫外線吸収性ポリマー粒子は、種
々の公知の方法、例えば、乳化重合、分散重合、懸濁重
合などによって製造できる（例えば、Padget, J. C., J
ournal of Coating Technology, 66巻、 839号、89〜10
5 頁、1994年；El-Aasser, M. S.及びFitch, R. M.編、
Future Directions in Polymer Colloids, NATO ASISer
ies, 138号、Martinus Nijhoff Publishers, 1987
年；Arshady, R., Colloid & Polymer Science, 1992
年、 270号、 717〜732 頁；Odian, G., Principles of
Polymerization, 第２版、Wiley ( 1981年) ；ならび
にSorenson, W. P.及びCampbell, T. W., Preparation
Method of Polymer Chemistry, 第２版、Wiley ( 1968
年) 参照）。
々の公知の方法、例えば、乳化重合、分散重合、懸濁重
合などによって製造できる（例えば、Padget, J. C., J
ournal of Coating Technology, 66巻、 839号、89〜10
5 頁、1994年；El-Aasser, M. S.及びFitch, R. M.編、
Future Directions in Polymer Colloids, NATO ASISer
ies, 138号、Martinus Nijhoff Publishers, 1987
年；Arshady, R., Colloid & Polymer Science, 1992
年、 270号、 717〜732 頁；Odian, G., Principles of
Polymerization, 第２版、Wiley ( 1981年) ；ならび
にSorenson, W. P.及びCampbell, T. W., Preparation
Method of Polymer Chemistry, 第２版、Wiley ( 1968
年) 参照）。
【００３１】本発明に係る、紫外線吸収性ポリマー粒子
の好ましい製造方法は、限定融合技術（limited coales
cence technique)によるものである。この方法において
は、重合性モノマーと紫外線吸収剤との混合物を、微粒
沈澱防止剤を含む水性媒体に添加して、連続（水）相中
に不連続（油滴）相を形成する。混合物を撹拌による剪
断力、均質化などに供して、液滴の寸法を小さくする。
剪断を中止した後、液滴の表面の被覆における微粒沈澱
防止剤の安定化作用の結果として、液滴の寸法が平衡に
達し、次いで、重合が完了して、ポリマー粒子の水性懸
濁液が形成される。この方法は米国特許第２，９３２，
６２９号；同第５，２７９，９３４号；及び同第５，３
７８，５７７号に記載されており、これらを参照するこ
とによって本明細書中に取り入れる。
の好ましい製造方法は、限定融合技術（limited coales
cence technique)によるものである。この方法において
は、重合性モノマーと紫外線吸収剤との混合物を、微粒
沈澱防止剤を含む水性媒体に添加して、連続（水）相中
に不連続（油滴）相を形成する。混合物を撹拌による剪
断力、均質化などに供して、液滴の寸法を小さくする。
剪断を中止した後、液滴の表面の被覆における微粒沈澱
防止剤の安定化作用の結果として、液滴の寸法が平衡に
達し、次いで、重合が完了して、ポリマー粒子の水性懸
濁液が形成される。この方法は米国特許第２，９３２，
６２９号；同第５，２７９，９３４号；及び同第５，３
７８，５７７号に記載されており、これらを参照するこ
とによって本明細書中に取り入れる。
【００３２】本発明に係る紫外線吸収性ポリマー粒子の
第２の好ましい製造方法は乳化重合によるものである。
この方法においては、紫外線吸収剤を水溶液開始剤及び
界面活性剤と共にエチレン列不飽和モノマーと混合す
る。重合プロセスは普通、遊離基開始剤によって開始す
る。使用する遊離基はどんな種類のものでもよい。好ま
しい開始剤としては、過硫酸塩（例えば、過硫酸アンモ
ニウム、過硫酸カリウムなど）、過酸化物（例えば、過
酸化水素）、アゾ化合物（例えば、アゾビスシアノ吉草
酸）、及びレドックス開始剤（例えば、過酸化水素−鉄
（II）塩、過硫酸カリウム−硫酸水素ナトリウムなど）
が挙げられる。使用できる界面活性剤としては、例え
ば、硫酸塩、スルホン酸塩、陽イオン化合物、両性化合
物、及びポリマー保護コロイドが挙げられる。具体例
は、McCUTCHEON 第Ｉ巻：Emulsifiers& Detergents, 1
995年, North American Editionに記載されている。形
成されるポリマー粒子の性質をコントロールするため
に、連鎖移動剤を使用することもできる。
第２の好ましい製造方法は乳化重合によるものである。
この方法においては、紫外線吸収剤を水溶液開始剤及び
界面活性剤と共にエチレン列不飽和モノマーと混合す
る。重合プロセスは普通、遊離基開始剤によって開始す
る。使用する遊離基はどんな種類のものでもよい。好ま
しい開始剤としては、過硫酸塩（例えば、過硫酸アンモ
ニウム、過硫酸カリウムなど）、過酸化物（例えば、過
酸化水素）、アゾ化合物（例えば、アゾビスシアノ吉草
酸）、及びレドックス開始剤（例えば、過酸化水素−鉄
（II）塩、過硫酸カリウム−硫酸水素ナトリウムなど）
が挙げられる。使用できる界面活性剤としては、例え
ば、硫酸塩、スルホン酸塩、陽イオン化合物、両性化合
物、及びポリマー保護コロイドが挙げられる。具体例
は、McCUTCHEON 第Ｉ巻：Emulsifiers& Detergents, 1
995年, North American Editionに記載されている。形
成されるポリマー粒子の性質をコントロールするため
に、連鎖移動剤を使用することもできる。
【００３３】紫外線吸収性ポリマー粒子の表面は反応性
官能基を含むことができ、それが分子間架橋によってま
たは架橋剤（すなわち、硬化剤）との反応によって結合
剤と共有結合を形成する。適当な反応性官能基としては
以下のものが挙げられる：ヒドロキシル、カルボキシ
ル、カルボジイミド、エポキシド、アジリジン、ビニル
スルホン、スルフィン酸、活性メチレン、アミノ、アミ
ド、アリルなど。存在する反応性基の量に特に制限はな
いが、それらの濃度は好ましくは０．５〜１０重量％の
範囲である。粒子表面は、米国特許第４，８５５，２１
９号に記載されたようなゼラチンの層で取り囲むことが
できる。
官能基を含むことができ、それが分子間架橋によってま
たは架橋剤（すなわち、硬化剤）との反応によって結合
剤と共有結合を形成する。適当な反応性官能基としては
以下のものが挙げられる：ヒドロキシル、カルボキシ
ル、カルボジイミド、エポキシド、アジリジン、ビニル
スルホン、スルフィン酸、活性メチレン、アミノ、アミ
ド、アリルなど。存在する反応性基の量に特に制限はな
いが、それらの濃度は好ましくは０．５〜１０重量％の
範囲である。粒子表面は、米国特許第４，８５５，２１
９号に記載されたようなゼラチンの層で取り囲むことが
できる。
【００３４】本発明の実施においては、任意の適当な結
合剤を使用できる。これらの結合剤としては、ゼラチン
のような親水性コロイド及び疎水性ポリマー樹脂結合剤
が挙げられる。結合剤及び紫外線吸収性粒子の実際量
は、用途の種類に応じて変化させる。結合剤は、紫外線
吸収性粒子に対する重量比、好ましくは１：１００〜１
００：１、より好ましくは２０：８０〜９５：５で塗布
する。
合剤を使用できる。これらの結合剤としては、ゼラチン
のような親水性コロイド及び疎水性ポリマー樹脂結合剤
が挙げられる。結合剤及び紫外線吸収性粒子の実際量
は、用途の種類に応じて変化させる。結合剤は、紫外線
吸収性粒子に対する重量比、好ましくは１：１００〜１
００：１、より好ましくは２０：８０〜９５：５で塗布
する。
【００３５】有用な樹脂結合剤としては、ポリウレタン
（例えば、ＩＣＩによって販売されているＮｅｏｒｅｚ
Ｒ９６０）、酢酸セルロース（たとえば、二酢酸セル
ロース、セルロースアセテートブチレート、セルロース
アセテートプロピオネート）、ポリ（メチルメタクリレ
ート）、ポリエステル（例えば、Goodyear Tire & Rubb
er Co.によって販売されているVitel R ）、ポリアミド
（例えば、Union Campによって販売されているUnirez、
General Electric Co.によって販売されているVesamid
e）、ポリカーボネート（例えば、Mobay Chemical Co.
によって販売されているMakrolon，General Electric C
o.によって販売されているLexan ）、ポリビニルアセテ
ートなどが挙げられる。
（例えば、ＩＣＩによって販売されているＮｅｏｒｅｚ
Ｒ９６０）、酢酸セルロース（たとえば、二酢酸セル
ロース、セルロースアセテートブチレート、セルロース
アセテートプロピオネート）、ポリ（メチルメタクリレ
ート）、ポリエステル（例えば、Goodyear Tire & Rubb
er Co.によって販売されているVitel R ）、ポリアミド
（例えば、Union Campによって販売されているUnirez、
General Electric Co.によって販売されているVesamid
e）、ポリカーボネート（例えば、Mobay Chemical Co.
によって販売されているMakrolon，General Electric C
o.によって販売されているLexan ）、ポリビニルアセテ
ートなどが挙げられる。
【００３６】本発明の実施には任意の適当な親水性結合
剤、例えば、天然物質、例えば、蛋白質、蛋白質誘導
体、セルロース誘導体（例えば、セルロースエステ
ル）、多糖類、カゼインなど、ならびに合成透水性コロ
イド、例えば、ポリ（ビニルラクタム）、アクリルアミ
ドポリマー、ポリ（ビニルアルコール）及びその誘導
体、加水分解ポリビニルアセテート、アルキル及びスル
ホアルキルアクリレート及びメタクリレートのポリマ
ー、ポリアミド、ポリビニルピリジン、アクリル酸ポリ
マー、無水マレイン酸コポリマー、ポリアルキレンオキ
シド、メタクリルアミドコポリマー、ポリビニルオキサ
ゾリジノン、マレイン酸コポリマー、ビニルアミンコポ
リマー、メタクリル酸コポリマー、アクリロイルオキシ
アルキルスルホン酸コポリマー、ビニルイミダゾールコ
ポリマー、ビニルスルフィドコポリマー、スチレンスル
ホン酸を含むホモポリマーまたはコポリマーなどを使用
できる。ゼラチンが最も好ましい親水性結合剤である。
剤、例えば、天然物質、例えば、蛋白質、蛋白質誘導
体、セルロース誘導体（例えば、セルロースエステ
ル）、多糖類、カゼインなど、ならびに合成透水性コロ
イド、例えば、ポリ（ビニルラクタム）、アクリルアミ
ドポリマー、ポリ（ビニルアルコール）及びその誘導
体、加水分解ポリビニルアセテート、アルキル及びスル
ホアルキルアクリレート及びメタクリレートのポリマ
ー、ポリアミド、ポリビニルピリジン、アクリル酸ポリ
マー、無水マレイン酸コポリマー、ポリアルキレンオキ
シド、メタクリルアミドコポリマー、ポリビニルオキサ
ゾリジノン、マレイン酸コポリマー、ビニルアミンコポ
リマー、メタクリル酸コポリマー、アクリロイルオキシ
アルキルスルホン酸コポリマー、ビニルイミダゾールコ
ポリマー、ビニルスルフィドコポリマー、スチレンスル
ホン酸を含むホモポリマーまたはコポリマーなどを使用
できる。ゼラチンが最も好ましい親水性結合剤である。
【００３７】本発明の実施には、ゼラチンを他の水分散
性ポリマーと一緒に結合剤として使用できる。水分散性
ポリマーは感光層または光不感受性層に添加することが
できる。適当な水分散性ポリマーは、合成及び天然の両
方の水分散性ポリマーを含む。合成水分散性ポリマー
は、非イオン基、陰イオン基、または非イオン基及び陰
イオン基を分子構造中に含むことができる。非イオン基
は、例えば、エーテル基、エチレンオキシド基、アミド
基、またはヒドロキシル基であることができる。陰イオ
ン基は例えば、スルホン酸基もしくはその塩、カルボン
酸基もしくはその塩、または燐酸基もしくはその塩であ
ることができる。天然水溶性ポリマーは非イオン基、陰
イオン基、または非イオン基及び陰イオン基を分子構造
内に含むことができる。水分散性ポリマーは本発明の写
真材料中に、ゼラチンの全塗布量に基づき、好ましくは
少なくとも０．５％、より好ましくは１〜５０％、最も
好ましくは２〜３０％で混和できる。
性ポリマーと一緒に結合剤として使用できる。水分散性
ポリマーは感光層または光不感受性層に添加することが
できる。適当な水分散性ポリマーは、合成及び天然の両
方の水分散性ポリマーを含む。合成水分散性ポリマー
は、非イオン基、陰イオン基、または非イオン基及び陰
イオン基を分子構造中に含むことができる。非イオン基
は、例えば、エーテル基、エチレンオキシド基、アミド
基、またはヒドロキシル基であることができる。陰イオ
ン基は例えば、スルホン酸基もしくはその塩、カルボン
酸基もしくはその塩、または燐酸基もしくはその塩であ
ることができる。天然水溶性ポリマーは非イオン基、陰
イオン基、または非イオン基及び陰イオン基を分子構造
内に含むことができる。水分散性ポリマーは本発明の写
真材料中に、ゼラチンの全塗布量に基づき、好ましくは
少なくとも０．５％、より好ましくは１〜５０％、最も
好ましくは２〜３０％で混和できる。
【００３８】本発明の画像要素は少なくとも１層の導電
性層を含むことができる。これは、表面保護層または下
塗り層であることができる。支持体の少なくとも一方の
表面の表面抵抗率は、２５℃及び相対湿度２０％におい
て好ましくは１×１０12Ω／□未満、より好ましくは１
×１０11Ω／□未満である。表面抵抗率を低下させるた
めに好ましい方法は、少なくとも１種の導電性材料を導
電性層に混和することである。このような材料として
は、導電性金属酸化物及び導電性ポリマーまたはオリゴ
マー化合物が挙げられる。このような材料は例えば、米
国特許第４，２０３，７６９号；同第４，２３７，１９
４号；同第４，２７２，６１６号；同第４，５４２，０
９５号；同第４，５８２，７８１号；同第４，６１０，
９５５号；同第４，９１６，０１１号；及び同第５，３
４０，６７６号に詳述されている。
性層を含むことができる。これは、表面保護層または下
塗り層であることができる。支持体の少なくとも一方の
表面の表面抵抗率は、２５℃及び相対湿度２０％におい
て好ましくは１×１０12Ω／□未満、より好ましくは１
×１０11Ω／□未満である。表面抵抗率を低下させるた
めに好ましい方法は、少なくとも１種の導電性材料を導
電性層に混和することである。このような材料として
は、導電性金属酸化物及び導電性ポリマーまたはオリゴ
マー化合物が挙げられる。このような材料は例えば、米
国特許第４，２０３，７６９号；同第４，２３７，１９
４号；同第４，２７２，６１６号；同第４，５４２，０
９５号；同第４，５８２，７８１号；同第４，６１０，
９５５号；同第４，９１６，０１１号；及び同第５，３
４０，６７６号に詳述されている。
【００３９】本発明の被覆組成物は、多数の公知の方
法、例えば、浸漬被覆、ロッドコーティング、ナイフ塗
布、エアナイフ塗布、グラビア塗布及びリバースロール
塗布、押出被覆、スライドコーティング、流し塗りなど
のいずれかによって適用できる。紫外線吸収性粒子及び
結合剤を液体媒体中で一緒に混合して、被覆組成物を形
成する。塗布後、層は一般には単純な蒸発によって乾燥
させるが、対流加熱のような公知の方法で加速すること
ができる。公知の塗布及び乾燥方法は、１９８９年１２
月に発行されたResearch Disclosure 308号、1007〜10
08頁にさらに詳述されている。
法、例えば、浸漬被覆、ロッドコーティング、ナイフ塗
布、エアナイフ塗布、グラビア塗布及びリバースロール
塗布、押出被覆、スライドコーティング、流し塗りなど
のいずれかによって適用できる。紫外線吸収性粒子及び
結合剤を液体媒体中で一緒に混合して、被覆組成物を形
成する。塗布後、層は一般には単純な蒸発によって乾燥
させるが、対流加熱のような公知の方法で加速すること
ができる。公知の塗布及び乾燥方法は、１９８９年１２
月に発行されたResearch Disclosure 308号、1007〜10
08頁にさらに詳述されている。
【００４０】
【実施例】本発明を実施例に関してさらに詳述するが、
これらの実施例は本発明を限定するものではない。遊離基乳化重合による紫外線吸収性ポリマー粒子の製造
これらの実施例は本発明を限定するものではない。遊離基乳化重合による紫外線吸収性ポリマー粒子の製造
【００４１】例１（本発明例）：プロピル１，２−シア
ノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエー
ト紫外線吸収剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水５５９．４５ｇを含む撹拌反応器を、１時間
８０℃に加熱し且つＮ 2 をパージしてから、脱イオン水
中１０％ Rhodapex CO-436 (Rhone-Poulenc)２０ｇ、Na
HCO3０．２ｇ、過硫酸カリウム０．３ｇ、メタ重硫酸ナ
トリウム０．０５ｇ及びアクリル酸エチル２０ｇを順次
添加する。反応をさらに２時間続けさせる。次いで、反
応器に脱イオン水２０ｇ中４，４−アゾビス（４−シア
ノ吉草酸）０．２ｇを添加する。脱イオン水１８９ｇ、
脱イオン水中１０％ Rhodapex CO-436 ３０ｇ、メタク
リルアミド１０ｇ、エチレングリコールジメタクリレー
ト４ｇ、アクリル酸エチル１００ｇ、４，４−アゾヒス
（４−シアノ吉草酸）０．８ｇ及びプロピル１，２−シ
アノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエ
ート６６ｇを含む乳濁液を１時間の間に連続して添加す
る。反応をさらに３時間続けさせてから、反応器を室温
まで冷却する。得られたラテックスを、超微細フィルタ
ー（５μｍカットオフ）を通して濾過して、凝塊を全て
除去する。得られたポリマー粒子は多官能価モノマーエ
チレングリコールジメタクリレートを含み、ポリマー対
紫外線吸収剤の比は２：１である。また、このポリマー
粒子は４℃で貯蔵した時、５週間を超えてもポリマー粒
子外側の水相中におけるＵＶ吸収剤の結晶化に対して安
定である。
ノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエー
ト紫外線吸収剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水５５９．４５ｇを含む撹拌反応器を、１時間
８０℃に加熱し且つＮ 2 をパージしてから、脱イオン水
中１０％ Rhodapex CO-436 (Rhone-Poulenc)２０ｇ、Na
HCO3０．２ｇ、過硫酸カリウム０．３ｇ、メタ重硫酸ナ
トリウム０．０５ｇ及びアクリル酸エチル２０ｇを順次
添加する。反応をさらに２時間続けさせる。次いで、反
応器に脱イオン水２０ｇ中４，４−アゾビス（４−シア
ノ吉草酸）０．２ｇを添加する。脱イオン水１８９ｇ、
脱イオン水中１０％ Rhodapex CO-436 ３０ｇ、メタク
リルアミド１０ｇ、エチレングリコールジメタクリレー
ト４ｇ、アクリル酸エチル１００ｇ、４，４−アゾヒス
（４−シアノ吉草酸）０．８ｇ及びプロピル１，２−シ
アノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエ
ート６６ｇを含む乳濁液を１時間の間に連続して添加す
る。反応をさらに３時間続けさせてから、反応器を室温
まで冷却する。得られたラテックスを、超微細フィルタ
ー（５μｍカットオフ）を通して濾過して、凝塊を全て
除去する。得られたポリマー粒子は多官能価モノマーエ
チレングリコールジメタクリレートを含み、ポリマー対
紫外線吸収剤の比は２：１である。また、このポリマー
粒子は４℃で貯蔵した時、５週間を超えてもポリマー粒
子外側の水相中におけるＵＶ吸収剤の結晶化に対して安
定である。
【００４２】例２（比較例）：プロピル１，２−シアノ
−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエート
紫外線吸収剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水５５９．４５ｇを含む撹拌反応器を１時間の
間、８０℃に加熱し且つＮ2 をパージしてから、脱イオ
ン水中１０％ Rhodapex CO-436 (Rhone-Poulenc)１５
ｇ、過硫酸カリウム０．７５ｇ、メタ重硫酸ナトリウム
０．０５ｇを順次添加する。アクリル酸エチル１０ｇ、
１０％ Rhodapex CO-436 ５ｇ、脱イオン水４０ｇを含
む乳濁液を添加する。反応を２時間続けさせる。脱イオ
ン水１４９．５ｇ、脱イオン水中１０％ Rhodapex CO-4
36 ３０ｇ、メタクリルアミド６．７ｇ、アクリル酸エ
チル１１７．３ｇ、過硫酸カリウム０．２５ｇ及びプロ
ピル１，２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−
２−プロペノエート６６ｇを含む乳濁液を１時間の間に
連続して添加する。反応をさらに３時間続けさせてか
ら、反応器を室温まで冷却する。得られたラテックス
を、超微細フィルター（カットオフ５μｍ）を通して濾
過して、凝塊を全て除去する。得られたポリマー粒子は
多官能価エチレン列不飽和モノマーを含まず、ポリマー
対紫外線吸収剤の比は２：１である。また、４℃で２日
間貯蔵した時、ポリマー粒子外側の水相中におけるプロ
ピル１，２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−
２−プロペノエートは大量に結晶化している。
−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエート
紫外線吸収剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水５５９．４５ｇを含む撹拌反応器を１時間の
間、８０℃に加熱し且つＮ2 をパージしてから、脱イオ
ン水中１０％ Rhodapex CO-436 (Rhone-Poulenc)１５
ｇ、過硫酸カリウム０．７５ｇ、メタ重硫酸ナトリウム
０．０５ｇを順次添加する。アクリル酸エチル１０ｇ、
１０％ Rhodapex CO-436 ５ｇ、脱イオン水４０ｇを含
む乳濁液を添加する。反応を２時間続けさせる。脱イオ
ン水１４９．５ｇ、脱イオン水中１０％ Rhodapex CO-4
36 ３０ｇ、メタクリルアミド６．７ｇ、アクリル酸エ
チル１１７．３ｇ、過硫酸カリウム０．２５ｇ及びプロ
ピル１，２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−
２−プロペノエート６６ｇを含む乳濁液を１時間の間に
連続して添加する。反応をさらに３時間続けさせてか
ら、反応器を室温まで冷却する。得られたラテックス
を、超微細フィルター（カットオフ５μｍ）を通して濾
過して、凝塊を全て除去する。得られたポリマー粒子は
多官能価エチレン列不飽和モノマーを含まず、ポリマー
対紫外線吸収剤の比は２：１である。また、４℃で２日
間貯蔵した時、ポリマー粒子外側の水相中におけるプロ
ピル１，２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−
２−プロペノエートは大量に結晶化している。
【００４３】例３（本発明例）：プロピル１，２−シア
ノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエー
ト紫外線吸収剤及び３−ジ−ｎ−ヘキシルアミノアリリ
デンマロノニトリル紫外線吸収剤を含浸させたポリマー
粒子 脱イオン水５５９．４５ｇを含む撹拌反応器を、１時間
８０℃に加熱し且つＮ 2 をパージしてから、脱イオン水
中１０％ Triton 770 (Union Carbide) １５ｇ、NaHCO3
０．２ｇ、過硫酸カリウム０．３ｇ及びメタ重硫酸ナト
リウム０．０５ｇを順次添加する。１０％ Triton 770
水溶液５ｇ、脱イオン水４０ｇ及びメタクリル酸エチル
１０ｇを含む乳濁液を反応器に添加する。反応をさらに
２時間続けさせる。次いで、反応器に脱イオン水２０ｇ
中４，４−アゾビス（４−シアノ吉草酸）０．２ｇを添
加する。脱イオン水１４９ｇ、脱イオン水中１０％ Tri
ton 770 ３０ｇ、２−アクリルアミド−２−メチルプロ
パンスルホン酸６ｇ、エチレングリコールジメタクリレ
ート２．４ｇ及びメタクリル酸エチル１０１．６ｇ、
４，４−アゾビス（４−シアノ吉草酸）０．８ｇ、プロ
ピル１，２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−
２−プロペノエート４０ｇならびに３−ジ−ｎ−ヘキシ
ルアミノアリリデン−マロノニトリル４０ｇを含む乳濁
液を１時間の間に連続して添加する。反応をさらに３時
間続けさせてから、反応器を室温まで冷却する。得られ
たラテックスを、超微細フィルター（５μｍカットオ
フ）を通して濾過して、凝塊を全て除去する。得られた
ポリマー粒子は多官能価モノマーエチレングリコールジ
メタクリレートを含み、ポリマー対紫外線吸収剤の比は
１．５：１である。また、このポリマー粒子は４℃で貯
蔵した時、４ヶ月を超えてもポリマー粒子外側の水相中
のＵＶ吸収剤の結晶化または水相中へのＵＶ吸収剤の滲
出に対して安定である。
ノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエー
ト紫外線吸収剤及び３−ジ−ｎ−ヘキシルアミノアリリ
デンマロノニトリル紫外線吸収剤を含浸させたポリマー
粒子 脱イオン水５５９．４５ｇを含む撹拌反応器を、１時間
８０℃に加熱し且つＮ 2 をパージしてから、脱イオン水
中１０％ Triton 770 (Union Carbide) １５ｇ、NaHCO3
０．２ｇ、過硫酸カリウム０．３ｇ及びメタ重硫酸ナト
リウム０．０５ｇを順次添加する。１０％ Triton 770
水溶液５ｇ、脱イオン水４０ｇ及びメタクリル酸エチル
１０ｇを含む乳濁液を反応器に添加する。反応をさらに
２時間続けさせる。次いで、反応器に脱イオン水２０ｇ
中４，４−アゾビス（４−シアノ吉草酸）０．２ｇを添
加する。脱イオン水１４９ｇ、脱イオン水中１０％ Tri
ton 770 ３０ｇ、２−アクリルアミド−２−メチルプロ
パンスルホン酸６ｇ、エチレングリコールジメタクリレ
ート２．４ｇ及びメタクリル酸エチル１０１．６ｇ、
４，４−アゾビス（４−シアノ吉草酸）０．８ｇ、プロ
ピル１，２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−
２−プロペノエート４０ｇならびに３−ジ−ｎ−ヘキシ
ルアミノアリリデン−マロノニトリル４０ｇを含む乳濁
液を１時間の間に連続して添加する。反応をさらに３時
間続けさせてから、反応器を室温まで冷却する。得られ
たラテックスを、超微細フィルター（５μｍカットオ
フ）を通して濾過して、凝塊を全て除去する。得られた
ポリマー粒子は多官能価モノマーエチレングリコールジ
メタクリレートを含み、ポリマー対紫外線吸収剤の比は
１．５：１である。また、このポリマー粒子は４℃で貯
蔵した時、４ヶ月を超えてもポリマー粒子外側の水相中
のＵＶ吸収剤の結晶化または水相中へのＵＶ吸収剤の滲
出に対して安定である。
【００４４】例４（比較例）：プロピル１，２−シアノ
−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエート
紫外線吸収剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水５５９．３９ｇを含む撹拌反応器を、１時間
８０℃に加熱し且つＮ 2 をパージしてから、脱イオン水
中１０％ Rhodapex CO-436 (Rhone-Poulenc)１５ｇ、Na
HCO3０．２２ｇ、過硫酸カリウム０．３４ｇ、メタ重硫
酸ナトリウム０．０６ｇを順次添加する。メタクリル酸
メチル１０ｇ、１０％ Rhodapex CO-436５ｇ、脱イオン
水４０ｇを含む乳濁液を添加する。反応を２時間続けさ
せる。次いで、反応器に脱イオン水２０ｇ中４，４−ア
ゾビス（４−シアノ吉草酸）０．２ｇを添加する。脱イ
オン水１４８．９ｇ、脱イオン水中１０％ Rhodapex CO
-436 ３０ｇ、メタクリル酸メチル１４０ｇ、４，４−
アゾビス（４−シアノ吉草酸）０．９ｇ及びプロピル
１，２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−
プロペノエート５０ｇを含む乳濁液を１時間の間に連続
して添加する。反応をさらに３時間続けさせてから、反
応器を室温まで冷却する。得られたラテックスを、超微
細フィルター（５μｍカットオフ）を通して濾過して、
凝塊を全て除去する。得られたポリマー粒子は多官能価
エチレン列不飽和モノマーを含まず、ポリマー対紫外線
吸収剤の比は３：１である。また、このポリマー粒子は
室温で６日間貯蔵した後、水相中のプロピル１，２−シ
アノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエ
ートが結晶化している。
−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエート
紫外線吸収剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水５５９．３９ｇを含む撹拌反応器を、１時間
８０℃に加熱し且つＮ 2 をパージしてから、脱イオン水
中１０％ Rhodapex CO-436 (Rhone-Poulenc)１５ｇ、Na
HCO3０．２２ｇ、過硫酸カリウム０．３４ｇ、メタ重硫
酸ナトリウム０．０６ｇを順次添加する。メタクリル酸
メチル１０ｇ、１０％ Rhodapex CO-436５ｇ、脱イオン
水４０ｇを含む乳濁液を添加する。反応を２時間続けさ
せる。次いで、反応器に脱イオン水２０ｇ中４，４−ア
ゾビス（４−シアノ吉草酸）０．２ｇを添加する。脱イ
オン水１４８．９ｇ、脱イオン水中１０％ Rhodapex CO
-436 ３０ｇ、メタクリル酸メチル１４０ｇ、４，４−
アゾビス（４−シアノ吉草酸）０．９ｇ及びプロピル
１，２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−
プロペノエート５０ｇを含む乳濁液を１時間の間に連続
して添加する。反応をさらに３時間続けさせてから、反
応器を室温まで冷却する。得られたラテックスを、超微
細フィルター（５μｍカットオフ）を通して濾過して、
凝塊を全て除去する。得られたポリマー粒子は多官能価
エチレン列不飽和モノマーを含まず、ポリマー対紫外線
吸収剤の比は３：１である。また、このポリマー粒子は
室温で６日間貯蔵した後、水相中のプロピル１，２−シ
アノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエ
ートが結晶化している。
【００４５】例５（本発明例）：プロピル１，２−シア
ノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエー
ト紫外線吸収剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水５５９．３９ｇを含む撹拌反応器を、１時間
８０℃に加熱し且つＮ 2 をパージしてから、脱イオン水
中１０％ Rhodapex CO-436 (Rhone-Poulenc)１５ｇ、Na
HCO3０．２２ｇ、過硫酸カリウム０．３４ｇ、メタ重硫
酸ナトリウム０．０６ｇを順次添加する。メタクリル酸
メチル１０ｇ、１０％ Rhodapex CO-436５ｇ、脱イオン
水４０ｇを含む乳濁液を添加する。反応を２時間続けさ
せる。次いで、反応器に脱イオン水２０ｇ中４，４−ア
ゾビス（４−シアノ吉草酸）０．２ｇを添加する。脱イ
オン水１４８．９ｇ、脱イオン水中１０％ Rhodapex CO
-436 ３０ｇ、メタクリル酸メチル１１０ｇ、エチレン
グリコールジメタクリレート３０ｇ、４，４−アゾビス
（４−シアノ吉草酸）０．９ｇ及びプロピル１，２−シ
アノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエ
ート５０ｇを含む乳濁液を１時間の間に連続して添加す
る。反応をさらに３時間続けさせてから、反応器を室温
まで冷却する。得られたラテックスを、超微細フィルタ
ー（カットオフ５μｍ）を通して濾過して、凝塊を全て
除去する。得られたポリマー粒子は、多官能価モノマー
エチレングリコールジメタクリレートを含み、ポリマー
対紫外線吸収剤の比は３：１である。また、このポリマ
ー粒子は室温で貯蔵した時、１０週間を超えてもポリマ
ー粒子外側の水相中におけるＵＶ吸収剤の結晶化に対し
て安定である。
ノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエー
ト紫外線吸収剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水５５９．３９ｇを含む撹拌反応器を、１時間
８０℃に加熱し且つＮ 2 をパージしてから、脱イオン水
中１０％ Rhodapex CO-436 (Rhone-Poulenc)１５ｇ、Na
HCO3０．２２ｇ、過硫酸カリウム０．３４ｇ、メタ重硫
酸ナトリウム０．０６ｇを順次添加する。メタクリル酸
メチル１０ｇ、１０％ Rhodapex CO-436５ｇ、脱イオン
水４０ｇを含む乳濁液を添加する。反応を２時間続けさ
せる。次いで、反応器に脱イオン水２０ｇ中４，４−ア
ゾビス（４−シアノ吉草酸）０．２ｇを添加する。脱イ
オン水１４８．９ｇ、脱イオン水中１０％ Rhodapex CO
-436 ３０ｇ、メタクリル酸メチル１１０ｇ、エチレン
グリコールジメタクリレート３０ｇ、４，４−アゾビス
（４−シアノ吉草酸）０．９ｇ及びプロピル１，２−シ
アノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペノエ
ート５０ｇを含む乳濁液を１時間の間に連続して添加す
る。反応をさらに３時間続けさせてから、反応器を室温
まで冷却する。得られたラテックスを、超微細フィルタ
ー（カットオフ５μｍ）を通して濾過して、凝塊を全て
除去する。得られたポリマー粒子は、多官能価モノマー
エチレングリコールジメタクリレートを含み、ポリマー
対紫外線吸収剤の比は３：１である。また、このポリマ
ー粒子は室温で貯蔵した時、１０週間を超えてもポリマ
ー粒子外側の水相中におけるＵＶ吸収剤の結晶化に対し
て安定である。
【００４６】限定融合重合による紫外線吸収性ポリマー
粒子の製造 例６（本発明例）：プロピル１，２−シアノ−３−（４
−メトキシフェニル）−２−プロペノエート紫外線吸収
剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水１０００ｇ、Ludox TM １１７ｇ及びポリ
（メチルアミノエタノールアジペート）７．７ｇからな
る水相を調製する。メタクリル酸メチル１００ｇ、エチ
レングリコールジメタクリレート２５ｇ、プロピル１，
２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロ
ペノエート５８．３ｇ及び過酸化ラウロイル４ｇからな
るモノマー相を調製する。２つの相を合し、得られた混
合物をGaulinホモジナイザーに３回通す。次いで、混合
物を３リットルのフラスコ中に入れ、撹拌しながら７４
℃において一夜加熱する。混合物を透析して、水混和性
残渣及び不純物を除去する。得られたポリマー粒子は多
官能価モノマーエチレングリコールジメタクリレートを
含み、ポリマー対紫外線吸収剤の比が２：１である。ま
た、このポリマー粒子は、室温で貯蔵した時、２ヶ月を
超えてもポリマー粒子外側の水相中におけるＵＶ吸収剤
の結晶化に対して安定である。
粒子の製造 例６（本発明例）：プロピル１，２−シアノ−３−（４
−メトキシフェニル）−２−プロペノエート紫外線吸収
剤を含浸させたポリマー粒子 脱イオン水１０００ｇ、Ludox TM １１７ｇ及びポリ
（メチルアミノエタノールアジペート）７．７ｇからな
る水相を調製する。メタクリル酸メチル１００ｇ、エチ
レングリコールジメタクリレート２５ｇ、プロピル１，
２−シアノ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロ
ペノエート５８．３ｇ及び過酸化ラウロイル４ｇからな
るモノマー相を調製する。２つの相を合し、得られた混
合物をGaulinホモジナイザーに３回通す。次いで、混合
物を３リットルのフラスコ中に入れ、撹拌しながら７４
℃において一夜加熱する。混合物を透析して、水混和性
残渣及び不純物を除去する。得られたポリマー粒子は多
官能価モノマーエチレングリコールジメタクリレートを
含み、ポリマー対紫外線吸収剤の比が２：１である。ま
た、このポリマー粒子は、室温で貯蔵した時、２ヶ月を
超えてもポリマー粒子外側の水相中におけるＵＶ吸収剤
の結晶化に対して安定である。
【００４７】前記例から、本発明の紫外線吸収性粒子が
貯蔵中における、ポリマー粒子からの紫外線吸収剤の拡
散及び／または結晶化を防ぐことがわかる。このため、
このような紫外線吸収性ポリマー粒子を用いる写真要素
の製造性が改良される。
貯蔵中における、ポリマー粒子からの紫外線吸収剤の拡
散及び／または結晶化を防ぐことがわかる。このため、
このような紫外線吸収性ポリマー粒子を用いる写真要素
の製造性が改良される。
【００４８】本発明を、特にそのいくつかの好ましい実
施態様に関して詳述したが、本発明の精神及び範囲内で
変更及び修正が可能なことを理解されたい。
施態様に関して詳述したが、本発明の精神及び範囲内で
変更及び修正が可能なことを理解されたい。
【００４９】
【本発明の追加の態様】以下に本発明の追加の態様を説
明する。 ２．多官能価エチレン列不飽和モノマーが、不飽和一価
アルコールと不飽和モノカルボン酸とのエステル、ジエ
ン、飽和グリコールまたはジオールと不飽和モノカルボ
ン酸とのエステル、及び多官能価芳香族化合物からなる
群から選ばれる請求項１に記載のポリマー粒子。 ３．一官能価エチレン列不飽和モノマーが、アクリル酸
のアルキルエステル、アクリル酸のヒドロキシアルキル
エステル、アクリル酸のニトリル、アクリル酸のアミド
及びビニル芳香族化合物からなる群から選ばれる請求項
１に記載のポリマー粒子。 ４．紫外線吸収性化合物がチアゾリドン類、ベンゾトリ
アゾール類、桂皮酸エステル類、ベンゾフェノン類及び
アミノブタジエン類からなる群から選ばれる請求項１に
記載のポリマー粒子。 ５．紫外線吸収性化合物が一般式（II）：
明する。 ２．多官能価エチレン列不飽和モノマーが、不飽和一価
アルコールと不飽和モノカルボン酸とのエステル、ジエ
ン、飽和グリコールまたはジオールと不飽和モノカルボ
ン酸とのエステル、及び多官能価芳香族化合物からなる
群から選ばれる請求項１に記載のポリマー粒子。 ３．一官能価エチレン列不飽和モノマーが、アクリル酸
のアルキルエステル、アクリル酸のヒドロキシアルキル
エステル、アクリル酸のニトリル、アクリル酸のアミド
及びビニル芳香族化合物からなる群から選ばれる請求項
１に記載のポリマー粒子。 ４．紫外線吸収性化合物がチアゾリドン類、ベンゾトリ
アゾール類、桂皮酸エステル類、ベンゾフェノン類及び
アミノブタジエン類からなる群から選ばれる請求項１に
記載のポリマー粒子。 ５．紫外線吸収性化合物が一般式（II）：
【化５】 ［式中、Ｒ4 は独立して、水素、ハロゲン、アルキル、
炭素数６〜２０のアリール、アルコキシ、アリールオキ
シ、アルキルチオ、アリールチオ、アミン、アルキルア
ミノ、アリールアミノ、ヒドロキシル、シアノ、ニト
ロ、アシルアミノ、スルホニル、スルファミド、アシル
オキシ及びオキシカルボニルからなる群から選ばれ；Ｒ
1 は水素またはアルキルであり；Ｒ2 及びＲ3 は独立し
て、シアノ、−COOR9 、CONHR9、SO2R9 （式中、Ｒ9 は
アルキルまたはアリール基である）からなる群から選ば
れる］を有する請求項１に記載のポリマー粒子。 ６．紫外線吸収性化合物が一般式（IV）：
炭素数６〜２０のアリール、アルコキシ、アリールオキ
シ、アルキルチオ、アリールチオ、アミン、アルキルア
ミノ、アリールアミノ、ヒドロキシル、シアノ、ニト
ロ、アシルアミノ、スルホニル、スルファミド、アシル
オキシ及びオキシカルボニルからなる群から選ばれ；Ｒ
1 は水素またはアルキルであり；Ｒ2 及びＲ3 は独立し
て、シアノ、−COOR9 、CONHR9、SO2R9 （式中、Ｒ9 は
アルキルまたはアリール基である）からなる群から選ば
れる］を有する請求項１に記載のポリマー粒子。 ６．紫外線吸収性化合物が一般式（IV）：
【化６】 ［式中、Ｒ13及びＲ14は独立して水素、アルキル及びア
リールからなる群から選ばれ、Ｒ15及びＲ16は独立して
シアノ、−COOR17、COR17 及びSO2R17（式中、Ｒ 17はア
ルキル及びアリールからなる群から選ばれる）から選ば
れる］を有する請求項１に記載のポリマー粒子。 ７．紫外線吸収性化合物が一般式（Ｖ）：
リールからなる群から選ばれ、Ｒ15及びＲ16は独立して
シアノ、−COOR17、COR17 及びSO2R17（式中、Ｒ 17はア
ルキル及びアリールからなる群から選ばれる）から選ば
れる］を有する請求項１に記載のポリマー粒子。 ７．紫外線吸収性化合物が一般式（Ｖ）：
【化７】 ［式中、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は独立
して水素、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシル、アルキ
ル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アルキル
チオ、アリールチオ、アルアルキルチオ、アルコキシカ
ルボニル、カルバモイル、アルキルスルホニル及びモノ
もしくはジアルキルアミノからなる群から選ばれる］を
有する請求項１に記載のポリマー粒子。 ８．支持体、少なくとも１層の感光層、ならびに紫外線
吸収性化合物及び式（Ｉ） （Ａ）x （Ｂ）y ［式中、Ａは多官能価エチレン列不飽和モノマーであ
り、Ｂは一官能価エチレン列不飽和モノマーであり、ｘ
は０．１〜９０モル％であり、且つｙは（１００−ｘ）
モル％である］のポリマーを含んでなる紫外線吸収性ポ
リマー粒子を含む少なくとも１層の層を含んでなる画像
形成要素。 ９．多官能価エチレン列不飽和モノマーが、不飽和一価
アルコールと不飽和モノカルボン酸とのエステル、ジエ
ン、飽和グリコールまたはジオールと不飽和モノカルボ
ン酸とのエステル、及び多官能価芳香族化合物からなる
群から選ばれる前記８項に記載の画像形成要素。 １０．一官能価エチレン列不飽和モノマーが、アクリル
酸のアルキルエステル、アクリル酸のヒドロキシアルキ
ルエステル、アクリル酸のニトリル、アクリル酸のアミ
ド及びビニル芳香族化合物からなる群から選ばれる前記
８項に記載の画像形成要素。 １１．紫外線吸収性化合物がチアゾリドン類、ベンゾト
リアゾール類、桂皮酸エステル類、ベンゾフェノン類及
びアミノブタジエン類からなる群から選ばれる前記８項
に記載の画像形成要素。 １２．紫外線吸収性化合物が一般式（II）：
して水素、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシル、アルキ
ル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アルキル
チオ、アリールチオ、アルアルキルチオ、アルコキシカ
ルボニル、カルバモイル、アルキルスルホニル及びモノ
もしくはジアルキルアミノからなる群から選ばれる］を
有する請求項１に記載のポリマー粒子。 ８．支持体、少なくとも１層の感光層、ならびに紫外線
吸収性化合物及び式（Ｉ） （Ａ）x （Ｂ）y ［式中、Ａは多官能価エチレン列不飽和モノマーであ
り、Ｂは一官能価エチレン列不飽和モノマーであり、ｘ
は０．１〜９０モル％であり、且つｙは（１００−ｘ）
モル％である］のポリマーを含んでなる紫外線吸収性ポ
リマー粒子を含む少なくとも１層の層を含んでなる画像
形成要素。 ９．多官能価エチレン列不飽和モノマーが、不飽和一価
アルコールと不飽和モノカルボン酸とのエステル、ジエ
ン、飽和グリコールまたはジオールと不飽和モノカルボ
ン酸とのエステル、及び多官能価芳香族化合物からなる
群から選ばれる前記８項に記載の画像形成要素。 １０．一官能価エチレン列不飽和モノマーが、アクリル
酸のアルキルエステル、アクリル酸のヒドロキシアルキ
ルエステル、アクリル酸のニトリル、アクリル酸のアミ
ド及びビニル芳香族化合物からなる群から選ばれる前記
８項に記載の画像形成要素。 １１．紫外線吸収性化合物がチアゾリドン類、ベンゾト
リアゾール類、桂皮酸エステル類、ベンゾフェノン類及
びアミノブタジエン類からなる群から選ばれる前記８項
に記載の画像形成要素。 １２．紫外線吸収性化合物が一般式（II）：
【化８】 ［式中、Ｒ4 は独立して、水素、ハロゲン、アルキル、
炭素数６〜２０のアリール、アルコキシ、アリールオキ
シ、アルキルチオ、アリールチオ、アミン、アルキルア
ミノ、アリールアミノ、ヒドロキシル、シアノ、ニト
ロ、アシルアミノ、スルホニル、スルファミド、アシル
オキシ及びオキシカルボニルからなる群から選ばれ；Ｒ
1 は水素またはアルキルであり；Ｒ2 及びＲ3 は独立し
て、シアノ、−COOR9 、CONHR9、SO2R9 （式中、Ｒ9 は
アルキルまたはアリール基である）からなる群から選ば
れる］を有する前記８項に記載の画像形成要素。 １３．紫外線吸収性化合物が一般式（IV）：
炭素数６〜２０のアリール、アルコキシ、アリールオキ
シ、アルキルチオ、アリールチオ、アミン、アルキルア
ミノ、アリールアミノ、ヒドロキシル、シアノ、ニト
ロ、アシルアミノ、スルホニル、スルファミド、アシル
オキシ及びオキシカルボニルからなる群から選ばれ；Ｒ
1 は水素またはアルキルであり；Ｒ2 及びＲ3 は独立し
て、シアノ、−COOR9 、CONHR9、SO2R9 （式中、Ｒ9 は
アルキルまたはアリール基である）からなる群から選ば
れる］を有する前記８項に記載の画像形成要素。 １３．紫外線吸収性化合物が一般式（IV）：
【化９】 ［式中、Ｒ13及びＲ14は独立して水素、アルキル及びア
リールからなる群から選ばれ、Ｒ15及びＲ16は独立して
シアノ、−COOR17、COR17 及びSO2R17（式中、Ｒ 17はア
ルキル及びアリールからなる群から選ばれる）から選ば
れる］を有する前記８項に記載の画像形成要素。 １４．紫外線吸収性化合物が一般式（Ｖ）：
リールからなる群から選ばれ、Ｒ15及びＲ16は独立して
シアノ、−COOR17、COR17 及びSO2R17（式中、Ｒ 17はア
ルキル及びアリールからなる群から選ばれる）から選ば
れる］を有する前記８項に記載の画像形成要素。 １４．紫外線吸収性化合物が一般式（Ｖ）：
【化１０】 ［式中、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は独立
して水素、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシル、アルキ
ル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アルキル
チオ、アリールチオ、アルアルキルチオ、アルコキシカ
ルボニル、カルバモイル、アルキルスルホニル及びモノ
もしくはジアルキルアミノからなる群から選ばれる］を
有する前記８項に記載の画像形成要素。
して水素、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシル、アルキ
ル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アルキル
チオ、アリールチオ、アルアルキルチオ、アルコキシカ
ルボニル、カルバモイル、アルキルスルホニル及びモノ
もしくはジアルキルアミノからなる群から選ばれる］を
有する前記８項に記載の画像形成要素。
フロントページの続き (72)発明者 ポール イー ウッドゲイト アメリカ合衆国，ニューヨーク 14559 スペンサーポート，コルビー ストリート 665
Claims (1)
- 【請求項１】 紫外線吸収性化合物、及び式（Ｉ） （Ａ）x （Ｂ）y （Ｉ） ［式中、Ａは多官能価エチレン列不飽和モノマーであ
り、 Ｂは一官能価エチレン列不飽和モノマーであり、 ｘは０．１〜９０モル％であり、且つｙは（１００−
ｘ）モル％である］のポリマーを含んでなる紫外線吸収
性ポリマー粒子。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US69874696A | 1996-08-16 | 1996-08-16 | |
| US08/698746 | 1996-08-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10120859A true JPH10120859A (ja) | 1998-05-12 |
Family
ID=24806507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22044697A Pending JPH10120859A (ja) | 1996-08-16 | 1997-08-15 | 紫外線吸収性ポリマー粒子 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0825484A3 (ja) |
| JP (1) | JPH10120859A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009157159A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Fujifilm Corp | ホログラフィック記録用化合物、ホログラフィック記録用組成物、およびホログラフィック記録媒体 |
| JP2009157158A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Fujifilm Corp | ホログラフィック記録用化合物、ホログラフィック記録用組成物、およびホログラフィック記録媒体 |
| JP2010077273A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | 透明膜形成用組成物、透明膜、カラーフィルタ用下地透明膜及び固体撮像素子 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1248387A (en) * | 1983-12-16 | 1989-01-10 | Herbert D. Remley | Elements having hydrophilic layers containing hydrophobes in polymer particles and a method of making same |
| IT1188210B (it) * | 1985-12-20 | 1988-01-07 | Minnesota Mining & Mfg | Elemento fotografico agli alogenuri d'argentom composizione di stesa fotografica e procedimento per preparare una dispersione acquosa di un composto idrofobo |
| EP0266410B1 (en) * | 1986-05-01 | 1990-09-19 | EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) | Imaging elements having hydrophilic layers containing hydrophobes in polymer particles and method for manufacture thereof |
| DE19536376A1 (de) * | 1995-09-29 | 1996-05-15 | Agfa Gevaert Ag | Fotografisches Material |
-
1997
- 1997-07-31 EP EP97113186A patent/EP0825484A3/en not_active Withdrawn
- 1997-08-15 JP JP22044697A patent/JPH10120859A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009157159A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Fujifilm Corp | ホログラフィック記録用化合物、ホログラフィック記録用組成物、およびホログラフィック記録媒体 |
| JP2009157158A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Fujifilm Corp | ホログラフィック記録用化合物、ホログラフィック記録用組成物、およびホログラフィック記録媒体 |
| JP2010077273A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | 透明膜形成用組成物、透明膜、カラーフィルタ用下地透明膜及び固体撮像素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0825484A2 (en) | 1998-02-25 |
| EP0825484A3 (en) | 1998-04-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5948605A (en) | Ultraviolet ray absorbing polymer latex compositions, method of making same, and imaging elements employing such particles | |
| CA1139094A (en) | Antistatic compositions comprising crosslinkable latex binders | |
| JPH04501324A (ja) | 帯電防止層及びバリヤー層からなる写真支持体材料 | |
| US6030699A (en) | UV absorbing polymer particle for use in imaging elements | |
| EP0824219B1 (en) | Imaging element comprising an auxilliary layer coated from coating compositions containing lubricant-loaded, nonaqueous dispersed polymer particles | |
| US4287299A (en) | Process for the production of matting layers | |
| US5279934A (en) | Photographic light-sensitive elements | |
| JPH08248569A (ja) | ポリエステル系写真フィルム用支持体 | |
| JPH1172874A (ja) | 写真要素 | |
| JPH10120859A (ja) | 紫外線吸収性ポリマー粒子 | |
| EP0742479A2 (en) | Lubricant particles, method of preparation, and photographic elements | |
| EP0829760B1 (en) | Imaging element comprising protective overcoat for antistatic layer | |
| US6048678A (en) | Protective overcoat coating compositions | |
| US5723274A (en) | Film former and non-film former coating composition for imaging elements | |
| EP0829758A2 (en) | Photographic paper having a backing layer comprising colloidal inorganic oxide particles, antistatic agent and film forming acrylic binder | |
| US6407160B2 (en) | Non-aqueous composite wax particle dispersion | |
| US6177239B1 (en) | Imaging element | |
| US5786135A (en) | Coating composition for imaging elements | |
| US6048679A (en) | Antistatic layer coating compositions | |
| US6187521B1 (en) | Imaging elements | |
| US5914223A (en) | Photographic element with outer layer having improved physical performance | |
| US6475712B1 (en) | Photographic element having improved surface protective layer containing composite wax particles | |
| EP1016675B1 (en) | Method of preparing a non-aqueous composite wax particle dispersion | |
| JPH1172875A (ja) | 画像形成要素 | |
| US20020004548A1 (en) | Synthesis of matte beads containing carboxylic acid and their use in photographic elements |