JPH10121217A

JPH10121217A - 浸漬部品およびその製造方法

Info

Publication number: JPH10121217A
Application number: JP8291236A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Kurisu; 泰栗栖; Katsumi Ando; 克巳安藤
Original assignee: Nippon Steel Corp
Current assignee: Nippon Steel Corp
Priority date: 1996-10-15
Filing date: 1996-10-15
Publication date: 1998-05-12

Abstract

(57)【要約】【課題】溶融金属中に浸漬させて使用する部品に、耐
食性および耐磨耗性が要求されていた。【解決手段】溶融金属中に浸漬させて使用する部品１
が、その母材２の表面に溶融金属に対して耐食性に優れ
る緻密質金属層３を積層し、この金属層３上に耐磨耗性
に優れるセラミック層４を積層して形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、溶融Ａｌや溶融Ｚ
ｎ等の溶融金属中に浸漬させて使用する浸漬部品および
その製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、連続メッキ設備等において
は、溶融Ａｌや溶融Ｚｎ等の溶融金属中にポットロール
や軸部品を浸漬させて使用している。したがって、ポッ
トロール等の浸漬部品には、溶融金属に対する耐食性が
要求される。また、例えばポットロールは鋼板に摺動接
触し、スリーブはブッシュに摺動接触するため、浸漬部
品には耐磨耗性も要求される。これら二つの要求を満た
すため、従来、浸漬部品の表面には単層の被膜が積層さ
れており、この被膜は金属、サーメットまたはセラミッ
クにより構成されている。

【０００３】金属被膜に関する技術としては、実開平６
−２０４５２号公報に「亜鉛連続メッキ設備用浸漬ロー
ル」に係る発明が提案されている。この発明は、「亜鉛
連続メッキ設備の亜鉛浴中に浸漬されて使用されるロー
ルの鉄鋼製本体の胴部表面にタングステン溶射層の被膜
が設けられ、好ましくは被覆の厚さが０．０２ないし
１．０ｍｍの範囲である。」ことを要旨としている。こ
の発明によれば、Ｃｏ等の金属バインダーを用いること
なく、母材表面に緻密な被膜を形成して溶融亜鉛からの
浸食を防ぐとともに、被膜上に、浴中に添加されるアル
ミニウム、母材から溶出する鉄および浴の主成分たる亜
鉛との金属間化合物が析出することがなく、耐食性に優
れるというものである。

【０００４】サーメット被膜に関する技術としては、特
開平６−３２２４９９号公報に「耐溶融亜鉛浸食性合金
およびその製法と用途」に係る発明が提案されている。
この発明は、「硼素３〜９ｗｔ％好ましくは６〜８ｗｔ
％を含むＭｏ−Ｂ合金からなるコーティング層を有して
おり、硼素の少なくとも一部がＭｏＢあるいはＭｏ₂Ｂ
の形で存在し、Ｍｏ基質中にＭｏＢあるいはＭｏ₂Ｂの
金属間化合物が析出した合金を形成している。」ことを
要旨としている。この発明によれば、金属間化合物の析
出相が高硬度で耐磨耗性があり、耐食性と同時に耐磨耗
性が求められる用途に好適であるばかりでなく、ＭｏＢ
などの１００％セラミックに比して優れるというもので
ある。

【０００５】また、セラミック被膜に関する技術として
は、特開平６−３３０２７８号公報に「耐溶融金属反応
性粉末組成物とその利用方法および利用物」に係る発明
が提案されている。この発明は、「ＣａＯ、Ｙ₂Ｏ₃、
ＭｇＯ、ＣｅＯ₂およびＨｆＯ₂からなる群から選択さ
れた酸化物で完全安定化または部分安定化されたジルコ
ニア粒子が、珪酸ジルコニウム粒子と均一に混合されて
いる耐溶融金属反応性粉末組成物を溶射する前に、金属
基材上にアンダーコートを付着し、該粉末組成物をアン
ダーコート上に溶射して、Ｘ線相解析により確認される
付着状態が、ＺｒＯ₂・ｘ（ｘはＣａＯ、Ｙ₂Ｏ₃、Ｍ
ｇＯ、ＣｅＯ₂およびＨｆＯ₂からなる群から選択され
る酸化物の少なくとも１種）とＺｒＳｉＯ₄および／ま
たはその分解生成物（ＺｒＯ₂およびＳｉＯ₂）とから
なる付着状態のコーティング層となるようにする。」こ
とを要旨としている。この発明によれば、耐溶融金属反
応性、耐食・耐磨耗性を有するコーティング層を形成す
ることができるというものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、浸漬部品の
表面に単層の金属被膜またはサーメット被膜を積層した
場合、被膜を緻密に施工することはできるが、被膜中の
金属成分が溶融金属中に溶出してしまうため、耐食性お
よび耐磨耗性に劣るという問題があった。

【０００７】また、浸漬部品の表面に単層のセラミック
被膜を積層した場合、セラミックスは耐磨耗性は優れる
が、母材との熱膨張係数の差によって被膜に生じる貫通
クラックを無くすことは不可能であり、貫通クラックか
ら溶融金属が浸入し、母材金属が溶出して、セラミック
被膜が剥離してしまうという問題があった。

【０００８】したがって、単層の金属被膜、サーメット
被膜またはセラミック被膜を積層しても、溶融Ａｌや溶
融Ｚｎ等の溶融金属中に浸漬させて使用する部品の寿命
は、依然として短かった。

【０００９】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、溶融金属中に浸漬させて使用する部品
の磨耗および溶損を抑制することができ、溶融金属中に
浸漬させて使用しても長寿命な浸漬部品およびその製造
方法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明の浸
漬部品によれば、溶融金属中に浸漬させて使用する部品
の母材表面に、溶融金属に対して耐食性に優れる緻密質
金属層を積層し、該金属層上に耐磨耗性に優れるセラミ
ック層を積層したものである。

【００１１】上記部品は、連続メッキ設備の浸漬ロール
として適している。

【００１２】好ましくは、上記溶融金属が溶融Ａｌまた
は溶融Ｚｎであり、上記緻密質金属層がＴｉまたはＣｒ
によって構成されるとともに、上記セラミック層が部分
安定化ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＳｉＯ₄またはこれ
らの混合物によって構成される。

【００１３】また好ましくは、上記緻密質金属層および
セラミック層は、溶射法によって積層される。これら緻
密質金属溶射層およびセラミック溶射層は、５０〜２０
０μｍの厚さで積層されることが好ましい。

【００１４】或いは、上記緻密質金属層およびセラミッ
ク層は、蒸着法によって積層される。これら緻密質金属
蒸着層およびセラミック蒸着層は、１〜１０μｍの厚さ
で積層されることが好ましい。

【００１５】一方、本発明の浸漬部品の製造方法によれ
ば、溶融金属中に浸漬させて使用する部品の母材表面
に、溶射法により溶融金属に対して耐食性に優れる緻密
質金属溶射層を積層した後、該金属層上に、溶射法によ
り耐磨耗性に優れるセラミック溶射層を積層するように
したものである。この溶射法は、プラズマ溶射法または
爆発溶射法であることが好ましい。

【００１６】或いは、溶融金属中に浸漬させて使用する
部品の母材表面に、蒸着法により溶融金属に対して耐食
性に優れる緻密質金属蒸着層を積層した後、該金属層上
に、蒸着法により耐磨耗性に優れるセラミック蒸着層を
積層するようにしたものである。この蒸着法は、物理的
蒸着法または化学的蒸着法であることが好ましい。

【００１７】本発明では、ＴｉまたはＣｒが、耐磨耗性
には劣るが、溶融Ａｌや溶融Ｚｎ等の溶融金属に対して
は耐食性に優れることを見い出し、溶融金属中に浸漬さ
せて使用する部品の母材表面に緻密質金属層として積層
する。さらに、緻密質金属層の上にセラミック層を積層
することにより、耐磨耗性に優れたものとする。したが
って、緻密質金属層およびセラミック層を積層した浸漬
部品は、溶融Ａｌや溶融Ｚｎ等の溶融金属中において
も、長期間の使用に耐え得るものである。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明
に係る浸漬部品の断面構造を示す概略図である。図示す
るように、本実施形態の浸漬部品１は、連続メッキ設備
の浸漬ロール等のように溶融金属中に浸漬させて使用す
る部品の母材２の表面に、緻密質金属層３を積層すると
ともに、この金属層３上にセラミック層４を積層したも
のである。

【００１９】連続メッキ設備の浸漬ロール等が浸漬され
る溶融金属としては、例えば溶融Ａｌや溶融Ｚｎ等が挙
げられる。また、溶融Ａｌや溶融Ｚｎに対して耐食性に
優れる金属としては、例えばＴｉまたはＣｒ等が挙げら
れ、ＴｉまたはＣｒ等により緻密質金属層３を形成す
る。さらに、セラミック層４は、高硬度で耐磨耗性に優
れており、部分安定化ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＳｉ
Ｏ₄またはアルミナジルコン、ジルコニアジルコン等の
混合物によって構成される。

【００２０】緻密質金属層３およびセラミック層４は、
プラズマ溶射法、爆発溶射法またはＨＶＯＦ等の溶射法
によって積層するか、或いは物理的蒸着法（ＰＶＤ）ま
たは化学的蒸着法（ＣＶＤ）等の蒸着法によって積層さ
れる。

【００２１】例えばプラズマ溶射法を採用する場合に
は、浸漬部品の母材２の表面にショットブラスト処理を
施し、プラズマ溶射ガンにより１００〜１５０℃に予熱
した後、ＴｉまたはＣｒの溶射材料を使用して５０〜２
００μｍの厚さの緻密質金属溶射層３を積層する。さら
に、この金属層３上に、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等の溶射
材料を使用して、電流５００Ａ、電圧６５Ｖ、粉末供給
量６０ｇ／分で５０〜２００μｍの厚さのセラミック溶
射層４を積層する。

【００２２】すなわち、緻密質金属溶射層３およびセラ
ミック溶射層４の積層厚さは、５０〜２００μｍとす
る。５０μｍ以上の厚さにしたのは、溶射層には気孔が
多いので、５０μｍ未満の厚さでは薄すぎて耐食性およ
び耐磨耗性の効果がないからである。一方、２００μｍ
以下の厚さにしたのは、２００μｍを超えると溶射層の
施工時の残留応力が大きくなり、剥離してしまうからで
ある。

【００２３】また、ＰＶＤとしてスパッタリング法を採
用する場合には、浸漬部品の母材２の表面をアセトンに
より脱脂後、アルミナグリット（＃３０）を使用して、
圧力４ｋｇでブラスト処理を施し、高周波マグネトロン
スパッタリング装置（〜３×１０の−３Ｔｏｒｒ、アル
ゴンガス周波数１３．５６ＭＨｚ、印加電圧２ｋＶの条
件）を用い、ＴｉまたはＣｒのターゲットを使用して１
〜１０μｍの厚さの緻密質金属蒸着層３を積層する。さ
らに、この金属層３上に、高周波マグネトロンスパッタ
リング装置（〜３×１０の−３Ｔｏｒｒ、アルゴンガス
周波数１３．５６ＭＨｚ、印加電圧２ｋＶの条件）を用
い、弱酸素雰囲気下でＺｒやＡｌ等のターゲットを使用
して、１〜１０μｍの厚さのセラミック蒸着層４を積層
する。

【００２４】すなわち、緻密質金属蒸着層３およびセラ
ミック蒸着層４の積層厚さは、１〜１０μｍとする。１
μｍ以上の厚さにしたのは、１μｍ未満の厚さでは薄す
ぎて耐食性および耐磨耗性の効果がないからである。一
方、１０μｍ以下の厚さにしたのは、１０μｍを超える
と蒸着層の施工時の残留応力が大きくなり、剥離してし
まうからである。なお、ＰＶＤとして、高周波コイルに
よりプラズマ生成を容易にしたイオンプレーティング法
を採用することもできる。

【００２５】さらに、ＣＶＤを採用する場合には、浸漬
部品の母材２の表面をアセトンにより脱脂洗浄して成膜
室に導入し、ＴｉＣｌ₄またはＣｒＩ₂を水素とともに
供給し、気相反応により１〜１０μｍの厚さの緻密質金
属蒸着層３を積層する。さらに、この金属層３上に、Ｚ
ｒＣｌ₄やＡｌＣｌ₃等を水素で希釈して、水蒸気およ
び少量の酸素とともに供給し、１〜１０μｍの厚さのセ
ラミック蒸着層４を積層する。

【００２６】このように浸漬部品は、母材２の表面に緻
密質金属層３およびセラミック層４を順次積層したもの
であり、特に連続メッキ設備において使用されるが、具
体的には図２に示すサポートロール１１やポットロール
１２の胴部や、図３に示すスリーブ１３やブッシュ１４
等の軸部品に適用される。これらの部品は、溶融Ａｌや
溶融Ｚｎ等に浸漬させて使用されるので耐食性が要求さ
れ、又、サポートロール１１やポットロール１２の胴部
は鋼板と摺動接触し、スリーブ１３はブッシュ１４と摺
動接触するので耐磨耗性が要求されるからである。な
お、図３中１５は、ロール軸に固定したスリーブ１３
を、ブッシュ１４を介して支承するハンガーである。

【００２７】

【実施例】本発明の作用効果を確認すべく、ＳＣＨ−１
３材により円柱状のサンプル（φ５０×１００ｍｍ）を
作製し、このサンプルの表面に、溶射法または蒸着法に
より緻密質金属層３およびセラミック層４を順次積層し
て、浸漬試験および磨耗試験を行った。

【００２８】浸漬試験は、溶融金属浴条件１（Ｚｎを浴
主成分とし、温度４７０℃で１０００時間浸漬する。）
および溶融金属浴条件２（Ａｌを浴主成分とし、温度６
８０℃で１００時間浸漬する。）でサンプルを浸漬した
後、母材溶出状態および被覆残存状況で評価した。

【００２９】また、磨耗試験は、上記溶融金属浴条件１
および溶融金属浴条件２下において、ＳＵＳ材（１０ｍ
ｍ×１０ｍｍ×長さ１００ｍｍ）を荷重５０ｋｇでサン
プル表面に押し付けて１００ｒｐｍで所定時間回転した
後、サンプル磨耗体積（ｍｍ³）を摺動距離（ｍｍ）に
負荷荷重（ｋｇ）を乗じたものを除した値（＝比磨耗
量）で評価した。その際、比磨耗量が１×１０の−６乗
（ｍｍ²／ｋｇ）以下の場合を良好（○）と判定した。

【００３０】下記表１は、実施例１〜５および比較例１
〜７の積層条件を示すものであり、表２は、実施例１〜
５および比較例１〜７の浸漬試験の結果、磨耗試験の結
果および総合評価を示すものである。

【００３１】

【表１】

【００３２】

【表２】

【００３３】表１において、実施例１および実施例２
は、サンプル表面に蒸着法（ＰＶＤ，ＣＶＤ）により緻
密質金属層およびセラミック層を積層したものであり、
それぞれの積層厚さは１〜１０μｍの範囲に設定されて
いる。表２に示すように、実施例１および実施例２は、
浸漬試験では、溶融金属浴条件１および溶融金属浴条件
２において損傷は無く、又、磨耗試験では、溶融金属浴
条件１および溶融金属浴条件２において比磨耗量が１×
１０の−６乗（ｍｍ²／ｋｇ）以下の良好な値を示し、
総合評価は良好（○）であった。

【００３４】実施例３乃至実施例５は、サンプル表面に
溶射法（プラズマ溶射法，爆発溶射法）により緻密質金
属層およびセラミック層を積層したものであり、それぞ
れの積層厚さは５０〜２００μｍの範囲に設定されてい
る。表２に示すように、実施例３乃至実施例５は、浸漬
試験では、溶融金属浴条件１および溶融金属浴条件２に
おいて損傷は無く、又、磨耗試験では、溶融金属浴条件
１および溶融金属浴条件２において比磨耗量が１×１０
の−６乗（ｍｍ²／ｋｇ）以下の良好な値を示し、総合
評価は良好（○）であった。

【００３５】一方、表１において、比較例１は、サンプ
ル表面にプラズマ溶射法によりＣｏＮｉＣｒＡｌＹ合金
層およびセラミック層を積層したものであり、それぞれ
の積層厚さは５０〜２００μｍの範囲に設定されてい
る。表２に示すように、比較例１は、下地層がＣｏＮｉ
ＣｒＡｌＹ合金層であるため、浸漬試験および磨耗試験
で、溶融金属浴条件１および溶融金属浴条件２におい
て、母材が溶出して被膜が一部剥離し、総合評価は不良
（×）であった。

【００３６】比較例２は、サンプル表面に爆発溶射法に
よりＭｏ−６．４Ｂの単層を積層したものであり、積層
厚さは１００μｍである。表２に示すように、比較例２
は、Ｍｏ−６．４Ｂの単層であるため、浸漬試験では、
溶融金属浴条件１および溶融金属浴条件２において、溶
融金属が表面に付着後簡単に剥離し、又、磨耗試験で
は、溶融金属浴条件１において比磨耗量が２．５×１０
の−４乗（ｍｍ²／ｋｇ）の劣悪な値を示すとともに、
溶融金属浴条件２において比磨耗量が４．１×１０の−
４乗（ｍｍ²／ｋｇ）の劣悪な値を示し、総合評価は不
良（×）であった。

【００３７】比較例３は、サンプル表面に爆発溶射法に
よりＷｃ−Ｃｏの単層を積層したものであり、積層厚さ
は１００μｍである。表２に示すように、比較例３は、
Ｗｃ−Ｃｏの単層であるため、浸漬試験では、溶融金属
浴条件１および溶融金属浴条件２において、溶融金属が
表面に付着し除去不能となり、又、磨耗試験では、溶融
金属浴条件１において比磨耗量が６．３×１０の−５乗
（ｍｍ²／ｋｇ）の劣悪な値を示すとともに、溶融金属
浴条件２において比磨耗量が５．２×１０の−５乗（ｍ
ｍ²／ｋｇ）の劣悪な値を示し、総合評価は不良（×）
であった。

【００３８】比較例４は、サンプル表面に蒸着法（ＰＶ
Ｄ，ＣＶＤ）により緻密質金属層およびセラミック層を
積層したものであり、緻密質金属層の積層厚さが１〜１
０μｍの範囲から外れている。表２に示すように、比較
例４は、緻密質金属層の積層厚さが１μｍ未満であるた
め、浸漬試験および磨耗試験で、溶融金属浴条件１およ
び溶融金属浴条件２において、母材が溶出して被膜が一
部剥離し、総合評価は不良（×）であった。

【００３９】比較例５は、サンプル表面に蒸着法（ＰＶ
Ｄ，ＣＶＤ）により緻密質金属層およびセラミック層を
積層したものであり、セラミック層の積層厚さが１〜１
０μｍの範囲から外れている。表２に示すように、比較
例５は、セラミック層の積層厚さが１μｍ未満であるた
め、浸漬試験では、溶融金属浴条件１および溶融金属浴
条件２において損傷は無いが、磨耗試験では、溶融金属
浴条件１において比磨耗量が８．７×１０の−３乗（ｍ
ｍ²／ｋｇ）の劣悪な値を示すとともに、溶融金属浴条
件２において比磨耗量が５．４×１０の−３乗（ｍｍ²
／ｋｇ）の劣悪な値を示し、総合評価は不良（×）であ
った。

【００４０】比較例６は、サンプル表面にプラズマ溶射
法により緻密質金属層およびセラミック層を積層したも
のであり、緻密質金属層の積層厚さが５０〜２００μｍ
の範囲から外れている。表２に示すように、比較例６
は、緻密質金属層の積層厚さが５０μｍ未満であるた
め、浸漬試験および磨耗試験で、溶融金属浴条件１およ
び溶融金属浴条件２において、母材が溶出して被膜が一
部剥離し、総合評価は不良（×）であった。

【００４１】比較例７は、サンプル表面に爆発溶射法に
より緻密質金属層およびセラミック層を積層したもので
あり、セラミック層の積層厚さが５０〜２００μｍの範
囲から外れている。表２に示すように、比較例５は、セ
ラミック層の積層厚さが５０μｍ未満であるため、浸漬
試験では、溶融金属浴条件１および溶融金属浴条件２に
おいて損傷は無いが、磨耗試験では、溶融金属浴条件１
において比磨耗量が６．８×１０の−３乗（ｍｍ²／ｋ
ｇ）の劣悪な値を示すとともに、溶融金属浴条件２にお
いて比磨耗量が８．１×１０の−３乗（ｍｍ²／ｋｇ）
の劣悪な値を示し、総合評価は不良（×）であった。

【００４２】すなわち、実施例１および実施例２のよう
に、サンプル表面に蒸着法（ＰＶＤ，ＣＶＤ）により緻
密質金属層およびセラミック層を積層し、それぞれの積
層厚さを１〜１０μｍの範囲に設定した場合や、実施例
３乃至実施例５のように、サンプル表面に溶射法（プラ
ズマ溶射法，爆発溶射法）により緻密質金属層およびセ
ラミック層を積層し、それぞれの積層厚さを５０〜２０
０μｍの範囲に設定した場合は、浸漬試験および磨耗試
験において良好な結果が得られ、本発明の浸漬部品は耐
食性および耐磨耗性に優れていることが確認された。

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、浸
漬部品の母材表面に緻密質金属層を積層したので、耐食
性に優れており、かつ該金属層上にセラミック層を積層
したので、耐磨耗性に優れているものであり、溶融金属
中に浸漬しても長時間に渡り連続使用することができる
という優れた効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る浸漬部品の断面構造を示す概略図
である。

【図２】本実施形態において、連続メッキ設備の浸漬ロ
ールを示す斜視図である。

【図３】本実施形態において、連続メッキ設備の軸部品
を示す斜視図である。

【符号の説明】

１浸漬部品２母材３緻密質金属層４セラミック層１１サポートロール１２ポットロール

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】溶融金属中に浸漬させて使用する部品の
母材表面に、溶融金属に対して耐食性に優れる緻密質金
属層を積層し、該金属層上に耐磨耗性に優れるセラミッ
ク層を積層したことを特徴とする浸漬部品。
【請求項２】前記部品が、連続メッキ設備の浸漬ロー
ルである請求項１に記載の浸漬部品。
【請求項３】前記溶融金属が溶融Ａｌまたは溶融Ｚｎ
であり、前記緻密質金属層がＴｉまたはＣｒによって構
成されるとともに、前記セラミック層が部分安定化Ｚｒ
Ｏ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＳｉＯ₄またはこれらの混合物
によって構成される請求項１または請求項２に記載の浸
漬部品。
【請求項４】前記緻密質金属層およびセラミック層
が、溶射法によって積層される請求項１乃至請求項３の
いずれかに記載の浸漬部品。
【請求項５】前記緻密質金属溶射層およびセラミック
溶射層が、５０〜２００μｍの厚さで積層される請求項
４に記載の浸漬部品。
【請求項６】前記緻密質金属層およびセラミック層
が、蒸着法によって積層される請求項１乃至請求項３の
いずれかに記載の浸漬部品。
【請求項７】前記緻密質金属蒸着層およびセラミック
蒸着層が、１〜１０μｍの厚さで積層される請求項６に
記載の浸漬部品。
【請求項８】溶融金属中に浸漬させて使用する部品の
母材表面に、溶射法により溶融金属に対して耐食性に優
れる緻密質金属溶射層を積層した後、該金属層上に、溶
射法により耐磨耗性に優れるセラミック溶射層を積層す
るようにしたことを特徴とする浸漬部品の製造方法。
【請求項９】前記溶射法が、プラズマ溶射法または爆
発溶射法である請求項８に記載の浸漬部品の製造方法。
【請求項１０】溶融金属中に浸漬させて使用する部品
の母材表面に、蒸着法により溶融金属に対して耐食性に
優れる緻密質金属蒸着層を積層した後、該金属層上に、
蒸着法により耐磨耗性に優れるセラミック蒸着層を積層
するようにしたことを特徴とする浸漬部品の製造方法。
【請求項１１】前記蒸着法が、物理的蒸着法または化
学的蒸着法である請求項１０に記載の浸漬部品の製造方
法。