JPH1012380A - 多色発光装置およびその製造方法 - Google Patents
多色発光装置およびその製造方法Info
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- JPH1012380A JPH1012380A JP8184042A JP18404296A JPH1012380A JP H1012380 A JPH1012380 A JP H1012380A JP 8184042 A JP8184042 A JP 8184042A JP 18404296 A JP18404296 A JP 18404296A JP H1012380 A JPH1012380 A JP H1012380A
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Abstract
供し、またこの多色発光装置を簡易に効率よく製造する
ことができる方法を提供する。 【構成】 第一の基板電極102,第一の発光層を含む
有機物層103、および第一の対向電極104を順次積
層して形成した第一の発光画素を、第一の透明基板10
1上に規則的かつ互いに分離して複数配置した第一の有
機EL素子100と、第二の基板電極202,第一の発
光層とは異なる色を発光する第二の発光層を含む有機物
層203、および第二の対向電極204を順次積層して
形成した第二の発光画素を、第二の透明基板201上に
規則的かつ互いに分離して複数配置した第二有機EL素
子200とを、それぞれの発光画素からの発光が光取り
出し方向で互いに重なり合うことがないように、かつ中
間に透明体300を介して重ね合わせる。
Description
びその製造方法に関する。さらに詳しくは各種発光型の
マルチカラーまたはフルカラーの有機エレクトロルミネ
ッセンス(EL)ディスプレイに好適に用いられる多色
発光装置およびその製造方法に関する。
く、また完全固体のため耐衝撃性に優れるという特徴を
有しており、現在、無機,有機化合物を発光層に用いた
様々なEL素子が提案され、実用化が試みられている。
この実用化の一つとしてEL素子を用いたマルチカラ
ー,フルカラーのELディスプレイに好適な多色発光装
置を挙げることができる。このような多色発光装置とし
ては、たとえば下記のものが提案されている。 (1)赤色,緑色および青色のうちの一色をそれぞれ表
示する三枚の発光セルを貼り合わせてなるRGBマルチ
カラーディスプレイ(特開平7−57873号公報およ
び特開平7−114350号公報) (2)一枚の基板上で、二色の表示をする有機ELディ
スプレイ(ヨーロッパ特許公開公報EP0550062
A2) (3)発光材料として、高輝度,高効率の青色発光材
料,緑色発光材料,および橙色発光材料を用いたもの
(米国特許USP5130603号およびUSP476
9292号)
光装置は下記の問題があった。 (1)特開平7−57873号公報等に記載のものは、
赤,青,緑のそれぞれの発光画像が、基板の厚さ分だけ
離れているため、見る角度により画像位置が変わり、画
像がにじむ等、良好な画像表示が得られない。また、三
種類の有機成膜および陰極成膜などが必要となり、工程
が煩雑でありコストもかかる。さらに、リードを実装す
る工程数が三倍となり煩雑である。 (2)EP0550062A2に記載のものは、赤,
緑,青(R,G,B)の三色の発光ができないのでフル
カラー表示をすることができない。 (3)USP5130603号等の記載には、良好な赤
色発光材料への言及はなく、高輝度,高効率の赤色発光
を実現することはできない。 なお、一枚の基板上に、赤,緑,青(R,G,B)の発
光画素を備えることは、発光層をフォトリソグラフ法に
より加工することが極めて困難であるため、高精細な多
色発光ディスプレイを得ることはできないのが現状であ
る。本発明は上述の問題に鑑みなされたものであり、優
れた視野角特性を有する多色発光装置を提供し、またこ
の多色発光装置を簡易に効率よく製造することができる
方法を提供することを目的とする。
本発明によれば、第一の基板電極,第一の発光層を含む
有機物層、および第一の対向電極を順次積層して形成し
た第一の発光画素を、第一の透明基板上に規則的かつ互
いに分離して複数配置した第一の有機EL素子と、第二
の基板電極,第一の発光層とは異なる色を発光する第二
の発光層を含む有機物層、および第二の対向電極を順次
積層して形成した第二の発光画素を、第二の透明基板上
に規則的かつ互いに分離して複数配置した第二の有機E
L素子とを、それぞれの発光画素からの発光が光取り出
し方向で互いに重なり合うことがないように、かつ中間
に透明体を介して重ね合わせてなることを特徴とする多
色発光装置が提供される。
の発光画素および第二の発光画素の少なくとも一方が、
二種類以上の発光をする発光層を含むものであることを
特徴とする多色発光装置が提供される。
れ分離して配置する多色発光装置の製造方法において、
(1)第一の透明基板上に、第一の基板電極,第一の発
光層を含む有機物層、および第一の対向電極を順次積層
して、規則的かつ互いに分離した複数の第一の発光画素
を有する第一の有機EL素子を形成し、(2)第二の透
明基板上に、第二の基板電極,第一の発光層とは異なる
色を発光する第二の発光層を含む有機物層、および第二
の対向電極を順次積層して、規則的かつ互いに分離した
複数の第二の発光画素を有する第二の有機EL素子を形
成し、(3)第一の有機EL素子と第二の有機EL素子
とを、それぞれの発光画素からの発光が光取り出し方向
で互いに重なり合うことがないように、かつ中間に透明
体を介して重ね合わせることを特徴とする多色発光装置
の製造方法が提供される。
を参照しつつ具体的に説明する。 1.多色発光装置 (1)構成の概要 図1は本発明の多色発光装置の一の実施形態を模式的に
示す断面図である。図1に示すように本発明の多色発光
装置は、大別して第一の有機EL素子100と第二の有
機EL素子200とを、中間に透明体300を介して重
ね合わせた構成となっている。すなわち、第一の有機E
L素子100においては、第一の発光画素が、第一の基
板101の上に、第一の基板電極102、第一の発光層
を含む有機物層103、および第一の対向電極104を
順次積層して、規則的かつ互いに分離した状態で形成さ
れている。また、第二の有機EL素子200において
は、第二の発光画素が第二の透明基板201の上に第二
の基板電極202、第二の発光層を含む有機物層20
3、および第二の対向電極204を順次積層して、規則
的かつ互いに分離した状態で形成されている。この二つ
の素子100,200を、発光画素からの発光が光取り
出し方向で互いに重なり合うことがないように、かつ中
間に透明体300を介して、重ね合わせた構成になって
いる。
おいては、第一の発光層として、青色を発光するものを
用いる。青色を発光する発光層を有する発光画素がスト
ライプ状またはモザイク状に配置される。このようにし
て青色発光画素を有する第一の有機EL素子を得ること
ができる。
二の発光層として、緑色を発光するものを用いている。
このようにして、緑色発光画素を有する第二の有機EL
素子を得ることができる。前記第一の有機EL素子から
なる青色発光画素表示装置と第二の有機EL素子からな
る緑色発光画素表示装置とを重ね合わせることにより、
少なくとも一方の基板101または201の外側から光
を取り出し、多色画素(像)表示が可能な多色発光装置
を得ることができる。なお、第一または第二の基板電極
は、陽極または陰極のどちらでもよい。また、第一また
は第二の対向電極も陽極または陰極のどちらでもよい。
電極と、これらに挟持された発光層を含む有機物層とを
含み、これに所望の色を実現するため、必要に応じてカ
ラーフィルタおよび/または色変換媒体層を備えたもの
であって、独立に点燈,非点燈の制御が可能な箇所のこ
とを意味する。以下、XYマトリックスを用いた場合に
ついて説明する。直交するようにして配設された一本の
基板電極ラインと一本の対向電極ラインとに有機物層が
挟持されており、その交差する箇所が発光画素となる。
本発明では、必要に応じ、この発光画素の光取り出し方
向にカラーフィルタ、色変換媒体層を設置してもよい。
設置する位置は、透明基板と基板電極ラインとの間でも
良いし、対向電極ラインの上方に備えても良いが、光取
り出し方向に備える必要がある。
り観察した場合、ストライプ配置やダイアゴナル配置な
ど、各種の発光画素の配置を保有する多色ディスプレイ
となっている。
に示す断面図である。この例では、第一の有機EL素子
を赤色発光画素を有するものとし、かつ第二の有機EL
素子を青色および緑色発光画素を有するものとしてい
る。また、同様に、図3に示す例では、第一のおよび第
二の有機EL素子を、それぞれ赤色,青色および緑色発
光画素を有するものとしている。
支えるに十分な剛直な材料が好ましい。特に、高精細な
表示をする場合には、有機EL素子と蛍光体層とのギャ
ップが大きいと有機EL素子の発光が隣接する蛍光体層
に吸収され所望の発光色が得られず、視野角を小さくし
てしまう場合がある。そのため、透明な絶縁層の厚さを
小さくする必要があるが、厚さを小さくすると、多色発
光装置の耐衝撃性等の機械的強度を弱めることになる。
本発明では、透明基板を配置することにより多色発光装
置を補強して耐衝撃性等の機械的強度を高めている。
板、セラミック板、プラスチック板(ポリカーボネー
ト、アクリル、塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリエステル樹脂等)等を挙げること
ができる。基板の板厚は、特に制限はないが、高精細表
示を行う多色発光装置については空隙の形成を高精細に
しなければならないので、多色発光装置を支える剛直さ
があって可能な限り薄くすることが必要である。通常は
5μm〜2mmの範囲であり、好ましくは、50μm〜
1.1mmである。 有機EL素子 本発明に用いられる有機EL素子においては、有機化合
物層として、再結合領域および発光領域を少なくとも有
するものが用いられる。この再結合領域および発光領域
は、通常発光層に存在するため、本発明においては、有
機化合物層として発光層のみを用いてもよいが、必要に
応じ、発光層以外に、たとえば正孔注入層,電子注入
層,有機半導体層,電子障壁層,付着改善層なども用い
ることができる。
表的な構成例を示す。もちろん、これに限定されるもの
ではない。 (1)透明電極(陽極)/発光層/電極(陰極) (2)透明電極(陽極)/正孔注入層/発光層/電極
(陰極) (3)透明電極(陽極)/発光層/電子注入層/電極
(陰極) (4)透明電極(陽極)/正孔注入層/発光層/電子注
入層/電極(陰極) (5)陽極/有機半導体層/発光層/陰極 (6)陽極/有機半導体層/電子障壁層/発光層/陰極 (7)陽極/正孔注入層/発光層/付着改善層/陰極 などの構造を挙げることができる。これらの中で、通常
(4)の構成が好ましく用いられる。
合金,電気伝導性化合物またはこれらの混合物を電極物
質とするものが好ましく用いられる。このような電極物
質の具体例としては、Au等の金属、CuI,ITO,
SnO2 ,ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。陽
極は、これらの電極物質を蒸着法やスパッタリング法等
の方法で、薄膜を形成させることにより作製することが
できる。このように発光層からの発光を陽極から取り出
す場合、陽極の発光に対する透過率が10%より大きく
することが好ましい。また、陽極のシート抵抗は、数百
Ω/□以下が好ましい。陽極の膜厚は材料にもよるが、
通常10nm〜1μm、好ましくは、10〜200nm
の範囲で選択される。なお、前述のように、本発明にお
いては、陽極として用いる電極は、その形成位置から、
基板電極または対向電極のいずれであってもよい。
料)として、一般式(I)
物が好ましく用いられる。この化合物は、特開平2−2
47278号公報に開示されている。
れ水素分子、炭素数1〜6のアルキル基,炭素数1〜6
のアルコキシ基,炭素数7〜8のアラルキル基,置換あ
るいは無置換の炭素数6〜18のアリール基,置換ある
いは無置換のシクロヘキシル基,,置換あるいは無置換
の炭素数6〜18のアリールオキシ基,炭素数1〜6の
アルコキシ基を示す。ここで置換基は、炭素数1〜6の
アルキル基,炭素数1〜6置換あるいは無置換の炭素数
6〜18のアリールオキシ基,炭素数1〜6のアルコキ
シ基,炭素数7〜8のアラルキル基,炭素数6〜18の
アリールオキシ基,炭素数1〜6のアシル基,炭素数1
〜6のアシルオキシ基,カルボキシル基,スチリル基,
炭素数6〜20のアリールカルボニル基,炭素数6〜2
0のアリールオキシカルボニル基,炭素数1〜6のアル
コキシカルボニル基,ビニル基,アニリノカルボニル
基,カルバモイル基,フェニル基,ニトロ基,水酸基あ
るいはハロゲンを示す。これらの置換基は単一でも複数
でもよい。また、Y1 〜Y4は同一でも、また互いに異
なってもよく、Y1 とY2 およびY3 とY4 は互いに置
換している基と結合して、置換あるいは無置換の飽和五
員環または置換あるいは無置換の飽和六員環を形成して
もよい。Arは置換あるいは無置換の炭素数6〜20の
アリレーン基を表わし、単一置換されていても、複数置
換されていてもよく、また結合部分は、オルト,パラ,
メタいずれでもよい。但し、Arが無置換フェニレン基
の場合、Y1 〜Y4 はそれぞれ炭素数1〜6のアルコキ
シ基,炭素数7〜8のアラルキル基,置換あるいは無置
換のナフチル基,ビフェニル基,シクロヘキシル基,ア
リールオキシ基より選ばれたものである。このようなジ
スチルアリーレン系化合物としては、たとえば、下記の
ものを挙げることができる。
料)として、8−ヒドロキシキノリン、またはその誘導
体の金属錯体を挙げることができる。具体的には、オキ
シン(一般に8−キノリノールまたは8−ヒドロキシキ
ノリン)のキレートを含む金属キレートオキサノイド化
合物である。このような化合物は高水準の性能を示し、
容易に薄膜形態に成形される。このオキサノイド化合物
の例は、下記構造式を満たすものである。
の整数であり、Zはそのそれぞれの位置が独立であっ
て、少なくとも2以上の縮合芳香族環を完成させるため
に必要な原子を示す。) ここで、Mtで表わされる金属は、一価,二価または三
価の金属とすることができるものであり、たとえばリチ
ウム,ナトリウム,カリウムなどのアルカリ金属、マグ
ネシウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属、あるい
はホウ素またはアルミニウムなどの土類金属である。一
般に、有用なキレート化合物であると知られている一
価,二価,または三価の金属はいずれも使用することが
できる。
族環の一方がアゾールまたはアジンからなる複素環を形
成させる原子を示す。ここで、もし必要であれば、上記
縮合芳香族環に他の異なる環を付加することが可能であ
る。また、機能上の改善がないまま嵩ばった分子を回避
するため、Zで示される原子の数は18以下に維持する
ことが好ましい。さらに、具体的にキレート化オキサノ
イド化合物を例示すると、トリス(8−キノリノール)
アルミニウム,ビス(8−キノリノール)マグネシウ
ム,ビス(ベンゾ−8−キノリノール)亜鉛,ビス(2
−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムオキシ
ド,トリス(8−キノリノール)インジウム、トリス
(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム,8−
キノリノールリチウム,トリス(5−クロロ−8−キノ
リノール)ガリウム,ビス(5−クロロ−8−キノリノ
ール)カルシウム,5,7−ジクロル−8−キノリノー
ルアルミニウム、トリス(5,7−ジプロモ−8−ヒド
ロキシキノリノール)アルミニウムなどがある。
記載されているフェノラート置換8−ヒドロキシキノリ
ンの金属錯体は、青色発光材料として、好ましい物であ
る。このフェノラート置換8−ヒドロキシキノリンの金
属錯体の具体例としては、ビス(2−メチル−8−キノ
リノラート)(フェノラート)アルミニウム(III),
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(ο−クレゾ
ラート)アルミニウム(III) ,ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(m−クレゾラート)アルミ ニウ
ム(III),ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(p−クレゾラート)アルミニウム(III) ,ビス(2
−メチル−8−キノリノラート)(ο−フェニルフェノ
ラート)アルミニウム(III) ,ビス(2−メチル−8
−キノリノラー ト)(m−フェニルフェノラート)ア
ルミニウム(III),ビス(2−メチル−8−キノリノ
ラート)(p−フェニルフェノラート)アルミニウム
(III),ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(2,3−ジメチルフェノラート)アルミニウム(II
I) ,ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(2,
6ジメチルフェノラート)アルミニウム(III) ,ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)(3,4−ジメチ
ルフェノラート)アルミニウム(III) ,ビス(2−メ
チル−8−キノリノラート)(3,5−ジメチルフェノ
ラート)アルミニウム(III) ,ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(3,5−ジ−t−ブチルフェノラ
ート)アルミニウム(III) ,ビス(2−メチル−8−
キノリノラート)(2,6 −ジフェニルフェノラー
ト)アルミニウム(III),ビス(2−メチル−8−キ
ノリノラート)(2,4,6−トリフェニルフェノラー
ト)アルミニウム(III)などが挙げられる。これらの
発光材料は、一種用いてもよく、二種以上を組み合わせ
て用いてもよい。
用いられる第一発光層としては、各種公知の発光材料が
用いることができるが、好ましい第一発光層としては、
上記オキサノイド化合物に緑色蛍光色素を0.2〜3重
量%微量添加したものを挙げることができる。ここで添
加される緑色蛍光色素としては、クマリン系、キナクリ
ドン系である。これらを添加することにより第一発光層
を保有する素子は、5〜20(lm/w)の高効率の緑
色発光を実現することができる。一方、第一発光層から
高効率にて黄色または橙色を取り出したい場合には、オ
キサノイド化合物にルブレンおよびその誘導体、ジシア
ノピラン誘導体、ペリレン誘導体を0.2〜3重量%添
加したものを用いる。これらの素子は3〜10(lm/
w)の高効率で発光出力をすることが可能である。ま
た、緑色蛍光色素と赤色蛍光色素を同時に添加しても橙
色が可能である。たとえば、好ましくはクマリンとジシ
アノピラン系色素、キナクリドンとペリレン色素、クマ
リンとペリレン色素を同時に用いてもよい。他の特に好
ましい第一発光層はポリアリーレンビニレン誘導体であ
る。これは緑色または橙色を高効率に出力することが可
能である。本発明に用いられる第二発光層としては各種
公知の青色発光材料が用いることができる。たとえばジ
スチリルアリレーン誘導体,トリススチリルアリーレン
誘導体,アリルオキシ化キノリラート金属錯体が高水準
な青色発光材料である。また、ポリマーとしては、ポリ
パラフェニリン誘導体を挙げることができる。
形成方法としては、たとば、蒸着法、スピンコート法,
キャスト法,LB法などの公知の方法により薄膜化する
ことで形成することができるが、特に分子堆積膜である
ことが好ましい。ここで、分子堆積膜とは、該化合物の
気相状態から沈着され形成された薄膜や、該化合物の溶
融状態または液相状態から固体化され形成された膜のこ
とである。通常、この分子堆積膜は、、LB法により形
成された薄膜(分子累積膜)と凝集構造,高次構造の相
違や、それに起因する機能的な相違により区別すること
ができる。また、この発光層は、樹脂などの結着材と共
に溶剤に溶かして溶液とした後、これをスピンコート法
などにより薄膜化して形成することができる。このよう
にして形成された発光層の膜厚については、特に制限は
なく、適宜状況に応じて選ぶことができるが、好ましく
は1nm〜10μm、特に好ましくは5nm〜5μmの
範囲がよい。
に必要なものではないが、発光性能の向上のために用い
た方が好ましいものである。この正孔注入層は発光層へ
の正孔注入を助ける層であって、正孔移動度が大きく、
イオン化エネルギーが、通常5.5eV以下と小さい。
このような正孔注入層としては、より低い電界で正孔を
発光層に輸送する材料が好ましく、さらに正孔の移動度
が、たとえば104 〜106 V/cmの電界印加時に、
少なくとも10-6cm2 〜/V・秒であればなお好まし
い。このような正孔注入材料については、前記の好まし
い性質を有するものであれば特に制限はなく、従来、光
導伝材料において、正孔の電荷輸送材として慣用されて
いるものや、EL素子の正孔注入層に使用される公知の
ものの中から任意のものを選択して用いることができ
る。
体(米国特許3,112,197号明細書等参照)、オ
キサジアゾール誘導体(米国特許3,189,447号
明細書等参照)、イミダゾール誘導体(特公昭37−1
6096号公報等参照)、ポリアリールアルカン誘導体
(米国特許3,615,402号明細書、同第3,82
0,989号明細書、同第3,542,544号明細
書、特公昭45−555号公報、同51−10983号
公報、特開昭51−93224号公報、同55−171
05号公報、同56−4148号公報、同55−108
667号公報、同55−156953号公報、同56−
36656号公報等参照)、ピラゾリン誘導体およびピ
ラゾロン誘導体(米国特許第3,180,729号明細
書、同第4,278,746号明細書、特開昭55−8
8064号公報、同55−88065号公報、同49−
105537号公報、同55−51086号公報、同5
6−80051号公報、同56−88141号公報、同
57−45545号公報、同54−112637号公
報、同55−74546号公報等参照)、フェニレンジ
アミン誘導体(米国特許第3,615,404号明細
書、特公昭51−10105号公報、同46−3712
号公報、同47−25336号公報、特開昭54−53
435号公報、同54−110536号公報、同54−
119925号公報等参照)、アリールアミン誘導体
(米国特許第3,567,450号明細書、同第3,1
80,703号明細書、同第3,240,597号明細
書、同第3,658,520号明細書、同第4,23
2,103号明細書、同第4,175,961号明細
書、同第4,012,376号明細書、特公昭49−3
5702号公報、同39−27577号公報、特開昭5
5−144250号公報、同56−119132号公
報、同56−22437号公報、西独特許第1,11
0,518号明細書等参照)、アミノ置換カルコン誘導
体(米国特許第3,526,501号明細書等参照)、
オキサゾール誘導体(米国特許第3,257,203号
明細書等に開示のもの)、フルオレノン誘導体(特開昭
54−110837号公報等参照)、ヒドラゾン誘導体
(米国特許第3,717,462号明細書、特開昭54
−59143号公報、同55−52063号公報、同5
5−52064号公報、同55−46760号公報、同
55−85495号公報、同57−11350号公報、
同57−148749号公報、特開平2−311591
号公報等参照)、スチリルアントラセン誘導体(特開昭
56−46234号公報等参照)、スチルベン誘導体
(特開昭61−210363号公報、同61−2284
51号公報、同61−14642号公報、同61−72
255号公報、同62−47646号公報、同62−3
6674号公報、同62−10652号公報、同62−
30255号公報、同60−93445号公報、同60
−94462号公報、同60−174749号公報、同
60−175052号公報等参照)、シラザン誘導体
(米国特許第4,950,950号明細書)、ポリシラ
ン系(特開平2−204996号公報)、アニリン系共
重合体(特開平2−282263号公報)、特開平1−
211399号公報に開示されている導電性高分子オリ
ゴマー(特にチオフェンオリゴマー)等を挙げることが
できる。正孔注入層の材料としては上記のものを使用す
ることができるが、ポルフィリン化合物(特開昭63−
2956965号公報等に開示のもの)、芳香族第三級
アミン化合物およびスチリルアミン化合物(米国特許第
4,127,412号明細書、特開昭53−27033
号公報、同54−58445号公報、同54−1496
34号公報、同54−64299号公報、同55−79
450号公報、同55−144250号公報、同56−
119132号公報、同61−295558号公報、同
61−98353号公報、同63−295695号公報
等参照)、特に芳香族第三級アミン化合物を用いること
が好ましい。上記ポルフィリン化合物の代表例として
は、ポルフィン、1,10,15,20−テトラフェニ
ル−21H,23H−ポルフィン銅(II)、1,10,
15,20−テトラフェニル−21H,23H−ポルフ
ィン亜鉛(II)、5,10,15,20−テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)−21H,23H−ポルフ
ィン、シリコンフタロシアニンオキシド、アルミニウム
フタロシアニンクロリド、フタロシアニン(無金属)、
ジリチウムフタロシアニン、銅テトラメチルフタロシア
ニン、銅フタロシアニン、クロムフタロシアニン、亜鉛
フタロシアニン、鉛フタロシアニン、チタニウムフタロ
シアニンオキシド、Mgフタロシアニン、銅オクタメチ
ルフタロシアニン等を挙げることができる。また、前記
芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物
の代表例としては、N,N,N’,N’−テトラフェニ
ル−4,4’−ジアミノフェニル、N,N’−ジフェニ
ル−N,N’−ビス−(3−メチルフェニル)−[1,
1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(以下TPD
と略記する)、2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミ
ノフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ジ−p−ト
リルアミノフェニル)シクロヘキサン、N,N,N’,
N’−テトラ−p−トリル−4,4’−ジアミノフェニ
ル、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニ
ル)−4−フェニルシクロヘキサン、ビス(4−ジメチ
ルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン、ビス
(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタ
ン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(4−メトキ
シフェニル)−4,4’−ジアミノビフェニル、N,
N,N’,N’−テトラフェニル−4,4’−ジアミノ
フェニルエーテル、4,4’−ビス(ジフェニルアミ
ノ)クオードリフェニル、N,N,N−トリ(p−トリ
ル)アミン、4−(ジ−p−トリルアミノ)−4’−
[4(ジ−p−トリルアミノ)スチリル]スチルベン、
4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニ
ル)ベンゼン、3−メトキシ−4’−N,N−ジフェニ
ルアミノスチルベンゼン、N−フェニルカルバゾール、
米国特許第5,061,569号に記載されている2個
の縮合芳香族環を分子内に有する、例えば、4,4’−
ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビ
フェニル(以下NPDと略記する)、また、特開平4−
308688号公報で記載されているトリフェニルアミ
ンユニットが3つスターバースト型に連結された4,
4’,4”−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N
−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(以下MTDA
TAと略記する)等を挙げることができる。また、発光
層の材料として示した前述の芳香族ジメチリディン系化
合物の他、p型−Si,p型SiC等の無機化合物も正
孔注入層の材料として使用することができる。正孔注入
層は、上述した化合物を、例えば真空蒸着法,スピンコ
ート法,キャスト法,LB法等の公知の方法により薄膜
化することにより形成することができる。正孔注入層と
しての膜厚は、特に制限はないが、通常は5nm〜5μ
mである。この正孔注入層は、上述した材料の一種また
は二種以上からなる一層で構成されていてもよいし、ま
たは、前記正孔注入層とは別種の化合物からなる正孔注
入層を積層したものであってもよい。また、有機半導体
層は、発光層への正孔注入または電子注入を助ける層で
あって、10-10 S/cm以上の導電率を有するものが
好適である。このような有機半導体層の材料としては、
含チオフェンオリゴマーや含アリールアミンオリゴマー
などの導電性オリゴマー、含アリールアミンデンドリマ
ーなどの導電性デンドリマーなどを用いることができ
る。
あって、電子移動度が大きく、また付着改善層は、この
電子注入層の中で、特に陰極との付着が良い材料からな
る層である。電子注入層に用いられる材料としては、た
とえば8−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属
錯体、あるいはオキサジアゾール誘導体が好ましく挙げ
られる。また、付着改善層に用いられる材料としては、
特に8−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属錯
体が好適である。上記8−ヒドロキシキノリンまたはそ
の誘導体の金属錯体の具体例としては、オキシン(一般
に8−キノリノールまたは8−ヒドロキシキノリン)の
キレートを含む金属キレートオキサノイド化合物が挙げ
られる。一方、オキサジアゾール誘導体としては、一般
式(II),(III) および(IV)
は無置換のアリール基を示し、Ar10とAr11およびA
r12とAr13はそれぞれにおいて互いに同一であっても
異なっていてもよく、Ar14置換または無置換のアリレ
ーン基を示す。)で表わされる電子伝達化合物が挙げら
れる。ここで、アリール基としてはフェニル基,ビフェ
ニル基,アントラニル基,ペリレニル基,ピレニル基な
どが挙げられ、アリレーン基としてはフェニレン基,ナ
フチレン基,ビフェニレン基,アントラセニレン基,ペ
ニレニレン基,ピレニレン基などが挙げられる。また、
置換基としては炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1
〜10のアルコキシ基またはシアノ基などが挙げられ
る。この電子伝達化合物は、薄膜形成性のものが好まし
い。上記電子伝達化合物の具体例としては、下記のもの
を挙げることができる。
合金,電気伝導性化合物およびこれらの混合物を電極物
質とするものが用いられる.このような電極物質の具体
例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、
マグネシウム、リチウム、マグネシウム・銀合金、アル
ミニウム/酸化アルミニウム(Al2 O3 )、アルミニ
ウム・リチウム合金、インジウム、希土類金属などが挙
げられる。この陰極は、これらの電極物質を蒸着やスパ
ッタリングなどの方法により、薄膜を形成させることに
より、作製することができる。また、陰極としてのシー
ト抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10n
m〜1μm、50〜200nmの範囲が好ましい。な
お、本発明に用いられるEL素子においては、該陽極ま
たは陰極のいずれか一方が透明または半透明であること
が、発光を透過するため、発光の取り出し効率がよいの
で好ましい。なお、前述のように本発明においては、陰
極として用いる電極は、その形成位置から基板電極また
は対向電極のいずれであってもよい。 透明体 第一の有機EL素子と第二有機EL素子との間に挟まれ
る透明体としては、光学的に透明であれば特に制限はな
いが、たとえば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの気体
や、パーフルオロアルカン、パーフルオロアミン、パー
フルオロポリエテールなどのフッ素系液体やエポキシ
系、アクリレート系などの接着剤等を好適例として挙げ
ることができる。
EL素子を形成する工程、(2)第二の有機EL素子を
形成する工程、および(3)両者を重ね合わせる工程、
に大別される。
行なわれる。 透明基板上への基板電極の作製 用いる材料により異なるが、蒸着法、スパッタリング
法、EB法などにより成膜することができる。パターン
ニング処理は成膜時にマスクを用いて行なうこともでき
るし、フォトグラフィー法などにより成膜後にパターン
ニング処理を行なうこともできる。 基板の洗浄 有機物の成膜前に基板の洗浄を行なう。洗浄方法の例と
しては、イソプロピルアルコールを石英製容器に所定量
入れ、基板を含浸し 超音波洗浄機に容器ごと入れて超
音波洗浄を行なう。次にイソプロピルアルコールの代わ
りに純水を用いて同様に超音波洗浄を行なう。次に純水
の代わりにイソプロピルアルコールを用いて同様に超音
波洗浄を行なう。各工程に要する時間は5分間程度であ
る。次に、基板に乾燥不活性ガスを吹き付け乾燥した
後、オゾン雰囲気下で紫外線を30分間程度照射する。 蒸着の準備 真空蒸着法により有機物の成膜を行なう。洗浄した基板
電極付き基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに固定す
る。パターンニングを行なうためのマスクを必要な種類
だけセットする。マスクは熱などによる歪みが発生しに
くいものが好ましく、たとえば、ステンレス合金などを
挙げることができる。マスクの板厚は蒸着のパターンに
比べ著しく大きいものは、均一なパターンができないた
め好ましくない。発光層などに用いる有機物、および対
向電極に用いる材料をセットする。有機物はモリブデン
製ボートに仕込み、そのボートをブスバーに固定する。
対向電極に用いる金属などの材料は、材料により異なる
ボートやフィラメントに仕込み、ブスバーに固定する。
仕込量は材料により異なる。次に真空チャンパーを真空
引きを行なう、。真空度が1×10-4Pa程度になった
ら、蒸着を開始する。 発光層を含む有機物層の作製 有機物層用のマスクを基板に対してセットする。次い
で、有機物の入ったボートに通電し、ボートを加熱す
る。所定の蒸着速度になったら成膜を開始し、所定膜厚
分を成膜する。対向電極以外の有機層を同様な方法で繰
り返し成膜し、有機層を積層する。基板に対する膜の堆
積は、基板と蒸着源との間に設けた開閉可能なシャッタ
ーを用いて制御する。一つの基板に対して複数の発光色
がある場合は、発光色ごとにマスクを交換し、有機層を
同様な方法で積層する。 対向電極の作製 全ての有機層について成膜したら、対向電極の成膜を行
なう。対向電極用のマスクに交換する。対向電極用の材
料が入ったボート類を加熱し、所定の蒸着速度になった
ら成膜を行なう。所定の膜になったら成膜を止める。真
空チャンパーを大気圧に戻し、有機EL素子を取り出
す。
物および対向電極の材料、発光色数による蒸着工程数が
異なるだけで第一の有機EL素子と同様な工程で作製す
ることができる。
せる方法としては、特に制限はなく、一番背面になる透
明基板からの発光が、前面より取り出せるものであれば
よい。例えば、透明体(透明な物質)を前記素子間に挟
む方法や、前記素子の端部同士を接着剤などで固定する
方法などを挙げることができる。前記素子間の間隔は狭
い方が好ましい。しかし、素子の厚さ以下にはできない
ので、0.1μm以上が好ましい。間隔が広いと、斜め
の方向から有機EL発光装置を見たとき、背面の発光面
積が前面の有機EL素子に隠れてしまうため、1mm以
下が好ましいが、より好ましくは100μm以下であ
る。また、背面側のパネルの有機EL素子を逆構成にす
ると、2枚の透明基板間に全ての有機EL素子を配置す
ることができる(図4(D))。
について説明する。光取り出し側の透明基板から見て、
隣合う発光画素で、発光色が異なる発光層を有するもの
は同一基板に配置しないのが好ましい。異なる発光色の
発光層を有する発光画素を同一基板に簡易に作製する方
法として、マスク蒸着があるが、通常は、発光画素の発
光面積を小さくしたり、間隔を狭くするのは困難であ
る。しかし、本発明においては、同一基板上の異なる発
光色の発光層を有する発光画素の間隔が一つの発光画素
の大きさ分あるので、マスク蒸着でも同一基板に異なる
発光色の発光層を有する発光画素を容易に作製すること
ができる。なお、具体的な発光層を含む有機物層の配置
の例としては、例えば、赤,緑,青(R,G,B)の場
合、図4に示すように、二枚の基板に対して、三色と三
色とに分ける(図4(A))、二色と二色とに分ける
(図4(B))、一色と二色に分ける(図4(C),
(D))などの方法がある。図4(D)に示すように逆
構成の素子と組み合わせることで、図4(C)の第二の
透明基板201の厚さの分だけRとGまたはBとの距離
が近くなる。それにより、より視野角が小さくなる利点
がある。この場合、各RGBの発光画素面積は必ずしも
等しくする必要はない。
に説明する。 [実施例1]50μm厚、100mm角のガラス基板上
にITOからなる基板電極ライン(幅500μm)が2
0μmの間隔を空けて並んで形成されているものを透明
基板として用いた。この透明基板をイソプロピルアルコ
ールで5分間超音波洗浄した後、純水で5分間洗浄し、
最後にイソプロピルアルコールで5分間超音波洗浄し
た。洗浄後の透明基板を市販の真空蒸着装置(日本真空
技術社製)の基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗
加熱ボードにN,N’−ジフェニル−N,N’−ビス−
(3−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−
4,4’−ジアミン(以下、TPDという)を200m
g入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボードにトリス(8
−キノリノール)アルミニウム(以下、Alqという)
を200mg入れて、真空チャンバー内を1×10-4P
aまで減圧した。
ドを215〜220℃まで加熱し、TPDを蒸着速度
0.1〜0.3nm/秒でITO膜上に堆積させて、膜
厚60nmの正孔注入層を成膜した。このときの基板温
度は室温であった。次いで、正孔注入層が成膜された透
明基板を真空チャンバーから取出すことなく、正孔注入
層の成膜に引続いて発光層の成膜を行なった。発光層の
成膜は、Alqを入れた前記の抵抗加熱ボードを280
℃まで加熱し、Alqを蒸着速度0.3nm/秒で正孔
注入層上に堆積させて、膜厚60nmのAlq層を成膜
することにより行なった。このときの基板温度も室温で
あった。次に、モリブデン製抵抗加熱ボードにマグネシ
ウム1gを入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボードに銀
500mgを入れて、真空チャンバー内を2×10-4P
aまで減圧した。そして、マグネシウムを入れた前記の
抵抗加熱ボードを500℃程度に加熱してマグネシウム
を約1.7〜2.8nm/秒の蒸着速度で蒸発させると
共に、銀を入れた前記の抵抗加熱ボードを800℃程度
に加熱して銀を0.03〜0.08nm/秒の蒸着速度
で蒸発させて、マグネシウムと銀との混合金属からなる
膜厚150nmの対向電極(陰極)を、ステンレス製マ
スク(厚さ0.05mm)を用いて作製した。蒸着マス
クにより、幅500μm,間隔540μmの対向電極が
基板電極ラインと直角に形成された。これにより、緑色
発光有機EL素子のパネルが完成した。次に、前記と同
じ透明基板を前記と同じ洗浄を行なった。この透明基板
を市販の真空蒸着装置(日本真空技術社製)の基板ホル
ダーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボードにN,N’
−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)
−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(T
PD)を200mg入れ、他のモリブデン製抵抗加熱ボ
ードに4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)
ビフェニル(DPVBi)を200mg入れて真空チャ
ンバー内を1×10-4Paまで減圧した。その後、TP
D入りのボードを215〜220℃まで加熱し、TPD
を蒸着速度0.1〜0.3nm/秒で基板上に堆積さ
せ、膜厚60nmの正孔注入層を成膜した。このときの
基板温度は室温であった。得られた正孔注入層を真空チ
ャンバーより取り出すことなく、この上にDPVBiを
ボード温度250℃,蒸着速度0.1〜0.2nm/秒
で基板上に堆積させ、膜厚40nmの発光層を成膜し
た。このときの基板温度は室温であった。さらに、モリ
ブデン製抵抗加熱ボードにトリス(8−キノリノール)
アルミニウム(Alq)を200mg入れ、真空チャン
バー内を2×10-4Paまで減圧した。Alq入りのボ
ードを280℃まで加熱し、Alqを蒸着速度0.3n
m/秒で基板上に堆積させ、膜厚20nmの電子注入層
を成膜した。電子注入層を成膜した後、得られた蒸着物
を真空チャンバーより取り出し、発光層の上にステンレ
ス製のマスクを設置し、再度基板ホルダーに固定した。
前記と同様にして対向電極を作製した。これにより、幅
500μm,間隔540μmの対向電極が基板電極ライ
ンと直角に形成された。これにより、青色発光有機EL
素子のパネルが完成した。この2枚のパネルを発光画素
を有する面と有しない面とを対向させ、その間に不活性
液体(住友スリーエム社製フロリナートFC−70)を
狭んだ。二枚のパネルは互いの対向電極の長さ方向を合
わせ、なおかつ互いの対向電極が交互になるようにし
た。これにより、青色発光と緑色発光を平面的に並べ
た、図1に示す多色発光装置を得ることができた。 [実施例2]実施例1で用いたものと同じ透明基板を同
様に洗浄し、同じ真空蒸着装置にセットした。このと
き、ステンレス製マスクを用いて、幅240μm,間隔
240μmの有機物のパターンを作製した。有機物は実
施例1で用いた緑色発光有機EL素子と同様に作製し
た。次に、この有機物の間隔を埋めるように、ステンレ
ス製マスクをセットし、実施例1で用いた青色発光有機
EL素子と同様に幅240μm,間隔240μmの有機
物を設置した。さらに、別のステンレス製マスクによ
り、幅100μm,間隔140μmのパターンの対向電
極をその中心が各有機物のラインの中心と重なるよう
に、実施例1と同様に作製した。これにより、青色,緑
色発光するパネルを得ることができた。次に、実施例1
の緑色発光有機EL素子のAlqと同時に4−ジシアノ
メチレン−2−メチル−6−(P−ジメチルアミノスチ
リル)−4H−ピランをモリブデン製抵抗加熱ボードに
入れて蒸着し、2.5mol%添加し、ステンレス製マ
スクを用いて、陰極を幅100μm,間隔140μmの
パターンにしたこと以外は実施例1と同様にした。これ
により赤色発光有機EL素子のパネルを得ることができ
た。この二枚のパネルを実施例1と同様に貼り合わせ
た。これにより、図2に示すRGRBの繰り返しパター
ンのRGB発光する有機EL発光装置を得ることができ
た。RGRBを1ピクセルとすると1ピクセルは480
μm×500μmとなった。 [実施例3]実施例1で用いた有機物材料を用いて、青
色,緑色,赤色の各色を、ステンレス製マスクを用い
て、幅240μm,間隔480μmのラインを作製し
た。対向電極は実施例2と同様に作製した。これによ
り、各色の間隔が140μmのパネルを得ることができ
た。このパネルを二枚同じものを実施例1と同様に貼り
合わせた。このとき赤色と青色の間にもう一方のパネル
の緑色のラインが真中にくるようにした。これにより図
3に示すRGBの繰り返しパターンを有する多色発光装
置を得ることができた。この場合、各色の間隔は20μ
mとなった。RGBの1ピクセルは360μm×500
μmとなった。 [比較例1]有機物のパターンが、幅120μm,間隔
240μmのステンレス製マスクを用い、対向電極のパ
ターンが幅100μm,間隔20μmのステンレス製マ
スクを用いたこと以外は実施例2と同様にパネルを作製
した。しかし、対向電極用のステンレス製マスクが対向
電極作製時の熱で変形し、対向電極が途中で切れたり、
不均一な部分が発生した。
ぐれた視野角特性を有する多色発光装置を提供すること
ができる。また、この装置を簡易にかつ効率よく製造す
ることができる方法を提供することができる。
に示す断面図である。
に示す断面図である。
に示す断面図である。
有機物層の配置の例を模式的に示す断面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 第一の基板電極,第一の発光層を含む有
機物層、および第一の対向電極を順次積層して形成した
第一の発光画素を、第一の基板基板上に規則的かつ互い
に分離して複数配置した第一の有機EL素子と、 第二の基板電極,第一の発光層とは異なる色を発光する
第二の発光層を含む有機物層、および第二の対向電極を
順次積層して形成した第二の発光画素を、第二の基板基
板上に規則的かつ互いに分離して複数配置した第二の有
機EL素子とを、それぞれの発光画素からの発光が光取
り出し方向で互いに重なり合うことがないように、かつ
中間に透明体を介して重ね合わせてなることを特徴とす
る多色発光装置。 - 【請求項2】 前記第一の発光画素および第二の発光画
素の少なくとも一方が、二種類以上の発光をする発光層
を含むものであることを特徴とする請求項1記載の多色
発光装置。 - 【請求項3】 基板上に複数の発光画素をそれぞれ分離
して配置する多色発光装置の製造方法において、(1)
第一の透明基板上に、第一の基板電極,第一の発光層を
含む有機物層、および第一の対向電極を順次積層して、
規則的かつ互いに分離した複数の第一の発光画素を有す
る第一の有機EL素子を形成し、(2)第二の透明基板
上に、第二の基板電極,第一の発光層とは異なる色を発
光する第二の発光層を含む有機物層、および第二の対向
電極を順次積層して、規則的かつ互いに分離した複数の
第二の発光画素を有する第二の有機EL素子を形成し、
(3)第一の有機EL素子と第二の有機EL素子とを、
それぞれの発光画素からの発光が光取り出し方向で互い
に重なり合うことがないように、かつ中間に透明体を介
して重ね合わせることを特徴とする多色発光装置の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8184042A JPH1012380A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | 多色発光装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8184042A JPH1012380A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | 多色発光装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1012380A true JPH1012380A (ja) | 1998-01-16 |
Family
ID=16146352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8184042A Pending JPH1012380A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | 多色発光装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1012380A (ja) |
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