JPH1012381A - Organic electroluminescent device - Google Patents

Organic electroluminescent device

Info

Publication number
JPH1012381A
JPH1012381A JP8158320A JP15832096A JPH1012381A JP H1012381 A JPH1012381 A JP H1012381A JP 8158320 A JP8158320 A JP 8158320A JP 15832096 A JP15832096 A JP 15832096A JP H1012381 A JPH1012381 A JP H1012381A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic
layer
cathode
metal
organic electroluminescent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8158320A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Kanai
浩之 金井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP8158320A priority Critical patent/JPH1012381A/en
Publication of JPH1012381A publication Critical patent/JPH1012381A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 陰極の膜の安定性が向上し、発光輝度の低下
が抑制された有機電界発光素子の提供。 【解決手段】 少なくとも陽極、有機発光層及び陰極が
基板上に順次設けられてなる有機電界発光素子であっ
て、該陰極が、マグネシウム、リチウム及び仕事関数が
4.0eV以上の金属を含有する合金からなり、リチウ
ムの含有量が0.002〜2原子%であり且つ仕事関数
が4.0eV以上の金属の含有量が1〜30原子%であ
ることを特徴とする有機電界発光素子。
(57) [Problem] To provide an organic electroluminescent element in which the stability of a cathode film is improved and a decrease in emission luminance is suppressed. An organic electroluminescent device having at least an anode, an organic light emitting layer, and a cathode sequentially provided on a substrate, wherein the cathode contains magnesium, lithium, and an alloy containing a metal having a work function of 4.0 eV or more. An organic electroluminescent device comprising: a metal having a lithium content of 0.002 to 2 at% and a work function of 4.0 eV or more of 1 to 30 at%.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機電界発光素子
(以下有機EL素子と略記する)に関する。詳しくは、
本発明は、少なくとも陽極、有機発光層及び陰極が基板
上に設けられてなる有機EL素子であって、該陰極が特
定の合金からなる有機EL素子に関する。本発明の有機
EL素子は、フラットパネル、ディスプレイの分野や面
発光体、表示板、標識灯等へ応用することができる。
The present invention relates to an organic electroluminescent device (hereinafter abbreviated as an organic EL device). For more information,
The present invention relates to an organic EL device having at least an anode, an organic light emitting layer, and a cathode provided on a substrate, wherein the cathode is made of a specific alloy. The organic EL device of the present invention can be applied to the field of flat panels, displays, surface light emitters, display boards, marker lights, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、薄膜型の電界発光(EL)素子と
しては、無機材料のII−VI族化合物半導体であるZn
S、CaS、SrS等に、発光中心であるMnや希土類
元素(Eu、Ce、Tb、Sm等)をドープしたものが
一般的であるが、上記の無機材料から作製したEL素子
は、 1)交流駆動が必要(50〜1000Hz)、 2)駆動電圧が高い(〜200V)、 3)フルカラー化が困難(特に青色が問題)、 4)周辺駆動回路のコストが高い、 という問題点を有している。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a thin film type electroluminescent (EL) element, Zn, which is a group II-VI compound semiconductor of an inorganic material, is used.
In general, S, CaS, SrS, and the like are doped with Mn or a rare earth element (Eu, Ce, Tb, Sm, or the like) that is a luminescent center. However, EL devices manufactured from the above inorganic materials include: 1) AC drive is required (50-1000Hz), 2) High drive voltage (up to 200V), 3) Full color is difficult (especially blue), 4) Peripheral drive circuit is expensive. ing.

【0003】しかし、近年、上記問題点の改良のため、
有機薄膜を用いたEL素子の開発が行われるようになっ
た。特に、発光効率を高めるために電極からのキャリア
ー注入の効率向上を目的とした電極種類の最適化を行
い、芳香族ジアミンからなる有機正孔輸送層と8−ヒド
ロキシキノリンのアルミニウム錯体からなる発光層を設
けた有機EL素子の開発(Appl.Phys.Let
t.,51巻,913頁,1987年)により、従来の
アントラセン等の単結晶を用いたEL素子と比較して発
光効率の大幅な改善がなされている。
However, in recent years, in order to improve the above problems,
Development of EL devices using organic thin films has been started. In particular, the electrode type was optimized to improve the efficiency of carrier injection from the electrode in order to increase the luminous efficiency, and an organic hole transport layer composed of an aromatic diamine and a luminescent layer composed of an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline were used. Of an organic EL device provided with a device (Appl. Phys. Let
t. , Vol. 51, p. 913, 1987), the luminous efficiency has been greatly improved as compared with a conventional EL device using a single crystal such as anthracene.

【0004】また、有機発光層としては、ポリ(p−フ
ェニレンビニレン)(Nature,347巻,539
頁,1990年;Appl.Phys.Lett.,6
1巻,2793頁,1992年)、ポリ[2−メトキ
シ,5−(2′−エチルヘキソキシ)−1,4−フェニ
レンビニレン](Appl.Phys.Lett.,5
8巻,1982頁,1991年;Thin Solid
Films,216巻,96頁,1992年;Nat
ure,357巻,477頁,1992年)、ポリ(3
−アルキルチオフェン)(Jpn.J.Appl.Ph
ys.,30巻,L1938頁,1991年;J.Ap
pl.Phys.,72巻,564頁,1992年)等
の高分子材料の開発や、ポリビニルカルバゾール等の高
分子に発光材料と電子移動材料を混合した素子(応用物
理,61巻,1044頁,1992年)も開発されてい
る。
As the organic light emitting layer, poly (p-phenylenevinylene) (Nature, 347, 539) is used.
Pp. 1990; Appl. Phys. Lett. , 6
1, 2793, 1992), poly [2-methoxy, 5- (2'-ethylhexoxy) -1,4-phenylenevinylene] (Appl. Phys. Lett., 5).
8, 1982, 1991; Thin Solid
Films, 216, 96, 1992; Nat.
ure, 357, 477, 1992), poly (3
-Alkylthiophene) (Jpn. J. Appl. Ph.
ys. , 30, L1938, 1991; Ap
pl. Phys. , Vol. 72, p. 564, 1992) and a device in which a luminescent material and an electron transfer material are mixed with a polymer such as polyvinyl carbazole (Applied Physics, Vol. 61, p. 1044, 1992). Is being developed.

【0005】以上に示したような有機EL素子において
は、通常、陽極としてはインジウム錫酸化物(ITO)
のような透明電極が用いられるが、陰極に関しては電子
注入を効率よく行うために仕事関数の低い金属電極が用
いられる。例えばアルカリ金属以外の複数の金属を含有
し、少なくとも一種の金属の仕事関数が4.0eV以下
の合金(特開平2−15595号公報)、カルシウム
(Appl.Phys.Lett.,68巻,147
頁,1996年)や、アルミニウムに微量のリチウムを
添加したアルミニウム合金(特開平5−121172号
公報)等を挙げることができる。これらの金属は反応性
が高いため、劣化を防止するために、更に上部に保護層
を設ける(特開平4−233194号公報)等の方法が
試されているが、輝度低下の抑制においては十分な特性
が得られていないのが現状である。
In the organic EL device as described above, the anode is usually made of indium tin oxide (ITO).
Such a transparent electrode is used, but a metal electrode having a low work function is used for a cathode in order to efficiently perform electron injection. For example, an alloy containing a plurality of metals other than alkali metals and having a work function of at least one metal of 4.0 eV or less (JP-A-2-15595) and calcium (Appl. Phys. Lett., Vol. 68, 147)
, 1996) and aluminum alloys obtained by adding a small amount of lithium to aluminum (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-121172). Since these metals have high reactivity, a method of further providing a protective layer on the top thereof (JP-A-4-233194) has been tried in order to prevent deterioration, but it is not enough to suppress the reduction in luminance. At present, it is not possible to obtain such characteristics.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】これまでに開示されて
いる有機EL素子では、EL発光は陽極から注入された
正孔と陰極から注入された電子との再結合によりもたら
される。一般に、キャリアーの注入は、電子の場合、陰
極と有機発光層との界面における注入障壁を乗り越えて
行われなければならない。この電子注入障壁を低くして
注入効率を向上させるために、マグネシウム合金やカル
シウム等の低仕事関数の金属電極が陰極として使用され
ているが安定性に欠けるため、輝度低下が激しいという
欠点を有している。本発明の課題は、駆動時における輝
度低下が抑制された有機EL素子を提供することにあ
る。
In the organic EL devices disclosed so far, EL light emission is caused by recombination of holes injected from an anode and electrons injected from a cathode. Generally, in the case of electrons, carriers must be injected over an injection barrier at the interface between the cathode and the organic light emitting layer. In order to reduce the electron injection barrier and improve the injection efficiency, a metal electrode having a low work function, such as a magnesium alloy or calcium, is used as a cathode. doing. An object of the present invention is to provide an organic EL device in which a decrease in luminance during driving is suppressed.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、陰極としてマグネシ
ウム、リチウム及び仕事関数が4.0eV以上の金属を
含有する合金系を用いることにより輝度劣化が抑制され
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that the use of an alloy system containing magnesium, lithium and a metal having a work function of 4.0 eV or more as a cathode. The inventors have found that luminance degradation is suppressed, and have completed the present invention.

【0008】即ち、本発明は、少なくとも陽極、有機発
光層及び陰極が基板上に順次設けられてなる有機電界発
光素子であって、該陰極が、マグネシウム、リチウム及
び仕事関数が4.0eV以上の金属を含有する合金から
なり、リチウムの含有量が0.002〜2原子%であり
且つ仕事関数が4.0eV以上の金属の含有量が1〜3
0原子%であることを特徴とする有機電界発光素子、に
ある。
That is, the present invention relates to an organic electroluminescent device in which at least an anode, an organic light emitting layer and a cathode are sequentially provided on a substrate, wherein the cathode has magnesium, lithium and a work function of 4.0 eV or more. A metal-containing alloy having a lithium content of 0.002 to 2 atomic% and a metal having a work function of 4.0 eV or more;
0 atomic%.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の有機EL素子につ
いて添付図面に従い説明する。図1は本発明の有機EL
素子の構造例を模式的に示す断面図であり、1は基板、
2は陽極層、3は有機発光層、4は陰極層を各々表わ
す。基板1は本発明の有機EL素子の支持体となるもの
であり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチ
ックフィルムやシート等が用いられるが、ガラス板や、
ポリエステル、ポリメタアクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン等の透明な合成樹脂基板が好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an organic EL device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows the organic EL of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a structural example of an element, where 1 is a substrate,
2 represents an anode layer, 3 represents an organic light emitting layer, and 4 represents a cathode layer. The substrate 1 serves as a support for the organic EL element of the present invention, and may be a quartz or glass plate, a metal plate or metal foil, a plastic film or sheet, or the like.
Transparent synthetic resin substrates such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, and polysulfone are preferred.

【0010】基板1上には陽極層2が設けられるが、こ
の陽極層2としては通常、アルミニウム、金、銀、ニッ
ケル、パラジウム、テルル等の金属、インジウム及び/
又は錫の酸化物等の金属酸化物やヨウ化銅、カーボンブ
ラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)等の導
電性高分子等により構成される。導電層の形成は通常、
スパッタリング法、真空蒸着法等により行われることが
多いが、銀等の金属微粒子或いはヨウ化銅、カーボンブ
ラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉
末等の場合には、適当なバインダー樹脂溶液に分散し、
基板上に塗布することにより形成することもできる。更
に、導電性高分子の場合は電界重合により直接基板上に
薄膜を形成したり、基板上に塗布して形成することもで
きる(Appl.Phys.Lett.,60巻,27
11頁,1992年)。上記の導電層は異なる物質で積
層することも可能である。
An anode layer 2 is provided on a substrate 1. The anode layer 2 is usually made of a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, tellurium, indium and / or indium.
Or a metal oxide such as a tin oxide, copper iodide, carbon black, or a conductive polymer such as poly (3-methylthiophene). The formation of the conductive layer is usually
Sputtering, often performed by vacuum deposition, etc., in the case of fine metal particles such as silver or copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, conductive polymer fine powder, etc. Dispersed in binder resin solution,
It can also be formed by coating on a substrate. Further, in the case of a conductive polymer, a thin film can be formed directly on a substrate by electric field polymerization, or can be formed by coating on a substrate (Appl. Phys. Lett., Vol. 60, No. 27).
11, p. 1992). The above conductive layers can be stacked with different materials.

【0011】陽極層2の厚みは、必要とする透明性によ
り異なるが、透明性が必要とされる場合は、可視光の透
過率が60%以上、好ましくは80%以上透過すること
が望ましく、この場合、厚みは、通常、5〜1000n
m、好ましくは10〜500nm程度である。不透明で
よい場合は陽極層2は基板1と同一でもよい。また、更
には上記の陽極層を異なる物質で積層することも可能で
ある。
The thickness of the anode layer 2 varies depending on the required transparency. When transparency is required, the transmittance of visible light is preferably at least 60%, more preferably at least 80%. In this case, the thickness is usually 5 to 1000 n
m, preferably about 10 to 500 nm. If opaque, the anode layer 2 may be the same as the substrate 1. Further, it is also possible to laminate the above-mentioned anode layer with a different material.

【0012】陽極層2の上には有機発光層3が設けられ
るが、有機発光層3は、電界を与えられた電極間におい
て、陽極から注入された正孔と陰極から注入された電子
が効率よく再結合し、発光する材料から形成される。通
常、この有機発光層3は発光効率の向上のために、図2
に示すように、正孔輸送層3aと電子輸送層3bに分割
して機能分離型にすることが行われる(Appl.Ph
ys.Lett.,51巻,913頁,1987年)。
また、更に正孔輸送層3aは、図3に示すように正孔の
注入を主に担当する正孔注入層3a1と正孔の輸送を主
に担う正孔輸送層3a2に分離し駆動特性の向上が計ら
れている(Appl.Phys.Lett.,65巻,
807頁,1994年)。
An organic light-emitting layer 3 is provided on the anode layer 2. The organic light-emitting layer 3 can efficiently transport holes injected from the anode and electrons injected from the cathode between electrodes to which an electric field is applied. It is formed from materials that recombine well and emit light. Normally, the organic light emitting layer 3 is formed as shown in FIG.
As shown in (1), a function separation type is divided into a hole transport layer 3a and an electron transport layer 3b (Appl. Ph.
ys. Lett. 51, 913, 1987).
Further, as shown in FIG. 3, the hole transporting layer 3a is further separated into a hole injecting layer 3a1 mainly responsible for hole injection and a hole transporting layer 3a2 mainly responsible for hole transport. (Appl. Phys. Lett., 65,
807, 1994).

【0013】図3の機能分離型素子において、正孔注入
層3a1の材料としては、陽極層2からの正孔注入効率
が高いことが望まれる。そのためには、イオン化ポテン
シャルが小さいことが要求される。更に陽極層2との密
着性が高く安定していることが望まれる。このような材
料としては、銅フタロシアニン、スターバーストアミン
(Mol.Cryst.Liq.Cryst.,211
巻,431頁,1992年、Appl.Phys.Le
tt.,65巻,807頁,1994年)等を挙げるこ
とができる。これらは、スピンコート法や真空蒸着法等
によって成膜される。正孔注入層の膜厚は通常1〜10
0nm、好ましくは5〜50nmである。この薄い膜を
一様に形成するためには、真空蒸着法がよく用いられ
る。正孔注入層3a1の上には、正孔輸送層3a2が積
層される。正孔注入層によって注入された正孔を正孔輸
送層へ注入されるために、正孔輸送層のイオン化ポテン
シャルが正孔注入層のイオン化ポテンシャルより小さい
か同程度であることが望まれる。また、正孔移動度が大
きく、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生し
にくいことが要求される。
In the function-separated type device shown in FIG. 3, it is desired that the hole injection layer 3a1 has a high hole injection efficiency from the anode layer 2 as a material. For that purpose, a small ionization potential is required. Further, it is desired that the adhesion to the anode layer 2 is high and stable. Such materials include copper phthalocyanine, starburst amine (Mol. Cryst. Liq. Cryst., 211).
Volume, 431, 1992, Appl. Phys. Le
tt. 65, p. 807 (1994)). These are formed by a spin coating method, a vacuum evaporation method, or the like. The thickness of the hole injection layer is usually 1 to 10
0 nm, preferably 5 to 50 nm. In order to uniformly form this thin film, a vacuum deposition method is often used. The hole transport layer 3a2 is stacked on the hole injection layer 3a1. In order for the holes injected by the hole injection layer to be injected into the hole transport layer, it is desired that the ionization potential of the hole transport layer is smaller than or similar to the ionization potential of the hole injection layer. Further, it is required that the hole mobility is large and impurities serving as traps are hardly generated during manufacturing or use.

【0014】このような正孔輸送化合物としては、例え
ば、特開昭59−194393号公報及び米国特許第
4,175,960号明細書の第13〜14欄に解説さ
れる、N,N′−ジフェニル−N,N′−(3−メチル
フェニル)−1,1′−ビフェニル−4,4′−ジアミ
ン:1,1′−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニ
ル)シクロヘキサン:4,4′−ビス(ジフェニルアミ
ノ)クワドロフェニル等の芳香族アミン系化合物、特開
平2−311591号公報に示されるヒドラゾン化合
物、米国特許第4,950,950号明細書に示される
シラザン化合物等が挙げられる。これらの化合物は、単
独で用いるか、必要に応じて、各々、混合して用いても
よい。上記の化合物以外に、ポリビニルカルバゾールや
ポリシラン(Appl.Phys.Lett.,59
巻,2760頁,1991年)等の高分子材料が挙げら
れる。
Examples of such a hole transport compound include N, N 'described in JP-A-59-194393 and US Pat. No. 4,175,960, columns 13 to 14. -Diphenyl-N, N '-(3-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine: 1,1'-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane: 4, Aromatic amine compounds such as 4'-bis (diphenylamino) quadrophenyl, hydrazone compounds disclosed in JP-A-2-311591, and silazane compounds disclosed in U.S. Pat. No. 4,950,950. Can be These compounds may be used alone or, if necessary, may be used as a mixture. In addition to the above compounds, polyvinyl carbazole and polysilane (Appl. Phys. Lett., 59
Vol., Page 2760, 1991).

【0015】上記の有機正孔輸送材料は塗布法或いは真
空蒸着法により形成される。塗布の場合は、有機正孔輸
送化合物を一種又は二種以上と必要により正孔のトラッ
プにならないバインダー樹脂や、レベリング剤等の塗布
性改良剤等の添加剤を添加し溶解した塗布溶液を調製
し、スピンコート法等の方法により陽極層、又は、正孔
注入層上に塗布し、乾燥して有機正孔輸送層を形成す
る。バインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリ
アリレート、ポリエステル等が挙げられる。バインダー
樹脂は添加量が多いと正孔移動度を低下させるので、少
ない方が望ましく、50重量%以下が好ましい。
The above organic hole transporting material is formed by a coating method or a vacuum evaporation method. In the case of coating, a coating solution is prepared by adding and dissolving one or more kinds of organic hole transporting compounds and additives such as a binder resin that does not trap holes as required and a coating property improving agent such as a leveling agent. Then, it is coated on the anode layer or the hole injection layer by a method such as spin coating, and dried to form an organic hole transport layer. Examples of the binder resin include polycarbonate, polyarylate, and polyester. Since a large amount of the binder resin decreases the hole mobility, a small amount is desirable, and the amount is preferably 50% by weight or less.

【0016】真空蒸着法の場合には、有機正孔輸送材料
を真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を
適当な真空ポンプで10-6Torrにまで排気した後、
るつぼを加熱して、正孔輸送材料を蒸発させ、るつぼと
向き合って置かれた基板上に層を形成する。正孔輸送層
の膜厚は、通常、10〜300nm、好ましくは30〜
100nmである。このように薄い膜を一様に形成する
ためには、真空蒸着法がよく用いられる。
In the case of the vacuum evaporation method, the organic hole transporting material is put into a crucible provided in a vacuum vessel, and the inside of the vacuum vessel is evacuated to 10 -6 Torr by a suitable vacuum pump.
The crucible is heated to evaporate the hole transport material and form a layer on the substrate placed opposite the crucible. The thickness of the hole transport layer is usually 10 to 300 nm, preferably 30 to 300 nm.
100 nm. In order to uniformly form such a thin film, a vacuum deposition method is often used.

【0017】正孔輸送層の材料としては有機化合物の代
わりに無機材料を使用することも可能である。無機材料
に要求される条件は、有機正孔輸送化合物と同じであ
る。正孔輸送層に用いられる無機材料としては、p型水
素化非晶質シリコン、p型水素化非晶質炭化シリコン、
p型水素化微結晶性炭化シリコン、或いは、p型硫化亜
鉛、p型セレン化亜鉛等が挙げられる。これらの無機正
孔輸送層はCVD法、プラズマCVD法、真空蒸着法、
スパッタ法等により形成される。無機正孔輸送層の膜厚
も有機正孔輸送層と同様に、通常、10〜300nm、
好ましくは30〜100nmである。
As a material for the hole transport layer, an inorganic material can be used instead of an organic compound. The conditions required for the inorganic material are the same as those for the organic hole transport compound. Examples of the inorganic material used for the hole transport layer include p-type hydrogenated amorphous silicon, p-type hydrogenated amorphous silicon carbide,
Examples include p-type hydrogenated microcrystalline silicon carbide, p-type zinc sulfide, and p-type zinc selenide. These inorganic hole transport layers are formed by CVD, plasma CVD, vacuum deposition,
It is formed by a sputtering method or the like. The film thickness of the inorganic hole transport layer is also usually 10 to 300 nm, like the organic hole transport layer,
Preferably it is 30 to 100 nm.

【0018】正孔輸送層の上には電子輸送層3bが設け
られるが、電子輸送層は、電界を与えられた電極間にお
いて陰極からの電子を効率よく正孔輸送層の方向に輸送
することができる化合物より形成される。有機電子輸送
化合物としては、陰極層4からの電子注入効率が高く、
且つ、注入された電子を効率よく輸送することができる
化合物であることが必要である。そのためには、電子親
和力が大きく、しかも電子移動度が大きく、更に安定性
に優れトラップとなる不純物が製造時や使用時に発生し
にくい化合物であることが要求される。
An electron transporting layer 3b is provided on the hole transporting layer. The electron transporting layer 3b efficiently transports electrons from the cathode between the electrodes to which an electric field is applied in the direction of the hole transporting layer. Formed from a compound that As an organic electron transport compound, the electron injection efficiency from the cathode layer 4 is high,
In addition, the compound must be able to transport the injected electrons efficiently. For that purpose, it is required that the compound has a high electron affinity, a high electron mobility, and is excellent in stability, and hardly generates impurities serving as traps during production or use.

【0019】このような条件を満たす材料としては、テ
トラフェニルブタジエン等の芳香族化合物(特開昭57
−51781号公報)、8−ヒドロキシキノリンのアル
ミニウム錯体等の金属錯体(特開昭59−194393
号公報)、シクロペンタジエン誘導体(特開平2−28
9675号公報)、ペリノン誘導体(特開平2−289
676号公報)、オキサジアゾール誘導体(特開平2−
216791号公報)、ビススチリルベンゼン誘導体
(特開平1−245087号公報、同2−222484
号公報)、ペリレン誘導体(特開平2−189890号
公報、同3−791号公報)、クマリン化合物(特開平
2−191694号公報、同3−792号公報)、希土
類錯体(特開平1−256584)、ジスチリルピラジ
ン誘導体(特開平2−252793号公報)、p−フェ
ニレン化合物(特開平3−33183号公報)、チアジ
アゾロピリジン誘導体(特開平3−37292号公
報)、ピロロピリジン誘導体(特開平3−37293号
公報)、ナフチリジン誘導体(特開平3−203982
号公報)等が挙げられる。
Materials satisfying such conditions include aromatic compounds such as tetraphenylbutadiene (Japanese Patent Laid-Open No.
No. 51781) and metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (JP-A-59-194393).
), Cyclopentadiene derivatives (JP-A-2-28)
9675), perinone derivatives (JP-A-2-289)
676), oxadiazole derivatives (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 216791), bisstyrylbenzene derivatives (Japanese Patent Laid-Open Nos. 1-245087 and 2-222484).
), Perylene derivatives (JP-A-2-189890 and JP-A-3-7991), coumarin compounds (JP-A-2-191694 and JP-A-3-792), rare earth complexes (JP-A-1-256584). ), Distyrylpyrazine derivatives (JP-A-2-252793), p-phenylene compounds (JP-A-3-33183), thiadiazolopyridine derivatives (JP-A-3-37292), and pyrrolopyridine derivatives (JP-A-3-37292). JP-A-3-37293), naphthyridine derivatives (JP-A-3-203982)
Publication).

【0020】これらの化合物を用いた有機電子輸送層
は、電子を輸送する役割と、正孔と電子の再結合の際に
発光をもたらす役割を同時に果しており、発光層を兼ね
ている。有機正孔輸送化合物が発光機能を有する場合
は、有機電子輸送層は電子を輸送する役割だけを果た
す。
The organic electron transporting layer using these compounds has a role of transporting electrons and a role of providing light emission upon recombination of holes and electrons, and also serves as a light emitting layer. When the organic hole transporting compound has a light emitting function, the organic electron transporting layer only plays a role of transporting electrons.

【0021】素子の発光効率を向上させると共に発光色
を変える目的で、例えば、8−ヒドロキシキノリンのア
ルミニウム錯体をホスト材料として、クマリン等のレー
ザ用蛍光色素をドープすること(J.Appl.Phy
s.,65巻,3610頁,1989年)も行われてい
る。本発明においても上記の有機電子輸送材料をホスト
材料として各種の蛍光色素を10-3〜10モル%ドープ
することにより、素子の発光特性を更に向上させること
ができる。電子輸送層3bの膜厚は、通常、10〜20
0nm、好ましくは30〜100nmである。
For the purpose of improving the luminous efficiency of the device and changing the luminescent color, for example, doping a fluorescent dye for laser such as coumarin using an 8-hydroxyquinoline aluminum complex as a host material (J. Appl. Phys.
s. 65, 3610, 1989). Also in the present invention, the light emission characteristics of the device can be further improved by doping various fluorescent dyes with the organic electron transporting material as a host material at 10 −3 to 10 mol%. The thickness of the electron transporting layer 3b is usually 10 to 20.
0 nm, preferably 30-100 nm.

【0022】有機電子輸送層も有機正孔輸送層と同様の
方法で形成することができるが、通常は真空蒸着法が用
いられる。有機EL素子の発光効率を更に向上させる方
法として、電子輸送層3bの上に更に他の電子輸送層3
cを積層することが考えられる(図4参照)。この電子
輸送層3cに用いられる化合物には、陰極からの電子注
入が容易で、電子の輸送能力が更に大きいことが要求さ
れる。このような電子輸送材料としては、
The organic electron transporting layer can be formed in the same manner as the organic hole transporting layer, but usually a vacuum evaporation method is used. As a method for further improving the luminous efficiency of the organic EL element, another electron transport layer 3 is further formed on the electron transport layer 3b.
It is conceivable to stack c (see FIG. 4). The compound used for the electron transport layer 3c is required to be capable of easily injecting electrons from the cathode and having a higher electron transport ability. As such an electron transport material,

【0023】[0023]

【化1】 Embedded image

【0024】[0024]

【化2】 Embedded image

【0025】等のオキサジアゾール誘導体(Appl.
Phys.Lett.,55巻,1489頁,1989
年)やそれらをPMMA等の樹脂に分散した系(App
l.Phys.Lett.,61巻,2793頁,19
92年)、又は、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型
硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛等が挙げられる。電子輸送
層3cの膜厚は、通常、5〜200nm、好ましくは1
0〜100nmである。
Oxadiazole derivatives (Appl.
Phys. Lett. 55, 1489, 1989.
Years) or a system in which they are dispersed in a resin such as PMMA (App
l. Phys. Lett. 61, 2793, 19
1992) or n-type hydrogenated amorphous silicon carbide, n-type zinc sulfide, n-type zinc selenide, and the like. The thickness of the electron transporting layer 3c is usually 5 to 200 nm, preferably 1 to 200 nm.
0-100 nm.

【0026】また、機能分離を行わない単層型の有機発
光層3としては、先に挙げたポリ(p−フェニレンビニ
レン)(Nature,347巻,539頁,1990
年;Appl.Phys.Lett.,61巻,279
3頁,1992年)、ポリ[2−メトキシ,5−(2′
−エチルヘキソキシ)−1,4−フェニレンビニレン]
(Appl.Phys.Lett.,58巻,1982
頁,1991年;Thin Solid Films,
216巻,96頁,1992年;Nature,357
巻,477頁,1992年)、ポリ(3−アルキルチオ
フェン)(Jpn.J.Appl.Phys.,30
巻,L1938頁,1991年;J.Appl.Phy
s.,72巻,564頁,1992年)等の高分子材料
や、ポリビニルカルバゾール等の高分子に発光材料と電
子移動材料を混合した系(応用物理,61巻,1044
頁,1992年)がある。
As the single-layer type organic light emitting layer 3 which does not perform the function separation, the poly (p-phenylenevinylene) (Nature, 347, 539, 1990) described above is used.
Year; Appl. Phys. Lett. , 61, 279
3, p. 1992), poly [2-methoxy, 5- (2 '
-Ethylhexoxy) -1,4-phenylenevinylene]
(Appl. Phys. Lett., Vol. 58, 1982).
1991, Thin Solid Films,
216, 96, 1992; Nature, 357
Volume, 477, 1992), poly (3-alkylthiophene) (Jpn. J. Appl. Phys., 30).
Volume, L1938, 1991; Appl. Phys
s. , Vol. 72, p. 564, 1992), or a system in which a light emitting material and an electron transfer material are mixed with a polymer such as polyvinyl carbazole (Applied Physics, Vol. 61, 1044).
P. 1992).

【0027】この上に、陰極層4が形成される。陰極層
4は有機発光層3bに電子を注入する役割を果たす。ま
た、長期間安定に動作するために膜質が安定しているこ
とも要求される。このような条件を満たす材料として、
マグネシウム、リチウム及び仕事関数が4.0eV以上
の金属を含有する合金が好適であることを本発明者は見
出した。
On this, the cathode layer 4 is formed. The cathode layer 4 plays a role of injecting electrons into the organic light emitting layer 3b. In addition, it is required that the film quality is stable in order to operate stably for a long period of time. As a material satisfying such conditions,
The present inventor has found that an alloy containing magnesium, lithium and a metal having a work function of 4.0 eV or more is suitable.

【0028】電子の注入を容易にするため、リチウムが
添加されるが、その含有量は、合金全体に対して0.0
02〜2原子%、好ましくは0.01〜1.5原子%で
ある。仕事関数が4.0eV以上の金属は、主として膜
の安定化を増加させる目的で添加される。このような金
属としては、例えば、金、銀、アルミニウム、インジウ
ム、クロム、マンガン、ニッケル、コバルト、錫、銅等
を挙げることができる。これらの中、銀、インジウムが
好ましい。仕事関数が4.0eV以上の金属含有量は、
合金全体に対して1〜30原子%、好ましくは5〜20
原子%である。
To facilitate electron injection, lithium is added, but its content is 0.0
It is 02 to 2 atomic%, preferably 0.01 to 1.5 atomic%. A metal having a work function of 4.0 eV or more is added mainly for the purpose of increasing the stability of the film. Examples of such a metal include gold, silver, aluminum, indium, chromium, manganese, nickel, cobalt, tin, and copper. Of these, silver and indium are preferred. The metal content having a work function of 4.0 eV or more is as follows:
1 to 30 atom%, preferably 5 to 20 atom% based on the whole alloy
Atomic%.

【0029】また、陰極層の膜厚は通常1nm以上10
000nm以下であり、好ましくは10nm以上100
0nm以下である。更にこの上に保護層として、他の金
属を成膜することも可能である。これらの膜の成膜方法
としては、それぞれの金属を独立の蒸発源として用いる
同時蒸着法により成膜する方法、予め合金を作製してお
き、単一蒸発源から成膜する方法等を挙げることができ
る。仕事関数が4.0eV以上の金属を混合することに
より、陰極膜の安定性が増し、その結果電子注入が安定
に行われるようになり、結果的に輝度の劣化が緩やかに
なったものと思われる。
The thickness of the cathode layer is usually 1 nm or more and 10 nm or more.
000 nm or less, preferably 10 nm or more and 100
0 nm or less. Further, another metal may be formed thereon as a protective layer. Examples of a method for forming these films include a method of forming a film by a simultaneous evaporation method using each metal as an independent evaporation source, a method of forming an alloy in advance and forming a film from a single evaporation source, and the like. Can be. By mixing a metal having a work function of 4.0 eV or more, the stability of the cathode film was increased, and as a result, electron injection was performed stably, and as a result, the deterioration of luminance was moderated. It is.

【0030】[0030]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例の記載に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the description of the following examples unless it exceeds the gist.

【0031】実施例1 図2に示す構造を有する有機EL素子を以下の方法で作
製した。ガラス基板上にインジウム・スズ酸化物(IT
O)透明導電膜を120nm堆積したものをアセトンで
超音波洗浄、純水で水洗、イソプロピルアルコールで超
音波洗浄、乾燥窒素で乾燥、UV/オゾン洗浄を行った
後、真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が3×
10-6Torr以下になるまで油拡散ポンプを用いて排
気した。
Example 1 An organic EL device having the structure shown in FIG. 2 was manufactured by the following method. Indium tin oxide (IT
O) A transparent conductive film deposited to a thickness of 120 nm is subjected to ultrasonic cleaning with acetone, water cleaning with pure water, ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol, drying with dry nitrogen, and UV / ozone cleaning, and then is placed in a vacuum evaporation apparatus. And the degree of vacuum in the device is 3 ×
Evacuation was performed using an oil diffusion pump until the pressure became 10 -6 Torr or less.

【0032】有機正孔注入層材料として、下記構造式
(I−1)で表わされる銅フタロシアニン化合物をモリ
ブデンモートに入れ、加熱して蒸着を行った。この時の
真空度は2×10-6Torrで、蒸着速度は2nm/秒
であり、蒸着時間1分45秒で膜厚20nmの有機正孔
注入輸送層3a1を得た。
As an organic hole injection layer material, a copper phthalocyanine compound represented by the following structural formula (I-1) was placed in a molybdenum moat, and heated to perform vapor deposition. At this time, the degree of vacuum was 2 × 10 −6 Torr, the deposition rate was 2 nm / sec, and an organic hole injecting and transporting layer 3a1 having a thickness of 20 nm was obtained in a deposition time of 1 minute and 45 seconds.

【0033】[0033]

【化3】 Embedded image

【0034】次に有機正孔輸送層材料として、下記構造
式(H−1)で表わされる芳香族アミン化合物をセラミ
ックるつぼに入れ、るつぼの周囲のタンタル線ヒーター
で加熱して蒸着を行った。この時のるつぼの温度は、2
20〜260℃の範囲で制御した。蒸着時の真空度は3
×10-6Torrで、蒸着時間2分00秒で膜厚60n
mの有機正孔輸送層3a2を得た。
Next, as a material for the organic hole transporting layer, an aromatic amine compound represented by the following structural formula (H-1) was placed in a ceramic crucible, and heated by a tantalum wire heater around the crucible to perform vapor deposition. The temperature of the crucible at this time is 2
Control was performed in the range of 20 to 260 ° C. The degree of vacuum during evaporation is 3
× 10 −6 Torr, deposition time of 2 minutes and 00 seconds, and film thickness of 60 n
m of the organic hole transport layer 3a2 was obtained.

【0035】[0035]

【化4】 Embedded image

【0036】次に、有機電子輸送層および発光層の材料
として、下記構造式(E−1)で表わされる8−ヒドロ
キシキノリンのアルミニウム錯体、Al(C9 6
O)3を用い、ドーパント材料としては、下記構造式
(D−1)で表わされるルブレンを用いて上記有機正孔
輸送層3a2の上に同様にして蒸着を行なった。この時
のホスト材料の入ったるつぼの温度は310〜320℃
の範囲で、ドーパントの入ったるつぼの温度は130〜
140℃の範囲で制御した。蒸着時の真空度は3×10
-6Torr、蒸着時間は3分30秒、膜厚は75nmで
あった。この時のドーパントの濃度は1.1%であっ
た。
Next, as a material for the organic electron transporting layer and the light emitting layer, an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline represented by the following structural formula (E-1), Al (C 9 H 6 N
O) 3 was used, and rubrene represented by the following structural formula (D-1) was used as a dopant material, and vapor deposition was similarly performed on the organic hole transport layer 3a2. At this time, the temperature of the crucible containing the host material is 310 to 320 ° C.
The temperature of the crucible containing the dopant ranges from 130 to
The temperature was controlled in the range of 140 ° C. The degree of vacuum during evaporation is 3 × 10
-6 Torr, the deposition time was 3 minutes and 30 seconds, and the film thickness was 75 nm. At this time, the concentration of the dopant was 1.1%.

【0037】[0037]

【化5】 Embedded image

【0038】[0038]

【化6】 Embedded image

【0039】最後に陰極として、マグネシウムと銀とリ
チウムの合金電極を三元同時蒸着法によって膜厚50n
mで蒸着した。この時の真空度は3×10-6Torr、
蒸着時間は4分30秒で光沢のある膜が得られた。マグ
ネシウム、銀及びリチウムの含有量はそれぞれ、91.
8原子%、7.8原子%及び0.4原子%であった。こ
の素子を電流密度90mA/cm2 の定電流でこの素子
を駆動した時、初期輝度の8割まで輝度が低下する時間
は10時間であった。
Finally, as a cathode, an alloy electrode of magnesium, silver and lithium was formed to a thickness of 50 nm by a ternary simultaneous vapor deposition method.
m. The degree of vacuum at this time is 3 × 10 -6 Torr,
The deposition time was 4 minutes and 30 seconds, and a glossy film was obtained. The contents of magnesium, silver and lithium are respectively 91.
They were 8 atomic%, 7.8 atomic% and 0.4 atomic%. When this device was driven at a constant current of a current density of 90 mA / cm 2 , the time required for the brightness to decrease to 80% of the initial brightness was 10 hours.

【0040】実施例2 陰極の組成をマグネシウムとインジウムとリチウムの合
金電極に変えた他は実施例1と同様にして素子を作製し
た。この時のマグネシウム、インジウム及びリチウムの
含有量はそれぞれ90.1原子%、8.5原子%及び
1.4原子%であった。この素子を電流密度90mA/
cm2 の定電流で駆動した時、初期輝度の8割まで輝度
が低下する時間は10時間であった。
Example 2 A device was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition of the cathode was changed to an alloy electrode of magnesium, indium and lithium. At this time, the contents of magnesium, indium and lithium were 90.1 at%, 8.5 at% and 1.4 at%, respectively. The current density of this device was 90 mA /
When driven at a constant current of cm 2 , the time required for the luminance to fall to 80% of the initial luminance was 10 hours.

【0041】比較例1 陰極の組成をマグネシウムと銀の合金電極に変えた他は
実施例1と同様にして素子を作製した。この時のマグネ
シウムと銀の含有量は88.5原子%、11.5原子%
であった。この素子を電流密度90mA/cm2 の定電
流で駆動した時、初期輝度8割まで輝度が低下する時間
は0.5時間であった。
Comparative Example 1 A device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the composition of the cathode was changed to an alloy electrode of magnesium and silver. At this time, the contents of magnesium and silver were 88.5 atomic% and 11.5 atomic%.
Met. When this device was driven at a constant current of a current density of 90 mA / cm 2 , the time required for the luminance to decrease to 80% of the initial luminance was 0.5 hour.

【0042】比較例2 陰極の組成をマグネシウムと銀の合金電極に変えた他は
実施例1と同様にして素子を作製した。この時のマグネ
シウム、銀及びリチウムの含有量はそれぞれ88.2原
子%、8.6原子%及び3.2原子%であった。この素
子を電流密度90mA/cm2 の定電流で駆動した時、
初期輝度の8割まで輝度が低下する時間は3.5時間で
あった。
Comparative Example 2 An element was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition of the cathode was changed to an alloy electrode of magnesium and silver. At this time, the contents of magnesium, silver and lithium were 88.2 atomic%, 8.6 atomic% and 3.2 atomic%, respectively. When this device was driven at a constant current of a current density of 90 mA / cm 2 ,
The time during which the luminance decreased to 80% of the initial luminance was 3.5 hours.

【0043】比較例3 陰極の組成をマグネシウムと銀の合金電極に変えた他は
実施例1と同様にして素子を作製した。この時のマグネ
シウム、銀及びリチウムの含有量はそれぞれ55.1原
子%、44.6原子%及び0.3原子%であった。この
素子を電流密度90mA/cm2 の定電流で駆動した
時、初期輝度の8割まで輝度が低下する時間は3.5時
間であった。
Comparative Example 3 An element was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition of the cathode was changed to an alloy electrode of magnesium and silver. At this time, the contents of magnesium, silver and lithium were 55.1 at%, 44.6 at% and 0.3 at%, respectively. When this device was driven at a constant current of 90 mA / cm 2 at a current density of 3.5 hours, the luminance decreased to 80% of the initial luminance.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の有機電界発光素子によれば、少
なくとも陽極(アノード)、有機発光層、陰極(カソー
ド)、が基板上に順次設けられ、しかも、陰極材料とし
てマグネシウムとリチウムと仕事関数が4.0eV以上
の金属を含有する合金を使用しているため、陰極の膜の
安定性が向上し、結果として発光輝度の低下を抑制する
ことができた。従って、本発明のEL素子はフラットパ
ネル・ディスプレイ(例えばOAコンピュータ用や壁掛
けテレビ)の分野や面発光体としての特徴を生かした光
源(例えば、複写機の光源、液晶ディスプレイや計器類
のバックライト光源)、表示板、標識灯への応用が考え
られ、その技術的価値は大きいものである。
According to the organic electroluminescent device of the present invention, at least an anode (anode), an organic light emitting layer, and a cathode (cathode) are sequentially provided on a substrate. Uses an alloy containing a metal of 4.0 eV or more, so that the stability of the cathode film is improved, and as a result, a decrease in emission luminance can be suppressed. Accordingly, the EL element of the present invention is a light source (for example, a light source of a copying machine, a backlight of a liquid crystal display or an instrument) utilizing the characteristics of a flat panel display (for example, for an OA computer or a wall-mounted television) and a surface light emitting body. It can be applied to light sources, display boards, and marker lights, and its technical value is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の有機EL素子の一例を示した模式断面
図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the organic EL device of the present invention.

【図2】本発明の有機EL素子の別の例を示した模式断
面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another example of the organic EL device of the present invention.

【図3】本発明の有機EL素子の別の例を示した模式断
面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another example of the organic EL device of the present invention.

【図4】本発明の有機EL素子の別の例を示した模式断
面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing another example of the organic EL device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 陽極層 3 有機発光層 3a 正孔輸送層 3a1 正孔注入層 3a2 正孔輸送層 3b 有機電子輸送層 3c 3bとは異なる化合物で構成される有機電子輸
送層 4 陰極層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode layer 3 Organic light emitting layer 3a Hole transport layer 3a1 Hole injection layer 3a2 Hole transport layer 3b Organic electron transport layer 3c Organic electron transport layer composed of a compound different from 3b 4 Cathode layer

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも陽極、有機発光層及び陰極が
基板上に順次設けられてなる有機電界発光素子であっ
て、該陰極が、マグネシウム、リチウム及び仕事関数が
4.0eV以上の金属を含有する合金からなり、リチウ
ムの含有量が0.002〜2原子%であり且つ仕事関数
が4.0eV以上の金属の含有量が1〜30原子%であ
ることを特徴とする有機電界発光素子。
1. An organic electroluminescent device comprising at least an anode, an organic light emitting layer and a cathode provided in this order on a substrate, wherein the cathode contains magnesium, lithium and a metal having a work function of 4.0 eV or more. An organic electroluminescent device comprising an alloy, wherein the content of lithium is 0.002 to 2 atomic% and the content of a metal having a work function of 4.0 eV or more is 1 to 30 atomic%.
【請求項2】 仕事関数が4.0eV以上の金属が金、
銀、アルミニウム、インジウム、クロム、マンガン、ニ
ッケル、コバルト、錫及び銅からなる群から選ばれた少
なくとも一種である請求項1に記載の有機電界発光素
子。
2. A metal having a work function of 4.0 eV or more is gold,
The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the device is at least one selected from the group consisting of silver, aluminum, indium, chromium, manganese, nickel, cobalt, tin, and copper.
JP8158320A 1996-06-19 1996-06-19 Organic electroluminescent device Pending JPH1012381A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8158320A JPH1012381A (en) 1996-06-19 1996-06-19 Organic electroluminescent device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8158320A JPH1012381A (en) 1996-06-19 1996-06-19 Organic electroluminescent device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1012381A true JPH1012381A (en) 1998-01-16

Family

ID=15669067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8158320A Pending JPH1012381A (en) 1996-06-19 1996-06-19 Organic electroluminescent device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1012381A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0876086A3 (en) * 1997-04-30 1999-06-09 TDK Corporation Organic electroluminescent light emitting devices
US6656519B2 (en) 1998-01-22 2003-12-02 Nec Corporation Multicolor organic electroluminescent panel and process for production thereof
US6781305B1 (en) 1998-12-25 2004-08-24 Sanyo Electric Co., Ltd. Organic electroluminescent device having negative electrode containing a selective combination of elements
US7750553B2 (en) 2004-07-30 2010-07-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Organic EL element provided with an electrode in a liquid state and method for producing the same
US7796100B2 (en) 2006-06-05 2010-09-14 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic electroluminescence display and driving method thereof
US7847768B2 (en) 2006-06-05 2010-12-07 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic electroluminescence display and driving method thereof
US8460046B2 (en) 2003-12-16 2013-06-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Organic functional element and method for manufacturing same

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0876086A3 (en) * 1997-04-30 1999-06-09 TDK Corporation Organic electroluminescent light emitting devices
US6172458B1 (en) 1997-04-30 2001-01-09 Tdk Corporation Organic electroluminescent device with electrode of aluminum-lithium alloy
US6656519B2 (en) 1998-01-22 2003-12-02 Nec Corporation Multicolor organic electroluminescent panel and process for production thereof
US6781305B1 (en) 1998-12-25 2004-08-24 Sanyo Electric Co., Ltd. Organic electroluminescent device having negative electrode containing a selective combination of elements
US8460046B2 (en) 2003-12-16 2013-06-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Organic functional element and method for manufacturing same
US7750553B2 (en) 2004-07-30 2010-07-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Organic EL element provided with an electrode in a liquid state and method for producing the same
US7796100B2 (en) 2006-06-05 2010-09-14 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic electroluminescence display and driving method thereof
US7847768B2 (en) 2006-06-05 2010-12-07 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic electroluminescence display and driving method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2998268B2 (en) Organic electroluminescent device
JPH06325871A (en) Organic electroluminescent element
JPH0753953A (en) Organic electroluminescent device
JP2001291593A (en) Organic electroluminescent device
JPH06267658A (en) Organic el element
JPH09289081A (en) Organic electroluminescent device
JP3552317B2 (en) Manufacturing method of organic electroluminescent device
JPH1126167A (en) Organic electroluminescent device
JPH08199161A (en) Organic electroluminescent device
JPH0888083A (en) Organic electroluminescent device
JP3463364B2 (en) Organic electroluminescent device
JP3227784B2 (en) Organic electroluminescent device
JP3279014B2 (en) Organic electroluminescent device
JP3284766B2 (en) Organic electroluminescent device
JP3099497B2 (en) Organic electroluminescent device
JP3243887B2 (en) Organic electroluminescent device
JPH1012381A (en) Organic electroluminescent device
JP3284737B2 (en) Organic electroluminescent device
JPH06330032A (en) Organic electroluminescent device
JP3243820B2 (en) Organic electroluminescent device
JP3082284B2 (en) Organic electroluminescent device
JP3208833B2 (en) Organic electroluminescent device
JP3189376B2 (en) Organic electroluminescent device
JPH0762526A (en) Method for manufacturing organic electroluminescent device
JP3191377B2 (en) Organic electroluminescent device