JPH10125495A - 壁密着型電極を使用した位相制御多電極型交流放電装置 - Google Patents

壁密着型電極を使用した位相制御多電極型交流放電装置

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JPH10125495A
JPH10125495A JP8295675A JP29567596A JPH10125495A JP H10125495 A JPH10125495 A JP H10125495A JP 8295675 A JP8295675 A JP 8295675A JP 29567596 A JP29567596 A JP 29567596A JP H10125495 A JPH10125495 A JP H10125495A
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wall
discharge
magnetic field
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Kazunori Matsumoto
和憲 松本
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Abstract

(57)【要約】 【課題】放電電極を複数の電極片に分割して位相制御多
出力交流電圧を印加する位相制御多電極型交流放電電極
の形状と配置を工夫することにより、電極の冷却効率を
高め、放電面積を大きくし、磁石の利用を容易にする。 【解決手段】6片の断面円弧形分割電極2を縦方向に僅
かな間隙2aを空けて円周状に配列し、絶縁シート3を
介して円筒状の真空容器4の内壁に密着して固定する。
真空容器4は水冷式二重管を形成し、冷却水5を流して
真空容器4の内壁に密着する6片の分割電極2を冷却す
る。真空容器4の外壁には、隣り合う極性を逆にして配
列した6本の棒状磁石6を、間隙2aに沿って密着して
固定し、さらにその外周を円筒状の磁気シールド管7で
覆う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高密度で大容量の
弱電離低温プラズマを効率的に安定して発生する新しい
放電装置に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】低ガス圧力下の弱電離
低温プラズマにおいて、中性ガス温度が室温程度である
ことが、種々の材料に熱的な変形、変質を伴わせずにプ
ラズマによる処理を可能ならしめている。この特徴は、
繊維やプラスチックなどの特に熱に弱い材料の処理や表
面への被膜形成において、大変有用である。
【0003】低温プラズマを利用するこれら被膜形成技
術において、低温プラズマの高密度化は重要な位置を占
める。高密度プラズマが得られれば、より低い圧力下で
の放電維持が可能となり、各種被膜の膜質改善や堆積速
度の向上などを図ることができるからである。
【0004】そこで従来では、マグネトロン放電装置に
見られるように、低温プラズマを高密度化するため、別
途に磁界を加えることが行われていた。マグネトロン放
電装置は、電界と直交する磁界を加えることで電子にド
リフト運動を起こさせ、ガス原子との衝突確率を上げて
イオン化効率の向上を意図するものであり、これによっ
て低圧力下でも安定して放電を維持することが可能とな
り、被膜形成の高速化と低温化を実現する。
【0005】このマグネトロン放電装置を含め、従来の
放電装置における低温プラズマを発生させるための電極
の形状や配置は、応用対象の要求によって異なるが、形
状が平板あるいは円柱状の電極群を円周あるいは直線状
に配置するのが一般的であった。
【0006】これらの電極は、その形状や配置のために
冷却効率が低く、あまり冷却されないので大きなパワー
を投入することができず、放電面積も小さいので電極間
に高密度なプラズマを広範囲にわたって均一に発生させ
ることが困難であった。
【0007】マグネトロン放電装置の場合は、電極に装
着した磁石が放電によって電極が加熱されても、磁石の
温度をキュリー温度以下に保つように冷却する必要があ
る。また、磁石を移動させて円周状に配置した電極の外
周を回転させたり、直線状に配置した電極の背後を摺動
させるとプラズマを均一化する効果があるが、従来の電
極に磁石を装着する方法では磁石を移動させることが困
難であった。
【0008】そこで本発明は、放電電極を複数の電極片
に分割して位相制御多出力交流電圧を印加する位相制御
多電極型交流放電電極の形状と配置を工夫することによ
り、電極の冷却効率を高めること、放電面積を大きくす
ること、磁石の利用を容易にすることなどを目的になさ
れたものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明は以下のように構成した。
【0010】すなわち、放電室の内壁に複数の電極片を
薄膜状の絶縁体を介して密着して固定し、前記電極片を
冷却する冷却手段と、前記電極片表面に多極磁場を形成
して放電を閉じ込める多極磁場形成手段と、を前記放電
室の外周に設け、しかして各々の前記電極片に位相制御
多出力交流電源を供給してなる位相制御多電極型交流放
電装置である。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して本発明の
実施の形態について説明する。
【0012】図1と図2に、本発明を実施した円筒形放
電装置の部分横断面図(図2のA−A´面)と部分縦断
面図(図1のB−B´面)を示す。放電装置1は、6片
の断面円弧形分割電極2を縦方向に僅かな間隙2aを空
けて円周状に配列し、絶縁シート3を介して円筒状の真
空容器4の内壁に後述する方法で密着して固定する。
【0013】真空容器4は水冷式二重管を形成し、冷却
水5を流して真空容器4の内壁に密着する6片の分割電
極2を冷却する。真空容器4の外壁には、隣り合う極性
を逆にして配列した6本の棒状磁石6を、間隙2aに沿
って密着して固定し、さらにその外周を円筒状の磁気シ
ールド管7で覆う。
【0014】6片の分割電極2には、位相が1/6周期
ずつずれていて振幅が同じ大きさの6個の交流電源(図
示しない)を給電線(図示しない)を介して後述する方
法で接続する。
【0015】本発明の放電装置は以上のような構成で、
真空容器4内を排気装置(図示しない)によって真空排
気し、6片の分割電極2に1kw以下の多相交流を給電
して放電電気エネルギーを供給する。これにより、図3
に示すように、真空容器4の内壁に沿って安定な交流グ
ロー放電が生じる。
【0016】図3は、本発明の円筒形放電装置の部分横
断面(図2のA−A´面)における磁力線と放電(プラ
ズマ)の閉じ込めの様子を示す。図中の矢印付き直線お
よび上下方向を示す記号は、分割電極2中央部の近傍に
おける円周方向の磁場と径方向の電場の向きを表し、a
は放電(プラズマ)領域を表す。隣り合う磁石6の極性
が反対なので、磁力線が分割電極2を覆うようにでき
る。従って、放電は各々の分割電極2表面近傍の中央部
に閉じ込められる。分割電極2近傍における交流電界の
向きは、対辺の位置にある分割電極2との電位差が最も
大きいので、分割電極2表面に略垂直な正あるいは負の
方向(径方向)になる。
【0017】図4と図5に、本発明を実施した他の例と
して、角筒形放電装置の部分横断面図(図5のA−A´
面)と部分縦断面図(図4のB−B´面)を示す。放電
装置1は、角筒状の真空容器4の内壁の対向する二面
(電極面)に、それぞれ4片の平板状分割電極2を僅か
な間隙2aを空けて、縦方向に直線状に配列し、絶縁シ
ート(層)3を介して真空容器4の内壁に後述する方法
で密着して固定する。
【0018】真空容器4の電極面は水冷式二重壁を形成
し、冷却水5を流して真空容器4の内壁に密着するそれ
ぞれ4片の分割電極2を冷却する。真空容器4の電極面
外壁には、隣り合う極性を逆にして配列したそれぞれ5
本の棒状磁石6を、電極面両端と間隙2aに沿って密着
して固定し、さらにその外側を磁気シールド板7で覆
う。
【0019】8片の分割電極2には、位相が1/8周期
ずつずれていて振幅が同じ大きさの8個の交流電源(図
示しない)を給電線(図示しない)を介して後述する方
法で接続する。
【0020】本発明の角筒形放電装置は以上のような構
成で、真空容器4内を排気装置(図示しない)によって
真空排気し、8片の分割電極2に1kw以下の多相交流
を給電して放電電気エネルギーを供給する。これによ
り、図6に示すように、真空容器4の内壁に沿って安定
な交流グロー放電が生じる。
【0021】図6は、本発明の角筒状放電装置の部分横
断面(図5のA−A´面)における磁力線と放電(プラ
ズマ)の閉じ込めの様子を示す。図中の矢印付き直線お
よび上下方向を示す記号は、分割電極2中央部の近傍に
おける磁場と電場の向きを表し、aは放電(プラズマ)
領域を表す。隣り合う磁石6の極性が反対なので、磁力
線が分割電極2を覆うようにできる。従って、放電は各
々の分割電極2表面近傍の中央部に閉じ込められる。分
割電極2近傍における交流電界の向きは、対辺の位置に
ある分割電極2との電位差が最も大きいので、分割電極
2表面に略垂直な正あるいは負の方向(X方向)にな
る。
【0022】以下に、放電装置の適用対象に合わせた分
割電極2の形状と配置について説明する。図7に、分割
電極2のいろいろな形状例を示す。図(a)は、薄い板
状の分割電極2で、放熱効率が良いので、放電による電
極の加熱を極力抑えるときに有効である。図(b)は、
一側を軸線に平行な平面で切除した円柱の分割電極2
で、電極の放電面積を大きくしたり、隣接する電極間の
放電を積極的に利用するときに有効である。図(c)
は、表面に多数の小突起を形成した分割電極2で、小突
起の先端に電界が集中するので、例えば雰囲気ガス圧力
がかなり低いか高いときなど、放電が発生しにくい条件
のときに有効である。
【0023】図8に、分割電極2のいろいろな配置例を
示す。図(a)は、同形の薄い板状の分割電極2を等間
隔に配置する例で、放電およびプラズマ生成が各電極で
同じように行われるので、電極を円周状に配置するとき
に有効である。この場合、円周方向から中心に向けて一
様な放電が発生する。図(b)は、同形の薄い板状の分
割電極2を不等間隔に配置する例で、両端部が密で、中
央部を疎に配置する。電極を密に配置した部分でプラズ
マ生成が盛んになるので、電極を平面状に配置するとき
に有効である。この場合、等間隔に配置するときに比
べ、両端部におけるプラズマ密度が高くなるので、プラ
ズマが平面上に一様に分布するからである。
【0024】以下に、分割電極2を真空容器4の内壁に
密着して固定する方法について説明する。密着方法の第
一は、接着剤による方法である。この方法は、接着剤を
使って絶縁シート3を真空容器4の内壁に貼付し、次に
また、接着剤を使って分割電極2を絶縁シート3の上に
貼付する方法である。この方法は、制作が簡単なことが
利点であるが、接着剤の耐熱温度が高くない、減圧下や
高温下でガスを放出する、剥すのが難しいので分割電極
2や絶縁シート3の一部に不具合が生じても全部を交換
することになる、などの欠点がある。
【0025】真空容器4の内壁に絶縁シート3や分割電
極2を直接貼らずに、ベースとなる薄い金属板などに一
旦貼付したものを、圧接リングなどを使って真空容器4
の内壁に密着して固定してもよい。この場合は、電極部
の着脱が可能なので、電極の数、形状、配置などが異な
るいくつかのセットを用意しておけば、用途に応じて電
極部を交換できる。
【0026】接着剤による方法の工作上の難点は、接着
剤が固まるまで所要の圧力をかけて形を保持する機械的
工夫と、これらの機械装置を含めた電極部全体を恒温槽
などに入れて接着剤の固化温度まで昇温しなければなら
ないことである。
【0027】接着剤による具体例として、厚さ0.3m
mのSUS304磨きステンレスのベース薄板の上に、
熱伝導性と電気絶縁性が共に良い厚さ0.8mmの窒化
ボロン絶縁シートを耐熱温度が350°Cの高温硬化タ
イプ(150°C、1分)エポキシ系接着剤を用いて貼
り付け、さらに、その上に厚さ0.3mmの6分割チタ
ン電極を同じ接着剤により貼り付けて、内径100m
m、長さ500mmの円筒形放電装置を構成する。
【0028】密着方法の第二は、ねじ止めによる方法で
ある。この方法は、ねじ穴あるいは取り付けフランジな
どを真空容器4の内壁にあらかじめ用意し、絶縁シート
(層)3を介して分割電極2をねじ止めして機械的に密
着して固定する。この方法の利点は、耐熱温度の高い絶
縁シートを用いれば接着剤による方法より高温で利用可
能なこと、絶縁シートと電極を一体化してパーツ化すれ
ば、一部の絶縁シートや電極の特性が劣化しても、ねじ
止めを外して一部を交換できること、などである。この
方法の欠点は、ねじ止め箇所が少ないと壁への密着が十
分でないこと、あらかじめ用意したねじ穴によって、装
着できる電極の数、形状、配置が限定されること、など
である。
【0029】密着が十分でないと、電極から絶縁シート
を介して壁への熱伝導が低下して冷却効率が落ちる。ま
た、壁、絶縁シート、電極との間にガスが入り込み、減
圧下で放電するとき排気に時間が掛かるようになる。
【0030】ねじ止めねじについて工夫する点は、ねじ
をねじ穴に挿入するときに閉じ込められるガスを抜くた
めに、ねじの軸線に沿って通孔を穿つことである。
【0031】ねじ止めによる具体例として、厚さ0.8
mmの6分割した窒化ボロン絶縁シートと、厚さ5mm
の6分割したグラファイト電極を、それぞれ重ねて一組
の電極を構成し、装置内壁と同じ内径の2本のテフロン
リングを装置内壁の上端部と下端部に挿嵌し、このテフ
ロンリングの内側にねじ穴を明けてねじ止めして、内径
100mm、長さ500mmの円筒形放電装置を構成す
る。
【0032】密着方法の第三は、溶射による方法であ
る。この方法は、装置内壁にアルミナ・セラミックなど
を溶射して必要な電気絶縁特性を持つ層厚を形成し、さ
らに、その上にチタンなどの導電性物質を溶射して適当
な厚さの電極を形成する。あるいは、装置内壁に粘土状
の未燒結のアルミナ・セラミックなどを吹き付けて電気
絶縁層を形成し、さらに、その上に粘土状のチタンなど
の導電性物質を吹き付けて電極を形成し、装置全体を加
熱炉に入れて熱溶融処理(ホーロー引き)する。
【0033】溶射による方法の利点は、絶縁層の耐熱温
度が高いこと、各層間の密着度が高いので壁への熱伝導
が大きく冷却効率が良いこと、また、各層間にガスがほ
とんど残留しないこと、などである。溶射による方法の
欠点は、装置内壁や絶縁層へ溶射するときや、ホーロー
引きするときに、相当な熱負荷が装置全体に掛かるこ
と、一部の絶縁層や電極の特性が劣化しても装置全体を
交換しなければならないこと、などである。
【0034】以下に、分割電極2へ多相交流を給電する
方法について説明する。通常の放電は、2つの電極間で
発生させるので、2本の給電線(1つの電極をアース電
位とする場合は、1本の給電線)を装置内部に導入して
電極に接続すればよい。本発明の放電装置の分割電極2
は、多電極間で放電を発生させるので、多数の給電線を
装置内に導入し、それぞれの分割電極2に位相制御(調
整)された多出力の交流電源を接続しなければならな
い。給電線の本数が多くなるほど、電気絶縁性と減圧下
では真空気密性を保ちながら、装置内部に給電線を導入
し(ブッシング)、それらをそれぞれの電極に接続する
のが難しくなる。従って、分割電極2へ簡単に給電する
ための適当な工夫が必要になる。
【0035】図9に、分割電極2へ多相交流を給電する
装置の断面図を示す。給電装置は、位相制御電源の出力
数と同数か、あるいはその倍数の電気絶縁性と真空気密
性を兼ね備えたブッシング8を真空容器4に取り付け、
そこからそれぞれの分割電極2へ給電線9を接続する。
従来の放電装置の電極は、装置内壁から離れて設置され
るので、装置の適当な箇所にブッシングを取り付け、そ
こから電極へ接続する給電線を導入していた。本発明の
放電装置1の分割電極2は、薄い絶縁シート3を介して
真空容器4の内壁に密着しているので、それぞれの分割
電極2の裏面からブッシング8を通して給電線9の接続
が可能である。
【0036】すなわち、セラミックなどで形成する絶縁
性外管8aと、銅などで形成する導電性内管8bを持つ
ブッシング8を、磁気シールド外套7、真空容器4外
壁、冷却水5、真空容器4内壁、および絶縁シート3で
構成する放電装置1の壁面に貫通する。そして、導電性
内管8bの一端に給電線9を接続し、導電性内管8bの
他端を分割電極2の裏面に当接して給電線9と分割電極
2を電気的に接続する。このとき、真空容器4の外壁や
内壁における防水性や気密性を保持する。また、絶縁シ
ート3を貫通するときの、導電性内管8bの電気絶縁性
を保持する。
【0037】分割電極2に導電性内管8bを接続する方
法は、分割電極2を真空容器4の内壁に密着して固定す
る方法によって異なる。接着剤による方法では、導電性
内管8bの先端に雄ねじ加工を施し、分割電極2の裏面
にねじ穴を明け、これに導電性内管8bの先端をねじ込
んで接続する。このとき、接着剤でねじとねじ穴の間隙
を封じるようにする。
【0038】ねじ止めによる方法では、後述するよう
に、給電線9を接続した導電性内管8bの先端に雌ねじ
加工を施し、このねじでおもて面からねじ止めして分割
電極2を真空容器4内壁に密着して固定する。これによ
り、1本のねじで分割電極2への給電と分割電極2の真
空容器4内壁への固定を行う。
【0039】溶射による方法では、溶射の前にあらかじ
めブッシング8を真空容器4に取り付けておく。そし
て、真空容器4の内壁に絶縁層を吹き付け、その後で、
真空容器4の内壁に突出するブッシング8の絶縁性外管
8aを取り除いて導電性内管8bを露出し、これに導電
性の分割電極2を吹き付ける。これにより、分割電極2
と導電性内管8bを電気的に接続する。
【0040】以上の方法は、多芯ブッシングなどを用い
て給電線9を真空容器4内部に一旦導入して各分割電極
2に接続する場合に比べ、内部配線を省略できる実用上
の利点がある。電極の数が多く、配線数が多いほど、こ
の効果は大きい。
【0041】図10、図11および図12に、ねじ止め
により分割電極2の給電とその上端部の固定を行う円筒
形放電装置1を示す。図10は、装置の上側フランジ1
aの横断面図(図11のA−A´面)であり、図11
は、真空容器4の縦断面図である。図12は、ねじ止め
により分割電極2の下端部の固定を行う下側フランジ1
bの横断面図(図11のB−B´面)である。上側フラ
ンジ1aは、耐熱性の絶縁物(テフロン、セラミックな
ど)で形成し、真空容器4の内壁に密着する各分割電極
2に向けて放射状のブッシング8が真空気密性を保ちな
がら貫通する。
【0042】上側フランジ1aと下側フランジ1bは、
Oリング(図示しない)により真空気密性を保ちながら
真空容器4の上端部と下端部に取り付ける。このとき、
上側フランジ1aと真空容器4および下側フランジ1b
の内径を厳密に同じにすると共に、ブッシング8の内壁
側先端部が内側に突出しないようにする。
【0043】ブッシング8の内壁側先端部には雌ねじ8
cを形成し、雌ねじ8cにねじ10を螺合して分割電極
2の上端部を絶縁シート3を挟んで上側フランジ1aの
内壁に固定する。ここで、ブッシング8の外壁側先端部
は上側フランジ1aの外周まで伸びているので、ブッシ
ング8の外壁側先端に露出する導電性内管8bに給電線
9を接続すれば、分割電極2と給電線9は電気的に接続
されることになる。
【0044】分割電極2は、真空容器4の内壁に直接ね
じで固定しないで、上端部と下端部をそれぞれ上側フラ
ンジ1aと下側フランジ1bの内壁にねじ10で固定す
る。このとき、上側フランジ1aと下側フランジ1bお
よび真空容器4の内径が同じなので、分割電極2は絶縁
シート3を介して真空容器4の内壁に密着する。
【0045】下側フランジ1bは、耐熱性の絶縁物で形
成し、真空容器4と同じ内径を持ち、真空容器4の下端
部をシールすると共に、中心に可動リング11を内接
し、この可動リング11の内壁に各分割電極2を取り付
けるねじ10のねじ穴を放射状に配置する。この可動リ
ング11は、放電による発熱で分割電極2が膨脹し、長
さ方向に伸びたとき、可動リング11が下降して、この
伸びを吸収することができる。
【0046】可動リング11の外周に位置する下側フラ
ンジ1bは、可動リング11の移動空間を確保するの
と、可動リング11外周の真空気密性と電気絶縁性を保
つために設けられたもので、可動リング11より内側を
少し大きくしている。
【0047】図13に、分割電極2を取り付けるねじ1
0の縦断面図を示す。ねじ10は、雌ねじ穴に挿入した
とき、ねじ穴の底に取り残されるガスを抜くために、ね
じ10の軸線に沿って通孔を穿つ。あるいは、ねじ10
の一側を軸線に平行な平面で切除してもよい。
【0048】実際の装置においては、図11の上側フラ
ンジ1aと下側フランジ1bの上および下に放電予備室
や真空排気部分を取り付ける。また、複数の真空容器4
の上側フランジ1aと下側フランジ1bを連結して、適
用対象を長くすることができる。
【0049】図14、図15およに図16に、ねじ止め
により分割電極2の給電と上端部の固定を行う角筒形放
電装置1を示す。図14は、上蓋部1aの横断面図(図
15のA−A´面)であり、図15は、真空容器4の縦
断面図である。図16は、ねじ止めにより分割電極2の
下端部の固定を行う下蓋部1bの横断面図(図15のB
−B´面)である。上蓋部1aは、耐熱性の厚板の絶縁
物で形成し、真空容器4の内壁に密着する各分割電極2
に向けてブッシング8が真空気密性を保ちながら貫通す
る。
【0050】上蓋部1aと下蓋部1bは、真空気密性を
保ちながら真空容器4の上端部と下端部に取り付ける。
このとき、上蓋部1aと真空容器4および下蓋部1bの
内壁面を厳密に同一平面上に位置させると共に、ブッシ
ング8の内壁側先端部が内側に突出しないようにする。
【0051】ブッシング8の内壁側先端部には雌ねじ8
cを形成し、雌ねじ8cにねじ10を螺合して分割電極
2の上端部を絶縁シート3を挟んで上蓋部1aの内壁に
固定する。ここで、ブッシング8の外壁側先端部は上蓋
部1aの外側まで伸びているので、ブッシング8の外壁
側先端に露出する導電性内管8bに給電線9を接続すれ
ば、分割電極2と給電線9は電気的に接続されることに
なる。
【0052】分割電極2は、真空容器4の内壁に直接ね
じで固定しないで、上端部と下端部をそれぞれ上蓋部1
aと下蓋部1bの内壁にねじ10で固定する。このと
き、上蓋部1aと下蓋部1bおよび真空容器4の内壁面
が同一平面上にあるので、分割電極2は絶縁シート3を
介して真空容器4の内壁に密着する。
【0053】下蓋部1bは、耐熱性の絶縁物で形成し、
真空容器4と同一平面上に内壁を持ち、真空容器4の下
端部をシールすると共に、中心に可動フレーム12を内
接し、この可動フレーム12の内壁に各分割電極2を取
り付けるねじ10のねじ穴を配置する。この可動フレー
ム12は、放電による発熱で分割電極2が膨脹し、長さ
方向に伸びたとき、可動フレーム12が下降して、この
伸びを吸収することができる。
【0054】可動フレーム12の外側に位置する下蓋部
1bは、可動フレーム12の移動空間を確保するのと、
可動フレーム12外周の真空機密性と電気絶縁性を保つ
ために設けられたもので、可動フレーム12より内側を
少し大きくしている。
【0055】以下に、分割電極2に位相制御多出力交流
電源を接続して、放電による電極自身をターゲットとす
るスパッタ・コーティングを行う場合、各電極の損耗を
空間的にできるだけ均一化する方法について説明する。
図3あるいは図6に示すように、放電(プラズマ)領域
は多極磁場により、各電極の一部の狭い領域に閉じ込め
られるので、スパッタによる電極の損耗はこの領域での
み大きくなる。この領域の損耗が電極の下地まで達した
とき、電極を交換しなければならないので、電極のター
ゲットとしての利用率を上げるためには、電極の損耗箇
所を移動させ、電極全体をできるだけ均一に損耗させる
工夫が必要である。
【0056】損耗箇所、すなわち、放電領域を移動させ
るには、従来のマグネトロン・スパッタ装置でもよく行
われるように、多極磁場の分布を移動させればよい。す
なわち、多極磁場を発生させる永久磁石あるいは磁場発
生コイルを空間的に動かし、電極表面における放電箇所
を移動して電極表面の損耗を均一化する。図17、図1
8および図19に、本発明の放電装置1の分割電極2の
場合の多極磁場の動かし方をモデル的に示す。ここでの
磁場は永久磁石6で発生させる。図17は、分割電極2
の表面中央に、図18と図19は、それぞれ分割電極2
の左端と右端に放電(プラズマ)領域がある場合の多極
磁場(磁力線)の配位である。真空容器4の外側に設け
た永久磁石6の位置を左右に移動させることにより、多
極磁場配位がシフトして、分割電極2の表面における放
電(プラズマ)の発生領域が移動する。この移動を適当
に調整することにより、分割電極2の表面の損耗を均一
化することができる。
【0057】図20と図21に、円筒形放電装置1にお
いて多極磁場を形成する永久磁石6を真空容器4外壁に
取り付け、真空容器4の外周に沿って往復摺動させる機
械的機構の横断面図と縦断面図を示す。永久磁石6の摺
動を容易にするため、薄いテフロンシートを真空容器4
外壁に被せ、真空容器4の外周を取り囲む磁気シールド
管7に一体に取り付けた6本の棒状永久磁石6を当接す
る。磁気シールド管7には、ラック形歯車13を取り付
け、歯合する円形歯車14を正逆方向に回転させること
により、永久磁石6を真空容器4の外周に沿って往復摺
動させる。
【0058】以下に、コイルに電流を流して永久磁石と
同じ磁場を発生させる方法と、複数のコイルに流す電流
を切り換えて磁場を移動させる方法、および円筒形放電
装置において磁場を移動させる具体的な方法について説
明する。図22に示すような、磁化の強さがMで、磁化
方向の厚さがdh、面積ベクトルがdSの円柱状の微小
永久磁石を考える。これと等価な磁場を発生する電流d
i(方向およびその大きさ)は、2つの場合において磁
気モーメントが等しいので、数式1より求められる。
【数1】 ここで、左辺の・はベクトルの内積を表す。数式1よ
り、等価電流は数式2となり、永久磁石の磁化の強さ、
方向および磁化方向の磁石の長さから求められることが
分かる。
【数2】 ここで、等価電流の流れる方向は、等価(環路)電流が
流れに沿って囲んで作る面の面積ベクトルdSの向きと
磁化ベクトルMの向きとが同じになる方向である。面積
ベクトルの向きの定義は、電流の流れる向きに沿って右
ねじを回したとき、右ねじの進む方向である。図22の
場合、等価電流は円柱状永久磁石の厚さdhの縁に沿っ
て、左回りに流れる環路電流となる。
【0059】図23に、磁化の強さがM、磁化の方向の
厚さがh、磁化されている面の面積の大きさがS(=幅
w×長さg)である棒状永久磁石に対する、磁化の等価
電流iを示す。数式2より、等価電流の大きさは、数式
3となり、その向きは等価電流が流れに沿って作る面積
ベクトルと磁化の方向が同じになる方向である。
【数3】 すなわち、磁化の等価電流は、磁化の方向と平行な厚さ
h面に沿って左回りに流れ、大きさが数式4の環路電流
となる。
【数4】
【0060】図24と図25に、棒状永久磁石の磁化の
等価電流を流すための、等価電流コイルの実際の巻き方
を示す斜視図と横断面図を示す。等価電流コイルは、等
価電流の流れる面に沿ってコイルを巻き、等価電流の流
れる向きと同じ向きに電流Iを流す。このとき、Iの値
はコイルの巻き数をNとすると、数式5となる。
【数5】
【0061】図26と図27に、内径がd1 、外径がd
2 、厚さがw、磁化の方向が径方向、磁化の強さがMで
ある円筒形永久磁石の場合における、表側表面を左回り
に流れる磁化の等価電流iおよび裏側表面を右回りに流
れる同じ大きさの磁化の等価電流iをそれぞれ示す。こ
こで、磁化の強さは中心からの距離、すなわち、半径に
依存せず一様であると仮定する(実際は、このように磁
化することは難しい)。磁化の等価電流は、見かけ上、
表裏2面に分離してしまうが、これは、図28に示すよ
うに、円筒磁石の微小部分に対する磁化の等価電流を合
成してゆく過程で、表裏2面を繋ぐ電流成分が相殺され
るからである。
【0062】図26と図27における磁化の等価電流i
を、図28における微小部分に対する等価電流diから
求める。図28に、円筒磁石の下側表面の中心を原点と
する円筒座標において、円筒磁石の微小構成部分を示
す。半径方向および方位角方向に積分してゆくと、全体
の磁化の等価電流が求められる。図28より、この微小
部分における等価電流は、裏面から厚さ方向の側面を通
り表の面に達し、反対側の側面を通り、再び裏面に戻る
環路電流となる。ここで、方位角方向に積分してゆく
と、厚さ方向の側面を上下に流れる電流成分は打ち消し
合うことが分かる。従って、結果的に、表裏2面にのみ
大きさが同じで向きが反対の方位角方向に流れる環路電
流だけが残る。
【0063】図28において、半径位置rにおける磁化
の等価電流の値は、磁化の強さがMであるので、数式6
より、数式7となる。両辺をrで積分すると、数式8と
なり、図26と図27における磁化の等価電流が求ま
る。
【数6】
【数7】
【数8】
【0064】図29と図30に、円筒形永久磁石の磁化
の等価電流を流すための、等価電流コイルの実際の巻き
方を示す斜視図と横断面図を示す。ここで、円筒状磁場
コイルを2つ割りにして、円筒形放電装置に取り付ける
ことを念頭においたので、片側半分のコイルのみを示
す。コイルの巻き方は、図28に示す微小部分の等価電
流の流れ方と同じように、裏面を内側から円周に沿って
巻き、端に達したら右断面を通り、表の面を円周に沿っ
て巻き、端に達したら左断面を通り、再び裏面に戻る。
この巻き方を内側から外側に向かって繰り返し、表裏2
面一杯にコイルを巻いてゆく。半割コイルが2つ出来上
がったら、2つを合わせて円筒コイルにする。このと
き、断面の部分の電流は、2つのコイルのこの部分の電
流の向きが反対なので相殺される。コイルに流す電流I
は、コイルの巻き数をNとすると、数式9となる。
【数9】
【0065】図31に、同規格の4個の電流コイルを1
組とし、隣り合う組同士の電流の向きを反転しながら幾
組かを並べて構成した多極磁場を示す。ここで、実線の
磁力線は、各組の1および2番コイルにのみ電流が流れ
た場合の磁力線を示す。一方、破線の磁力線は、各組の
3および4番コイルにのみ電流が流れた場合の磁力線を
示す。
【0066】図32は、永久磁石を用いて、図31と等
価な多極磁場を構成した場合の磁石の配置を示す。ここ
で、実線および破線で示す磁力線および配置図は、それ
ぞれ図31の実線および破線で示す磁力線の場合に対応
する。
【0067】図31より、1組のコイルにおいて、コイ
ルに流す電流を1および2番から3および4番へと切り
換えることにより、図32に示すように、機械的に永久
磁石を移動させなくても、磁場を移動させることができ
ることが分かる。
【0068】図31において、コイル幅がこれと等価な
永久磁石の幅wの半分になっているが、これは、コイル
に流す電流を順番に切り換えたとき、発生する磁場をで
きるだけ滑らかに移動させるためである。コイルの分割
数を多くすればするほど移動は滑らかになるが、構成は
複雑になり、また、分割数分だけのコイル励磁用電源が
必要になる。
【0069】図33に、図31に示すように磁場を移動
する場合の、1組の中の4個のコイルに流す電流の時間
調整の例を示す。但し、コイルの巻き芯(コア)は空芯
あるいは非磁性体であるとする。コアが磁性体の場合
は、電流値の変化に対し発生する磁場(磁束密度)にヒ
ステリシスが生じるので、それを補正するような電流調
整をする必要がある。
【0070】図33の電流遷移図において、同時に給電
するコイルの全体の幅が、図32の永久磁石の幅wとで
きるだけ同じになるように、さらに、コイル電流により
発生する磁場が左から右、そして再び、右から左へと空
間的にできるだけ一様に移動するように、それぞれのコ
イルへの放電時間を調整する。
【0071】図33の時刻t=t1 およびt=t2 にお
けるコイル電流状態において、図31の実線および破線
の磁力線で示す磁場が、それぞれ構成される。
【0072】図34に、6分割した壁密着型電極2を持
つ円筒形放電装置において、1組のコイル群が6個のコ
イルよりなる6組のコイル群を装置外周に取り付け、コ
イルに流す電流を順番に切り換えることにより、多極磁
場を円周方向に移動する装置の構成例を示す。永久磁石
と等価な磁場を幅がその半分w/2である2つのコイル
で発生するようにし、且つ、多極磁場分布と等価な磁場
を発生できるように6個のコイル群を円周方向に配置
し、それらへの給電を調整する。コイル幅を半分にした
のは、磁場が円周方向にできるだけ滑らかに移動できる
ようにするためである。
【0073】図34における磁力線は、6組のコイル群
の中の3および4番のコイルにのみ、それぞれ電流を流
す場合において発生する多極磁場の磁力線を示す。
【0074】図35に、装置を円周方向に展開したとき
の、全てのコイルの配置を示す。ここで、矢印はコイル
に流れる電流の向きを表す。上下のコイルは、装置上下
端における放電(プラズマ)の閉じ込めを改善するため
のものである。このコイルは、発生する磁場を移動させ
る必要がないので、コイル幅を永久磁石の幅と同じにし
て、コイルに永久磁石に対応する磁化の等価電流を流
す。
【0075】側壁に取り付ける6個のコイル群は円周方
向へ等間隔に配置し、隣り合う組に互いに逆向きの電流
を流す。それぞれの1組のコイル群において、端から順
番に2つのコイルにのみ同時に電流が流れるように調整
する。
【0076】図36に、磁場を正および負の円周方向に
時間と共に移動させる場合の、1組の中の6個のコイル
に流す電流の時間調整の例を示す。但し、コイルの巻き
芯は空芯あるいは非磁性体であるとする。同時に動作す
るコイルの全体の幅が図31の永久磁石の幅wとできる
だけ同じになるように、さらに、コイル電流により発生
する磁場が左から右、そして再び、右から左へと、空間
的にできるだけ一様に移動するように、それぞれのコイ
ルへの給電時間を調整する。図34の磁力線が示す磁場
は、時刻t=t1 およびt=t2 におけるコイル電流状
態において発生する。
【0077】
【発明の効果】本発明の放電電極は以上のような構成
で、放電室の内壁に複数の電極片を薄膜状の絶縁体を介
して密着して固定する。従って、本発明によれば、電極
が放電室の内壁に密着するので、放電領域を放電室内容
量と略同じ大きさまで取ることができ、装置空間の利用
効率を最大にすることができる。また、大きな容量を持
つ壁面を外部から冷却することにより、電極で発生する
熱を効率的かつ容易に除去できる。このため、小さな電
極へ大きな電力を投入できるようになると共に、冷却装
置を装置内部に持ち込む必要がないので、装置全体の構
成を簡素でコンパクトにすることができる。さらに、電
極と装置外壁との距離が短いので、永久磁石や電磁コイ
ルを装置外壁に取り付け、容易に電極近傍に磁場を作用
させることができる。このため、冷却装置を備えた永久
磁石や電磁コイルを装置内部に持ち込む必要がないの
で、簡単な装置構成で磁場を発生させることができると
共に、機械的あるいは電気的手段により磁場の移動を容
易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の円筒形放電装置の横断面図である。
【図2】本発明の円筒形放電装置の縦断面図である。
【図3】円筒形放電装置の磁力線と放電の様子を示す図
である。
【図4】本発明の角筒形放電装置の横断面図である。
【図5】本発明の角筒形放電装置の縦断面図である。
【図6】角筒形放電装置の磁力線と放電の様子を示す図
である。
【図7】電極の形状例を示す図である。
【図8】電極の配置例を示す図である。
【図9】電極へ多相交流を給電する装置の断面図であ
る。
【図10】円筒形放電装置の上側フランジの横断面図で
ある。
【図11】円筒形放電装置の真空容器の縦断面図であ
る。
【図12】円筒形放電装置の下側フランジの横断面図で
ある。
【図13】電極を取り付けるねじの縦断面図である。
【図14】角筒形放電装置の上蓋部の横断面図である。
【図15】角筒形放電装置の真空容器の縦断面図であ
る。
【図16】角筒形放電装置の下蓋部の横断面図である。
【図17】放電領域が電極中央にある多極磁場配位を示
す図である。
【図18】放電領域を電極左端に移動させた多極磁場配
位を示す図である。
【図19】放電領域を電極右端に移動させた多極磁場配
位を示す図である。
【図20】円筒形放電装置の永久磁石を移動する機械的
機構の横断面図である。
【図21】円筒形放電装置の永久磁石を移動する機械的
機構の縦断面図である。
【図22】円柱状永久磁石の等価電流を示す模式図であ
る。
【図23】棒状永久磁石の等価電流を示す模式図であ
る。
【図24】棒状等価電流コイルの実際の巻き方を示す斜
視図である。
【図25】棒状等価電流コイルの実際の巻き方を示す横
断面図である。
【図26】円筒形永久磁石の表面の等価電流を示す模式
図である。
【図27】円筒形永久磁石の裏面の等価電流を示す模式
図である。
【図28】微小円筒磁化部分の等価電流を示す模式図で
ある。
【図29】円筒状等価電流コイルの実際の巻き方を示す
斜視図である。
【図30】円筒状等価電流コイルの実際の巻き方を示す
横断面図である。
【図31】コイルの配列と電流調整による磁場の移動を
示す模式図である。
【図32】等価永久磁石と機械的移動による磁場の移動
を示す模式図である。
【図33】磁場移動のためのコイル電流の時間調整(4
分割)を示す模式図である。
【図34】円筒形放電装置における多極磁場構成コイル
の配置例を示す模式図である。
【図35】円周方向に展開した多極磁場構成コイルの配
置例を示す模式図である。
【図36】磁場移動のためのコイル電流の時間調整(6
分割)を示す模式図である。
【符号の説明】
1 放電装置 2 分割電極 3 絶縁シート 4 真空容器 5 冷却水 6 磁石 7 磁気シールド 8 ブッシング 9 給電線 10 ねじ 11 可動リング 12 可動フレーム 13 ラック形歯車 14 円形歯車

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放電室の内壁に複数の電極片を薄膜状の
    絶縁体を介して密着して固定し、 前記電極片を冷却する冷却手段と、 前記電極片表面に多極磁場を形成して放電を閉じ込める
    多極磁場形成手段と、を前記放電室の外周に設け、しか
    して各々の前記電極片に位相制御多出力交流電源を供給
    してなる位相制御多電極型交流放電装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6822404B2 (en) * 2000-03-13 2004-11-23 Toyama Prefecture Phase-controlled, multi-electrode type of AC discharge light source
JP2007193997A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Tateyama Machine Kk プラズマ処理装置
JP2007193996A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Tateyama Machine Kk 多相交流プラズマ発生方法と装置
JP2013057095A (ja) * 2011-09-07 2013-03-28 Ulvac Japan Ltd マグネトロンスパッタカソード
KR20170039295A (ko) * 2014-08-06 2017-04-10 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 상류 플라즈마 소스들을 사용하는 챔버-후 저감
CN108269622A (zh) * 2016-12-30 2018-07-10 核工业西南物理研究院 一种被动冷却式托克马克装置弱场侧第一壁组件
JP2025003950A (ja) * 2019-08-16 2025-01-14 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 回転式磁気ハウジングを利用したチューニング可能な均一性制御

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6822404B2 (en) * 2000-03-13 2004-11-23 Toyama Prefecture Phase-controlled, multi-electrode type of AC discharge light source
EP1276136A4 (en) * 2000-03-13 2006-08-30 Toyama Prefecture AC UNLOADING EXPOSURE SOURCE WITH MULTIPLE ELECTRODES AND PHASE CONTROL
JP2007193997A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Tateyama Machine Kk プラズマ処理装置
JP2007193996A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Tateyama Machine Kk 多相交流プラズマ発生方法と装置
JP2013057095A (ja) * 2011-09-07 2013-03-28 Ulvac Japan Ltd マグネトロンスパッタカソード
KR20170039295A (ko) * 2014-08-06 2017-04-10 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 상류 플라즈마 소스들을 사용하는 챔버-후 저감
CN106575602A (zh) * 2014-08-06 2017-04-19 应用材料公司 使用上游等离子体源的后腔室减排
JP2017526179A (ja) * 2014-08-06 2017-09-07 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 上流のプラズマ源を使用するチャンバ後の軽減
CN108269622A (zh) * 2016-12-30 2018-07-10 核工业西南物理研究院 一种被动冷却式托克马克装置弱场侧第一壁组件
JP2025003950A (ja) * 2019-08-16 2025-01-14 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 回転式磁気ハウジングを利用したチューニング可能な均一性制御

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