JPH10125701A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH10125701A
JPH10125701A JP27592196A JP27592196A JPH10125701A JP H10125701 A JPH10125701 A JP H10125701A JP 27592196 A JP27592196 A JP 27592196A JP 27592196 A JP27592196 A JP 27592196A JP H10125701 A JPH10125701 A JP H10125701A
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electrode
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semiconductor chip
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semiconductor device
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Yoshikazu Takahashi
良和 高橋
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Abstract

(57)【要約】 【課題】半導体チップの外周部に設けたガードリング部
とコンタクト端子体との間の放電を防止する。 【解決手段】第1位置決めガイド5aをコレクタ基板3
の溝11に挿入し、この第1位置決めガイド5aをガイ
ドとして、はんだシートと半導体チップ1とを挿入し、
第2位置決めガイド5bを第1位置決めガイド5aにセ
ットする。第2位置決めガイド5bにはコンタクト端子
体2を位置決めする四角形の孔が開いており、その孔に
コンタクト端子体2を挿入して位置決めする。その後で
リフロー炉などのはんだ付け炉を通して、半導体チップ
1とコレクタ基板3とをはんだ4で固着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、複数個の絶縁ゲ
ート型バイポーラトランジスタ(IGBT)などを同一
の平型パッケージ内に組み込んだ半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】IGBTはパワースイッチングデバイス
としてモータPWM制御インバータの応用などに幅広く
使われている。また、このIGBTは電圧駆動型で扱い
易い点などから、市場の要求は大容量化へと向かってい
る。このような中で、容量の増加を図るために、IGB
Tチップを複数個、同一パッケージ内に集積したモジュ
ール構造が採用されている。
【0003】ところで、IGBTのようなMOS制御型
のデバイスでは、半導体チップの主面上にエミッタ電極
とゲート電極とが並んで作られている。このため、IG
BTをパッケージ容器に組み込む場合に、下面側に作ら
れたコレクタ電極は、放熱体兼用の金属ベースである支
持板上にはんだ等でマウントして、この支持板を外部導
出端子とすることができるが、エミッタ電極とゲート電
極は別々にボンディングワイヤなどで外部導出端子に接
続する必要がある。このボンディングワイヤの線径は3
00μm程度のアルミ導線であるため、エミッタ電極側
からの放熱は極めて悪く、コレクタ電極側からの片面放
熱となる。また内部配線インダクタンスも大きい。
【0004】これらの解決のために、従来のサイリスタ
やGTOサイリスタと同様に、セラミックの絶縁外筒を
有する平型パッケージに実装した加圧接触型のIGBT
が提案されているが、GTOサイリスタと違って、IG
BTのエミッタ電極側はMOS構造をしており、電気的
特性と長期信頼性を確保するために、このMOS構造部
以外の領域に集電電極を設けて加圧する必要がある。
【0005】図3は従来の平型IGBTの要部断面構造
を示す図である。図示されていない前記の集電電極と接
触するコンタクト端子体2は半導体チップ1の外周部に
設けたガードリング部6と接触しないように、半導体チ
ップ1のガードリング部6に対応するコンタクト端子体
2の面に凹部14(切り欠き部)を設けている。また位
置決めガイド5をコレクタ基板3の二段の溝15(円
内)の深い溝12に挿入し、この位置決めガイド5をガ
イドにして半導体チップ1およびコンタクト端子体2と
を位置決めする。また浅い方の溝ははんだ逃げ代8とし
て利用する。尚、図3では平型パッケージを構成するセ
ラミックの絶縁外筒および上下の共通電極板は省略され
ており、平型パッケージに収納される内容物についての
み説明されている。また図では複数個の半導体チップ1
の内2個に相当した部分のみ詳細に示した。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来のワイヤボンディ
ングを利用する組立構造ではコレクタ側から放熱はでき
るが、エミッタ側からの放熱は殆ど行われないために素
子の電流容量が大幅に制限される。また大電流容量の素
子ではエミッタ電極に接続したボンディングワイヤの本
数も多くなり、特に複数個のIGBTを同一パッケージ
に組み込んでモジュール化した構成ではワイヤ本数が数
百本にも及ぶため、内部配線インダクタンスが増大し、
これが基でIGBTのスイッチング動作時に大きなサー
ジが発生するといった問題や、信頼性的な問題なども派
生する。
【0007】一方、前記の組立構造による放熱性、内部
配線インダクタンスなどの問題を解消することを狙い
に、GTOサイリスタなどの平型の半導体装置と同様に
IGBTを平型パッケージに組み込み、その主面に形成
されたエミッタ電極、コレクタ電極をそれぞれ平型パッ
ケージの上下面に露出する共通電極板に面接触させて引
き出すようにすることが考えられる。しかしながら、I
GBTはゲート電極を覆う絶縁層の上にエミッタ電極が
延長して作られるために、半導体チップのエミッタ電極
に平型パッケージ側の共通電極板を加圧接触させると、
MOS構造に加圧力が加わって応力の生じるおそれがあ
り、このままでは実用に供し得ない。このため、IGB
Tのエミッタ電極側にMOS構造を持たない、電流通路
と放熱を目的とした集電電極と呼ばれる構造を設け、そ
の集電電極部にコンタクト端子体を位置決めガイドを用
い正確に位置決めして接触させ、加圧による応力がMO
S構造部に及ばないようにしている。このように横方向
のずれがないように位置決めガイドで半導体チップおよ
びコンタクト端子体が正確に位置決めされる構造となっ
ている。
【0008】このように、横方向には位置決めガイドと
半導体チップおよびコンタクト端子体が正確に位置決め
される構造となっているが、半導体チップの耐圧を確保
するために設けられたガードリング部と接触しないよう
にコンタクト端子体に凹部を設けている。ガードリング
部上に金属で形成されたコンタクト端子体が来ると電界
強度が強くなり、この凹部で放電が起こり、IGBTが
耐圧劣化を引き起こす。
【0009】この発明の目的は、前記の課題を解決し、
ガードリング部で放電の発生がない高耐圧を確実に確保
できる半導体装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、例えばIGBTの場合、第1主面に第1主電極と
制御電極、第2主面に第2主電極を有する半導体チップ
を複数個並設して平型パッケージに組み込んだ半導体装
置で、両面に露出する一対の共通電極板と、両共通電極
板の間に挟まれる絶縁外筒とからなる平型パッケージ
に、半導体チップの第2主電極が一方の共通電極板に固
着され、且つ、半導体チップが位置決めガイドで位置決
めされて、固着され、他方の共通電極板と第1主電極と
の間に、前記の位置決めガイドで位置決めされた加圧、
導電および放熱を兼ねる個別のコンタクト端子体を具備
する半導体装置において、半導体チップの外周部に配置
されるガードリング部の上部を、隙間をもって覆うよう
に、位置決めガイドに凸部を設け、該凸部でコンタクト
端子体を位置決めする構成とする。
【0011】前記の凸部が位置決めガイドの上部に設け
た上部蓋で形成されるとよい。またこの凸部が位置決め
ガイドと一体に形成されてもよい。また第1主面に第1
主電極と制御電極、第2主面に第2主電極を有する半導
体チップが絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ、MO
S制御サイリスタもしくはMOSトランジスタのいずれ
かであり、同一の平型パッケージ内に複数個の前記の半
導体チップと並置してフライホイールダイオードが組み
込まれ、他方の共通電極とフライホイールダイオードの
アノード電極との間に加圧、導電および放熱を兼ねたコ
ンタクト端子体を備えた構成とする。
【0012】この構成とすると、ガードリング部の上方
に金属板が存在しなく、絶縁物がくるため、放電が発生
せず、また、コンタクト端子体はシリコンと熱膨張係数
が近いMoやWで形成されているが、機械加工が極めて
困難で、凹部をこのMo板やW板に設けると、製造コス
トがアップしてしまうが、この構成では、コンタクト端
子体には凹部を設ける必要がないため、製造コストを低
減できる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に説明する構成図では平型パ
ッケージを構成するセラミックの絶縁外筒および上下の
共通電極板は省略されており、平型パッケージに収納さ
れる内容物についてのみ説明されている。図1はこの発
明の第1実施例の要部構成図である。第1位置決めガイ
ド5aをコレクタ基板3(IGBTのコレクタ側がはん
だ付けされるCuなどでできた基板のこと)の溝11に
挿入し、この第1位置決めガイド5aをガイドとして、
はんだシート(図でははんだシートが溶けて半導体チッ
プ1とコレクタ基板3とがはんだ4で固着した状態を示
す)と半導体チップ1とを挿入し、第2位置決めガイド
5b(上部枠のこと)を第1位置決めガイド5aにセッ
トする。セットの仕方は第2位置決めガイド5bの外周
部に切り欠き部10を設け第1位置決めガイドにその切
り欠き部10をガイドにして載せる。第2位置決めガイ
ド5bにはコンタクト端子体2を位置決めする四角形の
孔(上部枠の内側のこと)が開いており、その孔にコン
タクト端子体2を挿入して位置決めする。その後でリフ
ロー炉などのはんだ付け炉を通して、半導体チップ1と
コレクタ基板3とをはんだ4で固着する。第1および第
2位置決めガイド5a、5bは耐熱性プラスチックで形
成され、はんだ付け工程での半導体チップ1の位置決め
に利用すると同時に高温工程での形状および材質の変化
がないため、最終製品での位置決めガイドとしても利用
している。従来のようにガードリング部6の上をコンタ
クト端子体2で覆うことがなく、絶縁物で形成された第
2位置決めガイド5bで覆うために、ガードリング部6
とコンタクト端子体2との放電はなくなる。
【0014】またこの構造にすることで、機械加工が困
難なMoやWなどのコンタクト端子体2の外周部を従来
構造のように凹部に機械加工する必要もなくなり、また
第1位置決めガイド5aにプラスチック(ポリイミドな
どの高温耐熱性樹脂)の成形でL字型9とすることで、
従来構造のようにコレクタ基板3にはんだ逃げ代用の溝
と位置決めガイド用の溝の二段の溝15(図3参照)を
付ける必要もなくなり、製造コストを低減できる。
【0015】図2はこの発明の第2実施例の要部構成図
である。図1との大きな違いは第2位置決めガイドを第
1位置決めガイトと一体に形成している点である。コレ
クタ基板3にはんだシートと半導体チップ1を載せ、被
せるように位置決めガイド5をコレクタ基板3の深い溝
12に挿入し、位置決めガイド5の内壁に付いている凸
部13を位置決めとして利用してコンタクト端子体2を
挿入し、コンタクト端子体2と半導体チップ1とを位置
決めする。その後ではんだ付け炉を通してはんだ接合を
する。ガードリング部6の上には絶縁物の位置決めガイ
ド5の凸部13がくるため、コンタクト端子体2とガー
ドリング部6との放電は起こらない。また従来構造のよ
うにコンタクト端子体2の外周部を凹型に加工する必要
がないため、製造コストは低減できる。
【0016】
【発明の効果】この発明によれば、半導体チップのMO
S制御電極構造に異常な加圧力を加えることなしに、複
数個の半導体チップを平型パッケージに組み込んで面接
触による均一な加圧接触が達成できるとともに、各半導
体チップの両面からの放熱が可能となり、電流容量の大
幅な増加が図れるほか、主電極からの電流の引出しにボ
ンディングワイヤを使用しないので、内部配線インダク
タンスも小さくなる。またハーメチッックシールの平型
パッケージとボンディングワイヤを無くすることにより
大幅な信頼性の向上を図ることができる。さらにIGB
Tおよびダイオードなどの半導体チップのガードリング
部とコンタクト端子体との間の放電を防止することがで
き、且つ、機械加工が困難なMoやWなどでできたコン
タクト端子体に従来必要とされた外周部に凹部を付ける
という機械加工が不要となり、製造コストが低減でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施例の要部構成図
【図2】この発明の第2実施例の要部構成図
【図3】従来の平型IGBTの断面構造を示す図
【符号の説明】
1 半導体チップ 2 コンタクト端子体 3 コレクタ基板 4 はんだ 5 位置決めガイド 5a 第1位置決めガイド 5b 第2位置決めガイド 6 ガードリング部 7 隙間 8 はんだ逃げ代 9 L字型 10 切り欠き部 11 溝 12 深い溝 13 凸部 14 凹部 15 二段の溝

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1主面に第1主電極と制御電極、第2主
    面に第2主電極を有する半導体チップを複数個並設して
    平型パッケージに組み込んだ半導体装置で、両面に露出
    する一対の共通電極板と、両共通電極板の間に挟まれる
    絶縁外筒とからなる平型パッケージに、半導体チップの
    第2主電極が一方の共通電極板に固着され、且つ、半導
    体チップが位置決めガイドで位置決めされて、固着さ
    れ、他方の共通電極板と第1主電極との間に、前記の位
    置決めガイドで位置決めされた加圧、導電および放熱を
    兼ねる個別のコンタクト端子体を具備する半導体装置に
    おいて、半導体チップの外周部に配置されるガードリン
    グ部の上部を、隙間をもって覆うように、位置決めガイ
    ドに凸部を設け、該凸部でコンタクト端子体を位置決め
    することを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】凸部が位置決めガイドの上部に設けた上部
    枠で形成されることを特徴とする請求項1記載の半導体
    装置。
  3. 【請求項3】凸部が位置決めガイドと一体に形成される
    ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】第1主面に第1主電極と制御電極、第2主
    面に第2主電極を有する半導体チップが絶縁ゲート型バ
    イポーラトランジスタ、MOS制御サイリスタもしくは
    MOSトランジスタのいずれかであり、同一の平型パッ
    ケージ内に複数個の前記の半導体チップと並置してフラ
    イホイールダイオードが組み込まれ、他方の共通電極と
    フライホイールダイオードのアノード電極との間に加
    圧、導電および放熱を兼ねたコンタクト端子体を具備す
    ることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103915350A (zh) * 2012-12-28 2014-07-09 西安永电电气有限责任公司 Igbt模块的安装方法
CN115020252A (zh) * 2022-08-10 2022-09-06 合肥芯谷微电子有限公司 一种tr组件的制作方法
CN118983277A (zh) * 2024-08-02 2024-11-19 东方响松电力电子元器件制造有限公司 一种方形晶闸管芯片

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CN115020252B (zh) * 2022-08-10 2022-11-08 合肥芯谷微电子有限公司 一种tr组件的制作方法
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