JPH10134695A - チップヒューズ及びその製造方法 - Google Patents
チップヒューズ及びその製造方法Info
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- JPH10134695A JPH10134695A JP28874396A JP28874396A JPH10134695A JP H10134695 A JPH10134695 A JP H10134695A JP 28874396 A JP28874396 A JP 28874396A JP 28874396 A JP28874396 A JP 28874396A JP H10134695 A JPH10134695 A JP H10134695A
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- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
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- H01H85/02—Details
- H01H85/04—Fuses, i.e. expendable parts of the protective device, e.g. cartridges
- H01H85/041—Fuses, i.e. expendable parts of the protective device, e.g. cartridges characterised by the type
- H01H85/0411—Miniature fuses
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 端子電極の形成が容易で、封止樹脂等で汚さ
れることがなく、信頼性も高く、生産性の高いチップヒ
ューズ素子及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 表面に形成した2つの電極パッド3a、
3b、側面の厚み方向に延びる凹部41内に導電性部材
を充填して端子電極4a、4bとを有する絶縁基板2
と、前記2つの電極パッド3a、3b間に接続配置され
た可溶導体細線からなるヒューズ素子5と、前記可溶導
体細線からなるヒューズ素子5の周囲に溶断空間6を形
成して、絶縁基板2上に塗布・硬化されて成る樹脂封止
体7とから成るチップヒューズ素子1である。また、絶
縁基板2は大型基板100からなり、製造の最終工程で
切断・分離されて、大型基板100の切断面から端子電
極4a、4bが形成される。
れることがなく、信頼性も高く、生産性の高いチップヒ
ューズ素子及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 表面に形成した2つの電極パッド3a、
3b、側面の厚み方向に延びる凹部41内に導電性部材
を充填して端子電極4a、4bとを有する絶縁基板2
と、前記2つの電極パッド3a、3b間に接続配置され
た可溶導体細線からなるヒューズ素子5と、前記可溶導
体細線からなるヒューズ素子5の周囲に溶断空間6を形
成して、絶縁基板2上に塗布・硬化されて成る樹脂封止
体7とから成るチップヒューズ素子1である。また、絶
縁基板2は大型基板100からなり、製造の最終工程で
切断・分離されて、大型基板100の切断面から端子電
極4a、4bが形成される。
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、表面実装型に適し
たチップヒューズ及びその製造方法に関する。
たチップヒューズ及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】チップヒューズは、各種電子回路の異常
電流に対する保護素子として広汎に使用されている。
電流に対する保護素子として広汎に使用されている。
【0003】一般にチップヒューズは、ヒューズ素子が
導体の細線または導体膜から成り、いずれの場合にで
も、溶断させたい異常電流、ヒューズ素子を構成する導
体材料の融点を考慮して、ヒューズ素子の導体部分が所
定抵抗となるように設定されていた。即ち、ヒューズ素
子に異常電流が通電されると、ヒューズ素子がジュール
熱によって発熱し、その熱によって、ヒューズ素子自身
の導体材料を溶断するものである。
導体の細線または導体膜から成り、いずれの場合にで
も、溶断させたい異常電流、ヒューズ素子を構成する導
体材料の融点を考慮して、ヒューズ素子の導体部分が所
定抵抗となるように設定されていた。即ち、ヒューズ素
子に異常電流が通電されると、ヒューズ素子がジュール
熱によって発熱し、その熱によって、ヒューズ素子自身
の導体材料を溶断するものである。
【0004】このようなヒューズにおいて、異常電流に
対して定格時間で溶断され、しかも、溶断した後に高い
絶縁性を維持して、スパークなどの発生を防止すること
が重要である。例えば、ヒューズ素子の構造を所定金属
の導体膜を用いる場合には、導体膜の融点よりも低い融
点のガラス材料で被覆する必要がある。また、ヒューズ
素子に細線を用いた場合、細線の周囲に充分な空間を形
成する必要がある。
対して定格時間で溶断され、しかも、溶断した後に高い
絶縁性を維持して、スパークなどの発生を防止すること
が重要である。例えば、ヒューズ素子の構造を所定金属
の導体膜を用いる場合には、導体膜の融点よりも低い融
点のガラス材料で被覆する必要がある。また、ヒューズ
素子に細線を用いた場合、細線の周囲に充分な空間を形
成する必要がある。
【0005】近時、チップヒューズは、他の電子部品と
ともに、一括的に半田リフロー方法によって、所定プリ
ント配線基板に実装できるように、表面実装に対応した
構造のチップヒューズが求められている。
ともに、一括的に半田リフロー方法によって、所定プリ
ント配線基板に実装できるように、表面実装に対応した
構造のチップヒューズが求められている。
【0006】このような表面実装型のチップヒューズの
構造は、ヒューズ素子に導体薄膜を用いる場合には、従
来のチップ抵抗器に近似した構造となり、また、ヒュー
ズ素子に細線を用いた場合、2分割できる2つの基板の
接合表面の中央に凹部を形成しておき、細線を2つの基
板で挟持して接合した後、細線の両端に接続する2つの
基板の端部に端子電極を形成していた。
構造は、ヒューズ素子に導体薄膜を用いる場合には、従
来のチップ抵抗器に近似した構造となり、また、ヒュー
ズ素子に細線を用いた場合、2分割できる2つの基板の
接合表面の中央に凹部を形成しておき、細線を2つの基
板で挟持して接合した後、細線の両端に接続する2つの
基板の端部に端子電極を形成していた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】後者のヒューズ素子に
細線を用いた表面実装型のチップヒューズは、溶断後の
絶縁特性の維持から、凹部によって形成される細線周囲
の空間を充分に大きくしなくてはならず、同時に、外観
形状を小型化し、しかも低コスト化することが求められ
ている。
細線を用いた表面実装型のチップヒューズは、溶断後の
絶縁特性の維持から、凹部によって形成される細線周囲
の空間を充分に大きくしなくてはならず、同時に、外観
形状を小型化し、しかも低コスト化することが求められ
ている。
【0008】しかしながら、従来の2つの基板を用いて
接合する構造では、2つの基板で細線を挟持する際、そ
の位置決めによっては、細線周囲の空間の中心部分に細
線が位置せずに、溶断飛散した導体材料と細線の残存分
との間に充分に間隔が維持できず、スパークなどの絶縁
破壊が発生することがある。
接合する構造では、2つの基板で細線を挟持する際、そ
の位置決めによっては、細線周囲の空間の中心部分に細
線が位置せずに、溶断飛散した導体材料と細線の残存分
との間に充分に間隔が維持できず、スパークなどの絶縁
破壊が発生することがある。
【0009】また、2つの基板で細線を挟持することに
なるため、小型化が困難となってしまう。
なるため、小型化が困難となってしまう。
【0010】さらに、部品点数が多く、また、製造が非
常に煩雑となり、量産性に適さず、その結果、低コスト
が達成できなかった。
常に煩雑となり、量産性に適さず、その結果、低コスト
が達成できなかった。
【0011】本発明は上述の問題点に鑑みて案出された
ものであり、その目的は、ヒューズ素子の周囲を空間を
確実に形成でき、溶断後の絶縁特性が安定し、小型化が
可能で、量産性に優れた表面実装対応のチップヒューズ
及びその製造方法を提供するものである。
ものであり、その目的は、ヒューズ素子の周囲を空間を
確実に形成でき、溶断後の絶縁特性が安定し、小型化が
可能で、量産性に優れた表面実装対応のチップヒューズ
及びその製造方法を提供するものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】第1の発明は、ヒューズ
素子に可溶導体細線を用いたチップヒューズであり、絶
縁基板の表面に形成した2つの電極パッドと、該電極パ
ッドに接続し、側面の厚み方向に延びる凹部内に形成し
た端子電極とを有する絶縁基板と、前記2つの電極パッ
ド間に架設され、可溶細線導体から成るヒューズ素子
と、前記ヒューズ素子の周囲に空間を設けて、絶縁基板
表面に形成された樹脂封止体とから成るものである。
素子に可溶導体細線を用いたチップヒューズであり、絶
縁基板の表面に形成した2つの電極パッドと、該電極パ
ッドに接続し、側面の厚み方向に延びる凹部内に形成し
た端子電極とを有する絶縁基板と、前記2つの電極パッ
ド間に架設され、可溶細線導体から成るヒューズ素子
と、前記ヒューズ素子の周囲に空間を設けて、絶縁基板
表面に形成された樹脂封止体とから成るものである。
【0013】また、第2の発明は、第1の発明のチップ
ヒューズ素子の製造方法であり、複数の絶縁基板領域を
有し、各絶縁基板領域内の表面に2つの電極パッドと、
隣接する絶縁縁基板領域に跨がって形成された貫通孔に
導電性部材を充填して形成され、且つ該電極パッドに接
続しているビアホール導体とを有する大型絶縁基板を用
意する工程と、前記各絶縁基板領域の電極パッド間に、
可溶細線導体から成るヒューズ素子をボンディング接続
によって架設する工程と、前記ヒューズ素子をワックス
で被覆する工程と、前記大型絶縁基板上に、前記ワック
スで被覆されたヒューズ素子を覆うように熱硬化性多孔
質樹脂を塗布する工程と、前記熱硬化多孔質樹脂を加熱
硬化させるとともに、前記ワックスを熱硬化性多孔質樹
脂内に吸収させてヒューズ素子の周囲に空間を形成する
工程と、前記大型絶縁基板及び前記ワックスを吸収し、
硬化した樹脂を切断し、個々のチップヒューズ素子に分
割する工程とから成る。
ヒューズ素子の製造方法であり、複数の絶縁基板領域を
有し、各絶縁基板領域内の表面に2つの電極パッドと、
隣接する絶縁縁基板領域に跨がって形成された貫通孔に
導電性部材を充填して形成され、且つ該電極パッドに接
続しているビアホール導体とを有する大型絶縁基板を用
意する工程と、前記各絶縁基板領域の電極パッド間に、
可溶細線導体から成るヒューズ素子をボンディング接続
によって架設する工程と、前記ヒューズ素子をワックス
で被覆する工程と、前記大型絶縁基板上に、前記ワック
スで被覆されたヒューズ素子を覆うように熱硬化性多孔
質樹脂を塗布する工程と、前記熱硬化多孔質樹脂を加熱
硬化させるとともに、前記ワックスを熱硬化性多孔質樹
脂内に吸収させてヒューズ素子の周囲に空間を形成する
工程と、前記大型絶縁基板及び前記ワックスを吸収し、
硬化した樹脂を切断し、個々のチップヒューズ素子に分
割する工程とから成る。
【0014】
【作用】第1の発明のチップヒューズは、絶縁基板の側
面に端子電極が形成されているため、表面実装に非常に
適した構造である。
面に端子電極が形成されているため、表面実装に非常に
適した構造である。
【0015】また、基板の表面に、この端子電極と接続
する電極パッドが形成されており、電極パッド間には、
可溶導体細線からなるヒューズ素子が直接架設され、し
かも、この周囲に溶断空間が形成されている。従って、
可溶導体細線からヒューズ素子が溶断すると、ヒューズ
素子が溶断空間内に飛び散り、完全な絶縁特性が得られ
ることになる。
する電極パッドが形成されており、電極パッド間には、
可溶導体細線からなるヒューズ素子が直接架設され、し
かも、この周囲に溶断空間が形成されている。従って、
可溶導体細線からヒューズ素子が溶断すると、ヒューズ
素子が溶断空間内に飛び散り、完全な絶縁特性が得られ
ることになる。
【0016】さらに、樹脂封止体は、絶縁基板上に樹脂
の塗布、硬化で形成されるため、従来のように2つの基
板を接合する必要がないため、小型化が可能で、非常に
生産性が向上することになる。
の塗布、硬化で形成されるため、従来のように2つの基
板を接合する必要がないため、小型化が可能で、非常に
生産性が向上することになる。
【0017】従って、溶断後の絶縁特性が安定し、小型
化が可能で、量産性に優れた表面実装対応のチップヒュ
ーズとなる。
化が可能で、量産性に優れた表面実装対応のチップヒュ
ーズとなる。
【0018】第2の発明は、第1の発明(チップヒュー
ズ)を達成するための製造方法であり、特に、複数の絶
縁基板が抽出される大型基板をベースに製造することが
できるため、生産性が非常に優れたものとなる。
ズ)を達成するための製造方法であり、特に、複数の絶
縁基板が抽出される大型基板をベースに製造することが
できるため、生産性が非常に優れたものとなる。
【0019】また、端子電極は、大型基板の状態で形成
されており、最終工程で切断することにより、絶縁基板
の側面に現れることになる。従って、基板の側面に現れ
る端子電極が樹脂などによって汚されることがないた
め、表面実装の信頼性が非常に向上する。
されており、最終工程で切断することにより、絶縁基板
の側面に現れることになる。従って、基板の側面に現れ
る端子電極が樹脂などによって汚されることがないた
め、表面実装の信頼性が非常に向上する。
【0020】また、可溶導体細線であるヒューズ素子
は、基板表面の電極パッドをボンディングによって架設
されるため、安定した構造で、簡単に形成することがで
きる。
は、基板表面の電極パッドをボンディングによって架設
されるため、安定した構造で、簡単に形成することがで
きる。
【0021】さらに、ヒューズ素子の周囲の溶断空間
は、ワックスを塗布しておき、樹脂封止体の熱硬化時
に、樹脂封止体に吸収されるため、簡単かつ確実に溶断
空間を形成することができる。
は、ワックスを塗布しておき、樹脂封止体の熱硬化時
に、樹脂封止体に吸収されるため、簡単かつ確実に溶断
空間を形成することができる。
【0022】さらに、樹脂封止体は、大型基板上に一括
的に塗布し、熱硬化させることができるため、非常に生
産性に優れ、且つ簡単に形成することができる。
的に塗布し、熱硬化させることができるため、非常に生
産性に優れ、且つ簡単に形成することができる。
【0023】以上のように、本発明の製造方法では、溶
断後の絶縁特性が安定し、小型化が可能で、低コストの
表面実装対応したチップヒューズの製造方法となる。
断後の絶縁特性が安定し、小型化が可能で、低コストの
表面実装対応したチップヒューズの製造方法となる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明のチップヒューズ及
びその製造方法を図面に基づいて説明する。
びその製造方法を図面に基づいて説明する。
【0025】図1は、本発明のチップヒューズの縦断面
図である。図2は樹脂封止体を省略した状態の平面図で
ある。
図である。図2は樹脂封止体を省略した状態の平面図で
ある。
【0026】図1、図2のチップヒューズ1において、
2は例えばアルミナセラミック基板などの耐熱性の絶縁
基板であり、3a、3bは基板2の上面の電極パッド、
4a、4bは端子電極、5は可溶導体細線からなるヒュ
ーズ素子、6は溶断空間、7は樹脂封止体である。尚、
基板2の裏面には、端子電極4a、4bと接続する下面
端子電極8a、8bを形成してもよい。
2は例えばアルミナセラミック基板などの耐熱性の絶縁
基板であり、3a、3bは基板2の上面の電極パッド、
4a、4bは端子電極、5は可溶導体細線からなるヒュ
ーズ素子、6は溶断空間、7は樹脂封止体である。尚、
基板2の裏面には、端子電極4a、4bと接続する下面
端子電極8a、8bを形成してもよい。
【0027】絶縁基板2は、基板2の長辺側の両側面に
は基板2の厚み方向を貫く凹部41が形成され、この凹
部41内に導電性部材が充填された端子電極4a、4b
が形成されている。また、基板1の表面には、端子電極
4a、4bと接続する2つの電極パッド3a、3bが形
成されている。
は基板2の厚み方向を貫く凹部41が形成され、この凹
部41内に導電性部材が充填された端子電極4a、4b
が形成されている。また、基板1の表面には、端子電極
4a、4bと接続する2つの電極パッド3a、3bが形
成されている。
【0028】2つの電極パッド3a、3bは、例えば、
基板2の幅方向の両方向に広がるように形成されて、端
子電極4a、4bに接続している。尚、基板2には4つ
の端子が形成されているが、同一機能を有する端子電極
を同一符号を付している。また、端子数は、少なくとも
2端子あればよく、この場合に、基板2の長手方向の側
面に形成してもよい。
基板2の幅方向の両方向に広がるように形成されて、端
子電極4a、4bに接続している。尚、基板2には4つ
の端子が形成されているが、同一機能を有する端子電極
を同一符号を付している。また、端子数は、少なくとも
2端子あればよく、この場合に、基板2の長手方向の側
面に形成してもよい。
【0029】電極パッド3a、3b、端子電極4a、4
bは、銀(Ag)等の導電性ペーストを焼きつけて形成
されている。この端子電極4a、4bの表面は、基板2
の側面と同一面を成している。例えば凹部41の形状が
大きい場合には、その内壁面にAgなどの導体膜を付着
して、さらに半田などの導電部材で充填してもよい。
bは、銀(Ag)等の導電性ペーストを焼きつけて形成
されている。この端子電極4a、4bの表面は、基板2
の側面と同一面を成している。例えば凹部41の形状が
大きい場合には、その内壁面にAgなどの導体膜を付着
して、さらに半田などの導電部材で充填してもよい。
【0030】可溶導体細線からなるヒューズ素子5は、
アルミニウム等の細線からなり、その太さは、例えば1
0μmであり、電流容量に応じて選択されるものであ
り、2つの電極パッド3a、3b上に跨がるように架設
されている。具体的には、ワイヤボンディング方法を用
いて架設される。また、細線となるヒューズ素子5を2
つの電極パッド3a、3b間に、複数架設しても構わな
い。
アルミニウム等の細線からなり、その太さは、例えば1
0μmであり、電流容量に応じて選択されるものであ
り、2つの電極パッド3a、3b上に跨がるように架設
されている。具体的には、ワイヤボンディング方法を用
いて架設される。また、細線となるヒューズ素子5を2
つの電極パッド3a、3b間に、複数架設しても構わな
い。
【0031】このような可溶導体細線からなるヒューズ
素子5の周囲には、溶断空間6が形成されて、樹脂封止
体7で被覆されている。溶断空間6は、可溶導体細線か
らなるヒューズ素子5が発熱・溶断した際、この細線が
飛び散る領域を確保するものである。この溶断空間6
は、ヒューズ素子5の周囲にワックスを塗布し、製造工
程中で樹脂封止体7内に吸収させて形成する。
素子5の周囲には、溶断空間6が形成されて、樹脂封止
体7で被覆されている。溶断空間6は、可溶導体細線か
らなるヒューズ素子5が発熱・溶断した際、この細線が
飛び散る領域を確保するものである。この溶断空間6
は、ヒューズ素子5の周囲にワックスを塗布し、製造工
程中で樹脂封止体7内に吸収させて形成する。
【0032】樹脂封止体7は、フェノール系樹脂などの
熱硬化性樹脂をベースに、多孔質となるようにアルミナ
セラミックの粉末が添加されている。これによって、樹
脂封止体7は熱硬化性の多孔質の樹脂体となる。
熱硬化性樹脂をベースに、多孔質となるようにアルミナ
セラミックの粉末が添加されている。これによって、樹
脂封止体7は熱硬化性の多孔質の樹脂体となる。
【0033】樹脂封止体7は、後述の製造方法でも詳細
に説明するが、基板2になるように分割して抽出できる
大型基板上に、一括的に塗布し、熱硬化するため、溶断
空間6を除く基板2の表面に、即ち基板2の表面に現れ
る端子電極4a、4bの表面側露出部にも一体的に付着
する。
に説明するが、基板2になるように分割して抽出できる
大型基板上に、一括的に塗布し、熱硬化するため、溶断
空間6を除く基板2の表面に、即ち基板2の表面に現れ
る端子電極4a、4bの表面側露出部にも一体的に付着
する。
【0034】以上のような構造のチップヒューズ1は、
可溶導体細線からなるヒューズ素子5を、溶断空間6を
有する樹脂封止体7で被覆しているので、ヒューズ素子
5が発熱溶断し、細線が飛び散った後でも、安定した絶
縁特性が維持できる。しかも、ヒューズ素子5と溶断空
間6との関係において、溶断空間6の略中央にヒューズ
素子5の周囲を有する樹脂封止体7で被覆しているの
で、ヒューズ素子5が発熱溶断(素子5の飛散)した場
合、飛散物が飛び散る領域を確保するものである。
可溶導体細線からなるヒューズ素子5を、溶断空間6を
有する樹脂封止体7で被覆しているので、ヒューズ素子
5が発熱溶断し、細線が飛び散った後でも、安定した絶
縁特性が維持できる。しかも、ヒューズ素子5と溶断空
間6との関係において、溶断空間6の略中央にヒューズ
素子5の周囲を有する樹脂封止体7で被覆しているの
で、ヒューズ素子5が発熱溶断(素子5の飛散)した場
合、飛散物が飛び散る領域を確保するものである。
【0035】また、端子電極4a、4bが基板2の側面
から良好に露出し、且つ該側面と同一面を成しているた
め、プリント配線基板上にチップヒューズ1を表面実装
する際、安定して実装することができる。
から良好に露出し、且つ該側面と同一面を成しているた
め、プリント配線基板上にチップヒューズ1を表面実装
する際、安定して実装することができる。
【0036】しかも、可溶導体細線からなるヒューズ素
子を挟持して、2つの基板を接合した構造ではなく、基
板2上に樹脂の塗布、硬化によって直接形成される樹脂
封止体7を用いているため、組立に要する部品点数が少
なくて済み、また、樹脂封止体7の形状を可溶導体細線
からなるヒューズ素子5及び溶断空間6を含めた形状に
まで近似させることができるため、非常に小型化するこ
とができる。
子を挟持して、2つの基板を接合した構造ではなく、基
板2上に樹脂の塗布、硬化によって直接形成される樹脂
封止体7を用いているため、組立に要する部品点数が少
なくて済み、また、樹脂封止体7の形状を可溶導体細線
からなるヒューズ素子5及び溶断空間6を含めた形状に
まで近似させることができるため、非常に小型化するこ
とができる。
【0037】尚、基板2の下面には、プリント配線基板
への表面実装信頼性を向上させるために、端子電極4
a、4bと接続する下面端子電極8a、8bを形成して
もよい。また、基板2の側面の凹部41の形状を、平面
視概略半円形状に限ることはなく、半長円形、矩形状な
どであっても構わない。端子電極4a、4bで重要なこ
とは、凹部41内に導電性部材が充填配置されており、
端子電極4a、4bの表面が基板2の側面と同一面を形
成していることである。
への表面実装信頼性を向上させるために、端子電極4
a、4bと接続する下面端子電極8a、8bを形成して
もよい。また、基板2の側面の凹部41の形状を、平面
視概略半円形状に限ることはなく、半長円形、矩形状な
どであっても構わない。端子電極4a、4bで重要なこ
とは、凹部41内に導電性部材が充填配置されており、
端子電極4a、4bの表面が基板2の側面と同一面を形
成していることである。
【0038】次に、本発明のチップヒューズの製造方法
を説明する。
を説明する。
【0039】本発明のチップヒューズの製造方法は、図
3に示すような大型基板をベースに用いる。
3に示すような大型基板をベースに用いる。
【0040】図3において100は大型基板であり、大
型基板100には、複数の絶縁基板2・・・が抽出され
るように形成されている。尚、図において、点線部分
は、最終的に分割又は切断される部分を示すとともに、
各チップヒューズの領域(素子領域)を区画するもので
ある。
型基板100には、複数の絶縁基板2・・・が抽出され
るように形成されている。尚、図において、点線部分
は、最終的に分割又は切断される部分を示すとともに、
各チップヒューズの領域(素子領域)を区画するもので
ある。
【0041】大型基板100は、例えば、各領域の境界
部分に凹部41となる貫通孔を形成したアルミナなどの
セラミック基板であり、この該貫通孔にAgなどの導電
性ペーストを印刷・焼きつけして成るビアホール導体4
0が形成されている。同時に、各領域内に電極パッド3
a、3b、必要に応じて下面電極8a、8bを印刷し、
焼付けして形成される。尚、このような大型基板100
の部分断面図を図4(a)に示す。ここで、ビアホール
導体40とは、Agなどの導電性部材が基板100の上
面側に形成した電極パッド3a、3bと基板100の下
面側の下面電極8a、8bとを接続するように、貫通孔
に充填されている状態をいう。尚、また、端子電極4
a、4bの基板2の側面において比較的広い露出面積と
するために、貫通孔の開口径を大きくすることが有利で
あり、例えば1.0mm×2.0mm程度の長円形状な
どとすることがある。この場合、導体部材は、貫通孔の
内壁面にしか形成することができないが、さらに、貫通
孔の空洞部分に半田などの導電性部材を充填する。これ
により、大型基板100において、貫通孔が完全に閉塞
されたビアホール導体40となる。
部分に凹部41となる貫通孔を形成したアルミナなどの
セラミック基板であり、この該貫通孔にAgなどの導電
性ペーストを印刷・焼きつけして成るビアホール導体4
0が形成されている。同時に、各領域内に電極パッド3
a、3b、必要に応じて下面電極8a、8bを印刷し、
焼付けして形成される。尚、このような大型基板100
の部分断面図を図4(a)に示す。ここで、ビアホール
導体40とは、Agなどの導電性部材が基板100の上
面側に形成した電極パッド3a、3bと基板100の下
面側の下面電極8a、8bとを接続するように、貫通孔
に充填されている状態をいう。尚、また、端子電極4
a、4bの基板2の側面において比較的広い露出面積と
するために、貫通孔の開口径を大きくすることが有利で
あり、例えば1.0mm×2.0mm程度の長円形状な
どとすることがある。この場合、導体部材は、貫通孔の
内壁面にしか形成することができないが、さらに、貫通
孔の空洞部分に半田などの導電性部材を充填する。これ
により、大型基板100において、貫通孔が完全に閉塞
されたビアホール導体40となる。
【0042】尚、大型基板100の各素子領域に、電極
パッド3a、3bの形成と同時に、コンデンサや抵抗な
どの他の回路素子を搭載するため電極を形成し、続い
て、厚膜手法によってコンデンサ、抵抗を形成してもよ
い。
パッド3a、3bの形成と同時に、コンデンサや抵抗な
どの他の回路素子を搭載するため電極を形成し、続い
て、厚膜手法によってコンデンサ、抵抗を形成してもよ
い。
【0043】次に、図4(b)に示すように、大型基板
100の各領域の電極パッド3a、3b間に可溶導体細
線からなるヒューズ素子5を配置・接合する。具体的に
は、可溶導体細線からなるヒューズ素子5の両端を、各
々対応する電極パッド3a、3bにボンディング接合を
行う。
100の各領域の電極パッド3a、3b間に可溶導体細
線からなるヒューズ素子5を配置・接合する。具体的に
は、可溶導体細線からなるヒューズ素子5の両端を、各
々対応する電極パッド3a、3bにボンディング接合を
行う。
【0044】次に、図4(c)に示すように、大型基板
100の各領域の可溶導体細線からなるヒューズ素子5
上、特に、可溶導体細線からなるヒューズ素子5の少な
くとも溶断部分にワックス61を供給する。具体的に
は、デスペンサーなどを用いてワックス61をヒューズ
素子5である可溶導体細線の周囲に付着するように滴下
・供給する。
100の各領域の可溶導体細線からなるヒューズ素子5
上、特に、可溶導体細線からなるヒューズ素子5の少な
くとも溶断部分にワックス61を供給する。具体的に
は、デスペンサーなどを用いてワックス61をヒューズ
素子5である可溶導体細線の周囲に付着するように滴下
・供給する。
【0045】さらに、大型基板100の外周に樹脂溜ま
り用治具(図示せず)を取付け、大型基板100の上面
の各領域に一括的に樹脂封止体7となる樹脂70を充填
する。具体的には、この樹脂70は、少なくともワック
ス61が付着されているヒューズ素子5が完全に埋没さ
せる程度にまで充填する。この樹脂70は、熱硬化性を
有する例えばフエノール系樹脂に、さらに多孔質特性を
もたせるために、アルミナなどの耐熱性無機物フィラー
を添加したものである。
り用治具(図示せず)を取付け、大型基板100の上面
の各領域に一括的に樹脂封止体7となる樹脂70を充填
する。具体的には、この樹脂70は、少なくともワック
ス61が付着されているヒューズ素子5が完全に埋没さ
せる程度にまで充填する。この樹脂70は、熱硬化性を
有する例えばフエノール系樹脂に、さらに多孔質特性を
もたせるために、アルミナなどの耐熱性無機物フィラー
を添加したものである。
【0046】次に、図4(d)に示すように、充填した
樹脂70を熱処理、例えば200℃で加熱する。これよ
って、樹脂70は、硬化するとともに、同時に可溶導体
細線からなるヒューズ素子5の周囲に塗布したワックス
61は溶融し、樹脂70の多孔質の微細孔に吸収され
る。その結果、樹脂70が硬化した状態の樹脂71とな
るとともに、可溶導体細線からなるヒューズ素子5の周
囲に溶断空間6が形成されることになる。
樹脂70を熱処理、例えば200℃で加熱する。これよ
って、樹脂70は、硬化するとともに、同時に可溶導体
細線からなるヒューズ素子5の周囲に塗布したワックス
61は溶融し、樹脂70の多孔質の微細孔に吸収され
る。その結果、樹脂70が硬化した状態の樹脂71とな
るとともに、可溶導体細線からなるヒューズ素子5の周
囲に溶断空間6が形成されることになる。
【0047】最後に、図4(e)に示すように、スライ
スやワイヤカットなどによって、大型基板100及び硬
化した樹脂を個々の可溶導体細線からなるヒューズ1の
形状に応じて、切断分離を行う。
スやワイヤカットなどによって、大型基板100及び硬
化した樹脂を個々の可溶導体細線からなるヒューズ1の
形状に応じて、切断分離を行う。
【0048】この時、大型基板100の切断面から、2
分されたビアホール導体40の一方が現れ、基板2の側
面と同一平面を有する端子電極4a、4bが形成される
ことになる。切断後、端子電極4a、4b、下面電極8
a、8bに必要に応じてNiやSnの無電解メッキを一
括的に施してもよい。
分されたビアホール導体40の一方が現れ、基板2の側
面と同一平面を有する端子電極4a、4bが形成される
ことになる。切断後、端子電極4a、4b、下面電極8
a、8bに必要に応じてNiやSnの無電解メッキを一
括的に施してもよい。
【0049】上述の製造方法においては、まず、大型基
板100を用いて、チップヒューズ1の構成部材は、2
つの基板で挟持することがなく、しかも、一括的に製造
できるため、非常に生産性に優れたものとなる。
板100を用いて、チップヒューズ1の構成部材は、2
つの基板で挟持することがなく、しかも、一括的に製造
できるため、非常に生産性に優れたものとなる。
【0050】また、端子電極4a、4bは、平板の大型
基板100においては、貫通孔に導電性部材を完全に充
填した状態であり、端子電極4a、4bは、最終の切断
工程における切断によって現れることになる。従って、
図4(c)のように、樹脂70などを大型基板100の
全体に塗布しても、端子電極4a、4bの表面に全く付
着することが一切ないため、プリント配線基板上に半田
を用いて表面実装する場合、その実装信頼性が飛躍的に
向上するとともに、特に樹脂封止体7の形成が非常に簡
単に行える。
基板100においては、貫通孔に導電性部材を完全に充
填した状態であり、端子電極4a、4bは、最終の切断
工程における切断によって現れることになる。従って、
図4(c)のように、樹脂70などを大型基板100の
全体に塗布しても、端子電極4a、4bの表面に全く付
着することが一切ないため、プリント配線基板上に半田
を用いて表面実装する場合、その実装信頼性が飛躍的に
向上するとともに、特に樹脂封止体7の形成が非常に簡
単に行える。
【0051】また、ヒューズ素子5を被覆する樹脂封止
体7が、封止樹脂の塗布・硬化、全体の切断によって形
成されるため、従来のように、中央に凹部が形成された
基板を接合封止する必要がなく、しかも、樹脂封止体7
中の溶断空間6や端子電極4a、4bの形成のため、基
板2に余裕寸法をとる必要がなく、チップヒューズ1の
全体形状を非常に小さくすることができる。
体7が、封止樹脂の塗布・硬化、全体の切断によって形
成されるため、従来のように、中央に凹部が形成された
基板を接合封止する必要がなく、しかも、樹脂封止体7
中の溶断空間6や端子電極4a、4bの形成のため、基
板2に余裕寸法をとる必要がなく、チップヒューズ1の
全体形状を非常に小さくすることができる。
【0052】
【発明の効果】以上詳述したように本発明のチップヒュ
ーズによれば、基板の側面に凹部を設けて、その凹部内
に予め端子電極となる導電性部材を充填したため、端子
電極の個別形成が不要となる。
ーズによれば、基板の側面に凹部を設けて、その凹部内
に予め端子電極となる導電性部材を充填したため、端子
電極の個別形成が不要となる。
【0053】しかも、樹脂封止体が、基板の平面形状と
同一形状であり、製造方法とあいまって、樹脂が基板の
端端子電極に流れることが一切ないため、プリント配線
基板上への表面実装の信頼性が非常に向上する。
同一形状であり、製造方法とあいまって、樹脂が基板の
端端子電極に流れることが一切ないため、プリント配線
基板上への表面実装の信頼性が非常に向上する。
【0054】また、設計上、端子電極形成、溶断空間の
形成、封止構造に対する寸法上の余裕を必要とせず、小
型のチップヒューズとすることができる。
形成、封止構造に対する寸法上の余裕を必要とせず、小
型のチップヒューズとすることができる。
【0055】また、樹脂封止体を個々に切断する前の大
型基板上に、チップヒューズを構成する部分が複数のチ
ップヒューズ素子領域に共通的に且つ一括的に形成する
ことができるため、生産性の高いチップヒューズ素子の
製造方法となる。
型基板上に、チップヒューズを構成する部分が複数のチ
ップヒューズ素子領域に共通的に且つ一括的に形成する
ことができるため、生産性の高いチップヒューズ素子の
製造方法となる。
【0056】また、大型基板に既に導電性部材で貫通孔
を充填した端子電極となるビアホール導体が形成されて
おり、個々のチップヒューズ素子の形状に切断した時
に、初めて端子電極となるため、端子電極の形成が非常
に容易で、製造し易く、且つ実装信頼性が大きく向上す
る製造方法となる。
を充填した端子電極となるビアホール導体が形成されて
おり、個々のチップヒューズ素子の形状に切断した時
に、初めて端子電極となるため、端子電極の形成が非常
に容易で、製造し易く、且つ実装信頼性が大きく向上す
る製造方法となる。
【0057】可溶導体細線からなるヒューズ素子の封止
の信頼性が高く、かつプリント配線基板への表面実装時
の信頼性も高く、さらに生産性が非常に高いチップヒュ
ーズ素子及びその製造方法となる。
の信頼性が高く、かつプリント配線基板への表面実装時
の信頼性も高く、さらに生産性が非常に高いチップヒュ
ーズ素子及びその製造方法となる。
【図1】本発明のチップヒューズ素子の例を示す縦断面
図である。
図である。
【図2】本発明のチップヒューズ素子の樹脂封止体を省
略した状態の平面図である。
略した状態の平面図である。
【図3】本発明のチップヒューズ素子の製造方法に用い
る大型基板の平面図である。
る大型基板の平面図である。
【図4】(a)〜(e)は、本発明のチップヒューズ素
子の製造方法を説明するための部分断面図である。
子の製造方法を説明するための部分断面図である。
1・・・チップヒューズ 2・・・・・基板 3a、3b・・・電極パッド 4a、4b・・・端子電極 5・・・・・可溶導体細線からなるヒューズ素子 6・・・・・溶断空間 7・・・・・樹脂封止体 8a、8b・下面電極 100・・・大型基板
Claims (2)
- 【請求項1】 表面に形成した2つの電極パッドと、該
電極パッドに接続し、側面の厚み方向に延びる凹部内に
形成した端子電極とを有する絶縁基板と、 前記2つの電極パッド間に架設され、可溶細線導体から
成るヒューズ素子と、 前記ヒューズ素子の周囲に空間を設けて、絶縁基板表面
に形成された樹脂封止体とから成るチップヒューズ。 - 【請求項2】複数の絶縁基板領域を有し、各絶縁基板領
域内の表面に2つの電極パッドと、隣接する絶縁縁基板
領域に跨がって形成された貫通孔に導電性部材を充填し
て形成され、且つ該電極パッドに接続しているビアホー
ル導体とを有する大型絶縁基板を用意する工程と、 前記各絶縁基板領域の電極パッド間に、可溶細線導体か
ら成るヒューズ素子をボンディング接続によって架設す
る工程と、 前記ヒューズ素子をワックスで被覆する工程と、 前記大型絶縁基板上に、前記ワックスで被覆されたヒュ
ーズ素子を覆うように熱硬化性多孔質樹脂を塗布する工
程と、 前記熱硬化多孔質樹脂を加熱硬化させるとともに、前記
ワックスを熱硬化性多孔質樹脂内に吸収させてヒューズ
素子の周囲に空間を形成する工程と、 前記大型絶縁基板及び前記ワックスを吸収し、硬化した
樹脂を切断し、個々のチップヒューズ素子に分割する工
程とから成るチップヒューズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28874396A JPH10134695A (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | チップヒューズ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28874396A JPH10134695A (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | チップヒューズ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10134695A true JPH10134695A (ja) | 1998-05-22 |
Family
ID=17734130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28874396A Pending JPH10134695A (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | チップヒューズ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10134695A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020047722A (ko) * | 2000-12-14 | 2002-06-22 | 홍정표 | 피코퓨즈 및 그 제조방법 |
| US6462925B2 (en) | 1998-06-02 | 2002-10-08 | Omron Corporation | Excess current interrupting structure |
| FR2842698A1 (fr) * | 2002-07-18 | 2004-01-23 | Siemens Vdo Automotive | Procede et dispositif de protection contre les surintensites electriques |
| KR100712548B1 (ko) | 2006-01-27 | 2007-05-02 | 삼성전자주식회사 | 부양된 메탈라인을 갖는 웨이퍼 레벨 패키지 및 그 제조방법 |
| JP2009510708A (ja) * | 2005-10-03 | 2009-03-12 | リッテルフューズ,インコーポレイティド | 筐体を形成するキャビティをもったヒューズ |
| KR101058946B1 (ko) * | 2010-09-07 | 2011-08-26 | 에스씨테크닉스 주식회사 | 다층 구조의 몰딩층이 형성된 시간지연 마이크로 퓨즈 및 그 제조방법 |
| KR101533996B1 (ko) * | 2014-10-23 | 2015-07-06 | 주식회사 에스엠하이테크 | 온도 퓨즈 기능을 가진 smd형 마이크로 복합 퓨즈 및 그 제조방법 |
| FR3067871A1 (fr) * | 2017-06-19 | 2018-12-21 | Zodiac Aero Electric | Dispositif de protection pour un systeme de distribution electrique d'un reseau electrique d'aeronef |
| KR101985499B1 (ko) * | 2017-12-28 | 2019-06-03 | 삼화콘덴서공업 주식회사 | 과전류 보호 기능을 가지는 금속 산화물 바리스터 |
| CN113556871A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-10-26 | 东莞新能安科技有限公司 | 一种电路板、电路板的制作方法与电池组 |
-
1996
- 1996-10-30 JP JP28874396A patent/JPH10134695A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6462925B2 (en) | 1998-06-02 | 2002-10-08 | Omron Corporation | Excess current interrupting structure |
| US6563684B2 (en) | 1998-06-02 | 2003-05-13 | Omron Corporation | Method of manufacturing excess current interrupting structure |
| KR20020047722A (ko) * | 2000-12-14 | 2002-06-22 | 홍정표 | 피코퓨즈 및 그 제조방법 |
| FR2842698A1 (fr) * | 2002-07-18 | 2004-01-23 | Siemens Vdo Automotive | Procede et dispositif de protection contre les surintensites electriques |
| JP2009510708A (ja) * | 2005-10-03 | 2009-03-12 | リッテルフューズ,インコーポレイティド | 筐体を形成するキャビティをもったヒューズ |
| KR100712548B1 (ko) | 2006-01-27 | 2007-05-02 | 삼성전자주식회사 | 부양된 메탈라인을 갖는 웨이퍼 레벨 패키지 및 그 제조방법 |
| KR101058946B1 (ko) * | 2010-09-07 | 2011-08-26 | 에스씨테크닉스 주식회사 | 다층 구조의 몰딩층이 형성된 시간지연 마이크로 퓨즈 및 그 제조방법 |
| KR101533996B1 (ko) * | 2014-10-23 | 2015-07-06 | 주식회사 에스엠하이테크 | 온도 퓨즈 기능을 가진 smd형 마이크로 복합 퓨즈 및 그 제조방법 |
| WO2016064105A1 (ko) * | 2014-10-23 | 2016-04-28 | 주식회사 에스엠하이테크 | 온도 퓨즈 기능을 가진 에스엠디형 마이크로 복합 퓨즈 및 그 제조방법 |
| US9847202B2 (en) | 2014-10-23 | 2017-12-19 | Sm Hi-Tech Co., Ltd. | SMD micro mixed fuse having thermal fuse function and method for manufacturing the same |
| FR3067871A1 (fr) * | 2017-06-19 | 2018-12-21 | Zodiac Aero Electric | Dispositif de protection pour un systeme de distribution electrique d'un reseau electrique d'aeronef |
| WO2018234679A1 (fr) * | 2017-06-19 | 2018-12-27 | Zodiac Aero Electric | Dispositif de protection pour un système de distribution électrique d'un réseau électrique d'aéronef |
| CN111052293A (zh) * | 2017-06-19 | 2020-04-21 | Zodiac航空电器 | 用于飞行器电网的配电系统的保护装置 |
| KR101985499B1 (ko) * | 2017-12-28 | 2019-06-03 | 삼화콘덴서공업 주식회사 | 과전류 보호 기능을 가지는 금속 산화물 바리스터 |
| CN113556871A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-10-26 | 东莞新能安科技有限公司 | 一种电路板、电路板的制作方法与电池组 |
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