JPH10135252A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JPH10135252A JPH10135252A JP8287106A JP28710696A JPH10135252A JP H10135252 A JPH10135252 A JP H10135252A JP 8287106 A JP8287106 A JP 8287106A JP 28710696 A JP28710696 A JP 28710696A JP H10135252 A JPH10135252 A JP H10135252A
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- resin
- semiconductor
- semiconductor chip
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/0198—Manufacture or treatment batch processes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/754—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL
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- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 コストの低減と材料基板からの取数歩留り率
を向上して製造する。 【解決手段】 材料基板の主面上に互いに所定の間隔を
保持した状態で多数個の半導体チップを実装する。これ
ら半導体チップ群を絶縁樹脂部によって一括して封止す
る。半導体チップの個々の実装領域に対応して材料基板
を所定形状に切断する。
を向上して製造する。 【解決手段】 材料基板の主面上に互いに所定の間隔を
保持した状態で多数個の半導体チップを実装する。これ
ら半導体チップ群を絶縁樹脂部によって一括して封止す
る。半導体チップの個々の実装領域に対応して材料基板
を所定形状に切断する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
方法に関し、さらに詳しくはチップ基板の主面上に半導
体チップを実装するとともにこの半導体チップを絶縁樹
脂によって封止してなる半導体装置の製造方法に関す
る。
方法に関し、さらに詳しくはチップ基板の主面上に半導
体チップを実装するとともにこの半導体チップを絶縁樹
脂によって封止してなる半導体装置の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一般に半導体チップ部品(半導体装置)
100は、図8に示すように、チップ基板101と、半
導体チップ102と、リードワイヤ103及び絶縁樹脂
部104等からなる。チップ基板101には、その一方
主面101bに詳細を省略するが導体部や多数個のラン
ド部101a等が形成されるとともに半導体チップ10
2が接合固定されている。この半導体チップ102は、
その電極部102aとチップ基板101のランド部10
1aとがリードワイヤ103によってそれぞれ電気的に
接続されている。
100は、図8に示すように、チップ基板101と、半
導体チップ102と、リードワイヤ103及び絶縁樹脂
部104等からなる。チップ基板101には、その一方
主面101bに詳細を省略するが導体部や多数個のラン
ド部101a等が形成されるとともに半導体チップ10
2が接合固定されている。この半導体チップ102は、
その電極部102aとチップ基板101のランド部10
1aとがリードワイヤ103によってそれぞれ電気的に
接続されている。
【0003】また、チップ基板101には、半導体チッ
プ102やリードワイヤ103を封止するようにして絶
縁樹脂部104が設けられている。絶縁樹脂部104
は、絶縁特性、耐磨耗特性或いは機械的特性を有するエ
ポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を素材とし、後述するよう
に樹脂封止用成形金型111を用いてチップ基板101
にアウトサート成形される。この絶縁樹脂部104は、
図8に示すように、全体台形を呈している。半導体装置
100は、この絶縁樹脂部104によって、半導体チッ
プ102やリードワイヤ103絶縁性が保持されるとと
もに機械的な保護が図られる。
プ102やリードワイヤ103を封止するようにして絶
縁樹脂部104が設けられている。絶縁樹脂部104
は、絶縁特性、耐磨耗特性或いは機械的特性を有するエ
ポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を素材とし、後述するよう
に樹脂封止用成形金型111を用いてチップ基板101
にアウトサート成形される。この絶縁樹脂部104は、
図8に示すように、全体台形を呈している。半導体装置
100は、この絶縁樹脂部104によって、半導体チッ
プ102やリードワイヤ103絶縁性が保持されるとと
もに機械的な保護が図られる。
【0004】半導体装置100には、チップ基板101
の他方主面101cに各ランド部101aに対応して複
数個の半田ボール105が形成されてなる。これら半田
ボール105は、チップ基板101に設けた図示しない
スルーホールを介してそれぞれ各ランド部101aと電
気的に接続されている。
の他方主面101cに各ランド部101aに対応して複
数個の半田ボール105が形成されてなる。これら半田
ボール105は、チップ基板101に設けた図示しない
スルーホールを介してそれぞれ各ランド部101aと電
気的に接続されている。
【0005】以上のように構成された半導体装置100
は、例えば図7に示した製造工程を経て製造される。す
なわち、半導体装置100の製造工程には、複数個の半
導体チップ102を実装可能とする材料基板110が供
給される。この材料基板110には、詳細を省略するが
その一方の主面110aに、半導体チップ102がそれ
ぞれ実装される複数のチップ実装領域と、これらチップ
実装領域の周辺に延在して上述したランド部101aを
構成する複数のランド部とが形成されている。また、材
料基板110には、各ランド部に位置して他方の主面1
10bに貫通するスルーホールが形成されている。
は、例えば図7に示した製造工程を経て製造される。す
なわち、半導体装置100の製造工程には、複数個の半
導体チップ102を実装可能とする材料基板110が供
給される。この材料基板110には、詳細を省略するが
その一方の主面110aに、半導体チップ102がそれ
ぞれ実装される複数のチップ実装領域と、これらチップ
実装領域の周辺に延在して上述したランド部101aを
構成する複数のランド部とが形成されている。また、材
料基板110には、各ランド部に位置して他方の主面1
10bに貫通するスルーホールが形成されている。
【0006】材料基板110には、第1の工程である半
導体チップ実装工程S−100において、材料基板11
0の主面110a上の各チップ実装領域に、半導体チッ
プ102がダイボンディング法によってそれぞれ接合固
定される。半導体チップ102は、次のワイヤボンディ
ング工程S−101において、その電極部102aと材
料基板110に形成されたランド部101aとがリード
ワイヤ103によってそれぞれ電気的に接続される。こ
のリードワイヤ103による接続は、材料基板110を
ワイヤボンディングマシン等に供給することによって自
動で行われる。
導体チップ実装工程S−100において、材料基板11
0の主面110a上の各チップ実装領域に、半導体チッ
プ102がダイボンディング法によってそれぞれ接合固
定される。半導体チップ102は、次のワイヤボンディ
ング工程S−101において、その電極部102aと材
料基板110に形成されたランド部101aとがリード
ワイヤ103によってそれぞれ電気的に接続される。こ
のリードワイヤ103による接続は、材料基板110を
ワイヤボンディングマシン等に供給することによって自
動で行われる。
【0007】半導体チップ102は、次の樹脂成形工程
S−102において、トランスファーモールド装置によ
って材料基板110にアウトサート成形される絶縁樹脂
部104によってそれぞれ封止される。半導体チップ1
02は、絶縁樹脂部104によりリードワイヤ103と
ともに機械的保護と電気的な絶縁とが保持される。この
樹脂成形工程S−102には、樹脂封止用成形金型11
1が用いられる。樹脂封止用成形金型111は、図9及
び樹脂成形工程S−102の図に示すように、一方の主
面にそれぞれ半導体チップ102を収納するに足る複数
のキャビティ111aが形成されている。樹脂封止用成
形金型111には、図示しない樹脂供給部から溶融状態
の材料樹脂が供給されるスプルー111bと、このスプ
ルー111bから分岐して各キャビティ111aへと連
通されたランナー111c及びこれらランナー111c
の先端に形成された図示しないゲート等が設けられて構
成されている。
S−102において、トランスファーモールド装置によ
って材料基板110にアウトサート成形される絶縁樹脂
部104によってそれぞれ封止される。半導体チップ1
02は、絶縁樹脂部104によりリードワイヤ103と
ともに機械的保護と電気的な絶縁とが保持される。この
樹脂成形工程S−102には、樹脂封止用成形金型11
1が用いられる。樹脂封止用成形金型111は、図9及
び樹脂成形工程S−102の図に示すように、一方の主
面にそれぞれ半導体チップ102を収納するに足る複数
のキャビティ111aが形成されている。樹脂封止用成
形金型111には、図示しない樹脂供給部から溶融状態
の材料樹脂が供給されるスプルー111bと、このスプ
ルー111bから分岐して各キャビティ111aへと連
通されたランナー111c及びこれらランナー111c
の先端に形成された図示しないゲート等が設けられて構
成されている。
【0008】樹脂封止用成形金型111には、型開き状
態において、樹脂成形工程S−102の図に示すように
材料基板110が半導体チップ102を各キャビティ1
11bに対応位置させるようにして装填される。樹脂封
止用成形金型111は、この状態で型締め動作が行われ
るとともに、樹脂供給部から溶融状態の材料樹脂がスプ
ルー111bへと供給される。材料樹脂は、スプルー1
11bからランナー111c内を流れ、ゲートを介して
樹脂成形工程S−103の図に示すようにキャビティ1
11a内に射出充填される。樹脂封止用成形金型111
は、材料樹脂が硬化する所定の時間経過後、型開き動作
が行われて、S−104の図及び図10に示す半導体装
置中間体112を完成させる。半導体装置中間体112
は、各半導体チップ101及びリードワイヤ103が絶
縁樹脂部104によって封止されてなる。
態において、樹脂成形工程S−102の図に示すように
材料基板110が半導体チップ102を各キャビティ1
11bに対応位置させるようにして装填される。樹脂封
止用成形金型111は、この状態で型締め動作が行われ
るとともに、樹脂供給部から溶融状態の材料樹脂がスプ
ルー111bへと供給される。材料樹脂は、スプルー1
11bからランナー111c内を流れ、ゲートを介して
樹脂成形工程S−103の図に示すようにキャビティ1
11a内に射出充填される。樹脂封止用成形金型111
は、材料樹脂が硬化する所定の時間経過後、型開き動作
が行われて、S−104の図及び図10に示す半導体装
置中間体112を完成させる。半導体装置中間体112
は、各半導体チップ101及びリードワイヤ103が絶
縁樹脂部104によって封止されてなる。
【0009】この半導体装置中間体112には、次のボ
ールマウント工程S−105において材料基板110の
他方の主面110bに多数個の半田ボール105が形成
される。これら半田ボール105は、上述したように各
ランド部101aに対応して形成される。半導体装置中
間体112は、次の切断工程S−106へと搬送され
て、切断金型113によって所定の形状に切断されるこ
とにより、S−107の図に示すように半導体装置10
0を完成させる。
ールマウント工程S−105において材料基板110の
他方の主面110bに多数個の半田ボール105が形成
される。これら半田ボール105は、上述したように各
ランド部101aに対応して形成される。半導体装置中
間体112は、次の切断工程S−106へと搬送され
て、切断金型113によって所定の形状に切断されるこ
とにより、S−107の図に示すように半導体装置10
0を完成させる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
半導体装置100の製造方法においては、樹脂封止用成
形金型111を用いて材料基板110に絶縁樹脂104
をアウトサート成形するようにしている。絶縁樹脂10
4は、半導体チップ102やリードワイヤ103を確実
に封止するとともにバリ等の発生の無い仕上がり外形が
要求される。このため、樹脂封止用成形金型111は、
金型材に上述した各部が高精度に形成されることから非
常に高価となる。したがって、かかる従来の半導体装置
100の製造方法は、樹脂封止用成形金型111の製作
費用によって製造コストが大きくなり、特に種々の仕様
の半導体装置100を比較的少ロットで生産する場合に
は不適当であるといった問題があった。
半導体装置100の製造方法においては、樹脂封止用成
形金型111を用いて材料基板110に絶縁樹脂104
をアウトサート成形するようにしている。絶縁樹脂10
4は、半導体チップ102やリードワイヤ103を確実
に封止するとともにバリ等の発生の無い仕上がり外形が
要求される。このため、樹脂封止用成形金型111は、
金型材に上述した各部が高精度に形成されることから非
常に高価となる。したがって、かかる従来の半導体装置
100の製造方法は、樹脂封止用成形金型111の製作
費用によって製造コストが大きくなり、特に種々の仕様
の半導体装置100を比較的少ロットで生産する場合に
は不適当であるといった問題があった。
【0011】また、上述したように樹脂封止用成形金型
111は、各キャビティ111aに対して材料樹脂をス
プルー111bからランナー111cを介して射出供給
している。したがって、材料基板110には、図10に
示すよう、樹脂封止用成形金型111のスプルー111
bやランナー111cに対応する領域110cを確保す
る必要がある。この領域110cは、半導体装置100
が形成される領域の周囲に10mm乃至20mmを必要
とする。材料基板110は、切断工程S−106におい
て、外周部分110dとともにこの領域110cが切断
除去されるいわゆる捨て部を構成し、1枚当たりの取数
歩留りが悪いといった問題があった。
111は、各キャビティ111aに対して材料樹脂をス
プルー111bからランナー111cを介して射出供給
している。したがって、材料基板110には、図10に
示すよう、樹脂封止用成形金型111のスプルー111
bやランナー111cに対応する領域110cを確保す
る必要がある。この領域110cは、半導体装置100
が形成される領域の周囲に10mm乃至20mmを必要
とする。材料基板110は、切断工程S−106におい
て、外周部分110dとともにこの領域110cが切断
除去されるいわゆる捨て部を構成し、1枚当たりの取数
歩留りが悪いといった問題があった。
【0012】取数歩留り率は、材料基板110からより
多くの半導体装置100を形成するにしたがってより多
くの捨て部が発生することから大きく低下する。したが
って、従来の半導体装置100の製造方法においては、
材料基板110からの取り数も制限されるといった問題
点があった。
多くの半導体装置100を形成するにしたがってより多
くの捨て部が発生することから大きく低下する。したが
って、従来の半導体装置100の製造方法においては、
材料基板110からの取り数も制限されるといった問題
点があった。
【0013】したがって、本発明は、コストの低減と材
料基板からの取数歩留り率を向上して半導体装置を製造
するようにした半導体装置の製造方法を提供することを
目的として提案されたものである。
料基板からの取数歩留り率を向上して半導体装置を製造
するようにした半導体装置の製造方法を提供することを
目的として提案されたものである。
【0014】
【課題を解決するための手段】この目的を達成する本発
明に係る半導体装置の製造方法は、材料基板の主面上に
互いに所定の間隔を保持した状態で接合固定された多数
個の半導体チップ群を絶縁樹脂によって一括して封止す
るとともに、半導体チップの個々の実装領域に対応して
材料基板を所定の寸法形状に切断することを特徴とす
る。また、半導体チップ群を絶縁樹脂によって一括して
封止する方法として、材料基板の主面上に半導体チップ
群の実装領域を囲む外周枠部材を接合固定するとともに
この外周枠部材と材料基板とによって構成される空間部
内に絶縁樹脂を供給する方法や、材料基板の主面上に、
絶縁樹脂インクを用いる印刷を施こす方法が採用され
る。
明に係る半導体装置の製造方法は、材料基板の主面上に
互いに所定の間隔を保持した状態で接合固定された多数
個の半導体チップ群を絶縁樹脂によって一括して封止す
るとともに、半導体チップの個々の実装領域に対応して
材料基板を所定の寸法形状に切断することを特徴とす
る。また、半導体チップ群を絶縁樹脂によって一括して
封止する方法として、材料基板の主面上に半導体チップ
群の実装領域を囲む外周枠部材を接合固定するとともに
この外周枠部材と材料基板とによって構成される空間部
内に絶縁樹脂を供給する方法や、材料基板の主面上に、
絶縁樹脂インクを用いる印刷を施こす方法が採用され
る。
【0015】上述した本発明に係る半導体装置の製造方
法によれば、高価な樹脂封止用成形金型を用いることな
く、材料基板の主面上に実装した半導体チップ群を一括
して絶縁樹脂によって封止するとともに所定形状に切断
して半導体装置を形成することから、製造コストの低減
が図られ、また各半導体チップ間に捨て部を不要として
材料基板からの取数歩留り率が向上される。
法によれば、高価な樹脂封止用成形金型を用いることな
く、材料基板の主面上に実装した半導体チップ群を一括
して絶縁樹脂によって封止するとともに所定形状に切断
して半導体装置を形成することから、製造コストの低減
が図られ、また各半導体チップ間に捨て部を不要として
材料基板からの取数歩留り率が向上される。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態を図面を参照して詳細に説明する。半導体装置1は、
上述した従来の半導体装置100と基本的な構成をほぼ
同一としており、図2に示すように、チップ基板2と、
半導体チップ3と、リードワイヤ4及び絶縁樹脂部5等
からなる。チップ基板2は、例えばガラスエポキシ、セ
ラミックや液晶ポリマー等によって形成され、その一方
主面2bに詳細を省略するが回路導体部や多数個のラン
ド部2a等が形成される。チップ基板2は、各ランド部
2aの中央領域が半導体チップ3の実装領域として構成
されている。半導体チップ3は、このチップ基板2の実
装領域に、ダイボンディング法等によって接合固定され
る。この半導体チップ3は、その電極部3aとチップ基
板2のランド部2aとがリードワイヤ4によってそれぞ
れ電気的に接続されている。
態を図面を参照して詳細に説明する。半導体装置1は、
上述した従来の半導体装置100と基本的な構成をほぼ
同一としており、図2に示すように、チップ基板2と、
半導体チップ3と、リードワイヤ4及び絶縁樹脂部5等
からなる。チップ基板2は、例えばガラスエポキシ、セ
ラミックや液晶ポリマー等によって形成され、その一方
主面2bに詳細を省略するが回路導体部や多数個のラン
ド部2a等が形成される。チップ基板2は、各ランド部
2aの中央領域が半導体チップ3の実装領域として構成
されている。半導体チップ3は、このチップ基板2の実
装領域に、ダイボンディング法等によって接合固定され
る。この半導体チップ3は、その電極部3aとチップ基
板2のランド部2aとがリードワイヤ4によってそれぞ
れ電気的に接続されている。
【0017】また、チップ基板2には、半導体チップ3
やリードワイヤ4を封止するようにして絶縁樹脂部5が
設けられている。絶縁樹脂部5は、絶縁特性、耐磨耗特
性或いは機械的特性を有するエポキシ樹脂やフェノール
樹脂等の熱硬化性樹脂を素材とする。絶縁樹脂部5は、
図2に示すように、全体矩形体を呈している。半導体装
置1は、この絶縁樹脂部5によって、絶縁性が保持され
るとともに機械的に保護される。
やリードワイヤ4を封止するようにして絶縁樹脂部5が
設けられている。絶縁樹脂部5は、絶縁特性、耐磨耗特
性或いは機械的特性を有するエポキシ樹脂やフェノール
樹脂等の熱硬化性樹脂を素材とする。絶縁樹脂部5は、
図2に示すように、全体矩形体を呈している。半導体装
置1は、この絶縁樹脂部5によって、絶縁性が保持され
るとともに機械的に保護される。
【0018】半導体装置1には、チップ基板2の他方主
面2cに各ランド部2aに対応して複数個の半田ボール
6が形成されてなる。これら半田ボール6は、チップ基
板2に設けた図示しないスルーホールを介してそれぞれ
各ランド部2aと電気的に接続されている。半導体装置
1は、主基板に実装される際に、この主基板に施される
リフロー処理によって半田ボール6が溶融して電気的に
接続された状態で実装される。
面2cに各ランド部2aに対応して複数個の半田ボール
6が形成されてなる。これら半田ボール6は、チップ基
板2に設けた図示しないスルーホールを介してそれぞれ
各ランド部2aと電気的に接続されている。半導体装置
1は、主基板に実装される際に、この主基板に施される
リフロー処理によって半田ボール6が溶融して電気的に
接続された状態で実装される。
【0019】以上のように構成された半導体装置1は、
図1に示した製造工程を経て製造される。すなわち、半
導体装置1の製造工程には、ガラスエポキシ、セラミッ
クや液晶ポリマー等によって形成され複数個の半導体チ
ップ3を実装可能とする材料基板10が供給される。こ
の材料基板10には、詳細を省略するがその一方の主面
10aに、半導体チップ3がそれぞれ実装される複数の
チップ実装領域と、これらチップ実装領域の周辺に延在
して上述したランド部2aを構成する複数のランド部と
が形成されている。また、材料基板10には、各ランド
部2aに対応位置して他方の主面10bに貫通する図示
しないスルーホールが形成されている。
図1に示した製造工程を経て製造される。すなわち、半
導体装置1の製造工程には、ガラスエポキシ、セラミッ
クや液晶ポリマー等によって形成され複数個の半導体チ
ップ3を実装可能とする材料基板10が供給される。こ
の材料基板10には、詳細を省略するがその一方の主面
10aに、半導体チップ3がそれぞれ実装される複数の
チップ実装領域と、これらチップ実装領域の周辺に延在
して上述したランド部2aを構成する複数のランド部と
が形成されている。また、材料基板10には、各ランド
部2aに対応位置して他方の主面10bに貫通する図示
しないスルーホールが形成されている。
【0020】半導体装置1の製造工程においては、第1
の半導体チップ実装工程S−1において、材料基板10
の一方主面10a上に形成された各チップ実装領域に、
半導体チップ3が位置決めした状態でダイボンド法等に
よってそれぞれ接合固定される。半導体装置1の製造工
程は、後述するように樹脂封止用成形金型111を用い
ずに絶縁樹脂部5を形成することから、この樹脂封止用
成形金型111の構成上の特徴に基づく捨て部領域を材
料基板10に設けることを不要とする。材料基板10
は、従来の製造方法と比較してこの捨て部領域部分につ
いて面積比で70%乃至80%の低減が図られている。
材料基板10には、各半導体チップ3が、所定の厚み寸
法を有する絶縁樹脂部5を構成するに足る間隔を確保さ
れて各チップ実装領域に実装される。
の半導体チップ実装工程S−1において、材料基板10
の一方主面10a上に形成された各チップ実装領域に、
半導体チップ3が位置決めした状態でダイボンド法等に
よってそれぞれ接合固定される。半導体装置1の製造工
程は、後述するように樹脂封止用成形金型111を用い
ずに絶縁樹脂部5を形成することから、この樹脂封止用
成形金型111の構成上の特徴に基づく捨て部領域を材
料基板10に設けることを不要とする。材料基板10
は、従来の製造方法と比較してこの捨て部領域部分につ
いて面積比で70%乃至80%の低減が図られている。
材料基板10には、各半導体チップ3が、所定の厚み寸
法を有する絶縁樹脂部5を構成するに足る間隔を確保さ
れて各チップ実装領域に実装される。
【0021】半導体装置1の製造工程においては、第2
のワイヤボンディング工程S−2において、各半導体チ
ップ3が、その電極部3aと材料基板10の各ランド部
2aとをリードワイヤ4によってそれぞれ電気的に接続
される。このリードワイヤ4の接続方法は、材料基板1
0をワイヤボンディングマシン等に供給し、ボンディン
グツールによりリードワイヤ4を加圧した状態で超音波
を印加する等によって自動的に行われる。これら半導体
チップ実装工程S−1及びワイワボンディング工程S−
2は、従来の製造工程と同様である。
のワイヤボンディング工程S−2において、各半導体チ
ップ3が、その電極部3aと材料基板10の各ランド部
2aとをリードワイヤ4によってそれぞれ電気的に接続
される。このリードワイヤ4の接続方法は、材料基板1
0をワイヤボンディングマシン等に供給し、ボンディン
グツールによりリードワイヤ4を加圧した状態で超音波
を印加する等によって自動的に行われる。これら半導体
チップ実装工程S−1及びワイワボンディング工程S−
2は、従来の製造工程と同様である。
【0022】半導体装置1の製造工程においては、第3
の外枠部材組付工程S−3において、材料基板10の一
方主面10aに外枠部材11の組み付けが行われる。こ
の外枠部材11は、例えば耐熱特性、加工特性を有する
合成樹脂材料等によって矩形枠体として形成され、図3
に示すように、材料基板10の外形寸法とほぼ等しい外
形寸法を有するとともに、半導体チップ3の厚み寸法よ
りもやや大きな高さ寸法を有している。外枠部材11
は、材料基板10の外周縁に沿って当てがわれて接着剤
等によって一体に組み合わされる。材料基板10と外枠
部材11とは、これによって主面10a上に実装された
半導体チップ3群を囲む樹脂充填空間部12を構成す
る。
の外枠部材組付工程S−3において、材料基板10の一
方主面10aに外枠部材11の組み付けが行われる。こ
の外枠部材11は、例えば耐熱特性、加工特性を有する
合成樹脂材料等によって矩形枠体として形成され、図3
に示すように、材料基板10の外形寸法とほぼ等しい外
形寸法を有するとともに、半導体チップ3の厚み寸法よ
りもやや大きな高さ寸法を有している。外枠部材11
は、材料基板10の外周縁に沿って当てがわれて接着剤
等によって一体に組み合わされる。材料基板10と外枠
部材11とは、これによって主面10a上に実装された
半導体チップ3群を囲む樹脂充填空間部12を構成す
る。
【0023】外枠部材11は、さほど寸法精度が要求さ
れずまた構造も極めて簡易であって簡単に製作され、さ
らに材料も廉価である。したがって、半導体装置1の製
造工程は、この外枠部材11を用いることによって、従
来の樹脂封止用成形金型111を用いる製造工程に比較
して、期間の短縮と製造コストの大幅な低減が図られ
る。また、外枠部材11は、外形仕様等を異にする多種
類の半導体装置についても極めて容易に対応可能とす
る。
れずまた構造も極めて簡易であって簡単に製作され、さ
らに材料も廉価である。したがって、半導体装置1の製
造工程は、この外枠部材11を用いることによって、従
来の樹脂封止用成形金型111を用いる製造工程に比較
して、期間の短縮と製造コストの大幅な低減が図られ
る。また、外枠部材11は、外形仕様等を異にする多種
類の半導体装置についても極めて容易に対応可能とす
る。
【0024】半導体装置1の製造工程においては、第4
の樹脂充填工程S−4において、樹脂充填空間部12内
に樹脂材料13が充填される。樹脂材料13としては、
例えば接着特性、機械的特性或いは電気的絶縁特性等を
有するエポキシ樹脂やシリコーン樹脂等が用いられる。
材料樹脂13は、例えば図示しないポッティング装置内
でタブレットから溶融された状態で材料基板10と外枠
部材11とによって構成された樹脂充填空間部12内へ
と充填される。この場合、材料樹脂13は、図4に示す
ように半導体チップ3群やリードワイヤ4とが確実に埋
設された状態となるように外枠部材11の上縁部近傍に
達するまで樹脂充填空間部12内に充填される。
の樹脂充填工程S−4において、樹脂充填空間部12内
に樹脂材料13が充填される。樹脂材料13としては、
例えば接着特性、機械的特性或いは電気的絶縁特性等を
有するエポキシ樹脂やシリコーン樹脂等が用いられる。
材料樹脂13は、例えば図示しないポッティング装置内
でタブレットから溶融された状態で材料基板10と外枠
部材11とによって構成された樹脂充填空間部12内へ
と充填される。この場合、材料樹脂13は、図4に示す
ように半導体チップ3群やリードワイヤ4とが確実に埋
設された状態となるように外枠部材11の上縁部近傍に
達するまで樹脂充填空間部12内に充填される。
【0025】この第4の樹脂充填工程S−4において
は、上述した材料樹脂13の充填を行った後この材料樹
脂13の硬化促進を図るためにアフタキュア処理が施さ
れ、硬化した材料樹脂13が絶縁樹脂部5を構成する。
半導体装置1の製造工程は、この第4の樹脂充填工程S
−4によって半導体装置中間体14を完成させる。半導
体装置中間体14は、材料基板10の主面10a上に実
装された各半導体チップ3及びリードワイヤ4が一括し
て絶縁樹脂部5によって封止されて構成される。
は、上述した材料樹脂13の充填を行った後この材料樹
脂13の硬化促進を図るためにアフタキュア処理が施さ
れ、硬化した材料樹脂13が絶縁樹脂部5を構成する。
半導体装置1の製造工程は、この第4の樹脂充填工程S
−4によって半導体装置中間体14を完成させる。半導
体装置中間体14は、材料基板10の主面10a上に実
装された各半導体チップ3及びリードワイヤ4が一括し
て絶縁樹脂部5によって封止されて構成される。
【0026】半導体装置1の製造工程においては、第5
のボールマウント工程S−5において、この半導体装置
中間体14に対して材料基板10の他方の主面10bに
多数個の半田ボール6を形成する。これら半田ボール6
は、上述したように各ランド部2aに対応して主面10
bに形成される。
のボールマウント工程S−5において、この半導体装置
中間体14に対して材料基板10の他方の主面10bに
多数個の半田ボール6を形成する。これら半田ボール6
は、上述したように各ランド部2aに対応して主面10
bに形成される。
【0027】半導体装置1の製造工程においては、第6
の切断工程S−6において、例えばダイヤモンドブレー
ド15によって半導体装置中間体14を所定の形状に切
断する処理が施される。すなわち、半導体装置中間体1
4は、図4の鎖線に示す切断線に沿って各半導体チップ
3を実装した領域に対応した絶縁樹脂部5から材料基板
10までの切断処理が施されることによって、図2に示
した半導体装置1が1個ずつ分離形成される。なお、半
導体装置中間体14は、この切断工程S−6において、
ダイヤモンドブレード15によって外周部の外枠部材1
1の内壁に沿った領域も切断される。
の切断工程S−6において、例えばダイヤモンドブレー
ド15によって半導体装置中間体14を所定の形状に切
断する処理が施される。すなわち、半導体装置中間体1
4は、図4の鎖線に示す切断線に沿って各半導体チップ
3を実装した領域に対応した絶縁樹脂部5から材料基板
10までの切断処理が施されることによって、図2に示
した半導体装置1が1個ずつ分離形成される。なお、半
導体装置中間体14は、この切断工程S−6において、
ダイヤモンドブレード15によって外周部の外枠部材1
1の内壁に沿った領域も切断される。
【0028】半導体装置1は、上述したようにダイヤモ
ンドブレード15によって半導体装置中間体14から切
断形成されることから、図2に示すように外周部が精度
のよい垂直面として構成される。
ンドブレード15によって半導体装置中間体14から切
断形成されることから、図2に示すように外周部が精度
のよい垂直面として構成される。
【0029】上述した半導体装置1の製造工程において
は、材料基板10の捨て部領域が削減されることによっ
てより多くのチップ基板2を形成することが可能とさ
れ、取り数歩留り率の向上が図られる。また、この半導
体装置1の製造工程は、上述したように硬化な樹脂封止
用成形金型111を不要とすることによって製造コスト
の大幅な低減を図るとともに多種少量の半導体装置1を
製造する場合に適用して極めて好適である。
は、材料基板10の捨て部領域が削減されることによっ
てより多くのチップ基板2を形成することが可能とさ
れ、取り数歩留り率の向上が図られる。また、この半導
体装置1の製造工程は、上述したように硬化な樹脂封止
用成形金型111を不要とすることによって製造コスト
の大幅な低減を図るとともに多種少量の半導体装置1を
製造する場合に適用して極めて好適である。
【0030】本発明は、上述した外枠部材11を用いた
製造方法に限定されるものではなく、例えば図5及び図
6に示すように材料樹脂13を材料基板10の主面10
a上に印刷することによって絶縁樹脂部5を形成するよ
うにしてもよい。なお、以下の説明において、上述した
第1の実施の形態と同一若しくは同等部分には、同一符
号を付すことによってその詳細な説明を省略する。
製造方法に限定されるものではなく、例えば図5及び図
6に示すように材料樹脂13を材料基板10の主面10
a上に印刷することによって絶縁樹脂部5を形成するよ
うにしてもよい。なお、以下の説明において、上述した
第1の実施の形態と同一若しくは同等部分には、同一符
号を付すことによってその詳細な説明を省略する。
【0031】すなわち、第2の実施の形態として示す半
導体装置1の製造方法は、印刷装置20が用いられる。
印刷装置20は、図5に示すように、材料基板10の外
形寸法とほぼ等しい外形寸法を有する印刷枠21に印刷
版22を設けてなる。印刷装置20は、半導体チップ3
が実装された材料基板10に当てがわれた後に印刷版2
2上に絶縁樹脂インク23が供給される。絶縁樹脂イン
ク23は、例えば溶融状態のエポキシ樹脂或いはシリコ
ーン樹脂等からなり、図示しないスキージによって印刷
版22上を押し付けられることにより、材料基板10の
主面10a上へと供給されて絶縁樹脂部5を印刷形成す
る。この絶縁樹脂部5は、図6に示すように、材料基板
10の主面10a上に実装された半導体チップ3群やリ
ードワイヤ4とを一括して封止するに足る膜厚とされ
る。
導体装置1の製造方法は、印刷装置20が用いられる。
印刷装置20は、図5に示すように、材料基板10の外
形寸法とほぼ等しい外形寸法を有する印刷枠21に印刷
版22を設けてなる。印刷装置20は、半導体チップ3
が実装された材料基板10に当てがわれた後に印刷版2
2上に絶縁樹脂インク23が供給される。絶縁樹脂イン
ク23は、例えば溶融状態のエポキシ樹脂或いはシリコ
ーン樹脂等からなり、図示しないスキージによって印刷
版22上を押し付けられることにより、材料基板10の
主面10a上へと供給されて絶縁樹脂部5を印刷形成す
る。この絶縁樹脂部5は、図6に示すように、材料基板
10の主面10a上に実装された半導体チップ3群やリ
ードワイヤ4とを一括して封止するに足る膜厚とされ
る。
【0032】第2の実施の形態の半導体装置1の製造方
法は、上述した絶縁樹脂インク23の印刷工程を経て半
導体装置中間体24を形成する。この半導体装置中間体
24には、アフタキュア処理が施されることによって絶
縁樹脂部5を形成する絶縁樹脂インクの硬化促進が図ら
れる。また、半導体装置中間体24には、材料基板10
の他方の主面10bに、各ランド部2aに対応して多数
個の半田ボール6が形成される。さらに、半導体装置中
間体24には、ダイヤモンドブレード15によって、図
6の鎖線に示す切断線に沿って各半導体チップ3を実装
した領域及び外周部領域とが絶縁樹脂部5から材料基板
10までの切断処理が施されて半導体装置1を1個ずつ
分離形成される。なお、このボールマウント工程と切断
工程とは、上述した第1の実施の形態における、ボール
マウント工程Sー5及び切断工程Sー6と同様である。
法は、上述した絶縁樹脂インク23の印刷工程を経て半
導体装置中間体24を形成する。この半導体装置中間体
24には、アフタキュア処理が施されることによって絶
縁樹脂部5を形成する絶縁樹脂インクの硬化促進が図ら
れる。また、半導体装置中間体24には、材料基板10
の他方の主面10bに、各ランド部2aに対応して多数
個の半田ボール6が形成される。さらに、半導体装置中
間体24には、ダイヤモンドブレード15によって、図
6の鎖線に示す切断線に沿って各半導体チップ3を実装
した領域及び外周部領域とが絶縁樹脂部5から材料基板
10までの切断処理が施されて半導体装置1を1個ずつ
分離形成される。なお、このボールマウント工程と切断
工程とは、上述した第1の実施の形態における、ボール
マウント工程Sー5及び切断工程Sー6と同様である。
【0033】上述した第2の実施の形態の半導体装置1
の製造方法においても、廉価な印刷装置によって材料基
板10の主面10a上に絶縁樹脂部5を印刷形成するよ
うにしたことによって製造コストの低減が図られる。ま
た、この製造方法は、材料基板10の捨て部領域が削減
されることによってより多くのチップ基板2を形成する
ことが可能とされ、取り数歩留り率の向上が図られる。
の製造方法においても、廉価な印刷装置によって材料基
板10の主面10a上に絶縁樹脂部5を印刷形成するよ
うにしたことによって製造コストの低減が図られる。ま
た、この製造方法は、材料基板10の捨て部領域が削減
されることによってより多くのチップ基板2を形成する
ことが可能とされ、取り数歩留り率の向上が図られる。
【0034】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る半導体装置の製造方法によれば、極めて高価な樹脂封
止用成形金型を用いずに絶縁樹脂部を形成することか
ら、製造コストの低減が図られるとともに、各半導体チ
ップ間に大きな捨て領域を不要として1枚の材料基板か
らより多くの半導体装置を製造することができ、多種少
量の半導体装置の製造に適用して極めて有効である。
る半導体装置の製造方法によれば、極めて高価な樹脂封
止用成形金型を用いずに絶縁樹脂部を形成することか
ら、製造コストの低減が図られるとともに、各半導体チ
ップ間に大きな捨て領域を不要として1枚の材料基板か
らより多くの半導体装置を製造することができ、多種少
量の半導体装置の製造に適用して極めて有効である。
【図1】本発明に係る半導体装置の製造方法における製
造工程の説明図である。
造工程の説明図である。
【図2】同製造工程を経て製造された半導体装置の縦断
面図である。
面図である。
【図3】同製造工程の外枠部材組付工程の詳細を示す説
明図である。
明図である。
【図4】同製造工程を経て製作される半導体装置中間体
に施す切断工程の詳細を示す説明図である。
に施す切断工程の詳細を示す説明図である。
【図5】本発明の他の製造方法における樹脂充填工程の
詳細を示す説明図である。
詳細を示す説明図である。
【図6】同半導体装置中間体の切断工程の詳細を示す説
明図である。
明図である。
【図7】従来の半導体装置の製造方法における製造工程
の説明図である。
の説明図である。
【図8】同製造工程を経て製造された半導体装置の縦断
面図である。
面図である。
【図9】同製造工程の樹脂充填工程に用いられる樹脂封
止用成形金型装置の要部底面図である。
止用成形金型装置の要部底面図である。
【図10】従来の半導体装置中間体の縦断面図である。
1 半導体装置、2 チップ基板、3 半導体チップ、
4 リードワイヤ、5絶縁樹脂部、6 半田ボール、1
0 材料基板、11 外枠部材、12 樹脂充填空間
部、13 材料樹脂、14 半導体装置中間体、15
ダイヤモンドブレード、20 印刷装置
4 リードワイヤ、5絶縁樹脂部、6 半田ボール、1
0 材料基板、11 外枠部材、12 樹脂充填空間
部、13 材料樹脂、14 半導体装置中間体、15
ダイヤモンドブレード、20 印刷装置
Claims (3)
- 【請求項1】 材料基板の主面上に互いに所定の間隔を
保持した状態で接合固定された多数個の半導体チップを
絶縁樹脂によって一括して封止するとともに、上記半導
体チップの個々の実装領域に対応して上記材料基板を所
定の寸法形状に切断することを特徴とする半導体装置の
製造方法。 - 【請求項2】 上記材料基板の主面上に、上記半導体チ
ップ群の実装領域を囲む外周枠部材を接合固定するとと
もに、この外周枠部材と上記材料基板とによって構成さ
れる空間部内に絶縁樹脂を供給して実装された上記半導
体チップ群を一括して封止することを特徴とする請求項
1に記載の半導体製造方法。 - 【請求項3】 上記材料基板の主面上に、絶縁樹脂イン
クを用いる印刷を施して実装された上記半導体チップ群
を一括して封止することを特徴とする請求項1に記載の
半導体製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8287106A JPH10135252A (ja) | 1996-10-29 | 1996-10-29 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8287106A JPH10135252A (ja) | 1996-10-29 | 1996-10-29 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10135252A true JPH10135252A (ja) | 1998-05-22 |
Family
ID=17713146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8287106A Withdrawn JPH10135252A (ja) | 1996-10-29 | 1996-10-29 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10135252A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000260793A (ja) * | 1999-03-12 | 2000-09-22 | Miyota Kk | Icチップのパッケージ方法及びその構造 |
| EP1003213A3 (en) * | 1998-11-18 | 2001-01-17 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of fabricating resin-sealed semiconductor devices |
| US6544814B1 (en) | 1999-07-27 | 2003-04-08 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a packaged semiconductor device, and a semiconductor device manufactured thereby |
| US6653731B2 (en) | 2000-02-28 | 2003-11-25 | Nec Corporation | Semiconductor device and method for fabricating same |
| CN108831863A (zh) * | 2018-05-31 | 2018-11-16 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 芯片封装方法 |
-
1996
- 1996-10-29 JP JP8287106A patent/JPH10135252A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1003213A3 (en) * | 1998-11-18 | 2001-01-17 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of fabricating resin-sealed semiconductor devices |
| US6326232B1 (en) | 1998-11-18 | 2001-12-04 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of fabricating semiconductor device |
| KR100369204B1 (ko) * | 1998-11-18 | 2003-01-24 | 산요 덴키 가부시키가이샤 | 반도체 장치의 제조 방법 |
| US6784523B2 (en) | 1998-11-18 | 2004-08-31 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of fabricating semiconductor device |
| EP2234147A3 (en) * | 1998-11-18 | 2014-05-21 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of fabricating resin-sealed semiconductor devices |
| JP2000260793A (ja) * | 1999-03-12 | 2000-09-22 | Miyota Kk | Icチップのパッケージ方法及びその構造 |
| US6544814B1 (en) | 1999-07-27 | 2003-04-08 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a packaged semiconductor device, and a semiconductor device manufactured thereby |
| US6653731B2 (en) | 2000-02-28 | 2003-11-25 | Nec Corporation | Semiconductor device and method for fabricating same |
| CN108831863A (zh) * | 2018-05-31 | 2018-11-16 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 芯片封装方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040106 |