JPH10140356A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH10140356A5 JPH10140356A5 JP1996300118A JP30011896A JPH10140356A5 JP H10140356 A5 JPH10140356 A5 JP H10140356A5 JP 1996300118 A JP1996300118 A JP 1996300118A JP 30011896 A JP30011896 A JP 30011896A JP H10140356 A5 JPH10140356 A5 JP H10140356A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- liquid
- vaporized
- vaporizer
- droplets
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30011896A JP3893177B2 (ja) | 1996-11-12 | 1996-11-12 | 気化装置、cvd装置及び薄膜製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30011896A JP3893177B2 (ja) | 1996-11-12 | 1996-11-12 | 気化装置、cvd装置及び薄膜製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10140356A JPH10140356A (ja) | 1998-05-26 |
| JPH10140356A5 true JPH10140356A5 (fr) | 2004-11-04 |
| JP3893177B2 JP3893177B2 (ja) | 2007-03-14 |
Family
ID=17880946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30011896A Expired - Fee Related JP3893177B2 (ja) | 1996-11-12 | 1996-11-12 | 気化装置、cvd装置及び薄膜製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3893177B2 (fr) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6180190B1 (en) | 1997-12-01 | 2001-01-30 | President And Fellows Of Harvard College | Vapor source for chemical vapor deposition |
| JP5152105B2 (ja) * | 2002-08-23 | 2013-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム |
| JP4553245B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2010-09-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 気化器、成膜装置及び成膜方法 |
| JP2006299335A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Fujimori Gijutsu Kenkyusho:Kk | 成膜方法及びその方法に使用する成膜装置並びに気化装置 |
| JP4841338B2 (ja) * | 2005-07-14 | 2011-12-21 | 株式会社野田スクリーン | 成膜方法、および装置 |
| US8755679B2 (en) | 2006-04-05 | 2014-06-17 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Liquid material vaporizer |
| EP2009137A4 (fr) * | 2006-04-05 | 2010-03-24 | Horiba Stec Co Ltd | Vaporiseur de matiere liquide |
| US8741062B2 (en) * | 2008-04-22 | 2014-06-03 | Picosun Oy | Apparatus and methods for deposition reactors |
| JP5542103B2 (ja) * | 2011-08-08 | 2014-07-09 | 株式会社渡辺商行 | 気化器 |
| JP2012094907A (ja) * | 2012-01-31 | 2012-05-17 | Watanabe Shoko:Kk | 気化器 |
| KR101585054B1 (ko) * | 2014-05-09 | 2016-01-14 | 한국생산기술연구원 | 액상 전구체 공급장치 |
| KR101604757B1 (ko) | 2014-05-22 | 2016-03-18 | 주식회사 메카로 | 기판 처리 설비용 기화기 |
| JP2015039001A (ja) * | 2014-09-18 | 2015-02-26 | 株式会社渡辺商行 | 気化器 |
| JP6675865B2 (ja) * | 2015-12-11 | 2020-04-08 | 株式会社堀場エステック | 液体材料気化装置 |
| JP6980180B2 (ja) * | 2016-11-10 | 2021-12-15 | 株式会社Flosfia | 成膜装置および成膜方法 |
| CN110983300B (zh) * | 2019-12-04 | 2023-06-20 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 镀膜设备及其应用 |
| JP6975417B2 (ja) * | 2020-02-27 | 2021-12-01 | 信越化学工業株式会社 | 成膜用霧化装置およびこれを用いた成膜装置 |
| CN112156931B (zh) * | 2020-10-20 | 2022-02-25 | 唐山佐仑环保科技有限公司 | 一种蒸汽镀膜机及蒸汽镀膜方法 |
-
1996
- 1996-11-12 JP JP30011896A patent/JP3893177B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3893177B2 (ja) | 気化装置、cvd装置及び薄膜製造方法 | |
| JPH10140356A5 (fr) | ||
| US6718126B2 (en) | Apparatus and method for vaporizing solid precursor for CVD or atomic layer deposition | |
| US9159548B2 (en) | Semiconductor processing system including vaporizer and method for using same | |
| CN101135047B (zh) | 气化装置和半导体处理系统 | |
| US6380081B1 (en) | Method of vaporizing liquid sources and apparatus therefor | |
| CN102016116B (zh) | 气化器及使用该气化器的成膜装置 | |
| JP3390517B2 (ja) | 液体原料用cvd装置 | |
| KR101160724B1 (ko) | 기화기 및 반도체 처리 시스템 | |
| US20090229525A1 (en) | Vaporizer and film forming apparatus | |
| JP3118493B2 (ja) | 液体原料用cvd装置 | |
| JP2004510058A (ja) | 特に有機皮膜をovpd法によって沈積する方法および装置 | |
| EP0948664A1 (fr) | Procede et systeme de vaporisation de liquide | |
| TW200927982A (en) | Vaporization apparatus, film forming apparatus, film forming method, computer program and storage medium | |
| JPH10251853A (ja) | 化学気相成長装置 | |
| JP2001507757A (ja) | フラッシュ気化器 | |
| JP4299286B2 (ja) | 気化装置、成膜装置及び気化方法 | |
| JP7599295B2 (ja) | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 | |
| CN100414674C (zh) | 气体反应装置和半导体处理装置 | |
| US20060070575A1 (en) | Solution-vaporization type CVD apparatus | |
| JPH0794426A (ja) | Cvd装置 | |
| JP4309630B2 (ja) | 原料気化器及び成膜処理装置 | |
| JP3720083B2 (ja) | 半導体素子用薄膜の製造方法および装置、並びに半導体ウェハ | |
| JP2000252270A (ja) | ガス噴射ヘッド | |
| JPH108255A (ja) | 液体原料気化装置 |