JPH10141350A - 水平面度調整機構 - Google Patents
水平面度調整機構Info
- Publication number
- JPH10141350A JPH10141350A JP30273496A JP30273496A JPH10141350A JP H10141350 A JPH10141350 A JP H10141350A JP 30273496 A JP30273496 A JP 30273496A JP 30273496 A JP30273496 A JP 30273496A JP H10141350 A JPH10141350 A JP H10141350A
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- Japan
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- plate
- base
- bolt
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プレートの水平面度及び位置決めをひずみな
く短時間で容易に正確に調整し、作業効率の向上と作業
工数の低減を図る。 【解決手段】 ベース１に対しプレート２の水平面度を
複数箇所で調整する水平面度調整機構において、該調整
箇所の少なくとも１箇所には、前記プレート２とベース
１との間に凹，凸状球面座金３，４を介し固定したこと
を特徴とする。
く短時間で容易に正確に調整し、作業効率の向上と作業
工数の低減を図る。 【解決手段】 ベース１に対しプレート２の水平面度を
複数箇所で調整する水平面度調整機構において、該調整
箇所の少なくとも１箇所には、前記プレート２とベース
１との間に凹，凸状球面座金３，４を介し固定したこと
を特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ベースに対しエレ
ベータの土台，カセット棚，ステージ等に使用されるプ
レートの水平面度を複数箇所で調整する水平面度調整機
構に関するもので、例えばカセットを使用した半導体装
置に適用するものである。
ベータの土台，カセット棚，ステージ等に使用されるプ
レートの水平面度を複数箇所で調整する水平面度調整機
構に関するもので、例えばカセットを使用した半導体装
置に適用するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６は上記半導体製造装置の説明図、図
７はそのカセット棚の説明図である。図７において２１
は側板、１はこれに固定された複数段のベース、２は各
ベース１上に水平に取付けられたプレート、２４はプレ
ート２上に載置された載置品であるウェーハカセットで
ある。図６に示すようにカセット出入口２５からカセッ
ト２４を搬入し、カセットローダ２６によりカセット棚
２７に収納する。収納されたカセット２４から移載機２
８によりウェーハを取出し、ボート２９に移載する。こ
のボート２９を反応管３１内に搬入し、ヒータ３０によ
りウェーハを加熱処理する。処理済ウェーハは上記とは
逆の過程を経てカセット２４内に収められてカセット出
入口２５より取出されることになる。図８（Ａ）〜
（Ｃ）は、それぞれ上記カセットを使用した半導体製造
装置に適用した従来の水平面度調整機構の第１例の平面
図、そのＦ−Ｆ線断面図及びそのＧ−Ｇ線断面図であ
る。この第１従来例は、ベース１に対しプレート２の水
平面度を三角状に配置した３箇所で調整する場合、１点
はベース１とプレート２間にスペーサ９を挟みワッシャ
１５を介在させて第１ボルト５で固定し、他の２点はベ
ース１に対してプレート２の水平面度を押しねじ１６と
引きねじ１７で調整する構成になっている。なお、２１
は側板である。
７はそのカセット棚の説明図である。図７において２１
は側板、１はこれに固定された複数段のベース、２は各
ベース１上に水平に取付けられたプレート、２４はプレ
ート２上に載置された載置品であるウェーハカセットで
ある。図６に示すようにカセット出入口２５からカセッ
ト２４を搬入し、カセットローダ２６によりカセット棚
２７に収納する。収納されたカセット２４から移載機２
８によりウェーハを取出し、ボート２９に移載する。こ
のボート２９を反応管３１内に搬入し、ヒータ３０によ
りウェーハを加熱処理する。処理済ウェーハは上記とは
逆の過程を経てカセット２４内に収められてカセット出
入口２５より取出されることになる。図８（Ａ）〜
（Ｃ）は、それぞれ上記カセットを使用した半導体製造
装置に適用した従来の水平面度調整機構の第１例の平面
図、そのＦ−Ｆ線断面図及びそのＧ−Ｇ線断面図であ
る。この第１従来例は、ベース１に対しプレート２の水
平面度を三角状に配置した３箇所で調整する場合、１点
はベース１とプレート２間にスペーサ９を挟みワッシャ
１５を介在させて第１ボルト５で固定し、他の２点はベ
ース１に対してプレート２の水平面度を押しねじ１６と
引きねじ１７で調整する構成になっている。なお、２１
は側板である。
【０００３】図９（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ従来の水平
面度調整機構の第２例の平面図及びそのＨ−Ｈ線断面図
である。この第２従来例は、左右２箇所を調整点とし、
各点は大小径の２段ネジ部６，７を有する第２ボルト８
の大径のネジ部６をベース１に螺合し、プレート２をワ
ッシャ１５を介在して小径のネジ部７とナット１８で締
付ける構成になっている。
面度調整機構の第２例の平面図及びそのＨ−Ｈ線断面図
である。この第２従来例は、左右２箇所を調整点とし、
各点は大小径の２段ネジ部６，７を有する第２ボルト８
の大径のネジ部６をベース１に螺合し、プレート２をワ
ッシャ１５を介在して小径のネジ部７とナット１８で締
付ける構成になっている。
【０００４】図１０（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ従来の水
平面度調整機構の第３例の平面図及びそのＩ−Ｉ線断面
図である。この第３従来例は、三角３点を調整点とし、
各点は空芯ボルト１９をプレート２に螺合し、この空芯
ボルト１９内に穴付きボルト２０を通してベース１に螺
合する３点支持調整で水平面度を調整する構成になって
いる。
平面度調整機構の第３例の平面図及びそのＩ−Ｉ線断面
図である。この第３従来例は、三角３点を調整点とし、
各点は空芯ボルト１９をプレート２に螺合し、この空芯
ボルト１９内に穴付きボルト２０を通してベース１に螺
合する３点支持調整で水平面度を調整する構成になって
いる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記第１従来例にあっ
ては、レベル調整を行う押しねじ１６と引きねじ１７が
同芯にないため、押しねじ１６と引きねじ１７が突張り
あってカセット棚のプレート２にひずみを与えるため、
プレート２にのせるカセットが安定して置けず、カセッ
トがガタつく場合があるという課題がある。上記第２従
来例にあっては、４箇所でレベル調整を行うため、この
場合も、プレート２がひずむことがあり、カセットがガ
タ付く場合があると共に、プレート２とベース１の間隔
に規制がないので調整者によってはカセットの高さがま
ちまちになり、カセットを搬送するカセットローダのス
トローク（カセット取り出しの際の高さ方向のストロー
ク）が不足することがあり、カセットの搬送がスムーズ
に確実に行うことができないという課題がある。又、上
記第３従来例にあっては、３点の空芯ボルト１９とこれ
に通した穴付きボルト２０により水平面度を調整してい
るが、最初に決定する１点が固定端となるため、残りを
ボルト２０で固定する際、水平面度が調整しにくく、調
整するプレート２にストレスがかかるという課題があっ
た。
ては、レベル調整を行う押しねじ１６と引きねじ１７が
同芯にないため、押しねじ１６と引きねじ１７が突張り
あってカセット棚のプレート２にひずみを与えるため、
プレート２にのせるカセットが安定して置けず、カセッ
トがガタつく場合があるという課題がある。上記第２従
来例にあっては、４箇所でレベル調整を行うため、この
場合も、プレート２がひずむことがあり、カセットがガ
タ付く場合があると共に、プレート２とベース１の間隔
に規制がないので調整者によってはカセットの高さがま
ちまちになり、カセットを搬送するカセットローダのス
トローク（カセット取り出しの際の高さ方向のストロー
ク）が不足することがあり、カセットの搬送がスムーズ
に確実に行うことができないという課題がある。又、上
記第３従来例にあっては、３点の空芯ボルト１９とこれ
に通した穴付きボルト２０により水平面度を調整してい
るが、最初に決定する１点が固定端となるため、残りを
ボルト２０で固定する際、水平面度が調整しにくく、調
整するプレート２にストレスがかかるという課題があっ
た。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明機構は、従来技術
の課題を解決し、プレートの歪みをなくして、載置面を
ガタつきなく安定して載置し、前記プレートの高さをほ
ぼ一定にしたまま、水平面度を容易に調整できる水平面
度調整機構を提供するものである。即ち、ベース１に対
しプレート２の水平面度を複数箇所で調整する水平面度
調整機構において、該調整箇所の少なくとも１箇所に
は、前記プレート２とベース１との間に凹，凸状球面座
金３，４を介し固定したことを特徴とする。
の課題を解決し、プレートの歪みをなくして、載置面を
ガタつきなく安定して載置し、前記プレートの高さをほ
ぼ一定にしたまま、水平面度を容易に調整できる水平面
度調整機構を提供するものである。即ち、ベース１に対
しプレート２の水平面度を複数箇所で調整する水平面度
調整機構において、該調整箇所の少なくとも１箇所に
は、前記プレート２とベース１との間に凹，凸状球面座
金３，４を介し固定したことを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ本
発明機構の実施形態の第１例を示す平面図、そのＡ−Ａ
線断面図及びそのＢ−Ｂ線断面図である。図１において
２１は側板、１はこれに固定されたベース、２は水平面
度が調整されてベース１に固定されるプレートである。
調整箇所は三角形配置の３箇所ａ〜ｃである。その内の
１箇所ａ部は、プレート２を凹，凸状球面座金３，４で
挟んでベース１に第１ボルト５で固定し、その他の２箇
所ｂ，ｃ部はプレート２を凹，凸状球面座金３，４で挟
んで大小径の２段ネジ部６，７を有する第２ボルト８の
一方の小径ネジ部７で固定すると共に他方の２つの大径
のネジ部６をベース１に螺着する構成になっている。上
記構成の第１形態において、ａ部でプレート２を凹，凸
状球面座金３，４で挟んで第１ボルト５によりプレート
２とベース１間の間隔を決定し固定する。その他のｂ，
ｃ部で第２ボルト８によりその他方の２つの大径のネジ
部６の出し入れ量（ネジ込み量）を調整してプレート２
の水平面度を調整し、ナット１８で固定する。このとき
球面座金３，４でプレート２をはさみ込んであるためプ
レート２のひずみはほとんど生じない。また、ａ部でプ
レート２とベース１の間隔を規制してあるためプレート
２に載せる載置品の高さもほぼ一定となる。
発明機構の実施形態の第１例を示す平面図、そのＡ−Ａ
線断面図及びそのＢ−Ｂ線断面図である。図１において
２１は側板、１はこれに固定されたベース、２は水平面
度が調整されてベース１に固定されるプレートである。
調整箇所は三角形配置の３箇所ａ〜ｃである。その内の
１箇所ａ部は、プレート２を凹，凸状球面座金３，４で
挟んでベース１に第１ボルト５で固定し、その他の２箇
所ｂ，ｃ部はプレート２を凹，凸状球面座金３，４で挟
んで大小径の２段ネジ部６，７を有する第２ボルト８の
一方の小径ネジ部７で固定すると共に他方の２つの大径
のネジ部６をベース１に螺着する構成になっている。上
記構成の第１形態において、ａ部でプレート２を凹，凸
状球面座金３，４で挟んで第１ボルト５によりプレート
２とベース１間の間隔を決定し固定する。その他のｂ，
ｃ部で第２ボルト８によりその他方の２つの大径のネジ
部６の出し入れ量（ネジ込み量）を調整してプレート２
の水平面度を調整し、ナット１８で固定する。このとき
球面座金３，４でプレート２をはさみ込んであるためプ
レート２のひずみはほとんど生じない。また、ａ部でプ
レート２とベース１の間隔を規制してあるためプレート
２に載せる載置品の高さもほぼ一定となる。
【０００８】図２（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ本発明機構
の実施形態の第２例を示す平面図、そのＣ−Ｃ線断面図
及びそのＤ−Ｄ線断面図である。調整箇所は三角配置の
３箇所ａ〜ｃで、その内の１箇所ａ部はプレート２とベ
ース１内にスペーサ９を挟んで第１ボルト５で固定し、
その他の２箇所ｂ，ｃ部はプレート２を大小径の２段ネ
ジ部６，７を有する第２ボルト８の一方の小径のネジ部
７とナット１８で固定し、他方の大径ネジ部６をベース
に螺合する構成となっている。上記構成の第２形態にお
いて、ａ部でプレート２とベース１間にスペーサ９を挿
入しているので、プレート２とベース１間の間隔が決ま
る。ｂ，ｃ部では第２ボルト８の大径ネジ部６の出し入
れによって水平面度が調整され、プレート２の水平度が
得られる。しかる後、ナット１８で固定する。このよう
に球面座金をはさまない場合においてもプレート２のひ
ずみは従来よりも小さい。
の実施形態の第２例を示す平面図、そのＣ−Ｃ線断面図
及びそのＤ−Ｄ線断面図である。調整箇所は三角配置の
３箇所ａ〜ｃで、その内の１箇所ａ部はプレート２とベ
ース１内にスペーサ９を挟んで第１ボルト５で固定し、
その他の２箇所ｂ，ｃ部はプレート２を大小径の２段ネ
ジ部６，７を有する第２ボルト８の一方の小径のネジ部
７とナット１８で固定し、他方の大径ネジ部６をベース
に螺合する構成となっている。上記構成の第２形態にお
いて、ａ部でプレート２とベース１間にスペーサ９を挿
入しているので、プレート２とベース１間の間隔が決ま
る。ｂ，ｃ部では第２ボルト８の大径ネジ部６の出し入
れによって水平面度が調整され、プレート２の水平度が
得られる。しかる後、ナット１８で固定する。このよう
に球面座金をはさまない場合においてもプレート２のひ
ずみは従来よりも小さい。
【０００９】図３（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本発明機構
の実施形態の第３例を示す平面図及びそのＥ−Ｅ線断面
図である。調整箇所は三角配置の３箇所ａ〜ｃで、その
内の１箇所ａ部は凹，凸状球面部１２，１３、例えば凹
状球面部１２をベース１に、凸状球面部１３をプレート
２に設けてベース１にプレート２を枢支し、その他の箇
所ｂ，ｃ部はベース１にプレート２をワッシャ，スペー
サなど適宜、介在させて第３ボルト１０で固定する。上
記構成の第３形態において、ａ部が凹，凸状球面部１
２，１３により自由端となりベース１に対しプレート２
が傾動自由となる。ｂ，ｃ点で第３ボルト１０により水
平面度を調整し、プレート２の水平面度が得られる。し
かる後ナット１８で固定する。
の実施形態の第３例を示す平面図及びそのＥ−Ｅ線断面
図である。調整箇所は三角配置の３箇所ａ〜ｃで、その
内の１箇所ａ部は凹，凸状球面部１２，１３、例えば凹
状球面部１２をベース１に、凸状球面部１３をプレート
２に設けてベース１にプレート２を枢支し、その他の箇
所ｂ，ｃ部はベース１にプレート２をワッシャ，スペー
サなど適宜、介在させて第３ボルト１０で固定する。上
記構成の第３形態において、ａ部が凹，凸状球面部１
２，１３により自由端となりベース１に対しプレート２
が傾動自由となる。ｂ，ｃ点で第３ボルト１０により水
平面度を調整し、プレート２の水平面度が得られる。し
かる後ナット１８で固定する。
【００１０】図４は本発明機構の実施形態の第４例を示
す要部の断面図である。複数の例えば３つの調整箇所
に、ベース１にボス１１の全周を適当な高さで溶接部１
ａにより溶接し、それぞれボス１１と第４ボルト１４の
頭部を凹，凸状球面部１２，１３で嵌合し、例えばボス
１１に凹状球面部１２を，これに枢支される第４ボルト
１４の頭部に凸状球面部１３を設けて嵌合し、プレート
の水平調整を行った後、第４ボルト１４にナット１８を
螺着する。上記構成の第４形態において各箇所でボス１
１の凹状球面部１２に第４ボルト１４の凸状球面部１３
が回転自由になっているため、プレート２の水平面度を
容易に調整することができる。
す要部の断面図である。複数の例えば３つの調整箇所
に、ベース１にボス１１の全周を適当な高さで溶接部１
ａにより溶接し、それぞれボス１１と第４ボルト１４の
頭部を凹，凸状球面部１２，１３で嵌合し、例えばボス
１１に凹状球面部１２を，これに枢支される第４ボルト
１４の頭部に凸状球面部１３を設けて嵌合し、プレート
の水平調整を行った後、第４ボルト１４にナット１８を
螺着する。上記構成の第４形態において各箇所でボス１
１の凹状球面部１２に第４ボルト１４の凸状球面部１３
が回転自由になっているため、プレート２の水平面度を
容易に調整することができる。
【００１１】図５（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本発明機構
の実施形態の第５例を示す要部の断面図及びその変形例
の断面図である。複数の、例えば４箇所にそれぞれベー
ス１の上面又は下面にブロック２２を配置して固定ボル
ト２３により固定し、このブロック２２にボス１１を取
付け、このボス１１と第４ボルト１４の頭部を凹，凸状
球面部１２，１３で嵌合し、第４ボルト１４にナット１
８を螺着する。この第５形態は、ブロック２２を使用す
ることで、図４に示す第４形態の如く溶接せず、正確な
位置決めが可能となる。
の実施形態の第５例を示す要部の断面図及びその変形例
の断面図である。複数の、例えば４箇所にそれぞれベー
ス１の上面又は下面にブロック２２を配置して固定ボル
ト２３により固定し、このブロック２２にボス１１を取
付け、このボス１１と第４ボルト１４の頭部を凹，凸状
球面部１２，１３で嵌合し、第４ボルト１４にナット１
８を螺着する。この第５形態は、ブロック２２を使用す
ることで、図４に示す第４形態の如く溶接せず、正確な
位置決めが可能となる。
【００１２】以上の説明より明らかなように本形態にあ
っては、プレートの水平面度及び位置決めをひずみなく
短時間で容易に正確に調整することができ、作業効率を
向上することができる。従来ではやや高度な技術を必要
としたが球面を利用することによって誰でも簡単に水平
面度調整が可能となり、作業工数を減少することができ
る。前記プレート上に載置品を安定して載置することが
できるため、載置品内の部品の出し入れの際の搬送トラ
ブルをなくすことができ、又前記プレートの高さを一定
に、載置品の高さを一定にできるため、載置品ローダの
ストロークを有効に使用することができる。
っては、プレートの水平面度及び位置決めをひずみなく
短時間で容易に正確に調整することができ、作業効率を
向上することができる。従来ではやや高度な技術を必要
としたが球面を利用することによって誰でも簡単に水平
面度調整が可能となり、作業工数を減少することができ
る。前記プレート上に載置品を安定して載置することが
できるため、載置品内の部品の出し入れの際の搬送トラ
ブルをなくすことができ、又前記プレートの高さを一定
に、載置品の高さを一定にできるため、載置品ローダの
ストロークを有効に使用することができる。
【００１３】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、プレート
の水平面度及び位置決めをひずみなく短時間で容易に正
確に調整することができ、作業効率を向上することがで
きる。
の水平面度及び位置決めをひずみなく短時間で容易に正
確に調整することができ、作業効率を向上することがで
きる。
【図１】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ本発明機構の実施形
態の第１例を示す平面図、そのＡ−Ａ線断面図及びその
Ｂ−Ｂ線断面図である。
態の第１例を示す平面図、そのＡ−Ａ線断面図及びその
Ｂ−Ｂ線断面図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ本発明機構の実施形
態の第２例を示す平面図、そのＣ−Ｃ線断面図及びその
Ｄ−Ｄ線断面図である。
態の第２例を示す平面図、そのＣ−Ｃ線断面図及びその
Ｄ−Ｄ線断面図である。
【図３】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本発明機構の実施形
態の第３例を示す平面図及びそのＥ−Ｅ線断面図であ
る。
態の第３例を示す平面図及びそのＥ−Ｅ線断面図であ
る。
【図４】本発明機構の実施形態の第４例を示す要部の断
面図である。
面図である。
【図５】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本発明機構の実施形
態の第５例を示す要部の断面図及びその変形例の断面図
である。
態の第５例を示す要部の断面図及びその変形例の断面図
である。
【図６】半導体製造装置の説明図である。
【図７】そのカセット棚の説明図である。
【図８】（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ従来機構の第１例
の平面図、そのＦ−Ｆ線断面図及びそのＧ−Ｇ線断面図
である。
の平面図、そのＦ−Ｆ線断面図及びそのＧ−Ｇ線断面図
である。
【図９】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ従来機構の第２例の
平面図及びそのＨ−Ｈ線断面図である。
平面図及びそのＨ−Ｈ線断面図である。
【図１０】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ従来機構の第３例
の平面図及びそのＩ−Ｉ線断面図である。
の平面図及びそのＩ−Ｉ線断面図である。
１ ベース ２ レベル調整プレート ３ 凹状球面座金 ４ 凸状球面座金 ５ 第１ボルト ６ 他方の（大径）ネジ部 ７ 一方の（小径）ネジ部 ８ 第２ボルト ９ スペーサ １０ 第３ボルト １１ ボス １２ 凹状球面部 １３ 凸状球面部 １４ 第４ボルト
Claims (1)
- 【請求項１】 ベースに対しプレートの水平面度を複数
箇所で調整する水平面度調整機構において、該調整箇所
の少なくとも１箇所には、前記プレートとベースとの間
に凹，凸状球面座金を介し固定したことを特徴とする水
平面度調整機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30273496A JPH10141350A (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 水平面度調整機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30273496A JPH10141350A (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 水平面度調整機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10141350A true JPH10141350A (ja) | 1998-05-26 |
Family
ID=17912517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30273496A Pending JPH10141350A (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 水平面度調整機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10141350A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010110121A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | リニアモータ |
| JP2015201777A (ja) * | 2014-04-09 | 2015-11-12 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 撮像装置 |
| JP2016139663A (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 大陽日酸株式会社 | 気相成長装置 |
| CN107248500A (zh) * | 2017-07-21 | 2017-10-13 | 江苏艾科瑞思封装自动化设备有限公司 | 一种取晶、固晶装置及其采用它的固晶机 |
| JP2018179627A (ja) * | 2017-04-07 | 2018-11-15 | 新東エスプレシジョン株式会社 | 載置テーブル及び載置方法 |
| CN112032156A (zh) * | 2020-07-21 | 2020-12-04 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种高精度复位机构及方法 |
| CN117484387A (zh) * | 2023-12-25 | 2024-02-02 | 朗信(苏州)精密光学有限公司 | 一种离子束抛光机的可调支撑结构及离子束抛光机 |
-
1996
- 1996-11-14 JP JP30273496A patent/JPH10141350A/ja active Pending
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