JPH10147571A - Ｎ−アシル含窒素環状ケトン類の製造方法 - Google Patents
Ｎ−アシル含窒素環状ケトン類の製造方法Info
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- JPH10147571A JPH10147571A JP8323615A JP32361596A JPH10147571A JP H10147571 A JPH10147571 A JP H10147571A JP 8323615 A JP8323615 A JP 8323615A JP 32361596 A JP32361596 A JP 32361596A JP H10147571 A JPH10147571 A JP H10147571A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｎ−アシル含窒素環状ケトン類を簡便な方法
で高収率に製造するための新規な方法の提供。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 で示されるＮ−ベンジル含窒素環状ケトン類と一般式
（２） 【化２】 （式中、Ｒはアルキル基又はアリール基を表す）で示さ
れる酸無水物とを水素供与体の存在下で反応させること
により一般式（３） 【化３】 （式中、ＡとＲは前記と同一）で示されるＮ−アシル含
窒素環状ケトン類を得ることを特徴とするＮ−アシル含
窒素環状ケトン類の製造方法。
で高収率に製造するための新規な方法の提供。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 で示されるＮ−ベンジル含窒素環状ケトン類と一般式
（２） 【化２】 （式中、Ｒはアルキル基又はアリール基を表す）で示さ
れる酸無水物とを水素供与体の存在下で反応させること
により一般式（３） 【化３】 （式中、ＡとＲは前記と同一）で示されるＮ−アシル含
窒素環状ケトン類を得ることを特徴とするＮ−アシル含
窒素環状ケトン類の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品・農薬の原
料又は中間体として有用な化合物であるＮ−アシル含窒
素環状ケトン類の製造方法に関する。具体的には、Ｎ−
アシル−４−ピペリドン、Ｎ−アシル−３−ピペリドン
又はＮ−アシル−３−ピロリドンの製造方法に関する。
例えば、Ｎ−アシル−４−ピペリドンは、コレステロー
ルの生合成において重要な酵素である２，３−エポキシ
スクアレン−ラノステロールサイクラーゼのインヒビタ
ーであるアリーリデン−１−アザシクロアルカン類など
の原料として使用される（特開平６−１９２２５６
号）。
料又は中間体として有用な化合物であるＮ−アシル含窒
素環状ケトン類の製造方法に関する。具体的には、Ｎ−
アシル−４−ピペリドン、Ｎ−アシル−３−ピペリドン
又はＮ−アシル−３−ピロリドンの製造方法に関する。
例えば、Ｎ−アシル−４−ピペリドンは、コレステロー
ルの生合成において重要な酵素である２，３−エポキシ
スクアレン−ラノステロールサイクラーゼのインヒビタ
ーであるアリーリデン−１−アザシクロアルカン類など
の原料として使用される（特開平６−１９２２５６
号）。
【０００２】
【従来の技術】Ｎ−アシル−４−ピペリドンの製造方法
としては次のような方法が知られている。４−ピペリ
ドン塩酸塩と酸無水物又は酸塩化物とを反応させてアシ
ル化することで目的物を得る方法（特開平６−１９２２
５６号）、Ｎ−ベンゾイル−４−ピペリジンを微生物
を用いてＮ−ベンゾイル−４−ピペリジノールに変換し
た後、無水クロム酸によるジョーンズ酸化反応で目的物
を得る方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３３巻，３１８
７−３１９５頁，１９６８年）がある。
としては次のような方法が知られている。４−ピペリ
ドン塩酸塩と酸無水物又は酸塩化物とを反応させてアシ
ル化することで目的物を得る方法（特開平６−１９２２
５６号）、Ｎ−ベンゾイル−４−ピペリジンを微生物
を用いてＮ−ベンゾイル−４−ピペリジノールに変換し
た後、無水クロム酸によるジョーンズ酸化反応で目的物
を得る方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３３巻，３１８
７−３１９５頁，１９６８年）がある。
【０００３】Ｎ−アシル−３−ピペリドンの製造方法と
しては、Ｎ−ベンジルピペリジン−３，５−ジオンを
メタノール中でメトキシオキソデヒドロピペリジンに変
換した後、Ｎ−アシル化反応、続いて金属水素化物を用
いた還元処理により目的物を得る方法（Ｊ．Ｃｈｉｎ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３１巻，４０５−４０７頁，１９
８４年）、Ｎ−アシル−１，４，５，６−テトラヒド
ロピリジンと過安息香酸を反応させて得たＮ−アシル−
２−ベンゾイルオキシ−３−ヒドロキシピペリジンを１
４０℃で加熱分解して目的物を得る方法（Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．，３７巻，２３４３−２３４５頁，１９７２
年）がある。
しては、Ｎ−ベンジルピペリジン−３，５−ジオンを
メタノール中でメトキシオキソデヒドロピペリジンに変
換した後、Ｎ−アシル化反応、続いて金属水素化物を用
いた還元処理により目的物を得る方法（Ｊ．Ｃｈｉｎ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３１巻，４０５−４０７頁，１９
８４年）、Ｎ−アシル−１，４，５，６−テトラヒド
ロピリジンと過安息香酸を反応させて得たＮ−アシル−
２−ベンゾイルオキシ−３−ヒドロキシピペリジンを１
４０℃で加熱分解して目的物を得る方法（Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．，３７巻，２３４３−２３４５頁，１９７２
年）がある。
【０００４】Ｎ−アシル−３−ピロリドンの製造方法と
しては、Ｎ−アシル−Ｎ−カルボエトキシメチル−β
−アラニンエチルエステルをディックマン反応させてＮ
−アシル−３−カルボエトキシ−４−ピロリドンとした
後、酢酸還流下で脱炭酸することにより目的物を得る方
法（Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，１１巻，
５０３−５０６頁，１９７４年）がある。
しては、Ｎ−アシル−Ｎ−カルボエトキシメチル−β
−アラニンエチルエステルをディックマン反応させてＮ
−アシル−３−カルボエトキシ−４−ピロリドンとした
後、酢酸還流下で脱炭酸することにより目的物を得る方
法（Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，１１巻，
５０３−５０６頁，１９７４年）がある。
【０００５】しかしながら、Ｎ−アシル−４−ピペリド
ンの製造方法に関する前記の方法は、４−ピペリドン
塩酸塩が吸湿性を有するため容易に水和物となり、アシ
ル化剤である酸無水物又は酸塩化物が過剰量必要とな
る。更に窒素をフリー化するための塩基が必要となり、
精製時に中和、水洗工程が生じるなど操作が煩雑とな
る。の方法は、工業化を考えると微生物を用いるため
特殊なプラントが必要となり、また製造工程が長いこと
からコストが高くなる。更に無水クロム酸は毒性が強い
のでこれの使用は作業環境の悪化を招くおそれがある。
ンの製造方法に関する前記の方法は、４−ピペリドン
塩酸塩が吸湿性を有するため容易に水和物となり、アシ
ル化剤である酸無水物又は酸塩化物が過剰量必要とな
る。更に窒素をフリー化するための塩基が必要となり、
精製時に中和、水洗工程が生じるなど操作が煩雑とな
る。の方法は、工業化を考えると微生物を用いるため
特殊なプラントが必要となり、また製造工程が長いこと
からコストが高くなる。更に無水クロム酸は毒性が強い
のでこれの使用は作業環境の悪化を招くおそれがある。
【０００６】Ｎ−アシル−３−ピペリドンの製造方法に
関する前記の方法は、製造工程が長くなり、また目的
物の収率も３１％と低い。の方法は、過酸化物を用い
て反応させるので安全性に多大の注意をしなければなら
ず、また目的物の収率も１８％と低い。
関する前記の方法は、製造工程が長くなり、また目的
物の収率も３１％と低い。の方法は、過酸化物を用い
て反応させるので安全性に多大の注意をしなければなら
ず、また目的物の収率も１８％と低い。
【０００７】Ｎ−アシル−３−ピロリドンの製造方法に
関する前記の方法は、ディックマン縮合時に塩基を用
いるためＮ−アシル結合が開裂しやすく、更に酢酸還流
下での脱炭酸工程も収率が低い。
関する前記の方法は、ディックマン縮合時に塩基を用
いるためＮ−アシル結合が開裂しやすく、更に酢酸還流
下での脱炭酸工程も収率が低い。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、Ｎ−
アシル含窒素環状ケトン類を簡便な方法で高収率に製造
するための新規な方法を提供する点にある。
アシル含窒素環状ケトン類を簡便な方法で高収率に製造
するための新規な方法を提供する点にある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記問題点
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、Ｎ−ベンジル含窒
素環状ケトン類に脱ベンジル化反応とＮ−アシル化反応
とを続けて行うことにより中間体を単離することなく、
いわゆるワンポットで対応するＮ−アシル含窒素環状ケ
トン類を得る新規な方法を見いだし、本発明を完成する
に至った。
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、Ｎ−ベンジル含窒
素環状ケトン類に脱ベンジル化反応とＮ−アシル化反応
とを続けて行うことにより中間体を単離することなく、
いわゆるワンポットで対応するＮ−アシル含窒素環状ケ
トン類を得る新規な方法を見いだし、本発明を完成する
に至った。
【００１０】すなわち、本発明は、一般式（１）
【化７】 で示されるＮ−ベンジル含窒素環状ケトン類と一般式
（２）
（２）
【化８】 （式中、Ｒはアルキル基又はアリール基を表す）で示さ
れる酸無水物とを、水素のような水素供与体および必要
に応じて触媒とくにパラジウム触媒の存在下で反応させ
ることにより一般式（３）
れる酸無水物とを、水素のような水素供与体および必要
に応じて触媒とくにパラジウム触媒の存在下で反応させ
ることにより一般式（３）
【化９】 （式中、ＡとＲは前記と同一）で示されるＮ−アシル含
窒素環状ケトン類を得ることを特徴とするＮ−アシル含
窒素環状ケトン類の製造方法である。
窒素環状ケトン類を得ることを特徴とするＮ−アシル含
窒素環状ケトン類の製造方法である。
【００１１】本発明の酸無水物及び目的物の式中におけ
るＲとしてはアルキル基又はアリール基が挙げられる。
このアルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよ
く、特に制限はないが、例えば、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソ
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などが挙げら
れる。また、アリール基としてはフェニル基、置換フェ
ニル基などがあり、置換基としては前記アルキル基およ
び本発明の反応に不活性な基が挙げられる。
るＲとしてはアルキル基又はアリール基が挙げられる。
このアルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよ
く、特に制限はないが、例えば、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソ
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などが挙げら
れる。また、アリール基としてはフェニル基、置換フェ
ニル基などがあり、置換基としては前記アルキル基およ
び本発明の反応に不活性な基が挙げられる。
【００１２】本発明における目的物の具体例としては、
Ｎ−アセチル−４−ピペリドン、Ｎ−アセチル−３−ピ
ペリドン、Ｎ−アセチル−３−ピロリドン、Ｎ−プロピ
オニル−４−ピペリドン、Ｎ−プロピオニル−３−ピペ
リドン、Ｎ−プロピオニル−３−ピロリドン、Ｎ−イソ
ブチリル−４−ピペリドン、Ｎ−イソブチリル−３−ピ
ペリドン、Ｎ−イソブチリル−３−ピロリドン、Ｎ−
（２，２−ジメチル−１−オキソプロピル）−４−ピペ
リドン、Ｎ−（２，２−ジメチル−１−オキソプロピ
ル）−３−ピペリドン、Ｎ−（２，２−ジメチル−１−
オキソプロピル）−３−ピロリドン、Ｎ−（１−オキソ
ヘキシル）−４−ピペリドン、Ｎ−（１−オキソヘキシ
ル）−３−ピペリドン、Ｎ−（１−オキソヘキシル）−
３−ピロリドン、Ｎ−ベンゾイル−４−ピペリドン、Ｎ
−ベンゾイル−３−ピペリドン、Ｎ−ベンゾイル−３−
ピロリドンなどが挙げられる。
Ｎ−アセチル−４−ピペリドン、Ｎ−アセチル−３−ピ
ペリドン、Ｎ−アセチル−３−ピロリドン、Ｎ−プロピ
オニル−４−ピペリドン、Ｎ−プロピオニル−３−ピペ
リドン、Ｎ−プロピオニル−３−ピロリドン、Ｎ−イソ
ブチリル−４−ピペリドン、Ｎ−イソブチリル−３−ピ
ペリドン、Ｎ−イソブチリル−３−ピロリドン、Ｎ−
（２，２−ジメチル−１−オキソプロピル）−４−ピペ
リドン、Ｎ−（２，２−ジメチル−１−オキソプロピ
ル）−３−ピペリドン、Ｎ−（２，２−ジメチル−１−
オキソプロピル）−３−ピロリドン、Ｎ−（１−オキソ
ヘキシル）−４−ピペリドン、Ｎ−（１−オキソヘキシ
ル）−３−ピペリドン、Ｎ−（１−オキソヘキシル）−
３−ピロリドン、Ｎ−ベンゾイル−４−ピペリドン、Ｎ
−ベンゾイル−３−ピペリドン、Ｎ−ベンゾイル−３−
ピロリドンなどが挙げられる。
【００１３】酸無水物としては、無水酢酸、プロピオン
酸無水物、酪酸無水物、イソ酪酸無水物、吉草酸無水
物、イソ吉草酸無水物、ピバル酸無水物、ヘキサン酸無
水物、安息香酸無水物などを挙げることができる。酸無
水物の使用量はＮ−ベンジル含窒素環状ケトン類に対し
て等モル量以上であればよいが、好ましくは１〜１．５
倍モル量である。
酸無水物、酪酸無水物、イソ酪酸無水物、吉草酸無水
物、イソ吉草酸無水物、ピバル酸無水物、ヘキサン酸無
水物、安息香酸無水物などを挙げることができる。酸無
水物の使用量はＮ−ベンジル含窒素環状ケトン類に対し
て等モル量以上であればよいが、好ましくは１〜１．５
倍モル量である。
【００１４】触媒としてはパラジウム触媒、ロジウム触
媒、Ｎｉ触媒などが挙げられるが、とくにパラジウム触
媒が好ましい。パラジウム触媒としては、パラジウムを
含有する触媒であれば不均一系触媒でも均一系触媒でも
使用できる。不均一系触媒としては、活性炭、アルミ
ナ、シリカ、硫酸バリウムなどの担体に担持したもの
が、具体的には、パラジウム炭素、パラジウムアルミ
ナ、パラジウムシリカ、パラジウム硫酸バリウムなどが
挙げられる。均一系触媒としては、塩化パラジウム、臭
化パラジウムなどのパラジウムの無機酸塩、酢酸パラジ
ウム、安息香酸パラジウムなどのパラジウムの有機酸
塩、ジ−μ−クロロビス〔（η−アリル）パラジウム
（II）〕、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム
（II）などのパラジウム錯体が挙げられる。パラジウム
触媒の使用量（パラジウム原子として）は不均一系触媒
の場合、Ｎ−ベンジル含窒素環状ケトン類に対して通常
０．０５〜１重量％であり、好ましくは０．１２〜０．
５重量％である。また、均一系触媒の場合は、Ｎ−ベン
ジル含窒素環状ケトン類に対して通常０．５〜１０重量
％であり、好ましくは１．２〜３重量％である。触媒の
回収の容易性、触媒の使用量などから、好ましいパラジ
ウム触媒としてはパラジウム炭素である。
媒、Ｎｉ触媒などが挙げられるが、とくにパラジウム触
媒が好ましい。パラジウム触媒としては、パラジウムを
含有する触媒であれば不均一系触媒でも均一系触媒でも
使用できる。不均一系触媒としては、活性炭、アルミ
ナ、シリカ、硫酸バリウムなどの担体に担持したもの
が、具体的には、パラジウム炭素、パラジウムアルミ
ナ、パラジウムシリカ、パラジウム硫酸バリウムなどが
挙げられる。均一系触媒としては、塩化パラジウム、臭
化パラジウムなどのパラジウムの無機酸塩、酢酸パラジ
ウム、安息香酸パラジウムなどのパラジウムの有機酸
塩、ジ−μ−クロロビス〔（η−アリル）パラジウム
（II）〕、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム
（II）などのパラジウム錯体が挙げられる。パラジウム
触媒の使用量（パラジウム原子として）は不均一系触媒
の場合、Ｎ−ベンジル含窒素環状ケトン類に対して通常
０．０５〜１重量％であり、好ましくは０．１２〜０．
５重量％である。また、均一系触媒の場合は、Ｎ−ベン
ジル含窒素環状ケトン類に対して通常０．５〜１０重量
％であり、好ましくは１．２〜３重量％である。触媒の
回収の容易性、触媒の使用量などから、好ましいパラジ
ウム触媒としてはパラジウム炭素である。
【００１５】水素供与体としては、水素、ギ酸、シクロ
ヘキセン、イソプロピルアルコールなどが挙げられる
が、代表的なものは水素である。水素の圧力は特に制限
されないが、好ましくは常圧〜１０ｋｇ／ｃｍ2の範囲
である。水素圧が高すぎると酸無水物の分解や過剰還元
が進行して目的物の収率が低下する。
ヘキセン、イソプロピルアルコールなどが挙げられる
が、代表的なものは水素である。水素の圧力は特に制限
されないが、好ましくは常圧〜１０ｋｇ／ｃｍ2の範囲
である。水素圧が高すぎると酸無水物の分解や過剰還元
が進行して目的物の収率が低下する。
【００１６】溶媒はなくても反応は進行するが、溶媒が
ないと反応系の粘性が上がり、後処理の操作性が悪くな
り、収率の低下の原因となるので溶媒を用いることが好
ましい。溶媒としては、本発明の反応に不活性である溶
媒であれば特に制限されないが、例えば、トルエン、酢
酸エチル、テトラヒドロフラン、有機酸又はこれらの混
合物を用いることができる。
ないと反応系の粘性が上がり、後処理の操作性が悪くな
り、収率の低下の原因となるので溶媒を用いることが好
ましい。溶媒としては、本発明の反応に不活性である溶
媒であれば特に制限されないが、例えば、トルエン、酢
酸エチル、テトラヒドロフラン、有機酸又はこれらの混
合物を用いることができる。
【００１７】本発明の反応は発熱反応であり、反応温度
は約１０〜６０℃の範囲で良好に進行する。反応温度が
低いと十分な反応速度が得られないため好ましくなく、
また温度が高すぎると触媒が失活してしまい目的物の収
率低下の原因となる。
は約１０〜６０℃の範囲で良好に進行する。反応温度が
低いと十分な反応速度が得られないため好ましくなく、
また温度が高すぎると触媒が失活してしまい目的物の収
率低下の原因となる。
【００１８】反応終了後は、常法に従って目的物を精製
することができる。例えば、触媒をろ過し、減圧下に反
応混合物から溶媒を留去した後、蒸留、再結晶、カラム
クロマトグラフィーなどを行うことにより目的物を精製
する。
することができる。例えば、触媒をろ過し、減圧下に反
応混合物から溶媒を留去した後、蒸留、再結晶、カラム
クロマトグラフィーなどを行うことにより目的物を精製
する。
【００１９】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれにより何ら限定されるものではない。
本発明はこれにより何ら限定されるものではない。
【００２０】実施例１ １リットル電磁攪拌式オートクレーブに、Ｎ−ベンジル
−４−ピペリドン１００ｇ（５２８ミリモル）、無水酢
酸５９ｇ（５７８ミリモル）、トルエン９１ｇ、パラジ
ウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）２．５ｇを加え、
水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、４０℃で反応した。水素吸収の
停止までに３０分を要した。反応液を冷却した後、触媒
をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣を蒸留
精製して、Ｎ−アセチル−４−ピペリドン７１ｇ（５０
３ミリモル、収率９５％、沸点１２５℃／１．１Ｔｏｒ
ｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．２０
（３Ｈ，ｓ），２．４７（２Ｈ，ｔ），２．５１（２
Ｈ，ｔ），３．７９（２Ｈ，ｔ），３．８８（２Ｈ，
ｔ） マススペクトル ｍ／ｅ：１４１（Ｍ+），１１３（ｂ
ａｓｅ）
−４−ピペリドン１００ｇ（５２８ミリモル）、無水酢
酸５９ｇ（５７８ミリモル）、トルエン９１ｇ、パラジ
ウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）２．５ｇを加え、
水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、４０℃で反応した。水素吸収の
停止までに３０分を要した。反応液を冷却した後、触媒
をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣を蒸留
精製して、Ｎ−アセチル−４−ピペリドン７１ｇ（５０
３ミリモル、収率９５％、沸点１２５℃／１．１Ｔｏｒ
ｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．２０
（３Ｈ，ｓ），２．４７（２Ｈ，ｔ），２．５１（２
Ｈ，ｔ），３．７９（２Ｈ，ｔ），３．８８（２Ｈ，
ｔ） マススペクトル ｍ／ｅ：１４１（Ｍ+），１１３（ｂ
ａｓｅ）
【００２１】実施例２ １リットル電磁攪拌式オートクレーブに、Ｎ−ベンジル
−４−ピペリドン１００ｇ（５２８ミリモル）、酢酸３
２ｇ（５２８ミリモル）を加えた後、無水酢酸５９ｇ
（５７８ミリモル）、トルエン５９ｇ、パラジウム炭素
（パラジウム５ｗｔ％含有）２．５ｇを加え、水素圧５
ｋｇ／ｃｍ2、４０℃で反応した。水素吸収の停止まで
に２０分を要した。その後は実施例１と同様な処理を行
い、Ｎ−アセチル−４−ピペリドン６７ｇ（４７８ミリ
モル、収率９０％）を得た。
−４−ピペリドン１００ｇ（５２８ミリモル）、酢酸３
２ｇ（５２８ミリモル）を加えた後、無水酢酸５９ｇ
（５７８ミリモル）、トルエン５９ｇ、パラジウム炭素
（パラジウム５ｗｔ％含有）２．５ｇを加え、水素圧５
ｋｇ／ｃｍ2、４０℃で反応した。水素吸収の停止まで
に２０分を要した。その後は実施例１と同様な処理を行
い、Ｎ−アセチル−４−ピペリドン６７ｇ（４７８ミリ
モル、収率９０％）を得た。
【００２２】実施例３ ２００ミリリットルオートクレーブに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン７．０ｇ（３７ミリモル）、無水酢酸
４．２ｇ（４１ミリモル）、トルエン６．３ｇ、酢酸パ
ラジウム２１０ｍｇを加え、水素圧６ｋｇ／ｃｍ2、４
０℃で反応した。水素吸収の停止までに５時間を要し
た。その後は実施例１と同様な処理を行い、Ｎ−アセチ
ル−４−ピペリドン５．０ｇ（３５ミリモル、収率９５
％）を得た。
４−ピペリドン７．０ｇ（３７ミリモル）、無水酢酸
４．２ｇ（４１ミリモル）、トルエン６．３ｇ、酢酸パ
ラジウム２１０ｍｇを加え、水素圧６ｋｇ／ｃｍ2、４
０℃で反応した。水素吸収の停止までに５時間を要し
た。その後は実施例１と同様な処理を行い、Ｎ−アセチ
ル−４−ピペリドン５．０ｇ（３５ミリモル、収率９５
％）を得た。
【００２３】実施例４ ２００ミリリットルオートクレーブに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン７．０ｇ（３７ミリモル）、無水酢酸
４．２ｇ（４１ミリモル）、トルエン６．３ｇ、塩化パ
ラジウム２０４ｍｇを加え、水素圧８ｋｇ／ｃｍ2、４
０℃で反応した。水素吸収の停止までに１１時間を要し
た。その後は実施例１と同様な処理を行い、Ｎ−アセチ
ル−４−ピペリドン４．８ｇ（３４ミリモル、収率９２
％）を得た。
４−ピペリドン７．０ｇ（３７ミリモル）、無水酢酸
４．２ｇ（４１ミリモル）、トルエン６．３ｇ、塩化パ
ラジウム２０４ｍｇを加え、水素圧８ｋｇ／ｃｍ2、４
０℃で反応した。水素吸収の停止までに１１時間を要し
た。その後は実施例１と同様な処理を行い、Ｎ−アセチ
ル−４−ピペリドン４．８ｇ（３４ミリモル、収率９２
％）を得た。
【００２４】実施例５ ２００ミリリットルオートクレーブに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン５．０ｇ（２６ミリモル）、無水酢酸
３．０ｇ（２９ミリモル）、トルエン４．５ｇ、パラジ
ウムアルミナ（パラジウム５ｗｔ％含有）２５０ｍｇを
加え、水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、４０℃で反応した。水素
吸収の停止までに３時間を要した。その後は実施例１と
同様な処理を行い、Ｎ−アセチル−４−ピペリドン３．
４ｇ（２４ミリモル、収率９２％）を得た。
４−ピペリドン５．０ｇ（２６ミリモル）、無水酢酸
３．０ｇ（２９ミリモル）、トルエン４．５ｇ、パラジ
ウムアルミナ（パラジウム５ｗｔ％含有）２５０ｍｇを
加え、水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、４０℃で反応した。水素
吸収の停止までに３時間を要した。その後は実施例１と
同様な処理を行い、Ｎ−アセチル−４−ピペリドン３．
４ｇ（２４ミリモル、収率９２％）を得た。
【００２５】実施例６ ２００ミリリットルオートクレーブに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン７．０ｇ（３７ミリモル）、プロピオン
酸無水物７．２ｇ（５５ミリモル）、トルエン５．８
ｇ、パラジウム炭素（パラジウム１０ｗｔ％含有）３５
０ｍｇを加え、水素圧１０ｋｇ／ｃｍ2、４０℃で反応
した。水素吸収の停止までに１．５時間を要した。その
後は実施例１と同様な処理を行い、Ｎ−プロピオニル−
４−ピペリドン５．５ｇ（３５ミリモル、収率９５％、
沸点９３℃／０．１Ｔｏｒｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．２０
（３Ｈ，ｔ），２．４０〜２．５１（６Ｈ，ｍ），３．
７７（２Ｈ，ｔ），３．９０（２Ｈ，ｔ） マススペクトル ｍ／ｅ：１５５（Ｍ+），１２７，１
１２，５７（ｂａｓｅ）
４−ピペリドン７．０ｇ（３７ミリモル）、プロピオン
酸無水物７．２ｇ（５５ミリモル）、トルエン５．８
ｇ、パラジウム炭素（パラジウム１０ｗｔ％含有）３５
０ｍｇを加え、水素圧１０ｋｇ／ｃｍ2、４０℃で反応
した。水素吸収の停止までに１．５時間を要した。その
後は実施例１と同様な処理を行い、Ｎ−プロピオニル−
４−ピペリドン５．５ｇ（３５ミリモル、収率９５％、
沸点９３℃／０．１Ｔｏｒｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．２０
（３Ｈ，ｔ），２．４０〜２．５１（６Ｈ，ｍ），３．
７７（２Ｈ，ｔ），３．９０（２Ｈ，ｔ） マススペクトル ｍ／ｅ：１５５（Ｍ+），１２７，１
１２，５７（ｂａｓｅ）
【００２６】実施例７ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た２００ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン２０ｇ（１０６ミリモル）、イソ酪酸無
水物２２ｇ（１３７ミリモル）、トルエン１５ｇ、パラ
ジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）０．６ｇを加
え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止ま
でに２２時間を要した。その後は実施例１と同様な処理
を行い、Ｎ−イソブチリル−４−ピペリドン１６ｇ（９
５ミリモル、収率９０％、沸点８９℃／０．０８Ｔｏｒ
ｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．１８
（６Ｈ，ｄ），２．４９（４Ｈ，ｔ），２．９０（１
Ｈ，sept），３．８６（４Ｈ，ｂｒ．ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１６９（Ｍ+），１４１，１
２６，１１３，９８（ｂａｓｅ）
た２００ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン２０ｇ（１０６ミリモル）、イソ酪酸無
水物２２ｇ（１３７ミリモル）、トルエン１５ｇ、パラ
ジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）０．６ｇを加
え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止ま
でに２２時間を要した。その後は実施例１と同様な処理
を行い、Ｎ−イソブチリル−４−ピペリドン１６ｇ（９
５ミリモル、収率９０％、沸点８９℃／０．０８Ｔｏｒ
ｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．１８
（６Ｈ，ｄ），２．４９（４Ｈ，ｔ），２．９０（１
Ｈ，sept），３．８６（４Ｈ，ｂｒ．ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１６９（Ｍ+），１４１，１
２６，１１３，９８（ｂａｓｅ）
【００２７】実施例８ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た１００ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン１０ｇ（５３ミリモル）、ピバル酸無水
物１５ｇ（８０ミリモル）、トルエン９ｇ、パラジウム
炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）０．３ｇを加え、水素
圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止までに７２
時間を要した。反応液を冷却した後、触媒をろ過し、エ
バポレーターで溶媒を留去し、残渣をイソプロピルエー
テルとイソプロパノールの混合溶媒（９５／５（Ｖ／
Ｖ））を用いて再結晶による精製を行い、Ｎ−（２，２
−ジメチル−１−オキソプロピル）−４−ピペリドン
７．０ｇ（３８ミリモル、収率７２％、融点９７．３
℃）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．３４
（９Ｈ，ｓ），２．４７（４Ｈ，ｔ），３．９１（４
Ｈ，t） マススペクトル ｍ／ｅ：１８３（Ｍ+），１６８，１
４０，１２６，１１３，５７（ｂａｓｅ）
た１００ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン１０ｇ（５３ミリモル）、ピバル酸無水
物１５ｇ（８０ミリモル）、トルエン９ｇ、パラジウム
炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）０．３ｇを加え、水素
圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止までに７２
時間を要した。反応液を冷却した後、触媒をろ過し、エ
バポレーターで溶媒を留去し、残渣をイソプロピルエー
テルとイソプロパノールの混合溶媒（９５／５（Ｖ／
Ｖ））を用いて再結晶による精製を行い、Ｎ−（２，２
−ジメチル−１−オキソプロピル）−４−ピペリドン
７．０ｇ（３８ミリモル、収率７２％、融点９７．３
℃）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．３４
（９Ｈ，ｓ），２．４７（４Ｈ，ｔ），３．９１（４
Ｈ，t） マススペクトル ｍ／ｅ：１８３（Ｍ+），１６８，１
４０，１２６，１１３，５７（ｂａｓｅ）
【００２８】実施例９ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た１００ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン１０ｇ（５３ミリモル）、ヘキサン酸無
水物１７ｇ（７９ミリモル）、トルエン６ｇ、パラジウ
ム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）０．３ｇを加え、水
素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止までに１
６時間を要した。その後は実施例１と同様な処理を行
い、Ｎ−（１−オキソヘキシル）−４−ピペリドン９．
６ｇ（４９ミリモル、収率９２％、沸点１１５℃／０．
１Ｔｏｒｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９２
（３Ｈ，ｍ），１．３５（４Ｈ，ｍ），１．６８（２
Ｈ，ｍ），２．３８〜２．５１（２Ｈ，ｍ），３．７８
（２Ｈ，ｔ），３．８９（２Ｈ，ｔ） マススペクトル ｍ／ｅ：１９７（Ｍ+），１６８，１
５４，１４１，１２６，１１３（ｂａｓｅ）
た１００ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン１０ｇ（５３ミリモル）、ヘキサン酸無
水物１７ｇ（７９ミリモル）、トルエン６ｇ、パラジウ
ム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）０．３ｇを加え、水
素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止までに１
６時間を要した。その後は実施例１と同様な処理を行
い、Ｎ−（１−オキソヘキシル）−４−ピペリドン９．
６ｇ（４９ミリモル、収率９２％、沸点１１５℃／０．
１Ｔｏｒｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９２
（３Ｈ，ｍ），１．３５（４Ｈ，ｍ），１．６８（２
Ｈ，ｍ），２．３８〜２．５１（２Ｈ，ｍ），３．７８
（２Ｈ，ｔ），３．８９（２Ｈ，ｔ） マススペクトル ｍ／ｅ：１９７（Ｍ+），１６８，１
５４，１４１，１２６，１１３（ｂａｓｅ）
【００２９】実施例１０ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た１００ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン１０ｇ（５３ミリモル）、安息香酸無水
物１８ｇ（７９ミリモル）、トルエン１２ｇ、パラジウ
ム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）０．３ｇを加え、水
素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止までに７
２時間を要した。その後は実施例１と同様な処理を行
い、Ｎ−ベンゾイル−４−ピペリドン８．７ｇ（４３ミ
リモル、収率８１％、沸点１５１℃／０．１５Ｔｏｒ
ｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．５０
（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．８７（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），
７．３８〜７．５２（５Ｈ，ｍ） マススペクトル ｍ／ｅ：２０３（Ｍ+），１７４，１
４６，１０５（ｂａｓｅ）
た１００ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−
４−ピペリドン１０ｇ（５３ミリモル）、安息香酸無水
物１８ｇ（７９ミリモル）、トルエン１２ｇ、パラジウ
ム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）０．３ｇを加え、水
素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止までに７
２時間を要した。その後は実施例１と同様な処理を行
い、Ｎ−ベンゾイル−４−ピペリドン８．７ｇ（４３ミ
リモル、収率８１％、沸点１５１℃／０．１５Ｔｏｒ
ｒ）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．５０
（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．８７（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），
７．３８〜７．５２（５Ｈ，ｍ） マススペクトル ｍ／ｅ：２０３（Ｍ+），１７４，１
４６，１０５（ｂａｓｅ）
【００３０】実施例１１ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た３ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３−
ピペリドン２．０ｇ（１０．６ミリモル）、無水酢酸
１．４ｇ（１３．７ミリモル）、トルエン１．６ｇ、パ
ラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）６０ｍｇを加
え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止ま
で２４時間を要した。反応液を冷却した後、触媒をろ過
し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣をカラムクロ
マトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘキサン＝
１／４（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−アセチル−３−
ピペリドン１．２ｇ（８．５ミリモル、収率８０％）を
得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．９８〜
２．１６（５Ｈ，ｍ），２．５２（２Ｈ，ｔ），３．６
７（１Ｈ，t），３．７５（１Ｈ，ｔ），４．０３（１
Ｈ，ｓ），４．１７（１Ｈ，ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１４１（Ｍ+），１１２，８
５（ｂａｓｅ）
た３ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３−
ピペリドン２．０ｇ（１０．６ミリモル）、無水酢酸
１．４ｇ（１３．７ミリモル）、トルエン１．６ｇ、パ
ラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）６０ｍｇを加
え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止ま
で２４時間を要した。反応液を冷却した後、触媒をろ過
し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣をカラムクロ
マトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘキサン＝
１／４（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−アセチル−３−
ピペリドン１．２ｇ（８．５ミリモル、収率８０％）を
得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．９８〜
２．１６（５Ｈ，ｍ），２．５２（２Ｈ，ｔ），３．６
７（１Ｈ，t），３．７５（１Ｈ，ｔ），４．０３（１
Ｈ，ｓ），４．１７（１Ｈ，ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１４１（Ｍ+），１１２，８
５（ｂａｓｅ）
【００３１】実施例１２ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た３０ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３
−ピペリドン２．０ｇ（１０．６ミリモル）、イソ酪酸
無水物２．２ｇ（１３．７ミリモル）、トルエン２．５
ｇ、パラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）６０ｍ
ｇを加え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の
停止までに４８時間を要した。反応液を冷却した後、触
媒をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘ
キサン＝１／３（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−イソブ
チリル−３−ピペリドン１．３ｇ（７．７ミリモル、収
率７３％）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．１４
（６Ｈ，ｄ），２．０４（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５３
（２Ｈ，t），２．８２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ ｗｉｔｈ
ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ），３．７３（２Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ），
４．１０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）４．１９（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１６９（Ｍ+），１２６，１
１３，７０（ｂａｓｅ）
た３０ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３
−ピペリドン２．０ｇ（１０．６ミリモル）、イソ酪酸
無水物２．２ｇ（１３．７ミリモル）、トルエン２．５
ｇ、パラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）６０ｍ
ｇを加え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の
停止までに４８時間を要した。反応液を冷却した後、触
媒をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘ
キサン＝１／３（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−イソブ
チリル−３−ピペリドン１．３ｇ（７．７ミリモル、収
率７３％）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．１４
（６Ｈ，ｄ），２．０４（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５３
（２Ｈ，t），２．８２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ ｗｉｔｈ
ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ），３．７３（２Ｈ，ｂ
ｒ．ｓ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ），
４．１０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）４．１９（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１６９（Ｍ+），１２６，１
１３，７０（ｂａｓｅ）
【００３２】実施例１３ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た３０ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３
−ピペリドン２．０ｇ（１０．６ミリモル）、ヘキサン
酸無水物２．９ｇ（１３．７ミリモル）、トルエン１．
８ｇ、パラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）６０
ｍｇを加え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収
の停止までに２４時間を要した。反応液を冷却した後、
触媒をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣を
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／
ヘキサン＝１／４（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−（１
−オキソヘキシル）−３−ピペリドン１．９ｇ（９．６
ミリモル、収率９１％）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９０
（３Ｈ，ｔ），１．３２（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），１．６１
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），１．６４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），
２．０３（２Ｈ，ｓｅｐｔ），２．３０（１Ｈ，ｔ），
２．３７（１Ｈ，ｔ），２．５１（２Ｈ，ｔ），３．６
６（１Ｈ，ｔ），３．７５（１Ｈ，ｔ），４．０３（１
Ｈ，ｓ），４．１９（１Ｈ，ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１９７（Ｍ+），１６８，１
５４，１４１，１２６，１１３，７０（ｂａｓｅ）
た３０ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３
−ピペリドン２．０ｇ（１０．６ミリモル）、ヘキサン
酸無水物２．９ｇ（１３．７ミリモル）、トルエン１．
８ｇ、パラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）６０
ｍｇを加え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収
の停止までに２４時間を要した。反応液を冷却した後、
触媒をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣を
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／
ヘキサン＝１／４（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−（１
−オキソヘキシル）−３−ピペリドン１．９ｇ（９．６
ミリモル、収率９１％）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９０
（３Ｈ，ｔ），１．３２（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），１．６１
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），１．６４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），
２．０３（２Ｈ，ｓｅｐｔ），２．３０（１Ｈ，ｔ），
２．３７（１Ｈ，ｔ），２．５１（２Ｈ，ｔ），３．６
６（１Ｈ，ｔ），３．７５（１Ｈ，ｔ），４．０３（１
Ｈ，ｓ），４．１９（１Ｈ，ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１９７（Ｍ+），１６８，１
５４，１４１，１２６，１１３，７０（ｂａｓｅ）
【００３３】実施例１４ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た３０ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３
−ピロリドン１．０ｇ（５．７ミリモル）、無水酢酸
０．７ｇ（６．９ミリモル）、トルエン０．８ｇ、パラ
ジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）３０ｍｇを加
え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止ま
でに２０時間を要した。反応液を冷却した後、触媒をろ
過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣をカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘキサン
＝１／４（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−アセチル−３
−ピロリドン０．６ｇ（４．７ミリモル、収率８２％）
を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．０９
（１．５Ｈ，ｓ），２．１１（１．５Ｈ，ｓ），２．６
４（１Ｈ，t），２．７３（１Ｈ，ｔ），３．８６〜
３．９８（４Ｈ，ｍ），４．１７（１Ｈ，ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１２７（Ｍ+），９９，５７
（ｂａｓｅ）
た３０ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３
−ピロリドン１．０ｇ（５．７ミリモル）、無水酢酸
０．７ｇ（６．９ミリモル）、トルエン０．８ｇ、パラ
ジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）３０ｍｇを加
え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の停止ま
でに２０時間を要した。反応液を冷却した後、触媒をろ
過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣をカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘキサン
＝１／４（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−アセチル−３
−ピロリドン０．６ｇ（４．７ミリモル、収率８２％）
を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．０９
（１．５Ｈ，ｓ），２．１１（１．５Ｈ，ｓ），２．６
４（１Ｈ，t），２．７３（１Ｈ，ｔ），３．８６〜
３．９８（４Ｈ，ｍ），４．１７（１Ｈ，ｓ） マススペクトル ｍ／ｅ：１２７（Ｍ+），９９，５７
（ｂａｓｅ）
【００３４】実施例１５ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た３０ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３
−ピロリドン２．０ｇ（１１．４ミリモル）、イソ酪酸
無水物２．３ｇ（１４．３ミリモル）、トルエン１．５
ｇ、パラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）１００
ｍｇを加え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収
の停止までに４８時間を要した。反応液を冷却した後、
触媒をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣を
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／
ヘキサン＝１／３（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−イソ
ブチリル−３−ピロリドン１．３ｇ（８．４ミリモル、
収率７４％）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．１５
（３Ｈ，ｄ），１．１７（３Ｈ，ｄ），２．５３〜２．
８２（３Ｈ，ｍ），３．８９〜４．０２（４Ｈ，ｍ） マススペクトル ｍ／ｅ：１５５（Ｍ+），１４０，１
２７，５７（ｂａｓｅ）
た３０ミリリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３
−ピロリドン２．０ｇ（１１．４ミリモル）、イソ酪酸
無水物２．３ｇ（１４．３ミリモル）、トルエン１．５
ｇ、パラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）１００
ｍｇを加え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収
の停止までに４８時間を要した。反応液を冷却した後、
触媒をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣を
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／
ヘキサン＝１／３（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−イソ
ブチリル−３−ピロリドン１．３ｇ（８．４ミリモル、
収率７４％）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．１５
（３Ｈ，ｄ），１．１７（３Ｈ，ｄ），２．５３〜２．
８２（３Ｈ，ｍ），３．８９〜４．０２（４Ｈ，ｍ） マススペクトル ｍ／ｅ：１５５（Ｍ+），１４０，１
２７，５７（ｂａｓｅ）
【００３５】実施例１６ マグネチックスターラー、冷却管、温度計、風船を備え
た３０ｍリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３−
ピロリドン２．０ｇ（１１．４ミリモル）、ヘキサン酸
無水物３．１ｇ（１４．３ミリモル）、トルエン１．６
ｇ、パラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）６０ｍ
ｇを加え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の
停止まで２４時間を要した。反応液を冷却した後、触媒
をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣をカラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘキ
サン＝１／４（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−（１−オ
キソヘキシル）−３−ピロリドン１．７ｇ（９．３ミリ
モル、収率８２％）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．８９〜
０．９４（３Ｈ，ｍ），１．２６〜１．３８（４Ｈ，
ｍ），１．６７（２Ｈ，ｂｒ．ｓ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ
ｃｏｕｐｌｉｎｇ），２．２２〜２．４０（２Ｈ，
ｍ），２．５６〜２．７６（２Ｈ，ｍ），３．８９〜
３．９７（４Ｈ，ｍ） マススペクトル ｍ／ｅ：１８３（Ｍ+），１５４，１
４０，１２７，１１２，５７（ｂａｓｅ）
た３０ｍリットル反応フラスコに、Ｎ−ベンジル−３−
ピロリドン２．０ｇ（１１．４ミリモル）、ヘキサン酸
無水物３．１ｇ（１４．３ミリモル）、トルエン１．６
ｇ、パラジウム炭素（パラジウム５ｗｔ％含有）６０ｍ
ｇを加え、水素圧常圧、室温下で反応した。水素吸収の
停止まで２４時間を要した。反応液を冷却した後、触媒
をろ過し、エバポレーターで溶媒を留去し、残渣をカラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘキ
サン＝１／４（Ｖ／Ｖ））により精製し、Ｎ−（１−オ
キソヘキシル）−３−ピロリドン１．７ｇ（９．３ミリ
モル、収率８２％）を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．８９〜
０．９４（３Ｈ，ｍ），１．２６〜１．３８（４Ｈ，
ｍ），１．６７（２Ｈ，ｂｒ．ｓ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ
ｃｏｕｐｌｉｎｇ），２．２２〜２．４０（２Ｈ，
ｍ），２．５６〜２．７６（２Ｈ，ｍ），３．８９〜
３．９７（４Ｈ，ｍ） マススペクトル ｍ／ｅ：１８３（Ｍ+），１５４，１
４０，１２７，１１２，５７（ｂａｓｅ）
【００３６】
【発明の効果】本発明により、医薬品・農薬の原料又は
中間体として有用なＮ−アシル−４−ピペリドン、Ｎ−
アシル−３−ピペリドン又はＮ−アシル−３−ピロリド
ンを対応するＮ−ベンジル体からワンポットで簡便にか
つ収率よく製造できる新規な製造方法を提供できた。
中間体として有用なＮ−アシル−４−ピペリドン、Ｎ−
アシル−３−ピペリドン又はＮ−アシル−３−ピロリド
ンを対応するＮ−ベンジル体からワンポットで簡便にか
つ収率よく製造できる新規な製造方法を提供できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 で示されるＮ−ベンジル含窒素環状ケトン類と一般式
（２） 【化２】 （式中、Ｒはアルキル基又はアリール基を表す）で示さ
れる酸無水物とを水素供与体の存在下で反応させること
により一般式（３） 【化３】 （式中、ＡとＲは前記と同一）で示されるＮ−アシル含
窒素環状ケトン類を得ることを特徴とするＮ−アシル含
窒素環状ケトン類の製造方法。 - 【請求項２】 一般式（１） 【化４】 で示されるＮ−ベンジル含窒素環状ケトン類と一般式
（２） 【化５】 （式中、Ｒはアルキル基又はアリール基を表す）で示さ
れる酸無水物とを、水素およびパラジウム触媒の存在下
で反応させることにより一般式（３） 【化６】 （式中、ＡとＲは前記と同一）で示されるＮ−アシル含
窒素環状ケトン類を得ることを特徴とするＮ−アシル含
窒素環状ケトン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32361596A JP4066100B2 (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | Ｎ−アシル含窒素環状ケトン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32361596A JP4066100B2 (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | Ｎ−アシル含窒素環状ケトン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10147571A true JPH10147571A (ja) | 1998-06-02 |
| JP4066100B2 JP4066100B2 (ja) | 2008-03-26 |
Family
ID=18156714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32361596A Expired - Lifetime JP4066100B2 (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | Ｎ−アシル含窒素環状ケトン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4066100B2 (ja) |
-
1996
- 1996-11-19 JP JP32361596A patent/JP4066100B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4066100B2 (ja) | 2008-03-26 |
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