JPH10148941A - 平版印刷版 - Google Patents
平版印刷版Info
- Publication number
- JPH10148941A JPH10148941A JP9313972A JP31397297A JPH10148941A JP H10148941 A JPH10148941 A JP H10148941A JP 9313972 A JP9313972 A JP 9313972A JP 31397297 A JP31397297 A JP 31397297A JP H10148941 A JPH10148941 A JP H10148941A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- polymer
- printing plate
- silicone
- printing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 85
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 54
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 83
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 24
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 abstract description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 93
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 34
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 27
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 22
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 14
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 14
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 12
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 8
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 8
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 7
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 7
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 7
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 7
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 206010057040 Temperature intolerance Diseases 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 230000008543 heat sensitivity Effects 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- WWCSTJWKTAXUGJ-UHFFFAOYSA-N 1943-97-1 Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C(C2C3CCC2)CC3C1 WWCSTJWKTAXUGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SSIZLKDLDKIHEV-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromophenol Chemical compound OC1=C(Br)C=CC=C1Br SSIZLKDLDKIHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYPYTERUKNKOLP-UHFFFAOYSA-N Tetrachlorobisphenol A Chemical compound C=1C(Cl)=C(O)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Cl)=C(O)C(Cl)=C1 KYPYTERUKNKOLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- 229920000359 diblock copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Natural products O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 2
- 238000004093 laser heating Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 2
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XZIDTOHMJBOSOX-UHFFFAOYSA-N 2,3,6-TBA Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C=CC(Cl)=C1Cl XZIDTOHMJBOSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetrakis(ethenyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical class C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-methylene-bis-(2-chloroaniline) Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C(Cl)=C1 IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHJPEPMMKXNBKV-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1,3,2-dioxasilolane Chemical compound CC1(C)CO[SiH2]O1 BHJPEPMMKXNBKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- UUAGPGQUHZVJBQ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A bis(2-hydroxyethyl)ether Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCCO)C=C1 UUAGPGQUHZVJBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005698 Diels-Alder reaction Methods 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- FSCIDASGDAWVED-UHFFFAOYSA-N dimethyl hexanedioate;dimethyl pentanedioate Chemical compound COC(=O)CCCC(=O)OC.COC(=O)CCCCC(=O)OC FSCIDASGDAWVED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- XJRAOMZCVTUHFI-UHFFFAOYSA-N isocyanic acid;methane Chemical compound C.N=C=O.N=C=O XJRAOMZCVTUHFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000002918 oxazolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000002081 peroxide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ZWLUXSQADUDCSB-UHFFFAOYSA-N phthalaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1C=O ZWLUXSQADUDCSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N polynoxylin Chemical compound O=C.NC(N)=O ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/003—Printing plates or foils; Materials therefor with ink abhesive means or abhesive forming means, such as abhesive siloxane or fluoro compounds, e.g. for dry lithographic printing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1041—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/16—Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/145—Infrared
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 版作成時に追加処理もしくはワイピングを必
要としない耐久性のある平版印刷版を提供する。 【解決手段】 インク受容基体、及び 一般構造: −H−S− (上記式中、Sは、4000を超える分子量を有し、前
記ポリマーの50〜98重量%を構成するシリコーンセ
グメントであり、Hは、塗布されたフィルムに物理的な
結合性を与える非シリコーンポリマー由来のセグメント
である)を有するポリマーを含むフィルムを構成する前
記基体の上に位置する層を含んでなるレーザーによって
直接画像形成可能な平版印刷版。
要としない耐久性のある平版印刷版を提供する。 【解決手段】 インク受容基体、及び 一般構造: −H−S− (上記式中、Sは、4000を超える分子量を有し、前
記ポリマーの50〜98重量%を構成するシリコーンセ
グメントであり、Hは、塗布されたフィルムに物理的な
結合性を与える非シリコーンポリマー由来のセグメント
である)を有するポリマーを含むフィルムを構成する前
記基体の上に位置する層を含んでなるレーザーによって
直接画像形成可能な平版印刷版。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はデジタル平版印刷、
及び液体処理及びワイピングを必要とせず、オンプレス
(on press)もしくはオフプレス(off press )画像形
成に適した平版印刷版を作成する方法に関する。
及び液体処理及びワイピングを必要とせず、オンプレス
(on press)もしくはオフプレス(off press )画像形
成に適した平版印刷版を作成する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】乾式平版印刷、もしくは無水式印刷は平
版オフセット印刷の分野では周知であり、従来のオフセ
ット印刷と比較していくつかの利点を有している。乾式
平版印刷は、少ない印刷及びオンプレス用途にとくに適
している。ファウンテン溶液及び水の送り出し系統を除
くことによって印刷機設計を単純にする。慎重なインク
と水のバランスは不必要であるので、ロールアップ時間
を短くし、材料廃棄物を少なくする。シリコーンラバー
(例えば、ポリジメチルシロキサン及びポリシロキサン
類の他の誘導体)の使用が、好ましい無水式インク忌避
材料として長い間認められている。
版オフセット印刷の分野では周知であり、従来のオフセ
ット印刷と比較していくつかの利点を有している。乾式
平版印刷は、少ない印刷及びオンプレス用途にとくに適
している。ファウンテン溶液及び水の送り出し系統を除
くことによって印刷機設計を単純にする。慎重なインク
と水のバランスは不必要であるので、ロールアップ時間
を短くし、材料廃棄物を少なくする。シリコーンラバー
(例えば、ポリジメチルシロキサン及びポリシロキサン
類の他の誘導体)の使用が、好ましい無水式インク忌避
材料として長い間認められている。
【0003】無水式平版印刷及びポリシロキサンのイン
ク忌避特性は、Xerox Corporationの研究員によるTAGA
Proceeding (120 頁、177 頁、及び195 頁、1975年及
び174 頁、1976年)において広く検討されている。おも
しろいことに、低表面エネルギーに加えて長鎖アルカン
インク溶剤において膨潤する能力(即ち、その「親油」
性)が、シリコーンの優れたインクリリース特性である
と推断されている(平版印刷の技術分野では、オイル系
インクをリリースもしくは忌避する物質を一般的に「疎
油」性を有するということに留意されたい)。無水式印
刷版を調製する基本的な方法は、下にあるインク受容面
を露出させるためのシリコーンの像様除去を要する。
ク忌避特性は、Xerox Corporationの研究員によるTAGA
Proceeding (120 頁、177 頁、及び195 頁、1975年及
び174 頁、1976年)において広く検討されている。おも
しろいことに、低表面エネルギーに加えて長鎖アルカン
インク溶剤において膨潤する能力(即ち、その「親油」
性)が、シリコーンの優れたインクリリース特性である
と推断されている(平版印刷の技術分野では、オイル系
インクをリリースもしくは忌避する物質を一般的に「疎
油」性を有するということに留意されたい)。無水式印
刷版を調製する基本的な方法は、下にあるインク受容面
を露出させるためのシリコーンの像様除去を要する。
【0004】例えば、米国特許第3,677,178号
明細書には、次にシリコーンゴムでオーバーコートされ
るジアゾ層でオーバーコートされたフレキシブル基板か
らなる無水式平版オフセット印刷版が開示されている。
この印刷版をマスクを通して化学線に露光し、露光量域
を不溶性にするジアゾ層の反応を開始する。露光後、こ
の印刷版を、水及び湿潤剤を含有する綿パッドでふいて
露光されない塗膜領域を除くことによって現像した。吸
収性層を提供することにより赤外レーザーを用いて平版
印刷版を作成できたことが直ちに認められた。
明細書には、次にシリコーンゴムでオーバーコートされ
るジアゾ層でオーバーコートされたフレキシブル基板か
らなる無水式平版オフセット印刷版が開示されている。
この印刷版をマスクを通して化学線に露光し、露光量域
を不溶性にするジアゾ層の反応を開始する。露光後、こ
の印刷版を、水及び湿潤剤を含有する綿パッドでふいて
露光されない塗膜領域を除くことによって現像した。吸
収性層を提供することにより赤外レーザーを用いて平版
印刷版を作成できたことが直ちに認められた。
【0005】カナダ国特許第1,050,805号に
は、インク受容基体、上に位置するシリコーンラバー
層、並びに自己酸化バインダー(例えば、ニトロセルロ
ース)中のレーザーエネルギー吸収粒子(例えば、炭素
粒子)及びオプションの架橋性樹脂を含む介在層を含ん
でなる乾式平版印刷版が開示されている。この版をNd
++YAGレーザーを用いて集束した近IR線に曝露し
た。吸収性層が赤外エネルギーを熱に変換するので、吸
収性層及びその上に位置するシリコーンラバーを部分的
に、バラバラにするか、蒸発させるか、崩壊させた。ナ
フサ溶剤を塗布して露光された画像領域から破壊屑を除
いて、この印刷版を現像した。必要に応じて、未露光領
域を架橋してバックグラウンドシリコーン層の接着性を
改良することができた。
は、インク受容基体、上に位置するシリコーンラバー
層、並びに自己酸化バインダー(例えば、ニトロセルロ
ース)中のレーザーエネルギー吸収粒子(例えば、炭素
粒子)及びオプションの架橋性樹脂を含む介在層を含ん
でなる乾式平版印刷版が開示されている。この版をNd
++YAGレーザーを用いて集束した近IR線に曝露し
た。吸収性層が赤外エネルギーを熱に変換するので、吸
収性層及びその上に位置するシリコーンラバーを部分的
に、バラバラにするか、蒸発させるか、崩壊させた。ナ
フサ溶剤を塗布して露光された画像領域から破壊屑を除
いて、この印刷版を現像した。必要に応じて、未露光領
域を架橋してバックグラウンドシリコーン層の接着性を
改良することができた。
【0006】1980年のリサーチディスクロージャー1920
1 「乾式平版印刷版作成の方法及び材料」には、乾式平
版印刷のいくつかの類似の態様が記載されている。L. L
eenders 及び H. PeetersのAgfa-Gevaertには、シリコ
ーンラバーオーバーコートされた層の除去を促進するた
めに、レーザー線を吸収する適当な真空蒸着金属層、例
えば、Bi、Te、Ge、In、Pb、及びTiもしく
は他の合金を用いることが記載されている。ヘキサンを
用いて濡らし、こすることによって、これらの印刷版を
現像する。シリコーン層をアブレートするためにCO2
レーザーを用いる実験が、N. Nechiporenko 及びN. Mar
kovaのUSSR Research Institute for Comprex Problems
in Graphic Arts, 「レーザービームをコントロールす
ることによる無水式オフセット版を作成する直接方法」
に記載されている。最近の国際特許出願、WO94/1
8005号公報には、乾式平版印刷版を現像するための
乾燥綿パッドもしくは不溶剤ワイピングの使用が開示さ
れている。
1 「乾式平版印刷版作成の方法及び材料」には、乾式平
版印刷のいくつかの類似の態様が記載されている。L. L
eenders 及び H. PeetersのAgfa-Gevaertには、シリコ
ーンラバーオーバーコートされた層の除去を促進するた
めに、レーザー線を吸収する適当な真空蒸着金属層、例
えば、Bi、Te、Ge、In、Pb、及びTiもしく
は他の合金を用いることが記載されている。ヘキサンを
用いて濡らし、こすることによって、これらの印刷版を
現像する。シリコーン層をアブレートするためにCO2
レーザーを用いる実験が、N. Nechiporenko 及びN. Mar
kovaのUSSR Research Institute for Comprex Problems
in Graphic Arts, 「レーザービームをコントロールす
ることによる無水式オフセット版を作成する直接方法」
に記載されている。最近の国際特許出願、WO94/1
8005号公報には、乾式平版印刷版を現像するための
乾燥綿パッドもしくは不溶剤ワイピングの使用が開示さ
れている。
【0007】印刷時に直接画像形成することもよく知ら
れている。この場合、印刷版は、各層が異なるインク親
和性を有する層構造を有し、印刷時に、印刷液体をアブ
レーティブ吸収に曝して印刷可能な平版印刷面を形成す
る。例えば、米国特許第4,718,340号明細書に
は、印刷時に疎油性層を像様にアブレートして、レーザ
ーを包含するいずれの適合するエネルギー手段を用いて
親水性層を露出させる方法が記載されている。乾式平版
印刷版のオンプレス画像形成は、例えば、WO92/0
7716にも開示されている。この場合、シリコーンラ
バー層が支持体上の吸収性層の上に塗布されており、印
刷時に赤外ダイオードレーザーで露光される。印刷時に
版を直接処理すると、段取り時間を短縮し、費用を低減
し、再現性がよい。
れている。この場合、印刷版は、各層が異なるインク親
和性を有する層構造を有し、印刷時に、印刷液体をアブ
レーティブ吸収に曝して印刷可能な平版印刷面を形成す
る。例えば、米国特許第4,718,340号明細書に
は、印刷時に疎油性層を像様にアブレートして、レーザ
ーを包含するいずれの適合するエネルギー手段を用いて
親水性層を露出させる方法が記載されている。乾式平版
印刷版のオンプレス画像形成は、例えば、WO92/0
7716にも開示されている。この場合、シリコーンラ
バー層が支持体上の吸収性層の上に塗布されており、印
刷時に赤外ダイオードレーザーで露光される。印刷時に
版を直接処理すると、段取り時間を短縮し、費用を低減
し、再現性がよい。
【0008】最近、T. E. Lewis 等のPresstekには、乾
式平版印刷のいくつかの改良点が開示されている。米国
特許第5,310,869号明細書には、コーティング
及び架橋を促進する2分子量範囲のポリシロキサンの配
合物が開示されている。米国特許第5,339,737
号明細書には、挿入された吸収性層だけがアブレーティ
ブ吸収を受ける印刷部材が開示されている。米国特許第
5,385,092号明細書には、ポリシロキサン表面
層及び一つの層が「画像形成する輻射線のアブレーティ
ブ吸収によって特徴づけられている」挿入されているイ
ンク受容層に基づいた平版印刷版を画像形成する装置並
びに方法が開示されている。米国特許第5,351,6
17号、同5,353,705号、及び同5,355,
795号明細書のような別の特許明細書は、種々の層構
造、方法及び印刷構成に関する。
式平版印刷のいくつかの改良点が開示されている。米国
特許第5,310,869号明細書には、コーティング
及び架橋を促進する2分子量範囲のポリシロキサンの配
合物が開示されている。米国特許第5,339,737
号明細書には、挿入された吸収性層だけがアブレーティ
ブ吸収を受ける印刷部材が開示されている。米国特許第
5,385,092号明細書には、ポリシロキサン表面
層及び一つの層が「画像形成する輻射線のアブレーティ
ブ吸収によって特徴づけられている」挿入されているイ
ンク受容層に基づいた平版印刷版を画像形成する装置並
びに方法が開示されている。米国特許第5,351,6
17号、同5,353,705号、及び同5,355,
795号明細書のような別の特許明細書は、種々の層構
造、方法及び印刷構成に関する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記例の全てにおい
て、ワイピングを含んだ現像工程を用いて露光後にシリ
コーンラバーを除去する補助が必要であった。矛盾する
問題点は、熱による除去の容易性を維持すると同時に、
長期印刷のための耐摩耗性のシリコーン層を有すること
が必要であるということである。熱的に安定な結合を介
した架橋は相対的に強い層を生じるが、熱画像形成を困
難にする。シリコーン屑は、支持体及びバックグラウン
ド領域にくっつくので、物理的にふき取らねばならな
い。ワイピングは、自動クリーニング機構を用いて全て
の浮遊物質を再現的に除くことの困難性、及び手もしく
は自動クリーニング機構によってふき取る場合の印刷版
のスクラッチに対する感受性を含むいくつかの欠点を有
する。
て、ワイピングを含んだ現像工程を用いて露光後にシリ
コーンラバーを除去する補助が必要であった。矛盾する
問題点は、熱による除去の容易性を維持すると同時に、
長期印刷のための耐摩耗性のシリコーン層を有すること
が必要であるということである。熱的に安定な結合を介
した架橋は相対的に強い層を生じるが、熱画像形成を困
難にする。シリコーン屑は、支持体及びバックグラウン
ド領域にくっつくので、物理的にふき取らねばならな
い。ワイピングは、自動クリーニング機構を用いて全て
の浮遊物質を再現的に除くことの困難性、及び手もしく
は自動クリーニング機構によってふき取る場合の印刷版
のスクラッチに対する感受性を含むいくつかの欠点を有
する。
【0010】シロキサン及び結晶化熱可塑性ブロックの
コポリマーを用いて乾式平版印刷版を調製する方法が開
示されている。米国特許第4,096,294号明細書
には、シロキサン及び熱可塑性ブロックコポリマーを含
んでなるインク忌避受容面にトナー粒子を転写すること
を含む方法が記載されている。熱可塑性相を加熱して受
容面に対するインク受容性トナー粒子の接着性を改良す
る。この方法は、電子写真トナーベースシステムの複雑
性の欠点を有し、直接熱画像形成の優れた解像度特性を
持たない。これらが本発明が解決する問題点である。
コポリマーを用いて乾式平版印刷版を調製する方法が開
示されている。米国特許第4,096,294号明細書
には、シロキサン及び熱可塑性ブロックコポリマーを含
んでなるインク忌避受容面にトナー粒子を転写すること
を含む方法が記載されている。熱可塑性相を加熱して受
容面に対するインク受容性トナー粒子の接着性を改良す
る。この方法は、電子写真トナーベースシステムの複雑
性の欠点を有し、直接熱画像形成の優れた解像度特性を
持たない。これらが本発明が解決する問題点である。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、従来の乾式平
版印刷システムを超えるいくつかの利点を有する。本発
明は相対的に低い露光を必要とする。さらに、機械的な
ワイピング、もしくは液体による洗浄は必要でない。こ
れにより印刷面を傷つけるか侵食する傾向を大きく低減
する。
版印刷システムを超えるいくつかの利点を有する。本発
明は相対的に低い露光を必要とする。さらに、機械的な
ワイピング、もしくは液体による洗浄は必要でない。こ
れにより印刷面を傷つけるか侵食する傾向を大きく低減
する。
【0012】本発明は、その上に少なくとも一つの層を
有する支持体を含んでなり、前記層(複数でもよい)
は、二つの必須の成分を含み、そして一般構造: −H−S− (上記式中、H及びSは以下に記載され、本来的にお互
いに結合されていてもよく、もしくは以下に記載する基
Xで結合されていてもよい)を有するコポリマーを含有
し、そして同じ層を含む少なくとも一つの層もしくは前
記支持体はレーザー輻射線を強く吸収する。この支持体
は、金属ポリマーフィルムもしくは紙を含む自立型材料
となることができる。
有する支持体を含んでなり、前記層(複数でもよい)
は、二つの必須の成分を含み、そして一般構造: −H−S− (上記式中、H及びSは以下に記載され、本来的にお互
いに結合されていてもよく、もしくは以下に記載する基
Xで結合されていてもよい)を有するコポリマーを含有
し、そして同じ層を含む少なくとも一つの層もしくは前
記支持体はレーザー輻射線を強く吸収する。この支持体
は、金属ポリマーフィルムもしくは紙を含む自立型材料
となることができる。
【0013】吸収性を、色素、顔料、濃縮顔料、半導体
物質、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物もしくはそ
れらの物質の組合せによって与えることができる。レー
ザーによって直接画像形成可能となるためには、レーザ
ー強度、露光時間及び吸収強度の組合せが、加熱、並び
にこれによる少なくとも一つの塗布層を除去、部分除去
もしくは分解するのに十分であることが必要なだけであ
る。
物質、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物もしくはそ
れらの物質の組合せによって与えることができる。レー
ザーによって直接画像形成可能となるためには、レーザ
ー強度、露光時間及び吸収強度の組合せが、加熱、並び
にこれによる少なくとも一つの塗布層を除去、部分除去
もしくは分解するのに十分であることが必要なだけであ
る。
【0014】除去が完全でない場合、少なくともトップ
層がバックグラウンド領域においてそのままであって、
通常の印刷条件下でトップ層(複数でもよい)が除去さ
れる程度に露光することによって、トップ層の分解を促
進すれば十分である。吸収材料をトップ層それ自体、ト
ップ層と支持体との間に挿入された別の層、支持体、も
しくは任意の組合せの層に含ませることができる。トッ
プ層と支持体との間、もしくはトップ層と挿入された層
との間、又は挿入された層と支持体との間に接着促進層
を挿入することができる。蒸着金属のようなレーザー反
射層を、吸収性層と支持体との間、もしくは支持体が透
明で露光が支持体の後ろからである場合は、透明支持体
吸収性層及びトップ層の後ろに組み入れることができ
る。
層がバックグラウンド領域においてそのままであって、
通常の印刷条件下でトップ層(複数でもよい)が除去さ
れる程度に露光することによって、トップ層の分解を促
進すれば十分である。吸収材料をトップ層それ自体、ト
ップ層と支持体との間に挿入された別の層、支持体、も
しくは任意の組合せの層に含ませることができる。トッ
プ層と支持体との間、もしくはトップ層と挿入された層
との間、又は挿入された層と支持体との間に接着促進層
を挿入することができる。蒸着金属のようなレーザー反
射層を、吸収性層と支持体との間、もしくは支持体が透
明で露光が支持体の後ろからである場合は、透明支持体
吸収性層及びトップ層の後ろに組み入れることができ
る。
【0015】例えば、米国特許第5,244,770号
明細書に記載されているような反射防止層を、吸収性層
の曝される側の吸収性層の界面のところに組み入れるこ
とができる。上記層を支持体に塗布してその後露光装置
に置くか、露光装置において支持体にスプレー、ペイン
トもしくは塗布することができる。露光装置を印刷機に
組み込んで、色見当においてインプレションシリンダー
上に画像形成された版を作成することができる。もしく
は露光装置をスタンドアロンの装置に組み込むことがで
きる。
明細書に記載されているような反射防止層を、吸収性層
の曝される側の吸収性層の界面のところに組み入れるこ
とができる。上記層を支持体に塗布してその後露光装置
に置くか、露光装置において支持体にスプレー、ペイン
トもしくは塗布することができる。露光装置を印刷機に
組み込んで、色見当においてインプレションシリンダー
上に画像形成された版を作成することができる。もしく
は露光装置をスタンドアロンの装置に組み込むことがで
きる。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明の印刷部材と組み合わせて
用いるのに適した画像形成装置は、最大の印刷版レスポ
ンスの範囲に放射する少なくとも一つのレーザー装置、
即ち、λmaxが印刷版が最も強く吸収する波長範囲にぴ
ったりと近接するものを含む。近IR範囲に放射するレ
ーザーの説明は、米国特許第5,339,737号明細
書に十分に記載されており、電磁スペクトルの他の領域
に放射するレーザーは当業者には周知である。
用いるのに適した画像形成装置は、最大の印刷版レスポ
ンスの範囲に放射する少なくとも一つのレーザー装置、
即ち、λmaxが印刷版が最も強く吸収する波長範囲にぴ
ったりと近接するものを含む。近IR範囲に放射するレ
ーザーの説明は、米国特許第5,339,737号明細
書に十分に記載されており、電磁スペクトルの他の領域
に放射するレーザーは当業者には周知である。
【0017】適合する画像形成構成も米国特許第5,3
39,737号明細書に記載されている。簡単に言う
と、レンズもしくは他のビームガイド部品を介して、レ
ーザー出力を直接版面に提供するか、ファーバー光学ケ
ーブルを用いて、遠隔に設置されたレーザーからブラン
ク印刷面に送る。コントローラー及び一緒に配置された
ハードウェアにより、版面に対して正確な方向にビーム
出力を維持し、面全体にアウトプットを走査し、版の選
択された点もしくは領域に隣接する位置でレーザーを活
性化する。コントローラーは、オリジナルの正確なネガ
もしくはポジ像を生成するために、版上に複製するオリ
ジナルのドキュメントもしくは絵に対応する入力画像信
号に応答する。この画像信号をビットマップデータファ
イルとしてコンピュータに保存する。そのようなファイ
ルをラスター像プロセッサ(RIP)もしくは他の適当
な手段で作成してもよい。例えば、RIPは、ページ記
述言語(印刷版上に転写されるのに必要な特徴を全て規
定する)もしくはページ記述言語と一つ以上の画像デー
タファイルとの組合せのインプットデータを受け入れる
ことができる。ビットマップは、色の色相並びにスクリ
ーン周波数及び角度を規定するために構成されている。
39,737号明細書に記載されている。簡単に言う
と、レンズもしくは他のビームガイド部品を介して、レ
ーザー出力を直接版面に提供するか、ファーバー光学ケ
ーブルを用いて、遠隔に設置されたレーザーからブラン
ク印刷面に送る。コントローラー及び一緒に配置された
ハードウェアにより、版面に対して正確な方向にビーム
出力を維持し、面全体にアウトプットを走査し、版の選
択された点もしくは領域に隣接する位置でレーザーを活
性化する。コントローラーは、オリジナルの正確なネガ
もしくはポジ像を生成するために、版上に複製するオリ
ジナルのドキュメントもしくは絵に対応する入力画像信
号に応答する。この画像信号をビットマップデータファ
イルとしてコンピュータに保存する。そのようなファイ
ルをラスター像プロセッサ(RIP)もしくは他の適当
な手段で作成してもよい。例えば、RIPは、ページ記
述言語(印刷版上に転写されるのに必要な特徴を全て規
定する)もしくはページ記述言語と一つ以上の画像デー
タファイルとの組合せのインプットデータを受け入れる
ことができる。ビットマップは、色の色相並びにスクリ
ーン周波数及び角度を規定するために構成されている。
【0018】画像形成装置それ自体を操作して単独の版
作成機として機能でき、もしくは平版印刷機に直接組み
入れることができる。後者の場合では、ブランクの版に
画像を適用した直後に印刷を行ってもよく、それによっ
て印刷機のセットアップタイムがかなり低減される。画
像形成装置を、平板式レコーダー又はドラムの内部もし
くは外部円筒面に取り付けた平版印刷版ブランクを有す
るドラムレコーダーとして構成できる。明らかに、外部
ドラム設計が平版印刷時の現場での使用により適し、そ
の場合、印刷シリンダーそれ自体がレコーダーもしくは
プロッタのドラム部品を構成する。
作成機として機能でき、もしくは平版印刷機に直接組み
入れることができる。後者の場合では、ブランクの版に
画像を適用した直後に印刷を行ってもよく、それによっ
て印刷機のセットアップタイムがかなり低減される。画
像形成装置を、平板式レコーダー又はドラムの内部もし
くは外部円筒面に取り付けた平版印刷版ブランクを有す
るドラムレコーダーとして構成できる。明らかに、外部
ドラム設計が平版印刷時の現場での使用により適し、そ
の場合、印刷シリンダーそれ自体がレコーダーもしくは
プロッタのドラム部品を構成する。
【0019】ドラム構成では、レーザービームと版との
間の必要な相対運動を、その軸方向についてドラム(及
びその上に取り付けられた版)を回転し、回転軸に対し
て平行にビームを移動し、それによって画像が軸方向に
成長するように、円周方向に版を走査することによって
達成する。あるいは、ビームは、ドラム軸そして版を横
切る各パス後の角変位の増分に対して平行に移動するこ
とができ、その結果版上の画像が円周方向に成長する。
両方の場合とも、ビームによる走査完了後、オリジナル
のドキュメントもしくは絵に対応する像(ポジもしくは
ネガ)が版の面に適用される。
間の必要な相対運動を、その軸方向についてドラム(及
びその上に取り付けられた版)を回転し、回転軸に対し
て平行にビームを移動し、それによって画像が軸方向に
成長するように、円周方向に版を走査することによって
達成する。あるいは、ビームは、ドラム軸そして版を横
切る各パス後の角変位の増分に対して平行に移動するこ
とができ、その結果版上の画像が円周方向に成長する。
両方の場合とも、ビームによる走査完了後、オリジナル
のドキュメントもしくは絵に対応する像(ポジもしくは
ネガ)が版の面に適用される。
【0020】平板式構成では、ビームを版のどちらかの
軸を横切って引き、各パス後他方の軸に沿ってインデッ
クスをつける。もちろん、ビームと版との間の必要な相
対運動は、ビームの運動よりもよりもむしろ(もしくは
ビームの運動に追加して)版の運動によって作られる。
ビームを走査する方法に関係なく、単独の書込アレイに
対して複数のレーザー及びその出力のガイドを用いるの
が(印刷用途では)好ましい。そして、書込アレイが指
標付けられ、版を横切るかもしくは版に沿った各パスの
完了後、距離が、アレイから出るビームの数及び所望の
解像度(即ち、単位長当たりの画像点の数)によって決
定される。オフプレス用途(非常に急速な版動作(例え
ば、高速モーターを使用する)を提供するように設計す
ることが可能であり、それによって速いレーザーパルス
速度を用いることができる)は、画像形成源として単一
レーザーを用いることができることが多い。
軸を横切って引き、各パス後他方の軸に沿ってインデッ
クスをつける。もちろん、ビームと版との間の必要な相
対運動は、ビームの運動よりもよりもむしろ(もしくは
ビームの運動に追加して)版の運動によって作られる。
ビームを走査する方法に関係なく、単独の書込アレイに
対して複数のレーザー及びその出力のガイドを用いるの
が(印刷用途では)好ましい。そして、書込アレイが指
標付けられ、版を横切るかもしくは版に沿った各パスの
完了後、距離が、アレイから出るビームの数及び所望の
解像度(即ち、単位長当たりの画像点の数)によって決
定される。オフプレス用途(非常に急速な版動作(例え
ば、高速モーターを使用する)を提供するように設計す
ることが可能であり、それによって速いレーザーパルス
速度を用いることができる)は、画像形成源として単一
レーザーを用いることができることが多い。
【0021】本発明に従う平版印刷版の代表的な態様で
ある第1図を参照する。図1に示された版は、表面層1
00及び基体106を含む。表面層100は、硬質セグ
メント(H)に結合された軟質シリコーンセグメント
(S)のコポリマーを含んでなる。このコポリマーを: −H−S− で表すことが出きる。
ある第1図を参照する。図1に示された版は、表面層1
00及び基体106を含む。表面層100は、硬質セグ
メント(H)に結合された軟質シリコーンセグメント
(S)のコポリマーを含んでなる。このコポリマーを: −H−S− で表すことが出きる。
【0022】Sセグメントは、インク溶剤に膨潤可能で
あり、−H−S−全体のインク解放(release )特性に
寄与し、好ましくは、次の一般構造:
あり、−H−S−全体のインク解放(release )特性に
寄与し、好ましくは、次の一般構造:
【0023】
【化1】
【0024】のポリシロキサンである。mはシロキサン
ポリマーの大きさを示し、20〜10,000となるこ
とができ、R1 、R2 は、シロキサンポリマーの形を記
載し、有機基、典型的には、メチルのようなアルキル、
フェニルのようなアリール、フルオロアルキル、シアノ
アルキル、もしくは長いエーテルシーケンスとなること
ができる。多くは線状であるが、分岐点もしくはこれら
のR1 及びR2 基とともに追加の官能基が存在すること
ができる。シリコーンセグメントの例はポリジメチルシ
ロキサン及びポリメチルフェニルシロキサンである。一
般的に、この軟質シリコーンセグメントは、−H−S−
ポリマー全体の重量に対して約50%超を構成する。
ポリマーの大きさを示し、20〜10,000となるこ
とができ、R1 、R2 は、シロキサンポリマーの形を記
載し、有機基、典型的には、メチルのようなアルキル、
フェニルのようなアリール、フルオロアルキル、シアノ
アルキル、もしくは長いエーテルシーケンスとなること
ができる。多くは線状であるが、分岐点もしくはこれら
のR1 及びR2 基とともに追加の官能基が存在すること
ができる。シリコーンセグメントの例はポリジメチルシ
ロキサン及びポリメチルフェニルシロキサンである。一
般的に、この軟質シリコーンセグメントは、−H−S−
ポリマー全体の重量に対して約50%超を構成する。
【0025】いくつかの場合では、結合基でHとSを結
合する、−(−H−X−S−X−)−ことが好ましい。
シリコーンポリマーは、それがインクを解放するので、
無水式印刷用途において広く用いられている。しかし、
架橋されていない形態のシリコーンポリマーフィルムは
流体もしくはガムであり、取扱及び印刷に必要な物性に
欠ける。従って、シリコーンを、一般的に、シリコーン
水素化物とSi−ビニルとの反応、Si−OHもしくは
Si−OR基間の反応を含むいくつかの方法、並びに他
の周知の架橋剤で架橋する。これらの架橋はフィルムに
堅牢な物性を与えるが、それらは熱によって容易には分
解されない。従って、レーザー加熱に曝されたフィルム
は強靱なフィルム結合性を保持し、容易に除かれるほど
十分に変化しない。大きな熱感受性が必要である。
合する、−(−H−X−S−X−)−ことが好ましい。
シリコーンポリマーは、それがインクを解放するので、
無水式印刷用途において広く用いられている。しかし、
架橋されていない形態のシリコーンポリマーフィルムは
流体もしくはガムであり、取扱及び印刷に必要な物性に
欠ける。従って、シリコーンを、一般的に、シリコーン
水素化物とSi−ビニルとの反応、Si−OHもしくは
Si−OR基間の反応を含むいくつかの方法、並びに他
の周知の架橋剤で架橋する。これらの架橋はフィルムに
堅牢な物性を与えるが、それらは熱によって容易には分
解されない。従って、レーザー加熱に曝されたフィルム
は強靱なフィルム結合性を保持し、容易に除かれるほど
十分に変化しない。大きな熱感受性が必要である。
【0026】本発明の−H−S−ポリマーのHセグメン
トは、一般的に、50重量%未満を構成し、フィルムに
対して、良好な物性及び熱感受性の二つの重要な特性を
与える。この物性は、フィルムを架橋する効果を有する
Hセグメント間の会合の結果である。この会合は、高T
gガラス状領域、水素結合、イオン性会合、結晶性、も
しくはこれらの相互作用の組合せである。それは化学結
合を包含するが、必ずしも必要とされない。H領域の第
二の特質は、熱感受性である。従ってこれらの会合は、
高い温度でシリコーン鎖もしくは上記の架橋結合よりも
容易に分解される。それ故フィルムの結合度を、レーザ
ー加熱によって低下させ、得られるシリコーン層を普通
に前述のプロセスを適用することによって露光後もしく
は露光中に容易に除くことができる。H相での会合の熱
分解は、ガラスから液体の転移(Tg)、水素結合の分
解、溶融、化学結合もしくはこれらの効果の組合せの破
壊による。
トは、一般的に、50重量%未満を構成し、フィルムに
対して、良好な物性及び熱感受性の二つの重要な特性を
与える。この物性は、フィルムを架橋する効果を有する
Hセグメント間の会合の結果である。この会合は、高T
gガラス状領域、水素結合、イオン性会合、結晶性、も
しくはこれらの相互作用の組合せである。それは化学結
合を包含するが、必ずしも必要とされない。H領域の第
二の特質は、熱感受性である。従ってこれらの会合は、
高い温度でシリコーン鎖もしくは上記の架橋結合よりも
容易に分解される。それ故フィルムの結合度を、レーザ
ー加熱によって低下させ、得られるシリコーン層を普通
に前述のプロセスを適用することによって露光後もしく
は露光中に容易に除くことができる。H相での会合の熱
分解は、ガラスから液体の転移(Tg)、水素結合の分
解、溶融、化学結合もしくはこれらの効果の組合せの破
壊による。
【0027】−H−S−は、二つのポリマー成分及び特
性を示そうとするものであり、それらを組み合わせるこ
とによって多くの構成を与えるがそれらに限定されな
い。これらには、−H−S−のジブロックコポリマー、
−H−S−H−もしくは−S−H−S−のトリブロック
コポリマー、又はnが連鎖数を表す(−H−S−)n に
おける多重連鎖を含む。さらに、Sシーケンスは、H主
鎖に結合された側鎖となることができ、S主鎖に結合さ
れたH側鎖となることができる。この側鎖もしくは主鎖
もジブロック、トリブロックもしくはH及びSの多重シ
ーケンスとなることができる。アームがHとSの組合せ
である多重アームスター構造が含まれる。
性を示そうとするものであり、それらを組み合わせるこ
とによって多くの構成を与えるがそれらに限定されな
い。これらには、−H−S−のジブロックコポリマー、
−H−S−H−もしくは−S−H−S−のトリブロック
コポリマー、又はnが連鎖数を表す(−H−S−)n に
おける多重連鎖を含む。さらに、Sシーケンスは、H主
鎖に結合された側鎖となることができ、S主鎖に結合さ
れたH側鎖となることができる。この側鎖もしくは主鎖
もジブロック、トリブロックもしくはH及びSの多重シ
ーケンスとなることができる。アームがHとSの組合せ
である多重アームスター構造が含まれる。
【0028】Sシーケンスの構造は、上記のようなシロ
キサンコポリマーである。このシロキサン基に追加し
て、Sシーケンスは、Hに対するSの結合を促進する末
端もしくはペンダントのX基を有してもよい。これらの
X基の性質、位置及び数は、Hを構成するのに用いる特
定の試薬及び所望の特定の構造に依存する。位置及び数
に関して、X基は末端基として結合することができ:
キサンコポリマーである。このシロキサン基に追加し
て、Sシーケンスは、Hに対するSの結合を促進する末
端もしくはペンダントのX基を有してもよい。これらの
X基の性質、位置及び数は、Hを構成するのに用いる特
定の試薬及び所望の特定の構造に依存する。位置及び数
に関して、X基は末端基として結合することができ:
【0029】
【化2】
【0030】もしくはペンダント基として結合すること
ができ、ここでm及びc(a+b)がシリコーンの大き
さを示し、cがペンダント基の数を示す。R1 及びR2
は上述したものと同じである。
ができ、ここでm及びc(a+b)がシリコーンの大き
さを示し、cがペンダント基の数を示す。R1 及びR2
は上述したものと同じである。
【0031】
【化3】
【0032】R3 は、R1 もしくはR2 と同じである。
S及びHのジブロックコポリマーは、一つの末端X基、
中心がHであるトリブロックはシリコーン上に一つの末
端X基を有し、中心がSであるトリブロックもしくは多
重ブロックシーケンスはシリコーン上に二つの末端X基
を有する。側鎖としてSを有するグラフトコポリマーは
一つの末端X基を有する。側鎖としてHを有するグラフ
トコポリマーは、H側鎖の数に従って、一つ以上のペン
ダントX基を有する。上記の組合せを用いて、Xについ
ての位置が複数の場合のより複雑な構造を達成すること
ができ、そして多くの官能基(X、Y、Z等)を用いる
ことができる。X、Y、Z基の同定は、以下に示すよう
なHシーケンスの試薬による。
S及びHのジブロックコポリマーは、一つの末端X基、
中心がHであるトリブロックはシリコーン上に一つの末
端X基を有し、中心がSであるトリブロックもしくは多
重ブロックシーケンスはシリコーン上に二つの末端X基
を有する。側鎖としてSを有するグラフトコポリマーは
一つの末端X基を有する。側鎖としてHを有するグラフ
トコポリマーは、H側鎖の数に従って、一つ以上のペン
ダントX基を有する。上記の組合せを用いて、Xについ
ての位置が複数の場合のより複雑な構造を達成すること
ができ、そして多くの官能基(X、Y、Z等)を用いる
ことができる。X、Y、Z基の同定は、以下に示すよう
なHシーケンスの試薬による。
【0033】Hシーケンスは、ポリウレタン、ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリウレア、ポリイミド、ポ
リアミド酸、ポリアミド酸塩、ポリアミド、ビスアミン
及びビスエポキシと由来のエポキシド、ホルムアルデヒ
ドフェノール、ホルムアルデヒドウレア、ホルムアルデ
ヒドメラミン、エピクロロヒドリン−ビスフェノールA
エポキシド、ディールス・アルダーアダクツ、ビスイソ
シアネート由来のカルボジイミドポリマー、及び二官能
モノマーの対から誘導される多種多様の縮合ポリマーを
含むポリマーとなることができる。
テル、ポリカーボネート、ポリウレア、ポリイミド、ポ
リアミド酸、ポリアミド酸塩、ポリアミド、ビスアミン
及びビスエポキシと由来のエポキシド、ホルムアルデヒ
ドフェノール、ホルムアルデヒドウレア、ホルムアルデ
ヒドメラミン、エピクロロヒドリン−ビスフェノールA
エポキシド、ディールス・アルダーアダクツ、ビスイソ
シアネート由来のカルボジイミドポリマー、及び二官能
モノマーの対から誘導される多種多様の縮合ポリマーを
含むポリマーとなることができる。
【0034】AA及びBBが二つの二官能モノマーを表
すコポリマーを次の構造式によって表すことができる:
すコポリマーを次の構造式によって表すことができる:
【0035】
【化4】
【0036】ポリウレタンの場合、生じるA−B結合は
ウレタンであり、AA及びBBはウレタン基のイソシア
ネート及びアルコール部分由来の二官能モノマーであ
る。ポリエステルの場合、生じるA−B結合はエステル
であり、AA及びBBはエステル基のカルボキシレート
及びアルコール部分由来の二官能モノマーである。ポリ
ウレア、ポリカーボネート、ポリイミド、遊離酸として
かもしくは酸形態の塩におけるポリイミドのポリミド酸
類似物、ポリアミド、ホルムアルデヒドコポリマーを同
じように記載することができる。カルボジイミドポリマ
ーの場合、AA及びBBは両方ともジイソシアネートで
ある。AA基の混合物及びBB基の混合物をこれらの例
のいずれにも用いることができる。
ウレタンであり、AA及びBBはウレタン基のイソシア
ネート及びアルコール部分由来の二官能モノマーであ
る。ポリエステルの場合、生じるA−B結合はエステル
であり、AA及びBBはエステル基のカルボキシレート
及びアルコール部分由来の二官能モノマーである。ポリ
ウレア、ポリカーボネート、ポリイミド、遊離酸として
かもしくは酸形態の塩におけるポリイミドのポリミド酸
類似物、ポリアミド、ホルムアルデヒドコポリマーを同
じように記載することができる。カルボジイミドポリマ
ーの場合、AA及びBBは両方ともジイソシアネートで
ある。AA基の混合物及びBB基の混合物をこれらの例
のいずれにも用いることができる。
【0037】結合基Xの性質は、Hセグメントの組成に
よる。Xは、シリコン原子に結合されたアルキルもしく
はアリール基であり、対応するAA基と反応できる追加
の官能基を有する。AAがイソシアネートもしくはカル
ボキシレートである場合、Xは、ヒドロキシル、アミ
ン、もしくはチオール基で置換されたアルキル又はアリ
ールとなるであろう。AAがアミンである場合、対応す
る基はイソシアネート、カルボキシレートもしくはエポ
キシとなるであろう。AAがヒドロキシルもしくはチオ
ールである場合、Xはイソシアネートもしくはカルボキ
シレートを含むであろう。AAがメチオイル置換された
フェノールである場合、Xは、フェノールもしくはウレ
ア基を有するであろう。多種多様のそのような基は、官
能性シリコーンのGelestカタログ(Gelest Inc. Tullyt
own, PA )に紹介されており、アミノプロピル、エポキ
シプロポキシプロピル、ヒドロキシアルキル、メルカプ
トプロピル及びカルボキシプロピル基を包含する。
よる。Xは、シリコン原子に結合されたアルキルもしく
はアリール基であり、対応するAA基と反応できる追加
の官能基を有する。AAがイソシアネートもしくはカル
ボキシレートである場合、Xは、ヒドロキシル、アミ
ン、もしくはチオール基で置換されたアルキル又はアリ
ールとなるであろう。AAがアミンである場合、対応す
る基はイソシアネート、カルボキシレートもしくはエポ
キシとなるであろう。AAがヒドロキシルもしくはチオ
ールである場合、Xはイソシアネートもしくはカルボキ
シレートを含むであろう。AAがメチオイル置換された
フェノールである場合、Xは、フェノールもしくはウレ
ア基を有するであろう。多種多様のそのような基は、官
能性シリコーンのGelestカタログ(Gelest Inc. Tullyt
own, PA )に紹介されており、アミノプロピル、エポキ
シプロポキシプロピル、ヒドロキシアルキル、メルカプ
トプロピル及びカルボキシプロピル基を包含する。
【0038】縮合ポリマーも、最終ポリマーを形成する
のに必要とされる両者の官能基を有するAB取り合わせ
のモノマーから形成できる。例は、Aがヒドロキシ成分
であり、Bがカルボキシレート成分であるp-ヒドロキシ
安息香酸のポリエステルである。この場合、Sに対する
Hの結合は、Yがカルボキシレート反応基、例えば、ヒ
ドロキシ、アミン、チオール、エポキシであり、Xがヒ
ドロキシル反応基、例えば、カルボキシレート、イソシ
アネート等であるシロキサン上のY及びZの混合を必要
とするであろう。あるいは、Hポリマーを二官能AAモ
ノマーでキャップして、X官能化されたSセグメントと
反応できるAキャップされたHセグメントを与えること
ができた。
のに必要とされる両者の官能基を有するAB取り合わせ
のモノマーから形成できる。例は、Aがヒドロキシ成分
であり、Bがカルボキシレート成分であるp-ヒドロキシ
安息香酸のポリエステルである。この場合、Sに対する
Hの結合は、Yがカルボキシレート反応基、例えば、ヒ
ドロキシ、アミン、チオール、エポキシであり、Xがヒ
ドロキシル反応基、例えば、カルボキシレート、イソシ
アネート等であるシロキサン上のY及びZの混合を必要
とするであろう。あるいは、Hポリマーを二官能AAモ
ノマーでキャップして、X官能化されたSセグメントと
反応できるAキャップされたHセグメントを与えること
ができた。
【0039】
【化5】
【0040】(式中、nは任意の整数(AAもしくはB
Bの少なくとも一つがHセグメント中に存在する場合の
0を含む)となることができ、mは20〜10,000
の範囲となることができる) n及びmは、nの値が大きく、AA、BB、もしくはA
B、シリコーン上のR1及びR2 の分子量が大きい場
合、mは全体構造のシリコーン含有率が50%超となる
のに十分なほど大きくなければならないという関係を有
する。示される一般構造は、末端基としてX及びY、そ
してマルチブロックコポリマーとして配置されたH及び
Sを表す。他の構造(グラフト、星形、分岐、もしくは
他のブロックシーケンス)も、シリコーン上のX結合基
の適当な数及び位置を用いて表すことができる。非常に
高次置換されたシリコーンの場合、最終ポリマーは分岐
構造もしくは架橋構造を有するであろうし、実用上とし
て、フィルム形成操作時に基体上に形成されねばならな
いであろう。線状ポリマーの場合、rは、H−S反復シ
ーケンスの多重度もしくは全体分子量を表し、1〜10
0の範囲となることができる。
Bの少なくとも一つがHセグメント中に存在する場合の
0を含む)となることができ、mは20〜10,000
の範囲となることができる) n及びmは、nの値が大きく、AA、BB、もしくはA
B、シリコーン上のR1及びR2 の分子量が大きい場
合、mは全体構造のシリコーン含有率が50%超となる
のに十分なほど大きくなければならないという関係を有
する。示される一般構造は、末端基としてX及びY、そ
してマルチブロックコポリマーとして配置されたH及び
Sを表す。他の構造(グラフト、星形、分岐、もしくは
他のブロックシーケンス)も、シリコーン上のX結合基
の適当な数及び位置を用いて表すことができる。非常に
高次置換されたシリコーンの場合、最終ポリマーは分岐
構造もしくは架橋構造を有するであろうし、実用上とし
て、フィルム形成操作時に基体上に形成されねばならな
いであろう。線状ポリマーの場合、rは、H−S反復シ
ーケンスの多重度もしくは全体分子量を表し、1〜10
0の範囲となることができる。
【0041】Hが、アクリレート、メタクリレート、ア
クリル酸、メタクリル酸、シアノアクリレート、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルエステル、ビニルハロ
ゲン化物、ビニリデンハロゲン化物、無水マレイン酸、
マレイミド、ビニルピリジン、オレフィンを含むビニル
モノマー、並びにそれらのモノマーのコポリマー混合物
から誘導される、多種多様のH構造を調製できる。ま
た、ポリマーは、開環重合モノマー、例えば、環式エー
テル、ラクタム、ラクトン、及びオキサゾリンから、並
びにカルボニルモノマー、例えば、アセトアルデヒド及
びフタルアルデヒドから誘導される。これらのポリマー
及びコポリマーを次の一般構造で表すことができる:
クリル酸、メタクリル酸、シアノアクリレート、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルエステル、ビニルハロ
ゲン化物、ビニリデンハロゲン化物、無水マレイン酸、
マレイミド、ビニルピリジン、オレフィンを含むビニル
モノマー、並びにそれらのモノマーのコポリマー混合物
から誘導される、多種多様のH構造を調製できる。ま
た、ポリマーは、開環重合モノマー、例えば、環式エー
テル、ラクタム、ラクトン、及びオキサゾリンから、並
びにカルボニルモノマー、例えば、アセトアルデヒド及
びフタルアルデヒドから誘導される。これらのポリマー
及びコポリマーを次の一般構造で表すことができる:
【0042】
【化6】
【0043】(式中、Vnは、上記モノマーのシーケン
スを表し、Xはこのシーケンスとシリコーン結合基を表
す)。Xの性質は、モノマー及び重合のタイプに依存す
る。Vモノマーのアニオン重合の場合は、成長するVア
ニオンが、Xが必要とされない場合、シリコン原子のと
ころで直接環式シロキサン重合を開始することができ
た。グラフト構造の場合、シロキサンのアニオン重合
を、次にVモノマーと共重合される、ビニル、アルデヒ
ド、エーテルもしくはオキサゾリン官能基で終了するこ
とができた。また、アミノアルキルを末端に有するシロ
キサンは、N−カルボキシ無水物もしくはシアノアクリ
レートのアニオン重合を開始することができた。カルボ
キシもしくはヒドロキシを末端に有するシロキサンは、
ラクトンの重合を開始することができた。アルキルハロ
ゲン化物を末端に有するシリコーンはオキサゾリン重合
を開始することができた。Xがシロキサンに結合されて
いるラジカル開始剤(例えば、アゾ基もしくはペルオキ
シド基)を表す場合、多種多様のビニルモノマーを重合
できた。
スを表し、Xはこのシーケンスとシリコーン結合基を表
す)。Xの性質は、モノマー及び重合のタイプに依存す
る。Vモノマーのアニオン重合の場合は、成長するVア
ニオンが、Xが必要とされない場合、シリコン原子のと
ころで直接環式シロキサン重合を開始することができ
た。グラフト構造の場合、シロキサンのアニオン重合
を、次にVモノマーと共重合される、ビニル、アルデヒ
ド、エーテルもしくはオキサゾリン官能基で終了するこ
とができた。また、アミノアルキルを末端に有するシロ
キサンは、N−カルボキシ無水物もしくはシアノアクリ
レートのアニオン重合を開始することができた。カルボ
キシもしくはヒドロキシを末端に有するシロキサンは、
ラクトンの重合を開始することができた。アルキルハロ
ゲン化物を末端に有するシリコーンはオキサゾリン重合
を開始することができた。Xがシロキサンに結合されて
いるラジカル開始剤(例えば、アゾ基もしくはペルオキ
シド基)を表す場合、多種多様のビニルモノマーを重合
できた。
【0044】図2では、画像形成輻射線を吸収できる追
加の層102及び接着層108を用いる場合の別の態様
を示す。吸収性材料が、102のように別の層に存在す
ることができ、又は表面層100もしくは他のいずれの
層にも組み入れることができることに留意されたい。図
3は、層104が吸収性層102及び接着促進層108
の間に置かれた第二吸収性層であるもう一つの態様を示
す。わかるように、層102はオプションであり、単一
の吸収性層を用いることもでき、100、102及び/
もしくは104のいずれの層との組み合わせとなること
もできる。これらの層をさらに詳細に説明する。
加の層102及び接着層108を用いる場合の別の態様
を示す。吸収性材料が、102のように別の層に存在す
ることができ、又は表面層100もしくは他のいずれの
層にも組み入れることができることに留意されたい。図
3は、層104が吸収性層102及び接着促進層108
の間に置かれた第二吸収性層であるもう一つの態様を示
す。わかるように、層102はオプションであり、単一
の吸収性層を用いることもでき、100、102及び/
もしくは104のいずれの層との組み合わせとなること
もできる。これらの層をさらに詳細に説明する。
【0045】a.表面層100 層100及び104は、インク顔料及び当該顔料分散溶
媒に反対の親和性を表す。表面層100は、インクをは
じくコポリマーであるが、第二吸収性層104は、親油
性(インク受容性)ポリマーとなることができる。基体
層106は、好ましくは、強靱で、安定且つ可撓性であ
り、ポリマーフィルム、又は紙もしくは金属シートとな
ることができる。ポリエステルフィルム(好ましい態様
では、E.I. dupont de Nemours Co., Wirnington, De
l., のMYLARフィルム、あるいは、ICI Films, Wilmingt
on, Del. のMELINEX フィルム又はポリエチレンナフタ
レート)は有用な例である。好ましいポリエステルフィ
ルム厚は、178μm(0.007インチ)であるが、
より薄いものもより厚いものも有効に用いることができ
る。アルミニウムが好ましい金属基体である。他の金
属、例えば、ステンレス鋼も用いることができる。紙支
持体は典型的にポリマーに浸し、耐水性、寸法安定性及
び強度を与える。
媒に反対の親和性を表す。表面層100は、インクをは
じくコポリマーであるが、第二吸収性層104は、親油
性(インク受容性)ポリマーとなることができる。基体
層106は、好ましくは、強靱で、安定且つ可撓性であ
り、ポリマーフィルム、又は紙もしくは金属シートとな
ることができる。ポリエステルフィルム(好ましい態様
では、E.I. dupont de Nemours Co., Wirnington, De
l., のMYLARフィルム、あるいは、ICI Films, Wilmingt
on, Del. のMELINEX フィルム又はポリエチレンナフタ
レート)は有用な例である。好ましいポリエステルフィ
ルム厚は、178μm(0.007インチ)であるが、
より薄いものもより厚いものも有効に用いることができ
る。アルミニウムが好ましい金属基体である。他の金
属、例えば、ステンレス鋼も用いることができる。紙支
持体は典型的にポリマーに浸し、耐水性、寸法安定性及
び強度を与える。
【0046】上述したように、表面層100は、セグメ
ント(H)に結合されたシリコーンセグメント(S)か
らなるコポリマーを含んでなる。好ましいコポリマーは
次の構造を有する:
ント(H)に結合されたシリコーンセグメント(S)か
らなるコポリマーを含んでなる。好ましいコポリマーは
次の構造を有する:
【0047】
【化7】
【0048】(式中、AAは、4,4’ジシクロヘキシ
ルメタンジイソシアネート(RMDI)であり、BB
は、4,4’−(オクタヒドロ−4,7−メタノ−5H
−インデン−5−イリデン)ビスフェノール(GK)で
あり、nは、3であり、そしてR 1 及びR2 は、メチル
であるがmは185である)。シリコーンの末端上の官
能基Xは、−CH2 CH2 CH2 NH2 である。このア
ミン基はAAと反応してH及びS成分を結合する。この
ポリマー構造をr回繰り返してより高分子量のポリマー
を作成する。AAの追加の例は、1,6−ヘキサメチレ
ンジイソシアネート(HMDI)、4,4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート(MDI)、1−イソシアネ
ート−3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメ
チル−シクロヘキサン(IPDI)、2,4及び2,6
−トルエンジイソシアネート(TDI)並びに他の周知
の脂肪族及び芳香族の二官能並びに多官能イソシアネー
トである。BBの例は、4,4’−イソプロピリデンジ
フェノール(GH)、4,4’−イソプロピリデンビス
(2,6−ジクロロフェノール)、4,4’−イソプロ
ピリデンビス(2,6−ジブロモフェノール)、4,
4’−イソプロピリデンビス(2−ヒドロキシエトキシ
ベンゼン)、4,4’−(オクタヒドロ、−4,7−メ
タノ−5H−インデン−5−イリデン)ビス(2−ヒド
ロキシエトキシベンゼン)である。
ルメタンジイソシアネート(RMDI)であり、BB
は、4,4’−(オクタヒドロ−4,7−メタノ−5H
−インデン−5−イリデン)ビスフェノール(GK)で
あり、nは、3であり、そしてR 1 及びR2 は、メチル
であるがmは185である)。シリコーンの末端上の官
能基Xは、−CH2 CH2 CH2 NH2 である。このア
ミン基はAAと反応してH及びS成分を結合する。この
ポリマー構造をr回繰り返してより高分子量のポリマー
を作成する。AAの追加の例は、1,6−ヘキサメチレ
ンジイソシアネート(HMDI)、4,4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート(MDI)、1−イソシアネ
ート−3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメ
チル−シクロヘキサン(IPDI)、2,4及び2,6
−トルエンジイソシアネート(TDI)並びに他の周知
の脂肪族及び芳香族の二官能並びに多官能イソシアネー
トである。BBの例は、4,4’−イソプロピリデンジ
フェノール(GH)、4,4’−イソプロピリデンビス
(2,6−ジクロロフェノール)、4,4’−イソプロ
ピリデンビス(2,6−ジブロモフェノール)、4,
4’−イソプロピリデンビス(2−ヒドロキシエトキシ
ベンゼン)、4,4’−(オクタヒドロ、−4,7−メ
タノ−5H−インデン−5−イリデン)ビス(2−ヒド
ロキシエトキシベンゼン)である。
【0049】このコポリマーの調製の詳細説明を以下に
示す。100mLフラスコに、0.67gのRMDI、
0.61gのGK、10mLのトルエン及び5mLのT
HF、並びにジブチルスズジラウレート触媒1滴を入れ
る。この溶液を50℃で1時間加熱する。トルエン8.
7g中のアミノプロピルを末端に有する分子量13,7
00のシリコーン8.72gの溶液を攪拌しながら16
時間55℃で加熱する。
示す。100mLフラスコに、0.67gのRMDI、
0.61gのGK、10mLのトルエン及び5mLのT
HF、並びにジブチルスズジラウレート触媒1滴を入れ
る。この溶液を50℃で1時間加熱する。トルエン8.
7g中のアミノプロピルを末端に有する分子量13,7
00のシリコーン8.72gの溶液を攪拌しながら16
時間55℃で加熱する。
【0050】非シリコーン量に対するシリコーンの相対
量を、シロキサン反復単位数(m)もしくはウレタン反
復単位数(n)のいずれかを大きくしたり小さくして調
節することができる。4,450〜13,700分子量
のシリコーンを、全体組成物のシリコーン範囲が60〜
95%にわたるように、種々のウレタン長と組み合わせ
て繰り返した。
量を、シロキサン反復単位数(m)もしくはウレタン反
復単位数(n)のいずれかを大きくしたり小さくして調
節することができる。4,450〜13,700分子量
のシリコーンを、全体組成物のシリコーン範囲が60〜
95%にわたるように、種々のウレタン長と組み合わせ
て繰り返した。
【0051】このシリコーンセグメントは、4000超
の分子量となることができ、ポリマーの50〜98重量
%を構成することができる。サイズ排除クロマトグラフ
ィーで分子量を決定する。分子量範囲の上限を、少なく
とも一つ、好ましくは二つ以上の反応性X基の鎖への末
端基もしくはペンダント基としての結合の信頼性のみに
よって限定した。このシリコーンは主としてジメチルシ
ロキサンであるが、メチル以外の置換基(例えば、ペン
チル、フルオロアルキル、シアノアルキル、もしくは長
いエーテルシーケンス基)を有してTgのような物性を
調節することができる。
の分子量となることができ、ポリマーの50〜98重量
%を構成することができる。サイズ排除クロマトグラフ
ィーで分子量を決定する。分子量範囲の上限を、少なく
とも一つ、好ましくは二つ以上の反応性X基の鎖への末
端基もしくはペンダント基としての結合の信頼性のみに
よって限定した。このシリコーンは主としてジメチルシ
ロキサンであるが、メチル以外の置換基(例えば、ペン
チル、フルオロアルキル、シアノアルキル、もしくは長
いエーテルシーケンス基)を有してTgのような物性を
調節することができる。
【0052】ウレタンセグメントは、完全にビスフェノ
ール及びビスイソシアネートとなる必要はなく、モノマ
ー、オリゴマーもしくはポリマーとなることができる広
範囲のジオールもしくはジアミンで満たされてもよい。
この構造は、多官能反応物を用いる場合は、分岐を有し
ても、架橋されていてもよい。この場合、溶液ゼラチン
をフィルム乾燥工程時に反応を完了することによって避
けることができる。過剰の多官能イソシアネートを加え
て、ウレタンもしくはウレア結合と反応させてアロホネ
ート(allophonate )もしくはビウレット架橋を与える
ことができた。当該技術分野で周知の多くの官能性試薬
のいずれか一つでシリコーンセグメントの架橋を達成で
きる。
ール及びビスイソシアネートとなる必要はなく、モノマ
ー、オリゴマーもしくはポリマーとなることができる広
範囲のジオールもしくはジアミンで満たされてもよい。
この構造は、多官能反応物を用いる場合は、分岐を有し
ても、架橋されていてもよい。この場合、溶液ゼラチン
をフィルム乾燥工程時に反応を完了することによって避
けることができる。過剰の多官能イソシアネートを加え
て、ウレタンもしくはウレア結合と反応させてアロホネ
ート(allophonate )もしくはビウレット架橋を与える
ことができた。当該技術分野で周知の多くの官能性試薬
のいずれか一つでシリコーンセグメントの架橋を達成で
きる。
【0053】AA基の例は次のものである:
【0054】
【化8】
【0055】BB基の例は次のものが含まれる:
【0056】
【化9】
【0057】コポリマーの例クラス1:フェノール性ウ
レタン(ここでR4 及びR5 は有機基である)。
レタン(ここでR4 及びR5 は有機基である)。
【0058】
【化10】
【0059】コポリマークラス2:脂肪族ウレタン
【0060】
【化11】
【0061】コポリマークラス3:ポリアミド酸及びそ
の塩
の塩
【0062】
【化12】
【0063】コポリマークラス4:ポリカーボネート
【0064】
【化13】
【0065】このコポリマーを含有する層を、通常の溶
剤コーティング技法によって基体106上に形成するこ
とができる。好ましい態様では、画像形成する輻射線を
吸収できる層102を層100と共に用いることができ
る。この層の例は入射する画像形成輻射線由来のエネル
ギーを吸収する材料を含み、そして応答して、上にある
層100が除かれる。それは、レーザーの最大出力範囲
において固有に吸収するポリマー系、又は中に輻射線吸
収性成分が分散もしくは溶解されているポリマー塗膜か
らなることができる。
剤コーティング技法によって基体106上に形成するこ
とができる。好ましい態様では、画像形成する輻射線を
吸収できる層102を層100と共に用いることができ
る。この層の例は入射する画像形成輻射線由来のエネル
ギーを吸収する材料を含み、そして応答して、上にある
層100が除かれる。それは、レーザーの最大出力範囲
において固有に吸収するポリマー系、又は中に輻射線吸
収性成分が分散もしくは溶解されているポリマー塗膜か
らなることができる。
【0066】例えば、米国特許第5,109,771
号、同5,165,345号、及び同5,249,52
5号明細書に記載されている多くの表面層が見出されて
おり、それらは火花画像形成プロセスを助けるフィラー
粒子を含有し、またIR吸収性表面層としてもはたらく
ことができる。実際は、IR吸収剤として全体として適
当でないフィラー顔料のみが、その表面形態が非常に高
い反射面を生じるものである。例えば、TiO2 及びZ
nO等の白色粒子、及びSnO2 等のオフホワイトコン
パウンドが、入射光の効率よい反射のためのライトシェ
ーディングを負っており、使用には不適であることがわ
かる。
号、同5,165,345号、及び同5,249,52
5号明細書に記載されている多くの表面層が見出されて
おり、それらは火花画像形成プロセスを助けるフィラー
粒子を含有し、またIR吸収性表面層としてもはたらく
ことができる。実際は、IR吸収剤として全体として適
当でないフィラー顔料のみが、その表面形態が非常に高
い反射面を生じるものである。例えば、TiO2 及びZ
nO等の白色粒子、及びSnO2 等のオフホワイトコン
パウンドが、入射光の効率よい反射のためのライトシェ
ーディングを負っており、使用には不適であることがわ
かる。
【0067】IR吸収剤として適した粒子の中で、この
環境での性能と火花放電プレートフィラーとして有用で
ある程度との間には直接的な相関は存在しない。実際
は、火花放電画像形成に限定的に有利なコンパウンドの
多くはIR輻射線を全く良く吸収する。半導体コンパウ
ンドは、クラスとして本発明に良好な性能特性を示すこ
とは明らかである。いかなる特定の理論もしくはメカニ
ズムにも束縛されないが、導電帯中及び導電帯に隣接し
てエネルギー的に配置された電子は、IR輻射線を吸収
し、導電帯への電子の熱的昇格によって加熱時に高めら
れた電導度を示す半導体の公知の傾向に従うメカニズム
によって、導電帯の中に及び導電帯内で容易に昇格する
と思われる。
環境での性能と火花放電プレートフィラーとして有用で
ある程度との間には直接的な相関は存在しない。実際
は、火花放電画像形成に限定的に有利なコンパウンドの
多くはIR輻射線を全く良く吸収する。半導体コンパウ
ンドは、クラスとして本発明に良好な性能特性を示すこ
とは明らかである。いかなる特定の理論もしくはメカニ
ズムにも束縛されないが、導電帯中及び導電帯に隣接し
てエネルギー的に配置された電子は、IR輻射線を吸収
し、導電帯への電子の熱的昇格によって加熱時に高めら
れた電導度を示す半導体の公知の傾向に従うメカニズム
によって、導電帯の中に及び導電帯内で容易に昇格する
と思われる。
【0068】金属ホウ化物、炭化物、窒化物、浸炭窒化
物、ブロンズ構造酸化物、及び構造的にブロンズ族に関
連するがA成分(例えば、W02.9 )を欠く酸化物が良
くはたらく。ブラック顔料、例えば、カーボンブラック
は、実質的に近IR及び可視領域全体にわたって十分に
吸収し、レーザーと組み合わせて用いることができる。
現行、上記IR色素1もしくはIR色素2等のIR色素
が好ましい。
物、ブロンズ構造酸化物、及び構造的にブロンズ族に関
連するがA成分(例えば、W02.9 )を欠く酸化物が良
くはたらく。ブラック顔料、例えば、カーボンブラック
は、実質的に近IR及び可視領域全体にわたって十分に
吸収し、レーザーと組み合わせて用いることができる。
現行、上記IR色素1もしくはIR色素2等のIR色素
が好ましい。
【0069】塩化ポリビニリデン、ポリイソタコン酸、
ポリメタクリレート、ポリスチレン、及び次の塗布層
(複数でもよい)と架橋することができるエポキシ、カ
ルボキシル、ヒドロキシルアミン官能基を有するポリマ
ーを用いることができる。シランカップリング剤も用い
ることができる。下引き層の選定は、基体及び次の塗布
される層の成分に従って変わる。
ポリメタクリレート、ポリスチレン、及び次の塗布層
(複数でもよい)と架橋することができるエポキシ、カ
ルボキシル、ヒドロキシルアミン官能基を有するポリマ
ーを用いることができる。シランカップリング剤も用い
ることができる。下引き層の選定は、基体及び次の塗布
される層の成分に従って変わる。
【0070】本発明の版を用いる方法は、光を熱に変換
する層を像様レーザー露光する工程、インクを版に塗布
する工程、及びレーザーが当たらなかった版の部分から
インクがはじかれる工程を含んでなる。本発明の例で
は、米国特許第5,168,288号明細書に開示さ
れ、請求項に記載されたものと類似の感熱IRレース
(lathe )タイププリンターを用いて印刷版に画像形成
する。
する層を像様レーザー露光する工程、インクを版に塗布
する工程、及びレーザーが当たらなかった版の部分から
インクがはじかれる工程を含んでなる。本発明の例で
は、米国特許第5,168,288号明細書に開示さ
れ、請求項に記載されたものと類似の感熱IRレース
(lathe )タイププリンターを用いて印刷版に画像形成
する。
【0071】チャンネル当たりおおよそ450mW、9
チャンネル/列、945ライン/cm(2400ライン
/インチ)、ドラム周53cm及び画像形成面で約25
μm径スポット(l/e2 )を用いてサンプルを露光し
た。テスト画像には、テキスト、ポジ及びネガ線、ハー
フトーンドットパターン並びにハーフトーン画像を含
む。画像を1分当たり最大1100回転までの速度で印
刷した(露光量レベルは、これらのサンプルの最適露光
量に必ずしも対応しない)。
チャンネル/列、945ライン/cm(2400ライン
/インチ)、ドラム周53cm及び画像形成面で約25
μm径スポット(l/e2 )を用いてサンプルを露光し
た。テスト画像には、テキスト、ポジ及びネガ線、ハー
フトーンドットパターン並びにハーフトーン画像を含
む。画像を1分当たり最大1100回転までの速度で印
刷した(露光量レベルは、これらのサンプルの最適露光
量に必ずしも対応しない)。
【0072】露光された版をワイピングもしくは追加の
処理無しで印刷し、ファウンテンローラーもしくはファ
ウンテン溶液を用いないでAB Dick 9870デュプリケータ
ーを用いた。このテストでは、特別な温度コントロール
は用いなかった。ここでは、INX International Roches
ter, NY から販売されている無水インクK50-95932-Blac
k を用いた。
処理無しで印刷し、ファウンテンローラーもしくはファ
ウンテン溶液を用いないでAB Dick 9870デュプリケータ
ーを用いた。このテストでは、特別な温度コントロール
は用いなかった。ここでは、INX International Roches
ter, NY から販売されている無水インクK50-95932-Blac
k を用いた。
【0073】
【実施例】例1 次式:
【0074】
【化14】
【0075】に基づくポリマーを表Iのように調製し
た。
た。
【0076】
【表1】
【0077】15%固形分でポリマー171A〜Dの溶
液をトルエン中で調製し、25μm間隔のナイフブレー
ドを用いて100μmポリエステルベース上に塗布し、
3.23g/m2 の乾燥フィルムを生じた。HMDI
は、ヘキサメチレンジイソシアネートであり、TCBA
は、テトラクロロビスフェノールAであり、PDMS
は、アミノプロピルジメチルシロキサンポリマーの分子
量を表す。
液をトルエン中で調製し、25μm間隔のナイフブレー
ドを用いて100μmポリエステルベース上に塗布し、
3.23g/m2 の乾燥フィルムを生じた。HMDI
は、ヘキサメチレンジイソシアネートであり、TCBA
は、テトラクロロビスフェノールAであり、PDMS
は、アミノプロピルジメチルシロキサンポリマーの分子
量を表す。
【0078】
【表2】
【0079】INX International Rochester, NY から販
売されている無水インクK50-95932-Black を用いて、イ
ンク着け特性についてこの塗膜を試験した。ハンドヘル
ドローラーにインクを充填し、塗膜全体に通してインク
接着性を試験した。このインクは、どの塗膜にもくっつ
かなかったが、コートされてないポリエステルベースに
接着した。これは、重量で最小72%の含有率のコポリ
マーが無水インクをはじくのに有用であることを実証す
る。
売されている無水インクK50-95932-Black を用いて、イ
ンク着け特性についてこの塗膜を試験した。ハンドヘル
ドローラーにインクを充填し、塗膜全体に通してインク
接着性を試験した。このインクは、どの塗膜にもくっつ
かなかったが、コートされてないポリエステルベースに
接着した。これは、重量で最小72%の含有率のコポリ
マーが無水インクをはじくのに有用であることを実証す
る。
【0080】例2 ポリマー171A〜Dを用いる印刷版を、以下のように
調製されたポリマー171A、B、C及びDのコーティ
ング溶液で作成した。
調製されたポリマー171A、B、C及びDのコーティ
ング溶液で作成した。
【0081】 ポリマー(15%溶液) 11.40g トルエン 15.23g IR色素#2(3%溶液)* 8.56g *(トルエンとテトラヒドロフランの50:50の3%溶液)
【0082】上記のように調製された溶液のコーティン
グを、スロットホッパー塗工機を用いて、10.8、1
6.1、21.6、及び32.3cc/m2 で塗布し
た。版の基体として100μmポリエステルベースを用
いた。追加して、吸収剤を含まない対照塗膜#21を、
トルエンから以下のように調製し、10.8cc/m2
で塗布した:
グを、スロットホッパー塗工機を用いて、10.8、1
6.1、21.6、及び32.3cc/m2 で塗布し
た。版の基体として100μmポリエステルベースを用
いた。追加して、吸収剤を含まない対照塗膜#21を、
トルエンから以下のように調製し、10.8cc/m2
で塗布した:
【0083】 PS448(10%溶液) 4.89g PS120(5%溶液) 0.37g SIT7900(10%溶液) 0.37g SIP6831(1%溶液) 0.37g トルエン 3.90g
【0084】赤外線吸収剤を含有する対照塗膜#22を
以下のように調製し、10.8cc/m2 で塗布した:
以下のように調製し、10.8cc/m2 で塗布した:
【0085】 PS448(10%溶液) 4.89g IR色素#2(3%溶液) 2.45g PS120(5%溶液) 0.37g SIT7900(10%溶液) 0.37g SIP6831(1%溶液) 0.37g トルエン 1.45g
【0086】IR色素溶液をトルエンとテトラヒドロフ
ランの50:50配合物から調製した。他の成分をトル
エンから調製した。PS448は、United Chemical Te
chnologies製のビニルジメチルを末端に有するポリジメ
チルシロキサン(トルエンに希釈して10%溶液にす
る)。PS120は、United Chemical Technologies製
のポリメチルヒドロシロキサン(トルエンに希釈して5
%溶液にする)。
ランの50:50配合物から調製した。他の成分をトル
エンから調製した。PS448は、United Chemical Te
chnologies製のビニルジメチルを末端に有するポリジメ
チルシロキサン(トルエンに希釈して10%溶液にす
る)。PS120は、United Chemical Technologies製
のポリメチルヒドロシロキサン(トルエンに希釈して5
%溶液にする)。
【0087】SIT−7900は、Gelest, Inc, Tully
town PA 製の1,3,5,7テトラビニル−1,3,
5,7テトラメチルシクロテトラシロキサン(希釈して
10%溶液にする)。SIP−6831は、Gelest, In
c,製のキシレン中のプラチナジビニルテトラメチルジシ
ロキサン複合体(トルエンに15重量部〜100重量部
希釈した)。
town PA 製の1,3,5,7テトラビニル−1,3,
5,7テトラメチルシクロテトラシロキサン(希釈して
10%溶液にする)。SIP−6831は、Gelest, In
c,製のキシレン中のプラチナジビニルテトラメチルジシ
ロキサン複合体(トルエンに15重量部〜100重量部
希釈した)。
【0088】
【表3】
【0089】塗膜A〜Dは、それぞれ75%、83%、
63%、75%、及び77%PDMS乾燥フィルムを生
じた。塗膜21及び22は、それぞれ96%及び85%
PDMS乾燥フィルムを生じた。次に500〜1200
mJ/cm2 の830nmIRレーザーを用いて、各塗
膜を実質的に画像形成した。無水印刷をファウンテンロ
ーラーもしくはファウンテン溶液を用いないでAB Dick
9870デュプリケーターでおこなった。無水印刷のインク
K50−95932−ブラックを印刷に用いた。このイ
ンクはINX International Rochester, NY から販売され
ている。
63%、75%、及び77%PDMS乾燥フィルムを生
じた。塗膜21及び22は、それぞれ96%及び85%
PDMS乾燥フィルムを生じた。次に500〜1200
mJ/cm2 の830nmIRレーザーを用いて、各塗
膜を実質的に画像形成した。無水印刷をファウンテンロ
ーラーもしくはファウンテン溶液を用いないでAB Dick
9870デュプリケーターでおこなった。無水印刷のインク
K50−95932−ブラックを印刷に用いた。このイ
ンクはINX International Rochester, NY から販売され
ている。
【0090】塗膜21以外は、全てのサンプルはIRレ
ーザーで画像形成後目で見た色変化が生じた。版11、
12、21及び22以外は、露光量範囲全体にわたって
印刷物を生成した。版11及び12は、最高露光量の場
合のみ印刷像を生成した。版21は、塗膜がIRレーザ
ーエネルギーに対して透過性であるので、印刷像を生じ
なかった。版22(吸収剤を有するPDMS対照)は、
部分的にしみがついた像のみを生成した。最低分子量P
DMS及び最低PDMS含有率の版13、14、15及
び16に関しては、ひどいトーンニング(toning)(非
画像領域でのインク)が見られた。このことは、PDM
Sが多く高PDMS分子量の材料が、なおもトーンニン
グに抵抗でき、ワイピングの必要なしに露光及び印刷さ
れることができることを実証する。
ーザーで画像形成後目で見た色変化が生じた。版11、
12、21及び22以外は、露光量範囲全体にわたって
印刷物を生成した。版11及び12は、最高露光量の場
合のみ印刷像を生成した。版21は、塗膜がIRレーザ
ーエネルギーに対して透過性であるので、印刷像を生じ
なかった。版22(吸収剤を有するPDMS対照)は、
部分的にしみがついた像のみを生成した。最低分子量P
DMS及び最低PDMS含有率の版13、14、15及
び16に関しては、ひどいトーンニング(toning)(非
画像領域でのインク)が見られた。このことは、PDM
Sが多く高PDMS分子量の材料が、なおもトーンニン
グに抵抗でき、ワイピングの必要なしに露光及び印刷さ
れることができることを実証する。
【0091】例3 無処理無水版に有用なポリマーが適合しなければならな
い三種類の基準がある。このポリマーは、室温で固体フ
ィルムを形成して、圧力からの損傷に抵抗しなければな
らない。このポリマーはインクを解放しなければならな
い。そしてこのポリマーは、画像形成工程もしくは印刷
機の通常の動作によって容易に除かれねばならない。
い三種類の基準がある。このポリマーは、室温で固体フ
ィルムを形成して、圧力からの損傷に抵抗しなければな
らない。このポリマーはインクを解放しなければならな
い。そしてこのポリマーは、画像形成工程もしくは印刷
機の通常の動作によって容易に除かれねばならない。
【0092】印刷版を種々のシロキサンコポリマーから
調製して、本発明の機能を説明する。25μm間隔のド
クターナイフを用いて、ジクロロメタンから次のように
コーティングを調製した。
調製して、本発明の機能を説明する。25μm間隔のド
クターナイフを用いて、ジクロロメタンから次のように
コーティングを調製した。
【0093】 ポリマー(10%溶液) 7.14g 溶剤 7.36g 色素#1(10%溶液) 0.50g
【0094】塗布後に、指先でこすって、フィルム形成
特性についてポリマーを評価した。こすっても変化の無
かったものを受け入れ可能なフィルムフォーマーとして
評価した。受け入れ可能なフィルムを生成したサンプル
の親油性を、例1で記載したようにハンドヘルドローラ
ーから無水インクを塗布することによって評価した。こ
のサンプルを画像形成し、例2と同様に無水インクを用
いて印刷し、印刷シートを評価した。100枚刷った後
に、未露光領域において清浄な印刷シートを生成したも
のをインク解放であるとみなした。露光された領域で、
追加の処理及びワイピング無しに画像を複製した印刷版
を有用な材料であるとみなした。版23は本発明と一致
する例である。版24は、硬質セグメントを有しない架
橋されたシリコーンポリマーの例である。版25及び2
8は、軟質シリコーンポリマーの例である。版26は、
インクを解放しない硬質セグメントを有するフィルム形
成性シリコーンポリマーの例である。版29及び30
は、シリコーン部分がフィルム構造を生じるのに十分強
い結合を与えない場合のコポリマーの例である。この例
は本発明の実用性を実証する。
特性についてポリマーを評価した。こすっても変化の無
かったものを受け入れ可能なフィルムフォーマーとして
評価した。受け入れ可能なフィルムを生成したサンプル
の親油性を、例1で記載したようにハンドヘルドローラ
ーから無水インクを塗布することによって評価した。こ
のサンプルを画像形成し、例2と同様に無水インクを用
いて印刷し、印刷シートを評価した。100枚刷った後
に、未露光領域において清浄な印刷シートを生成したも
のをインク解放であるとみなした。露光された領域で、
追加の処理及びワイピング無しに画像を複製した印刷版
を有用な材料であるとみなした。版23は本発明と一致
する例である。版24は、硬質セグメントを有しない架
橋されたシリコーンポリマーの例である。版25及び2
8は、軟質シリコーンポリマーの例である。版26は、
インクを解放しない硬質セグメントを有するフィルム形
成性シリコーンポリマーの例である。版29及び30
は、シリコーン部分がフィルム構造を生じるのに十分強
い結合を与えない場合のコポリマーの例である。この例
は本発明の実用性を実証する。
【0095】
【表4】
【0096】PS448は、United Chemical Technolo
gies製の未架橋のビニルを末端に有するポリジメチルシ
ロキサン(トルエンに希釈して10%溶液にする)。P
S130は、Huls America, Inc.製のポリメチルオカデ
シルシロキサン。PS828は、Huls America, Inc.製
の97%ジメチル、3%エポキシシクロヘキシルエチル
シロキサンガム。
gies製の未架橋のビニルを末端に有するポリジメチルシ
ロキサン(トルエンに希釈して10%溶液にする)。P
S130は、Huls America, Inc.製のポリメチルオカデ
シルシロキサン。PS828は、Huls America, Inc.製
の97%ジメチル、3%エポキシシクロヘキシルエチル
シロキサンガム。
【0097】DOW2616は、アミンを末端に有する
ジメチルシロキサン。DBE−712は、Gelest Inc.
製のジメチルシロキサン−酸化エチレンブロックコポリ
マー、25%シロキサン含有率600MW。DBE−2
24は、Gelest Inc. 製のジメチルシロキサン−酸化エ
チレンブロックコポリマー、75%シロキサン含有率1
0,000MW。
ジメチルシロキサン。DBE−712は、Gelest Inc.
製のジメチルシロキサン−酸化エチレンブロックコポリ
マー、25%シロキサン含有率600MW。DBE−2
24は、Gelest Inc. 製のジメチルシロキサン−酸化エ
チレンブロックコポリマー、75%シロキサン含有率1
0,000MW。
【0098】例4 上記一般式に基づいて、追加のポリマーを調製した。
【0099】
【表5】
【0100】次の調合物を用いてこれらのコーティング
溶液を調製した。
溶液を調製した。
【0101】 ポリマー (トルエン:THFが50:50中の20%溶液) 3.67g 色素1 (トルエン:メタノール50:50中の5%溶液) 1.03g FC431(トルエン中の5%溶液) 0.06g トルエン 2.62g テトラヒドロフラン 2.62g THFは、テトラヒドロフランである。
【0102】FC431は、3M speciality chemicals
の非イオン性フルオロケミカル界面活性剤。
の非イオン性フルオロケミカル界面活性剤。
【0103】25.4cc/m2 の溶液をスロットホッ
パーコーティングして印刷版を調製した。基体として1
00μmポリエステルベースを用いた。乾燥後に、1.
61g/m2 フィルムを得た。各印刷版を例2に記載し
たように画像形成した。
パーコーティングして印刷版を調製した。基体として1
00μmポリエステルベースを用いた。乾燥後に、1.
61g/m2 フィルムを得た。各印刷版を例2に記載し
たように画像形成した。
【0104】
【表6】
【0105】例2に記載したようにオフセット印刷機で
印刷すると、全てのサンプルは、600mJ/cm2 を
超える露光量において、目に見える印刷像を生成した。
2000枚刷った後、版32、34、35、36及び3
8由来の印刷物は、印刷Dmin に示されるようにトーン
ニングの無い清浄なバックグラウンドを表した。これは
高シリコーン含有率且つ高分子量シリコーンブロックを
有する表面が、トーニングに対して優れた抵抗性を有す
ることを実証する。
印刷すると、全てのサンプルは、600mJ/cm2 を
超える露光量において、目に見える印刷像を生成した。
2000枚刷った後、版32、34、35、36及び3
8由来の印刷物は、印刷Dmin に示されるようにトーン
ニングの無い清浄なバックグラウンドを表した。これは
高シリコーン含有率且つ高分子量シリコーンブロックを
有する表面が、トーニングに対して優れた抵抗性を有す
ることを実証する。
【0106】例5 炭素粒子を含有するニトロセルロースの分散体からなる
画像形成層と組み合わせて用いる、例4に記載したコポ
リマー類を用いる多層印刷版。ニトロセルロース及び炭
素分散体16.4g及び酢酸エチル83.6gとを混合
して画像形成層のコーティング溶液を調製した。この溶
液を21.5cc/m2 塗布して画像形成層を調製し
た。
画像形成層と組み合わせて用いる、例4に記載したコポ
リマー類を用いる多層印刷版。ニトロセルロース及び炭
素分散体16.4g及び酢酸エチル83.6gとを混合
して画像形成層のコーティング溶液を調製した。この溶
液を21.5cc/m2 塗布して画像形成層を調製し
た。
【0107】 ニトロセルロース及び炭素分散体: 酢酸n−ブチル 66部 イソプロピルアルコール 7.2部 カーボンブラック 10部 ニトロセルロース 16.8部
【0108】この配合物をジルコニウムビーズで1週間
磨砕した。用いたニトロセルロースは、低粘性タイプで
あった。用いたカーボンブラックは、Cabot 製のBlack
Peal450であった。ポリマー6A〜6Hの溶液を次のよ
うに調製した:
磨砕した。用いたニトロセルロースは、低粘性タイプで
あった。用いたカーボンブラックは、Cabot 製のBlack
Peal450であった。ポリマー6A〜6Hの溶液を次のよ
うに調製した:
【0109】 ポリマー (トルエン:THFが50:50中の20%溶液) 3.32g ジクロロメタン 11.68g ポリマー6A〜6Hの溶液を、25.4μm間隔を有す
るコーティングナイフを用いて25.4cc/m2 で、
前もって調製したニトロセルロースベース画像形成層に
塗布した。乾燥後、印刷版を例2のように830nmレ
ーザーで画像形成した。
るコーティングナイフを用いて25.4cc/m2 で、
前もって調製したニトロセルロースベース画像形成層に
塗布した。乾燥後、印刷版を例2のように830nmレ
ーザーで画像形成した。
【0110】
【表7】
【0111】例2に記載したように画像形成した後、こ
の版を追加の処理もしくはワイピング無しで無水インク
を用いてオフセット印刷機で印刷した。レーザーで露光
すると、全てのサンプルは、目に見える画像を生成し
た。2000枚刷った後、版40、42、及び46由来
の印刷物は、トーンニングの無い清浄なバックグラウン
ドを表した。高PDMS分子量を有するPDMS過多の
材料のみが受け入れ可能であった。
の版を追加の処理もしくはワイピング無しで無水インク
を用いてオフセット印刷機で印刷した。レーザーで露光
すると、全てのサンプルは、目に見える画像を生成し
た。2000枚刷った後、版40、42、及び46由来
の印刷物は、トーンニングの無い清浄なバックグラウン
ドを表した。高PDMS分子量を有するPDMS過多の
材料のみが受け入れ可能であった。
【0112】例6 通常のポリジメチルシリコーンを本発明の新規なシリコ
ーンコポリマーと配合することによって印刷版を調製し
た。
ーンコポリマーと配合することによって印刷版を調製し
た。
【0113】架橋可能なポリジメチルシロキサンの前溶
液を次のように調製した: PS255 8.6部 United Chemical Technologies製 0.1〜0.3%ビニル官能性を 有するポリジメチルシロキサンガ ム PS120 0.087部 ポリメチルヒドロシロキサン架橋 剤 SIT−7900 0.32部 1,3,5,7テトラビニル−1, 3,5,7テトラメチルシクロテ トラシロキサン揮発性抑制剤 SIP6831 0.017部 Gelest, Chemicals,製のプラチナ ジビニルテトラメチルジシロキサ ン複合体 トルエン 90.9部
液を次のように調製した: PS255 8.6部 United Chemical Technologies製 0.1〜0.3%ビニル官能性を 有するポリジメチルシロキサンガ ム PS120 0.087部 ポリメチルヒドロシロキサン架橋 剤 SIT−7900 0.32部 1,3,5,7テトラビニル−1, 3,5,7テトラメチルシクロテ トラシロキサン揮発性抑制剤 SIP6831 0.017部 Gelest, Chemicals,製のプラチナ ジビニルテトラメチルジシロキサ ン複合体 トルエン 90.9部
【0114】トルエンからのコーティング溶液を、ポリ
マー171Cの溶液及びPS255前溶液を配合して調
製した。0.32g/m2 被覆量を与えるのに必要なレ
ベルで色素2を加えた。ナイフブレード塗工機を用いて
50.8cc/m2 で塗膜を作成した。
マー171Cの溶液及びPS255前溶液を配合して調
製した。0.32g/m2 被覆量を与えるのに必要なレ
ベルで色素2を加えた。ナイフブレード塗工機を用いて
50.8cc/m2 で塗膜を作成した。
【0115】
【表8】
【0116】例2に記載したように830nmレーザー
で画像形成した後、この版をファウンテン溶液もしくは
無処理で無水インクを用いてオフセット印刷機で印刷し
た。版47は、50枚後に目に見える画像を印刷し、2
000枚刷ったところで印刷を止めたところバックグラ
ウンドトーンニングを全く表さなかった。
で画像形成した後、この版をファウンテン溶液もしくは
無処理で無水インクを用いてオフセット印刷機で印刷し
た。版47は、50枚後に目に見える画像を印刷し、2
000枚刷ったところで印刷を止めたところバックグラ
ウンドトーンニングを全く表さなかった。
【0117】
【表9】
【0118】このことは、既知シリコーンポリマーと配
合して、ワイピング無しで且つトーンニングに耐性を有
して画像形成可能な印刷版を作成する本発明の有用性を
さらに例証する。例7 上記一般式に基づいて、追加のコポリマーを調製した。
合して、ワイピング無しで且つトーンニングに耐性を有
して画像形成可能な印刷版を作成する本発明の有用性を
さらに例証する。例7 上記一般式に基づいて、追加のコポリマーを調製した。
【0119】
【表10】
【0120】次に示す溶液を25.4cc/m2 でスロ
ットホッパーコーティングによって印刷版を調製した。
基体として100μmポリエステルベースを用いた。乾
燥後に、1.61g/m2 フィルムを得た。例2に記載
したように各印刷版サンプルを画像形成した。
ットホッパーコーティングによって印刷版を調製した。
基体として100μmポリエステルベースを用いた。乾
燥後に、1.61g/m2 フィルムを得た。例2に記載
したように各印刷版サンプルを画像形成した。
【0121】 ポリマー (トルエン:THFが50:50中の20%溶液) 3.67g 色素1 (トルエン:メタノール50:50中の5%溶液) 1.03g FC431(トルエン中の5%溶液) 0.06g トルエン 2.62g テトラヒドロフラン 2.62g THFは、テトラヒドロフランである。
【0122】FC431は、3M speciality chemicals
の非イオン性フルオロケミカル界面活性剤。
の非イオン性フルオロケミカル界面活性剤。
【0123】
【表11】
【0124】例2に記載したようにオフセット印刷機で
印刷すると、全てのサンプルは、600mJ/cm2 を
超える露光量において、目に見える印刷像を生成した。
2000枚刷った後、版51、53、55及び57由来
の印刷物は、印刷Dmin に示されるようにトーンニング
の無い清浄なバックグラウンドを表した。これは高シリ
コーン含有率且つより長いシリコーンブロック長を有す
るポリマーを用いて、トーニングに対して抵抗性を有
し、ワイピングもしくは処理無しで画像刻印づけするこ
とができる無水印刷版を作成に用いることができること
を実証する。
印刷すると、全てのサンプルは、600mJ/cm2 を
超える露光量において、目に見える印刷像を生成した。
2000枚刷った後、版51、53、55及び57由来
の印刷物は、印刷Dmin に示されるようにトーンニング
の無い清浄なバックグラウンドを表した。これは高シリ
コーン含有率且つより長いシリコーンブロック長を有す
るポリマーを用いて、トーニングに対して抵抗性を有
し、ワイピングもしくは処理無しで画像刻印づけするこ
とができる無水印刷版を作成に用いることができること
を実証する。
【0125】例8 両方の層にIRエネルギーを吸収する物質を用いて追加
の無水印刷版を調製した。例5において前もって調製し
たニトロセルロース及び炭素画像形成層を25.4cc
/m2 でコーティング溶液でオーバーコートした。
の無水印刷版を調製した。例5において前もって調製し
たニトロセルロース及び炭素画像形成層を25.4cc
/m2 でコーティング溶液でオーバーコートした。
【0126】 ポリマー (トルエン:THFが50:50中の20%溶液) 3.67g 色素1 (トルエン:メタノール50:50中の5%溶液) 1.03g FC431(トルエン中の5%溶液) 0.06g トルエン 2.62g テトラヒドロフラン 2.62g THFは、テトラヒドロフランである。
【0127】FC431は、3M speciality chemicals
の非イオン性フルオロケミカル界面活性剤。
の非イオン性フルオロケミカル界面活性剤。
【0128】
【表12】
【0129】各印刷版を画像形成し、例2に記載するよ
うにワイピングもしくは湿式処理無しで印刷した。これ
らの印刷版は、第1枚目で画像を複製し、トーンニング
無しで2000枚印刷して、版58及び59においてそ
れぞれDmin 0.11及び0.12を生じた。
うにワイピングもしくは湿式処理無しで印刷した。これ
らの印刷版は、第1枚目で画像を複製し、トーンニング
無しで2000枚印刷して、版58及び59においてそ
れぞれDmin 0.11及び0.12を生じた。
【0130】例9 種々の基体に関する有用性をさらに記載するために、新
規な材料を用いて追加の印刷版を調製した。
規な材料を用いて追加の印刷版を調製した。
【0131】 ポリマー (トルエン:THFが50:50中の20%溶液) 3.67g 色素1 (トルエン:メタノール50:50中の5%溶液) 1.03g トルエン 2.62g テトラヒドロフラン 2.62g
【0132】塗膜61及び62に架橋剤、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートを、このポリマーに対して5重量%
添加した。
ンジイソシアネートを、このポリマーに対して5重量%
添加した。
【0133】
【表13】
【0134】各印刷版を画像形成し、例2に記載するよ
うにワイピングもしくは湿式処理無しで印刷した。例2
に記載したように印刷機で印刷すると、全てのサンプル
は所望の画像を複製した。
うにワイピングもしくは湿式処理無しで印刷した。例2
に記載したように印刷機で印刷すると、全てのサンプル
は所望の画像を複製した。
【図1】層構造の断面図である。
【図2】好ましい層構造の断面図である。
【図3】好ましい層構造の断面図である。
100…表面層 102…吸収性層 104…第二吸収性層 106…基体 108…接着層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミッチェル エス.バーバリー アメリカ合衆国,ニューヨーク 14580, ウェブスター,メイドストーン ドライブ 299
Claims (1)
- 【請求項1】 インク受容基体、及び 一般構造: −H−S− (上記式中、Sは、4000を超える分子量を有し、ポ
リマーの50〜98重量%を構成するシリコーンセグメ
ントであり、 Hは、塗布されたフィルムに物理的な結合性を与える非
シリコーンポリマー由来のセグメントである)を有する
ポリマーを含むフィルムを構成する前記基体の上に位置
する層を含んでなるレーザーによって直接画像形成可能
な平版印刷版。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74905096A | 1996-11-14 | 1996-11-14 | |
| US08/749050 | 1996-11-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10148941A true JPH10148941A (ja) | 1998-06-02 |
Family
ID=25012020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9313972A Pending JPH10148941A (ja) | 1996-11-14 | 1997-11-14 | 平版印刷版 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6040115A (ja) |
| EP (1) | EP0847853B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10148941A (ja) |
| DE (1) | DE69703963T2 (ja) |
| WO (1) | WO1998021037A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6124073A (en) * | 1997-12-09 | 2000-09-26 | Agfa-Gevaert, N.V. | Heat-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| US5950542A (en) * | 1998-01-29 | 1999-09-14 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Direct write waterless imaging member with improved ablation properties and methods of imaging and printing |
| GB9806478D0 (en) * | 1998-03-27 | 1998-05-27 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern formation |
| US6152036A (en) * | 1998-05-28 | 2000-11-28 | Agfa-Gevaert, N.V. | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
| US6085657A (en) * | 1998-08-06 | 2000-07-11 | Agfa Corporation | Redirecting printing media in a prepress printing environment |
| EP1136255B1 (en) * | 2000-03-01 | 2005-10-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording material |
| US6458507B1 (en) * | 2000-03-20 | 2002-10-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Planographic thermal imaging member and methods of use |
| US6447884B1 (en) | 2000-03-20 | 2002-09-10 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Low volume ablatable processless imaging member and method of use |
| CA2350250A1 (en) | 2000-07-28 | 2002-01-28 | Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft | Method and apparatus for producing a print image carrier on prefabricated carrier material |
| US6815139B2 (en) | 2000-12-07 | 2004-11-09 | Agfa-Gevaert | Method of processing a printing plate material with a single-fluid ink |
| US6789480B2 (en) * | 2001-02-16 | 2004-09-14 | Agfa-Gevaert | On-press exposure and on-press processing of a lithographic material |
| US6789481B2 (en) * | 2001-02-16 | 2004-09-14 | Agfa-Gevaert | On-press coating and on-press processing of a lithographic material |
| US6846608B2 (en) | 2001-11-29 | 2005-01-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method to reduce imaging effluence in processless thermal printing plates |
| US7087359B2 (en) * | 2003-01-27 | 2006-08-08 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US6884563B2 (en) * | 2003-05-20 | 2005-04-26 | Eastman Kodak Company | Thermal imaging material containing combustible nitro-resin particles |
| EP1543958B1 (en) * | 2003-12-18 | 2009-01-28 | Agfa Graphics N.V. | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| DE102004007600A1 (de) * | 2004-02-17 | 2005-09-01 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Druckform mit mehreren flächigen Funktionszonen |
| US20110120333A1 (en) * | 2009-11-23 | 2011-05-26 | Michael Karp | Direct inkjet imaging lithographic plates and methods for imaging the plates |
| US9421751B2 (en) | 2009-11-23 | 2016-08-23 | Vim-Technologies Ltd | Direct inkjet imaging lithographic plates, methods for imaging and pre-press treatment |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1146618A (en) * | 1965-10-11 | 1969-03-26 | Harry Frank Gipe | Method for preparing photo-lithographic plates |
| US4078927A (en) * | 1973-12-13 | 1978-03-14 | Xerox Corporation | Photoconductive printing master |
| GB1489308A (en) * | 1974-03-18 | 1977-10-19 | Scott Paper Co | Laser imagable dry planographic printing plate blank |
| DE2551746A1 (de) * | 1974-12-13 | 1976-06-16 | Xerox Corp | Photoleitfaehiges druckmaster |
| US4077325A (en) * | 1977-03-10 | 1978-03-07 | Xerox Corporation | Process for preparing waterless printing masters |
| US4096294A (en) * | 1977-04-04 | 1978-06-20 | Xerox Corporation | Process for preparing waterless printing masters comprising copolymer of siloxane and crystallized thermoplastic blocks |
| US4718340A (en) * | 1982-08-09 | 1988-01-12 | Milliken Research Corporation | Printing method |
| US5109771A (en) * | 1988-08-19 | 1992-05-05 | Presstek, Inc. | Spark-discharge lithography plates containing image-support pigments |
| US5165345A (en) * | 1988-08-19 | 1992-11-24 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates containing image-support pigments and methods of printing therewith |
| US5249525A (en) * | 1988-08-19 | 1993-10-05 | Presstek, Inc. | Spark-discharge lithography plates containing image-support pigments |
| US5168288A (en) * | 1989-12-18 | 1992-12-01 | Eastman Kodak Company | Thermal a scan laser printer |
| WO1992007716A1 (en) * | 1990-11-01 | 1992-05-14 | Landsman Robert M | Printing press |
| US5212048A (en) * | 1990-11-21 | 1993-05-18 | Presstek, Inc. | Silicone coating formulations and planographic printing plates made therewith |
| JPH04301641A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-26 | Toray Ind Inc | 湿し水不要平版印刷用原版 |
| JPH04301640A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-26 | Toray Ind Inc | 湿し水不要平版印刷用原版 |
| US5417164A (en) * | 1991-07-24 | 1995-05-23 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Thermosensitive recording material and thermosensitive recording method |
| US5244770A (en) * | 1991-10-23 | 1993-09-14 | Eastman Kodak Company | Donor element for laser color transfer |
| AU674518B2 (en) * | 1992-07-20 | 1997-01-02 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
| US5353705A (en) * | 1992-07-20 | 1994-10-11 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members having secondary ablation layers for use with laser-discharge imaging apparatus |
| US5339737B1 (en) * | 1992-07-20 | 1997-06-10 | Presstek Inc | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
| US5351617A (en) * | 1992-07-20 | 1994-10-04 | Presstek, Inc. | Method for laser-discharge imaging a printing plate |
| JP2592225B2 (ja) * | 1993-02-09 | 1997-03-19 | アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | ヒートモード記録材料及びそれを用いたリス印刷乾版の製造法 |
| US5355795A (en) * | 1993-08-26 | 1994-10-18 | Presstek, Inc. | Automatic plate-loading cylinder for use with plate-imaging systems |
| EP0672954B1 (en) * | 1994-03-14 | 1999-09-15 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates |
-
1997
- 1997-11-03 EP EP97203408A patent/EP0847853B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-03 DE DE69703963T patent/DE69703963T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-11-07 WO PCT/US1997/019616 patent/WO1998021037A1/en not_active Ceased
- 1997-11-14 JP JP9313972A patent/JPH10148941A/ja active Pending
-
1998
- 1998-12-09 US US09/208,520 patent/US6040115A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6040115A (en) | 2000-03-21 |
| DE69703963T2 (de) | 2001-08-23 |
| DE69703963D1 (de) | 2001-03-01 |
| EP0847853A1 (en) | 1998-06-17 |
| EP0847853B1 (en) | 2001-01-24 |
| WO1998021037A1 (en) | 1998-05-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0847853B1 (en) | A processless planographic printing plate | |
| JP3554501B2 (ja) | 残屑由来の性能劣化が低減されたリソグラフイメージング方法及び関連構造 | |
| JP3289906B2 (ja) | 画像形成方法 | |
| JP4754093B2 (ja) | ダイレクト−ツウ−プレートフレキソグラフ印刷版前駆体 | |
| EP0897795B1 (en) | Directly imageable raw plate for planographic printing plate | |
| EP0969967B1 (en) | Direct write waterless imaging member with improved ablation properties and methods of imaging and printing | |
| US6447884B1 (en) | Low volume ablatable processless imaging member and method of use | |
| US6022668A (en) | Positive-working direct write waterless lithographic printing members and methods of imaging and printing using same | |
| US6458507B1 (en) | Planographic thermal imaging member and methods of use | |
| JP2002501848A (ja) | 熱感受性ポリマーを有するプロセスレスの直接書き込み印刷板 | |
| WO1995005287A1 (en) | Printing plate material and process for producing the same | |
| JP2000094846A (ja) | 感熱性チオスルフェ―トポリマ―を含む画像形成部材及びその使用方法 | |
| JPH10161304A (ja) | レーザーダイレクト画像形成材料 | |
| JP3691613B2 (ja) | 水なし平版印刷原版及び水なし平版印刷版の形成方法 | |
| JP2001514591A (ja) | 高強度レーザーでリソグラフ印刷プレートをイメージングする方法 | |
| JPH10858A (ja) | 画像形成方法 | |
| JPH1031317A (ja) | レーザーダイレクト画像形成方法 | |
| JPH10186636A (ja) | レーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版 | |
| JPH09314794A (ja) | 湿し水不要平版原版 | |
| JPH11240273A (ja) | 感熱性画像形成要素及びそれを用いる平版印刷版の作製方法 | |
| JP2002514984A (ja) | ゾル−ゲル層を有するリソグラフ印刷プレート | |
| JPH10221840A (ja) | 水なし平版印刷版の形成方法 | |
| JPS60192693A (ja) | 製版用画像フイルムおよびその製造方法 |