JPH10152450A - ブタンジオールの製造方法 - Google Patents
ブタンジオールの製造方法Info
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Abstract
等に用いる高純度ブタンジオールの製造方法の提供。 【解決手段】 ジアセトキシブタンを加水分解してブタ
ンジオールを製造する方法において、ジアセトキシオク
タンの含有量が0.5重量%以下のジアセトキシブタン
を該反応に供する。
Description
ールの製造方法に関する。詳しくは、ブタジエンをアセ
トキシ化及び水素化して得られるジアセトキシブタンを
加水分解してブタンジオールを製造する方法の改良に関
する。ブタンジオールは、溶剤或いは、ポリエステル樹
脂、γ−ブチロラクトンやテトラヒドロフラン等の合成
原料として有用な化合物である。
ジエン、酢酸、及び酸素を、パラジウム系触媒の存在
下、反応させてジアセトキシブテンを得、次いで、パラ
ジウム系又はニッケル系触媒等を使用して、水添反応さ
せて得られるジアセトキシブタンを加水分解してブタン
ジオールとする方法が知られている(例えば、特開昭5
2−7909、同52−133912、特開平7−82
191号公報等)。
タジエンのアセトキシ化工程では多量の酢酸を使用し、
未反応の酢酸と副生する水を除去する必要があり、ジア
セトキシブタンの加水分解工程では多量の水を使用し、
未反応の水と副生する酢酸を除去する必要があるため、
製品純度を保持しながら、これらを回収してリサイクル
する各種の提案がなされている(上記各公報等参照)。
一方、ブタンジオールの用途、特に、ポリエステル樹脂
原料や、ポリテトラメチレンエーテルグリコール等のポ
リエーテル原料として用いられるテトラヒドロフラン向
け等には、ブタンジオールの純度が重合反応の速度や得
られるポリマーの分子量に対して影響を与えることか
ら、重合反応に影響を与えない高純度のブタンジオール
が要求されている。
セトキシブタンを加水分解して得られる反応生成物を蒸
留に供し、通常、水と酢酸及び他の軽沸物を留去させた
塔底液としてブタンジオールを含む成分を得、この缶出
液を更に蒸留して、例えば、塔頂より軽沸分、上部側流
よりジアセトキシブタン、ヒドロキシアセトキシブタン
等を留出させ、中若しくは下部側流又は塔底より留出さ
せるブタンジオールを精留して高純度ブタンジオールを
得ているが、この方法では不純物の除去が必ずしも十分
とは言えなかった。本発明は、ブタジエンを原料とし、
これをアセトキシ化し、次いで水素化して得られるジア
セトキシブタンを加水分解して、ポリエステル樹脂原料
やテトラヒドロフラン原料等として用いるに適した高純
度ブタンジオールを、工業的に有利に製造する方法を提
供することを目的とする。
タンジオールの製造方法について鋭意検討した結果、ブ
タジエンを原料として得られるブタンジオール中には蒸
留によっては分離困難な不純物が含まれること、この分
離し難い不純物がモノアセトキシオクタノールであるこ
と、モノアセトキシオクタノールの沸点は約270℃と
推算されるが、気液平衡の実測結果からは、1,4−ブ
タンジオール(沸点230℃)との沸点差約40℃から
予想される以上に蒸留による分離が困難であること、更
に、この不純物モノアセトキシオクタノールはジアセト
キシブタン中に含まれるジアセトキシオクタンの加水分
解により生成していることを見出し本発明を完成した。
分解してブタンジオールを製造する方法において、加水
分解反応に供されるジアセトキシブタン中のジアセトキ
シオクタンの含有量が0.5重量%以下であることを特
徴とするブタンジオールの製造方法を提供するものであ
る。ジアセトキシオクタンの含有量を0.5重量%以
下、好ましくは0.01〜0.2重量%とすることによ
り、加水分解反応生成物を常法に従って蒸留に供し、水
と酢酸及び他の軽沸物を留去させた塔底缶出液を蒸留し
て軽沸分を留出させたブタンジオール留分を精留するこ
とにより不純物モノアセトキシオクタノール含量が1重
量%以下の、即ち、純度99重量%以上の高純度1,4
−ブタンジオールを得ることができる。
キシオクタンの含有量を0.5重量%以下とする方法と
しては、アセトキシ化反応生成物からジアセトキシブテ
ンを蒸留回収する際に、得られるジアセトキシブテン中
のジアセトキシオクタジエンの量を所定量(0.5重量
%)以下とする方法、ジアセトキシブテンを水素化して
得られる水添反応生成物であるジアセトキシブタン中の
ジアセトキシオクタンを蒸留除去して0.5重量%以下
とする方法、及び、上記各工程での該当不純物の低減化
法の一部又は全部を組合わせて全体としてジアセトキシ
ブタン中のジアセトキシオクタンの量を0.5重量%以
下とする方法等を、適宜、採用することができる。工程
全体のエネルギー負荷とプロセスの簡略化の面から、ジ
アセトキシオクタジエンを蒸留除去する方法が好まし
い。
セトキシ化反応によりジアセトキシブテンを得、これを
水添反応、加水分解反応を経てブタンジオールとする製
造工程の一例を説明する。図1において、1はアセトキ
シ化反応器、2は第1蒸留塔、3は第2蒸留塔、4は水
添反応器、5は第3蒸留塔、6は加水分解反応器、7は
第4蒸留塔、8は第5蒸留塔、9は第6蒸留塔である。
と反応させて、ジアセトキシブテンを得るアセトキシ化
反応工程:アセトキシ化反応は、ブタジエン、酢酸、及
び分子状酸素を、パラジウム系触媒の存在下、反応器
(1)内で反応させる公知の方法により行われる。パラ
ジウム系触媒としては、パラジウム金属又はその塩(例
えば、塩化パラジウム、硝酸パラジウム、酢酸パラジウ
ム等の有機又は無機酸塩)を単独で、或いは、助触媒と
してビスマス、セレン、アンチモン、テルル、銅等の金
属又はそれらの塩や酸、酸化物(例えば、酸化ビスマ
ス、セレン酸、酸化テルル、塩化アンチモン、オルトテ
ルル酸、塩化銅等)を組み合わせて用いられる。触媒
は、シリカ、アルミナ、活性炭等の担体に担持させて用
いることが好ましく、担持触媒中の触媒金属量は、通
常、パラジウム金属が0.1〜20重量%、他の助触媒
金属を使用する場合は当該金属が0.01〜30重量%
の範囲で選定される。
流動床方式、触媒懸濁方式等の任意の方法で実施され
る。反応は40〜180℃、好ましくは60〜150℃
の温度範囲で、常圧以上、通常、300kg/cm
2 〔29.4MPa〕以下、好ましくは30〜150k
g/cm2 〔2.94〜14.7MPa〕の圧力下で実
施される。このようにして得られるアセトキシ化の反応
生成物には、未反応のブタジエン等が含まれているの
で、脱ガス処理した後、蒸留してジアセトキシブテンを
得るのが一般的である。
酢酸を塔頂から留去し、その塔底液を第2蒸留塔(3)
に供給し、塔頂からジアセトキシブテンを得、ジアセト
キシオクタジエンを含む高沸物を塔底から抜き出す。こ
の際、第2蒸留塔(3)の塔底液を薄膜蒸発器に供給し
て高沸物との分離効率を上げる方法(詳細は特開平6−
321861号公報参照)を採用してもよい。
に含まれるジアセトキシオクタジエンの量は、第2蒸留
塔(3)に供給されるジアセトキシブテン中のジアセト
キシオクタジエンの量と第2蒸留塔の操作条件によって
定められるが、通常、第2蒸留塔(3)に供給されるジ
アセトキシブテン中のジアセトキシオクタジエンの量は
約3重量%程度である。第2蒸留塔(3)は、理論段5
〜10段で、塔頂圧力5〜200mmHg(0.7〜2
6.7kPa)、塔底温度190℃以下、還流比0.1
〜1、塔頂からの留出率70〜99%で操作される。
出されるジアセトキシブテン中のジアセトキシオクタジ
エンの量は、約0.1〜2.5重量%であるが、ジアセ
トキシブタン中のジアセトキシオクタンを蒸留除去する
方法と組み合わせる場合は、1.0〜2.5重量%、好
ましくは1.5重量%以下となるように蒸留条件を設定
し、ジアセトキシオクタジエンのみを蒸留除去する場合
は0.5重量%以下、好ましくは0.1重量%以下とな
るように蒸留条件を設定する。ジアセトキシブテン中の
不純物の切れをよくするためには、通常、蒸留条件の
中、例えば理論段数又は還流比を上げると共に留出率を
絞る等の方法が採用され、具体的には、第2蒸留塔は、
理論段5〜20段で、還流比0.1〜10、塔頂からの
留出率70〜97%で操作される。
応生成物を水添してジアセトキシブタンを得る水素化工
程:第2蒸留塔(3)の塔頂から得られたジアセトキシ
ブテンは、次いで水添反応に供されジアセトキシブタン
を生成する。水添反応は、反応器(4)内で通常、パラ
ジウム、ルテニウム等の貴金属触媒又はニッケル触媒の
存在下に、アセトキシブテンと水素を接触させ、40〜
180℃の温度範囲で、常圧以上、通常、150kg/
cm2 〔14.7MPa〕までの圧力下で反応させるこ
とにより実施される。
方式、触媒懸濁方式等の任意の方法で実施される。水素
化反応に使用される水素は高純度のものはもとより、反
応に悪影響を及ぼさない他のガスで希釈されているもの
でも使用することができる。その使用量は、ジアセトキ
シブテン1モルに対して通常1〜50モル、好ましくは
2〜20モルである。
理をした後、第3蒸留塔(5)で蒸留してジアセトキシ
ブタンを得る。蒸留は、通常、塔頂からジアセトキシブ
タンを留出し、塔底からジアセトキシオクタジエンの水
素化物であるジアセトキシオクタンを含む高沸物を缶出
する。第3蒸留塔(5)は、理論段5〜10段で、塔頂
圧力5〜200mmHg[0.7〜26.7kPa]、
塔底温度190℃以下、還流比0.1〜1、塔頂からの
留出率70〜99%で操作される。
シブタン中のジアセトキシオクタンの量は、第2蒸留塔
(3)の操作条件によって定まるが、前記の操作条件で
は約0.1〜2.5重量%であり、第2蒸留塔でジアセ
トキシオクタジエンを0.5重量%以下に除去した場合
は0.5重量%以下、好ましくは0.1重量%以下であ
り、第2蒸留塔でジアセトキシオクタジエンを1.0〜
2.5重量%、好ましくは1.5重量%以下とした場合
は1.0〜2.5重量%、好ましくは1.5重量%以下
である。第2蒸留塔でのジアセトキシオクタジエンの蒸
留除去が不十分で2.5重量%超える場合は、第3蒸留
塔に供給されるジアセトキシブタン中のジアセトキシオ
クタンが2.5重量%超え、第3蒸留塔の蒸留条件によ
りジアセトキシオクタジエンを0.5重量%以下とする
必要がある。
の除去と第3蒸留塔でのジアセトキシオクタンの除去と
を組み合わせる場合の両塔での除去量の関係について
は、各塔の蒸留負荷見合いで適宜設定されるが、第2蒸
留塔でのジアセトキシオクタジエンの除去の割合が所定
除去量の50%以上であることが好ましい。塔頂から抜
き出されるジアセトキシブタン中のジアセトキシオクタ
ンの量は、第2蒸留塔が通常の操作条件の場合、1.0
〜2.5重量%であり、本発明の方法では0.5重量%
以下、好ましくは0.2重量%以下となるように第3蒸
留塔の条件を設定する。具体的には、第3蒸留塔(5)
は、理論段5〜20段で、還流比0.1〜10、塔頂か
らの留出率70〜97%で操作される。ジアセトキシオ
クタンの含有量が0.5重量を越えると、これを加水分
解して得られるブタンジオール中にモノアセトキシオク
タノールとして含有され、蒸留によってこれを除去する
ことが困難となる。
タンジオールを得る工程:加水分解反応は、通常、反応
器(6)内で陽イオン交換樹脂等の固体酸触媒の存在下
に、ジアセトキシブタンと水を接触させ、30〜110
℃、好ましくは40〜90℃の温度範囲で、反応中、沸
騰状態を生起したり或いは溶存ガス等による著しい気泡
が発生するのを阻止する程度の圧力下、通常、常圧〜1
0kg/cm2 G〔0.098〜1.08MPa〕の範
囲で実施される。反応に使用する水の量は、ジアセトキ
シブタン1モルに対し、通常、2〜100モル、好まし
くは4〜50モルであり、水の量が少なすぎると反応率
が低下し、他方、水の量が多過ぎると反応生成物からブ
タンジオールを回収する際に多量の熱エネルギーを要す
るので好ましくない。
実施される。また、イオン交換樹脂を用いる場合、懸濁
状態で反応させる方式でも、イオン交換樹脂の充填層に
反応原料を通過させる方式でもよく、工業的には固定床
連続法が有利である。懸濁床で反応を実施する場合、イ
オン交換樹脂の使用量は液重量に対して0.1〜50重
量%、好ましくは1〜10重量%である。固定床連続法
の場合は、所定温度に保たれたイオン交換樹脂充填層反
応器に、水とジアセトキシブタンを連続的に供給すると
ともに、生成したブタンジオールと酢酸を過剰水との混
合液として連続的に抜き出すことにより行われる。
内への供給は、別々でも、混合して供給してもよく、ま
た、反応生成物であるブタンジオールやモノヒドロキシ
アセトキシブタン等を共存させて均一液相で供給するこ
ともできる。固定床の場合には、反応を円滑に促進する
上で均一液相で供給することが好ましい。反応生成液
は、目的とするブタンジオールの他に、酢酸と水、並び
に部分加水分解生成物及び若干の副生テトラヒドロフラ
ン等を含んでいる。反応終了後、必要に応じ反応液から
触媒を濾別し、蒸留してブタンジオールを得る。蒸留
は、通常、第4蒸留塔(7)で、水、酢酸を塔頂から留
去し、その塔底液を第5蒸留塔(8)に供給し、塔頂か
ら未反応のジアセトキシブタンや異性体を分離し、1,
4−ブタンジオールを主成分とする塔底液を第6蒸留塔
(9)に供給し、その塔頂から目的とする製品1,4−
ブタンジオールを得、塔底から高沸物を缶出する。製品
1,4−ブタンジオール中のモノアセトキシオクタノー
ルの量は1重量%以下、好ましくは0〜0.5重量%で
ある。
説明する。尚、実施例において「部」とは「重量部」
を、「%」は「重量%」を意味する。 (参考例1)アセトキシ化反応 アセトキシ化反応器に、1,3−ブタジエン170部/
hr、酢酸3000部/hr、及び酸素530部/hr
を供給し、パラジウム3%、テルル0.6%を活性炭に
担持した触媒の存在下、9MPa、100℃で反応した
後、脱ガス処理して、ジアセトキシブテン14.2%、
ジアセトキシオクタジエン0.6%を含む反応生成物を
得た。該反応生成物を3100部/hrで第1蒸留塔に
供給し、水及び酢酸の大部分を252部/hrで塔頂よ
り留去し、ジアセトキシブテン84.5%、ジアセトキ
シオクタジエン3.2重量%を含む塔底液を580部/
hrで缶出した。
蒸留塔(実段数20段)に580部/hrで供給して、
塔頂圧力2.7kPa、還流比0.5の条件で蒸留し、
塔頂からジアセトキシブテン86.3%、ジアセトキシ
オクタジエン1.0%を含む液を550部/hrで留出
させた。得られたジアセトキシブテン留分を、パラジウ
ム触媒及びルテニウム触媒を充填した水添反応器に供給
し、水素流通下、反応圧5MPa、温度70℃で水添反
応を行い、ジアセトキシブタン86.5%、ジアセトキ
シオクタン1.0%を含む反応液を得た。該反応液を、
気液分離後、第3蒸留塔(実段数20段)に550部/
hrで供給して、塔頂圧力2.0kPa、還流比0.2
5の条件で蒸留し、塔頂からジアセトキシブタン87.
1%、ジアセトキシオクタン0.2%を含む液を520
部/hrで留出させた。
水500部/hrと共に、強酸性イオン交換樹脂(ダイ
ヤイオンSK−1B;三菱化学(株)商品名)を充填し
た加水分解反応器に供給し、温度50℃で加水分解反応
を行い、1,4−ブタンジオール10.2%、モノアセ
トキシオクタノール0.04%を含む反応液を得た。該
反応液を、第4蒸留塔に1020部/hrで供給し、水
及び酢酸の大部分を660部/hrで塔頂より留去し、
1,4−ブタンジオール28.9%、モノアセトキシオ
クタノール0.1%を含む塔底液を360部/hrで缶
出し、缶出液を第5蒸留塔に供給して塔頂より未反応の
ジアセトキシブタン等を留去した後、第5蒸留塔の缶出
液を第6蒸留塔に供給して、高沸物を塔底から除去し
て、塔頂より純度99.3%の1,4−ブタンジオール
を得た。1,4−ブタンジオール中のモノアセトキシオ
クタノール濃度は0.4%であった。
で得た缶出液を供給した第2蒸留塔の還流比を5とした
他は実施例1と同様の条件で蒸留し、塔頂からジアセト
キシブテン87.1%、ジアセトキシオクタジエン0.
1%を含む留出液を得た。得られたジアセトキシブテン
留分を、実施例1と同様の条件で水添反応に供給し、ジ
アセトキシブタン87.3%、ジアセトキシオクタン
0.1%を含む反応液を得た。
蒸留塔に供給せず、そのまま実施例1と同様の条件で加
水分解反応を行い、1,4−ブタンジオール10.4
%、モノアセトキシオクタノール0.02%を含む反応
液を得た。該反応液を、実施例1と同様にして、第4蒸
留塔、第5蒸留塔、及び第6蒸留塔に供給して、第6蒸
留塔の塔頂より純度99.5%の1,4−ブタンジオー
ルを得た。モノアセトキシオクタノール濃度は0.2%
であった。
塔の還流比を0.05とした他は実施例1と同様の条件
で蒸留し、塔頂からジアセトキシブテン85.0%、ジ
アセトキシオクタジエン1.7%を含む留出液を得た。
得られたジアセトキシブテン留分を用いて、実施例2と
同様にして、水添反応に供給し、得られた水添反応液
(ジアセトキシブタン85.1%、ジアセトキシオクタ
ン1.6%含有)を、気液分離後、第3蒸留塔に供給せ
ず、そのまま実施例1と同様の条件で加水分解反応を行
い、1,4−ブタンジオール9.9%、モノアセトキシ
オクタノール0.3%を含む反応液を得た。該反応液
を、実施例1と同様にして、第4蒸留塔、第5蒸留塔、
及び第6蒸留塔に供給して、第6蒸留塔の塔頂より純度
95.1%の1,4−ブタンジオールを得た。モノアセ
トキシオクタノール濃度は3.2%であった。
られるブタンジオール中に含まれる蒸留により分離困難
な不純物であるモノアセトキシオクタノールの含有量が
1重量%以下の、ポリエステル、テトラヒドロフラン等
の原料として用いるに適した高純度の1,4−ブタンジ
オールを工業的に有利に得ることができる。
ある。
Claims (8)
- 【請求項1】 ジアセトキシブタンを加水分解してブタ
ンジオールを製造する方法において、加水分解反応に供
されるジアセトキシブタン中のジアセトキシオクタンの
含有量が0.5重量%以下であることを特徴とするブタ
ンジオールの製造方法。 - 【請求項2】 ジアセトキシブタンが、ジアセトキシブ
テンを水素化して得られるものである請求項1に記載の
製造方法。 - 【請求項3】 ジアセトキシブタンが、ブタジエンを原
料とし、これをアセトキシ化し、更に水素化して得られ
るものである請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 ブタジエンのアセトキシ化が、パラジウ
ム系触媒の存在下、ブタジエン、酢酸及び分子状酸素を
反応させて、ジアセトキシブテンを得るものである請求
項3に記載の製造方法。 - 【請求項5】 ジアセトキシオクタンの含有量が0.2
重量%以下である請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項6】 ジアセトキシブテン中のジアセトキシオ
クタジエンの含有量が0.2重量%以下である請求項1
に記載の製造方法。 - 【請求項7】 ブタンジオールが1,4−ブタンジオー
ルである請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項8】 1,4−ブタンジオール中のモノアセト
キシオクタノールの含有量が1重量%以下である請求項
7に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25028797A JP3959793B2 (ja) | 1996-09-24 | 1997-09-16 | ブタンジオールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-251455 | 1996-09-24 | ||
| JP25145596 | 1996-09-24 | ||
| JP25028797A JP3959793B2 (ja) | 1996-09-24 | 1997-09-16 | ブタンジオールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10152450A true JPH10152450A (ja) | 1998-06-09 |
| JP3959793B2 JP3959793B2 (ja) | 2007-08-15 |
Family
ID=26539717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25028797A Expired - Fee Related JP3959793B2 (ja) | 1996-09-24 | 1997-09-16 | ブタンジオールの製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3959793B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11040334B2 (en) | 2017-02-13 | 2021-06-22 | Daicel Corporation | Catalyst for reduction reaction of 3,4-dihydroxytetrahydrofuran, and method for producing 3,4-dihydroxytetrahydrofuran reduced product |
-
1997
- 1997-09-16 JP JP25028797A patent/JP3959793B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11040334B2 (en) | 2017-02-13 | 2021-06-22 | Daicel Corporation | Catalyst for reduction reaction of 3,4-dihydroxytetrahydrofuran, and method for producing 3,4-dihydroxytetrahydrofuran reduced product |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3959793B2 (ja) | 2007-08-15 |
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