JPH10154351A - 光学記録媒体とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度かつ剛性を確保した光学記録媒体を製
造する。 【解決手段】 曲げ弾性率７×１０⁹（７Ｇ（ギガ））
（Ｐａ）以上の支持基板２０と、微細凹凸構造を有する
情報記録層１５を積層し、情報記録層１５上に、厚さ
０．３ｍｍ以下の均一な厚さの光透過層１００を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体とそ
の製造方法に係わる。

【０００２】

【従来の技術】オーディオ用、ビデオ用その他の各種情
報を記録する光学記録媒体として、その記録もしくは再
生を光照射によって行う光ディスク、光カード、光磁気
ディスク、相変化光学記録媒体等のＲＯＭ（Ｒｅａｄ
Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）型、追記型、書換え型等の光
学記録媒体があるが、例えばコンパクトディスクにおけ
るようなＲＯＭ型においてその情報記録層にデータ情
報、トラッキングサーボ信号等の記録がなされる位相ピ
ット、プリグルーフ等の微細凹凸は、また、追記型、書
換え型等の光磁気あるいは相変化等による光磁気媒体に
おいてもプリグループ等の微細凹凸の形成がなされる。

【０００３】図２１は、従来のＣＤ等の光ディスクの概
略断面図を示す。

【０００４】この光学記録媒体は、例えばポリカーボネ
ート等の透明な１．２ｍｍ厚の基板１の射出成形と同時
に微細凹凸２を形成し、この微細凹凸２にＡｌ蒸着膜等
による反射膜４を厚さ数十ｎｍに形成し、情報記録層５
とする。さらにこの情報記録層５に例えば紫外線硬化性
樹脂の保護膜６を数μｍ積層した構成としたものであ
る。

【０００５】この光学記録媒体に対する情報記録層５か
らの情報の読み出しは、図２１中、例えば基板１個から
の読み出し光Ｌの光照射によって行う。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、記録情
報量の大容量化に伴い、高記録密度化を図る必要があ
り、これによって光ピックアップの対物レンズの開口数
Ｎ．Ａをできるだけ大きくする必要が生じる。このよう
に対物レンズの開口数Ｎ．Ａを大きくする場合、対物レ
ンズと情報記録層５との間隔は小さく選定される必要が
あり、また、この場合、光学記録媒体の傾き許容度が減
少することから、情報記録層５と光入射面との距離、す
なわち光透過層の厚さは充分小に、例えば０．３ｍｍ以
下とする必要が生じている。

【０００７】上述した従来の光学記録媒体においては、
透明な基板１側から光照射がなされるものである。すな
わち従来構造においては基板１が光透過層となる。した
がって、基板１を薄く作製すればよいのであるが、この
基板を薄くすることに関しては限界がある。

【０００８】すなわち、基板１はポリカーボネート等の
光透過性樹脂により作製するが、これは基板製造直後に
おいては、情報記録層を形成する際に使用する紫外線硬
化性樹脂の硬化収縮により基板１に反りが残存し易く、
また、経時変化においては、基板の空気中水分の吸脱着
による反り等の変形が生じてしまい、基板１を薄く作製
した場合、基板１の剛性が不充分であるため、これらの
原因による基板１の変形がより一層発生し易くなるので
ある。

【０００９】上述した原因による基板１に発生した変形
は、光学記録媒体に対する記録再生のエラー発生原因と
なる。

【００１０】また、光ディスクをプレイヤーで記録再生
する際の光ディスクの回転速度（ｒｐｍ）は今後増大す
る傾向にあり、光学記録媒体の剛性が低いと高速回転時
のディスクの面振れが深刻な問題となる。

【００１１】そこで、本発明は、記録情報量の大容量化
に伴い、高記録密度化を図るため、光透過層を情報記録
層上に薄く、均一な厚さに形成し、さらに基板の剛性を
確保する。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明による光学記録媒
体は、曲げ弾性率７×１０⁹（Ｐａ）以上の支持基板
と、微細凹凸構造を有する情報記録層が積層し、情報記
録層上に厚さ０．３ｍｍ以下の均一な厚さの光透過層が
積層した構造とする。

【００１３】また、本発明による光学記録媒体は、曲げ
弾性率７×１０⁹（Ｐａ）以上の支持基板上に、微細凹
凸構造を有する情報記録層を形成するか、支持基板自体
に情報記録層を形成し、情報記録層に、厚さ０．３ｍｍ
以下の均一な厚さの光透過層を積層して製造する。

【００１４】本発明によれば、光学記録媒体の剛性を高
く保持することができるので、将来の記録密度の高度化
に対応して、記録情報の読み取り、あるいは情報の記録
を行う両側の光透過層の厚さを一層薄くすることがで
き、これにより、基板作製後に基板の反りや、変形を効
果的に回避することができる。

【００１５】また、記録情報の記録、または再生あるい
はその双方において、光学記録媒体を高速回転させたと
きの面振れを抑制することができ、高記録密度の光学記
録媒体の安定な記録再生を図ることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明の具体的な実施の形態につ
いて説明する。

【００１７】以下において、ディスク状、いわゆる円板
状の光ディスクに適用する場合について説明するが、本
発明は、このような光ディスクや、形状に限られるもの
ではなく、光磁気ディスク、相変化ディスク、その他カ
ード状、シート状等の微細凹凸を情報記録層に有する各
種光学記録媒体に適用することができる。

【００１８】本発明方法の一実施例を説明する。

【００１９】この例は、図１にその概略断面図を示すよ
うに、曲げ弾性率７×１０⁹（７Ｇ（ギガ））（Ｐａ）
以上の支持基板２０と、微細凹凸構造を有する情報記録
層１５を積層し、情報記録層上に情報を読み取り、かつ
記録するレーザー光に対して充分な透過率を有する厚さ
０．３ｍｍ以下の均一な厚さの光透過層１００を積層し
た構造の光学記録媒体を得る場合である。

【００２０】この図１に示す光学記録媒体用の基板１０
は、その一主面にデータ記録ピットや、プリグループ等
の微細凹凸１２が形成されている。

【００２１】これは、基板１０が図２に示すように、均
一な膜厚、例えば０．１ｍｍ厚の、例えばポリカーボネ
ート等の光透過性樹脂よりなるシート９０からの打ち抜
きによって形成され、その打ち抜き前において、シート
９０に微細凹凸１２がスタンパー１８によるプレスによ
って形成される。

【００２２】この場合、図２に示すように、ガイドロー
ラ９１間に案内移行させた帯状のシート９０を、ガイド
ローラ９１間に移行させ、その移行途上において、シー
ト９０の上から加熱したスタンパー１８を圧着し、デー
タ記録ピット、グルーブ等の微細凹凸１２を転写形成す
る。

【００２３】その後、シート打ち抜き機９３により、例
えばディスク形状に打ち抜き、一主面に微細凹凸１２が
形成された基板１０を作製する。

【００２４】そして、図３に示すように、微細凹凸１２
上に、Ａｌ等の反射膜、あるいは相変化材料または光磁
気材料等の材料膜１４を成膜して、情報記録層１５を形
成する。

【００２５】このようにして情報記録層１５を形成した
基板１０を、図４に示すように、例えばＡｌ、Ｎｉ等の
金属、ガラス、あるいは強化プラスチック等の曲げ弾性
率７×１０⁹（Ｐａ）以上の材料からなる、厚さが例え
ば１．０ｍｍの例えば円盤状の支持基板２０に接着す
る。

【００２６】その後、情報記録層１５上に液状光硬化性
樹脂（紫外線硬化性樹脂）を塗布し、基板１０を高速回
転することにより液状光硬化性樹脂を延伸させる。

【００２７】そして、例えば紫外線照射を行い、液状光
硬化性樹脂を硬化させて、厚さ０．３ｍｍ以下の光透過
層１００を形成し、目的とする光学記録媒体を得る。

【００２８】また、上述のようにして光透過性樹脂より
なるシート９０により作製した基板１０を、図５に示す
ように、情報記録層１５を支持基板２０に対向させて、
すなわち情報記録層１５を内側にして、液状光硬化性樹
脂３を介して貼り合わせた構成とすることもできる。

【００２９】以下、他の実施例について説明する。

【００３０】本発明の光学記録媒体は、透明シートの圧
着により基板１０を成形する場合に限定されるものでは
なく、図６に示す射出成形装置６０による射出成形によ
り基板１０を形成することもできる。

【００３１】この場合、例えばポリカーボネート等の光
透過性樹脂の射出成形によって、基板１０の成形と同時
に基板１０の一主面に微細凹凸１２を形成するものであ
る。図６に示す射出成形装置６０は、基板１０を成形す
るためのキャビティ７０を構成する、例えばステンテス
系金属よりなる一対の金型８０より成る。

【００３２】基板１０の成形において使用する一対の金
型８０には、情報記録層１５を構成する微細凹凸１２を
転写するスタンパー２８が、例えば真空チャック（図示
せず）により配置、保持される。

【００３３】先ず、光透過性樹脂例えば溶融ポリカーボ
ネートをキャビティ７０内に流し込み放熱させると同時
にスタンパー２８により微細凹凸１２を転写し、固化さ
せる。

【００３４】このようにすると、図７に示すように一主
面に情報記録層１５を構成する微細凹凸１２が形成され
た基板１０を得ることができる。

【００３５】そして、上述した方法と同様に、微細凹凸
１２上に、例えばＡｌ等の反射膜、あるいは相変化材料
または光磁気材料等の材料膜１４を成膜して、情報記録
層１５を形成する。

【００３６】このようにして情報記録層１５を形成した
基板１０を、例えばＡｌ、Ｎｉ等の金属、ガラス、ある
いは強化プラスチック等の曲げ弾性率７×１０⁹（Ｐ
ａ）以上の材料からなる、厚さが例えば１．０ｍｍの例
えば円盤状の支持基板２０に接着する。

【００３７】その後、情報記録層１５上に液状光硬化性
樹脂を塗布し、基板１０を高速回転することにより液状
光硬化性樹脂を延伸させる。

【００３８】紫外線照射を行い、液状光硬化性樹脂を硬
化させて、厚さ０．３ｍｍ以下の光透過層１００を形成
し、目的とする光学記録媒体を得ることができる。

【００３９】上述した例においては、情報記録層１５を
形成する微細凹凸１２の転写を行った基板１０と、曲げ
弾性率７×１０⁹（Ｐａ）以上の材料からなる、厚さが
例えば１．０ｍｍの例えば円盤状の支持基板２０とを、
貼り合わせる構成の光学記録媒体について説明したが、
本発明はこの例に限定されることなく、曲げ弾性率７×
１０⁹（Ｐａ）以上の材料からなる、厚さが例えば１．
０ｍｍの例えば円盤状の支持基抜２０上に、いわゆるフ
ォトポリマリゼーション（Photo Polymerization：２
Ｐ）法により、直接情報記録層１５を形成した場合につ
いても適用することができる。

【００４０】この２Ｐ法によって光学記録媒体を製造す
る方法は、先ず、図８に示すように、一方主面上に微細
凹凸が形成されたスタンパー１１０と、光学記録媒体の
基材となるベースプレート１１１とを用意する。ここ
で、スタンパー１１０は、例えばニッケル等の金属から
なるものを使用している。また、このスタンパー１１０
は、一方主面に形成されている微細凹凸を所望の信号と
したものを使用する。一方、ベースプレート１１１は、
光透過性を有する合成樹脂材料からなり、厚さ寸法が約
０．１ｍｍ程度のものを使用する。なお、本実施の形態
においては、ベースプレート１１１の材料としてポリカ
ーボネートを使用しているが、これに限らず、ポリメタ
クリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等でも良い。

【００４１】次に、図８に示すように、上述のスタンパ
ー１１０上に、２Ｐレジン１１２を滴下する。このと
き、２Ｐレジン１１２は、スタンパー１１０上に円周状
に滴下する。なお、この２Ｐレジン１１２は、スタンパ
ー１１０上に滴下して塗布しても良いが、スタンパー１
１０とベースプレート１１１とを所定の間隔を介して配
設し、このスタンパー１１０とベースプレート１１１と
の間に２Ｐレジン１１２を充填させるようにしても良
い。なお、この２Ｐレジン１１２としては、紫外線領域
の波長の光が照射されることによって硬化される紫外線
硬化性樹脂を使用している。

【００４２】次に、図９に示すように、２Ｐレジン１１
２が滴化されたスタンパー１１０上にベースプレート１
１１を載せ、ローラー１１３等で所定の圧力を加えて圧
着させる。その後、紫外線照射装置１１４により紫外線
光をベースプレート１１１側から照射することによっ
て、２Ｐレジン１１２を硬化させる。このように、例え
ばローラー１１３等の圧着手段によって圧力をかけ、紫
外線照射を行って２Ｐレジン１１２を硬化させることに
よって、厚さが約５〜１０μｍ程度の２Ｐレジン層１１
２を形成する。

【００４３】次に、図１０に示すように、上述の工程に
よってスタンパー１１０に形成されている微細凹凸が転
写された２Ｐレジン層１１２と、ベースプレート１１１
とを、スタンパー１１０から剥離する。そして、ベース
プレート１１１とスタンパー１１０とからなるレプリカ
を完成させる。

【００４４】次に、図１１に示すように、このレプリカ
の２Ｐレジン層１１２が形成されている面側に機能層１
１５を形成し、この機能層１１５上に保護膜１１６を形
成する。なお、この機能層１１５は、情報信号の再生専
用の光学記録媒体を構成する場合には、反射膜を形成す
る。また、この機能層１１５は、情報信号の記録再生を
可能とする光学記録媒体を構成する場合には、２Ｐレジ
ン層１１２上に誘電体膜、記録膜、誘電体膜、反射膜の
順に形成する。なお、この記録膜は、光磁気材料であっ
ても良く、相変化材料であっても良い。

【００４５】次に、図１１に示すように、上述の工程に
より機能層１１５及び保護層１１６が形成されたレプリ
カと、支持基板１１７とを接着させることによって、光
学記録媒体を得る。なお、この支持基板１１７は、レプ
リカを接着する面が平坦となっていても良い。

【００４６】また、本発明は、支持基板１１７と情報記
録層を形成する基板とを別に形成せず、予め、曲げ弾性
率７×１０⁹（Ｐａ）以上の材料を用いて基板を情報記
録層を形成する微細凹凸の転写と同時に形成する場合に
ついても適用することができる。

【００４７】すなわち、図８に示すように、射出成形装
置６２により、基板１０を作製する。

【００４８】これは、曲げ弾性率７×１０⁹（Ｐａ）以
上の強化プラスチック樹脂の射出成形によって、基板４
０の成形と同時に基板４０の一主面に微細凹凸４２を形
成するものである。

【００４９】図１２に示す基板作製装置６２は、基板４
０を成形するためのキャビティ７０を構成する、例えば
ステンテス系金属よりなる一対の金型８２が、対向され
てなる。

【００５０】基板４０の成形において使用する一対の金
型８２には、情報記録層４５を構成する微細凹凸４２を
転写するスタンパー３８が、例えば真空チャック（図示
せず）により配置、保持される。

【００５１】先ず、溶融された強化プラスチック樹脂を
キャビティ７０内に流し込み放熱させると同時にスタン
パー３８により微細凹凸４２を転写し、固化させる。

【００５２】このようにすると、図１３に示すように一
主面に情報記録層４５を構成する微細凹凸４２が形成さ
れた基板４０を得ることができる。

【００５３】そして、上述した方法と同様に、微細凹凸
４２上に、例えばＡｌ等の反射膜、あるいは相変化材料
またほ光磁気材料等の材料膜４４を成膜して、情報記録
層４５を形成する。

【００５４】その後、情報記録層４５上に液状光硬化性
樹脂を塗布し、基板４０を高速回転することにより液状
光硬化性樹脂を延伸させる。

【００５５】紫外線照射を行い、液状光硬化性樹脂を硬
化させて、図１４に示すように厚さ０．３ｍｍ以下の光
透過層１００を形成し、目的とする光学記録媒体を得る
ことができる。

【００５６】また、同様に、支持基板と情報記録層を形
成する基板とを別に形成せずに一体として形成させる他
の例としては、曲げ弾性率７×１０⁹（Ｐａ）以上の材
料からなる支持基板に、情報記録層を形成する微細凹凸
をフォトレジストを用いたエッチングにより形成させる
方法が挙げられる。

【００５７】図１５に示すように、例えば厚さ１．２ｍ
ｍの、曲げ弾性率７×１０⁹（Ｐａ）以上のガラス基板
３０上に、例えば紫外線に感光するフォトレジスト３１
を均一な厚さで塗布する。

【００５８】その後、図１６に示すようにレーザー記録
露光装置（図示せず）により露光、現像を行って、フォ
トレジスト３１に所定のピット、グループ等のパターン
５０を形成する。

【００５９】次に、図１７に示すように、このパターン
５０をマスクにして、ガラス基板３０をエッチングし、
ピット、グループ等のパターン５０を転写する。

【００６０】その後、図１８に示すようにフォトレジス
ト３１を除去すると、ガラス基板３０上に、情報記録層
を構成する微細凹凸５２が形成される。

【００６１】そして、上述した方法と同様に、微細凹凸
５２上に、例えばＡｌ等の反射膜、あるいは相変化材料
または光磁気材料等の材料膜５４を成膜して、情報記録
層５５を形成する。

【００６２】その後、情報記録層５５上に液状光硬化性
樹脂を塗布し、基板４０を高速回転することにより液状
光硬化性樹脂を延伸させる。

【００６３】紫外線照射を行い、液状光硬化性樹脂を硬
化させて、図１９に示すように厚さ０．３ｍｍ以下の光
透過層１００を形成し、目的とする光学記録媒体を得る
ことができる。

【００６４】また、光透過層１００を形成する方法につ
いても、上述した方法に限定されるものではない。例え
ば、情報記録層１５上に、液状光硬化性樹脂を塗布し、
これを延伸し、さらにその上に、ピット、グループ等の
微細凹凸を埋め込むように、均一な厚さ例えば０．１ｍ
ｍの光透過性樹脂からなる透明シートを圧着して、その
背面から光照射を行って、光硬化性樹脂を光硬化するこ
とによって、透明シートの接着を行って、光透過層１０
０を形成することもできる。

【００６５】この場合、透明シートは、光学的に均一で
透明性が充分高く、複屈折が極めて低い材料によって構
成するものとする。

【００６６】上述した例においては、いわゆる片面読み
出し型の単層構造の光学記録媒体について説明したが、
本発明はこの例に限定されるものではない。

【００６７】例えば、図２０に示すように、上述した支
持基板２０の両主面において、情報記録層１５を形成し
た基板１０を積層した構成の、いわゆる両面読み出し型
の２層構造の光学記録媒体を得ることができる。

【００６８】すなわち、図２０に示すような構成の２層
構造の光学記録媒体においては、両面からの光Ｌの照射
によって情報の読み出しが行われる。

【００６９】上述した実施例では、主としてＲＯＭ型構
成の光学記録媒体について説明したが、情報記録層１５
に相変化材料を有する書換え型、その他追記型等、ある
いはＷＯ（ｗｒｉｔｅ ０ｎｃｅ）型の光学記録媒体に
も本発明を適用することができる。

【００７０】また、上述した２層構造の光学記録媒体
は、少なくとも一主面においては情報記録層を形成させ
るものであるが、他の一主面は、情報記録に限定される
ものではなく、キャラクターやラベルの微細凹凸面を形
成するものであってもよい。

【００７１】上述したように、本発明においては、曲げ
弾性率７×１０⁹（Ｐａ）以上の支持基板と、微細凹凸
構造を有する情報記録面からなる情報記録層とを積層
し、情報記録層に、情報を読み取るレーザー光に対して
充分な透過率を有する厚さ０．３ｍｍ以下の均一な厚さ
の光透過層を積層するようにしたものである。

【００７２】これにより、光学記録媒体の剛性を高く保
持することができるので、将来の記録密度の高度化に対
応して、記録情報の読み取り、あるいは情報の記録を行
う面側の光透過層１００の厚さを一層薄くすることがで
きた。

【００７３】これにより、基板作製後に基板の反りや、
変形を効果的に回避することができる。また、記録情報
の再生時において、光学記録媒体を高速回転させたとき
の面振れを抑制することができ、高記録密度の光学記録
媒体の安定な記録再生を図ることができた。

【００７４】

【発明の効果】本発明により、光学記録媒体の剛性を高
く保持することができたので、将来の記録密度の高度化
に対応して、記録情報の読み取り、あるいは情報の記録
を行う面側の光透過層１００の厚さを一層薄くすること
ができたため、光学記録媒体のチルトマージンを確保す
ることができた。

【００７５】これにより、基板作製後に基板の反りや、
変形を効果的に回避することができる。また、記録情報
の再生時において、光学記録媒体を高速回転させたとき
の面振れを抑制することができ、高記録密度の光学記録
媒体の安定な記録再生を図ることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学記録媒体の概略断面図を示す。

【図２】本発明の光学記録媒体の基板作製装置の一例の
概略図を示す。

【図３】基板に情報記録層を形成した状態の概略断面図
を示す。

【図４】基板と支持基板とを積層した状態の概略断面図
を示す。

【図５】本発明の光学記録媒体の、一例の概略断面図を
示す。

【図６】本発明の光学記録媒体の基板作製装置の一例の
概略図を示す。

【図７】本発明の光学記録媒体の基板の概略断面図を示
す。

【図８】ベースプレートと、２Ｐレジンが滴下された状
態のスタンパーの一例を示す図である。

【図９】ベースプレートとスタンパーを２Ｐレジンを介
して対向させ、ローラで圧着して、紫外線照射装置によ
り紫外線を照射している様子の一例を示す図である。

【図１０】スタンパーからベースプレート及び硬化され
て、微細凹凸が転写された２Ｐレジンを剥離する様子の
一例を示す図である。

【図１１】２Ｐレジン層状に機能膜と保護膜を形成した
レプリカと、支持基板とを示す図である。

【図１２】本発明の光学記録媒体の基板の一作製工程図
を示す。

【図１３】本発明の光学記録媒体の基板の概略断面図を
示す。

【図１４】本発明の光学記録媒体の一例の概略断面図を
示す。

【図１５】ガラス基板上にフォトレジストを塗布した状
態の概略断面図を示す。

【図１６】フォトレジストを露光処理する工程図を示
す。

【図１７】ガラス基板上にフォトレジストの所定パター
ンが形成された状態の概略断面図を示す。

【図１８】ガラス基板をエッチングし、微細凹凸を形成
した状態図を示す。

【図１９】本発明の光学記録媒体の一例の概略断面図を
示す。

【図２０】本発明の２層構造の光学記録基体の一例の概
略断面図を示す。

【図２１】従来の光学記録媒体の概略断面図を示す。

【符号の説明】

１、１０、４０ 基板、２、１２、４２、５２ 微細凹
凸、３ 液状光硬化性樹脂、４ 反射膜、５、１５、４
５、５５ 情報記録層、６ 保護膜、１４、４４、５４
材料膜、１８、２８、３８ スタンパー、２０ 支持
基板、３０ ガラス基板、３１ フォトレジスト、５０
パターン、６０、６２ 射出成形装置、７０ キャビ
ティ、８０、８２ 金型、９０ シート、９１ ガイド
ローラ、９３ シート打ち抜き機、１００ 光透過層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柏木 俊行 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 荒川 宣之 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 曲げ弾性率７×１０⁹（Ｐａ）以上の支
   持基板と、 微細凹凸構造を有する情報記録層が積層され、 上記情報記録層に、厚さ０．３ｍｍ以下の均一な厚さの
   光透過層が積層形成された構造からなることを特徴とす
   る光学記録媒体。
2. 【請求項２】 上記微細凹凸構造を有する情報記録層
   が、シート状薄膜の一主面に形成されたことを特徴とす
   る請求項１に記載の光学記録媒体。
3. 【請求項３】 上記支持基板の一主面に微細凹凸構造を
   有する情報記録層が形成されたことを特徴とする請求項
   １に記載の光学記録媒体。
4. 【請求項４】 上記情報記録層上に、厚さ０．３ｍｍ以
   下の光透過層を有することを特徴とする請求項１に記載
   の光学記録媒体。
5. 【請求項５】 曲げ弾性率７×１０⁹（Ｐａ）以上の支
   持基板上に、微細凹凸構造を有する情報記録層を形成す
   るか、上記支持基板自体に情報記録層を形成し、 上記
   情報記録層に、厚さ０．３ｍｍ以下の均一な厚さの光透
   過層を積層することを特徴とする光学記録媒体の製造方
   法。
6. 【請求項６】 フォトポリマリゼーション法により、上
   記情報記録層を形成することを特徴とする請求項５に記
   載の光学記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 上記支持基板上に、微細凹凸構造を有す
   る情報記録層が形成されたシート状薄膜を積層すること
   を特徴とする請求項５に記載の光学記録媒体の製造方
   法。
8. 【請求項８】 上記支持基板上に、射出成形により微細
   凹凸構造を形成した情報記録層を有する基板を積層する
   ことを特徴とする請求項５に記載の光学記録媒体の製造
   方法。
9. 【請求項９】 上記支持基板をガラス基板とし、これに
   フォトレジストを積層し、 該フォトレジストを露光することにより所定のバターン
   を形成し、このパターンをマスクにしてガラス基板のエ
   ッチングを行なうことにより形成される微細凹凸構造を
   有する情報記録面を形成することを特徴とする請求項５
   に記載の光学記録媒体の製造方法。
10. 【請求項１０】 上記情報記録層上に、液状光硬化性樹
    脂を塗布、延伸し、該液状光硬化性樹脂を露光硬化させ
    ることにより、厚さ０．３ｍｍ以下の光透過層を形成さ
    せることを特徴とする請求項５に記載の光学記録媒体の
    製造方法。
11. 【請求項１１】 上記情報記録層上に、透明光硬化性樹
    脂よりなるシートを接着し、厚さ０．３ｍｍ以下の光透
    過層を形成させることを特徴とする請求項５に記載の光
    学記録媒体の製造方法。