JPH10222870A

JPH10222870A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH10222870A
Application number: JP9022794A
Authority: JP
Inventors: Toshiyuki Kashiwagi; 俊行柏木; Mitsuo Naito; 光男内藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-02-05
Filing date: 1997-02-05
Publication date: 1998-08-21

Abstract

(57)【要約】【課題】２群レンズ系に対応可能で、多層の情報記録
層を有し、高記録容量化にも対応可能な光記録媒体を提
供する。【解決手段】基板１の少なくとも一主面１ａ側に情報
を示す凹凸部を形成して情報記録層とし、その上に反射
膜２を形成し、さらにその上に基板１に対向する面とは
反対側の一主面３ａに情報を示す凹凸部が形成されて情
報記録層となされる第１の光透過層３を形成し、これと
同様の構成の第２〜第４の光透過層４，５，６を積層形
成し、各光透過層の情報記録層における反射率を反射膜
２の反射率よりも小さくし、且つ各光透過層の情報記録
層における反射率を反射膜２側の第１の光透過層３から
最上層となる第４の光透過層に向かうに従って小さくす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板の一主面上に
情報記録層を有する光透過層が少なくとも１層形成さ
れ、光透過層側から再生光を照射して情報の再生を行う
光記録媒体に関する。詳しくは、光透過層の情報記録層
における反射率の関係を規定することにより、大容量化
が可能となされた光記録媒体に係わるものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報記録の分野においては光学情
報記録方式に関する研究が各所で進められている。この
光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えるこ
と、磁気記録方式に比べて一桁以上も高い記録密度が達
成できること、再生専用型，追記型，書換可能型のそれ
ぞれのメモリー形態に対応できる等の数々の利点を有
し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式とし
て産業用から民生用まで幅広い用途の考えられているも
のである。

【０００３】その中でも特に、再生専用型のメモリー形
態に対応した光ディスクであるデジタルオーディオディ
スクや光学式ビデオディスク等は広く普及している。

【０００４】上記デジタルオーディオディスク等の光デ
ィスクは、情報信号を示すピットやグルーブ等の凹凸パ
ターンが形成された透明基板である光ディスク基板上に
アルミニウム膜等の金属薄膜よりなる反射膜が形成さ
れ、さらにこの反射膜を大気中の水分，Ｏ₂から保護す
るための保護膜が上記反射膜上に形成された構成とされ
る。なお、このような光ディスクの情報を再生する際に
は光ディスク基板側より上記凹凸パターンにレーザ光等
の再生光を照射し、その入射光と戻り光の反射率の差に
よって情報を検出する。

【０００５】そして、このような光ディスクを製造する
際には、先ず射出成形等の手法により上記凹凸パターン
を有する光ディスク基板を形成し、この上に上記金属薄
膜よりなる反射膜を蒸着等の手法により形成し、さらに
その上に紫外線硬化型樹脂等を塗布して上記保護膜を形
成する。

【０００６】ところで、このような光ディスクにおいて
は高記録容量化が要求されており、これに対応するべ
く、凹凸パターンを光ディスク基板の一主面上に形成
し、この上に半透明膜を形成し、この半透明膜上にも凹
凸パターンを形成し、この上に反射膜を形成するように
して合計２層の情報記録層を有する光ディスクが提案さ
れている。この光ディスクは、一主面に凹凸パターンが
形成された光ディスク基板上に、スタンパーを用い、例
えば感光性樹脂法（ガラス２Ｐ法：ＰｈｏｔｏＰｏｌ
ｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）により光ディスク基板との対
向面とは反対側となる一主面上に凹凸パターンが形成さ
れている光透過層を形成し、その上にスパッタリング等
の手法により反射膜を形成して製造される。

【０００７】上記のような高記録容量化を達成する光デ
ィスクとしては、一主面に凹凸パターンが形成されてい
る２枚の光ディスク基板を凹凸パターンが形成されてい
る主面が対向するように例えば紫外線硬化型樹脂といっ
た接着剤により貼り合わせた形状の光ディスクも提案さ
れている。

【０００８】ところが、これらの光ディスクにおいて、
記録層をさらに多層化し、さらなる高記録容量化を達成
するのは非常に困難である。これは以下に示すような理
由による。すなわち、複数層の記録層の情報の再生を１
つの対物レンズにより行おうとすると、記録層の厚さの
合計が光学ピックアップの再生光を照射するための対物
レンズの許容厚み誤差内に入るようにする必要があり、
対物レンズの性能を考慮すると、記録層の厚さの合計が
３０〜７０μｍ程度に限定されてしまい、この範囲内に
記録層を形成する場合、３層が限界とされているためで
ある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記のような光ディス
ク等の光記録媒体を高記録容量化する方法として、光学
ピックアップの対物レンズの開口数（以下、ＮＡと称す
る。）を大きくして再生光のスポット径を小さくし、こ
れに合わせて記録を行うことで、高記録密度化する方法
が提案されている。

【００１０】このように対物レンズの開口数を大きくす
ると、再生光が照射されてこれが透過する光ディスクの
基板や光透過層の厚さを薄くする必要がある。これは、
光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直から
ズレる角度（チルト角）の許容量が小さくなるためであ
り、このチルト角が基板の厚さによる収差の影響を受け
易いためである。従って基板の厚さを薄くしてチルト角
による収差の影響をなるべく小さくするようにしてい
る。

【００１１】しかしながら、今後、さらなる高記録密度
化が要求されるものと思われ、基板のさらなる薄型化が
必要となってくるものと思われる。そこで、例えば基板
の一主面に凹凸を形成して情報記録層とし、この上に反
射膜を設け、さらにこの上に光を透過する薄膜である光
透過層を設けるようにし、光透過層側から再生光を照射
して情報記録層の情報を再生するような光記録媒体が提
案されている。このようにすれば、光透過層を薄型化し
ていくことで対物レンズの大開口数化に対応可能であ
る。

【００１２】一方、今後のさらなる高記録密度化に対応
するべく、対物レンズのさらなる大開口数化が検討され
ており、これを達成する手段として、対物レンズと光記
録媒体との間に例えばＳＩＬ（ＳｏｌｉｄＩｍｍｅｒ
ｓｉｏｎＬｅｎｓ）が配設されてなる、いわゆる２群
レンズ系を使用することが提案されている。この２群レ
ンズ系を使用すれば、レンズ間の間隔を変化させること
により、被照射体の厚みの変化に対応して収差補正を行
うことが可能である。従って、記録層を有する光透過層
を多層有する場合に、各光透過層に上記２群レンズ系の
許容厚み誤差を割り振るようにすれば、各光透過層を著
しく薄型化する必要がなく、このような２群レンズ系は
上記のような光透過層を多層有する光記録媒体の再生手
段として今後多用されるものと思われる。

【００１３】そこで本発明は、２群レンズ系に対応可能
で、多層の記録層を有しており、高記録容量化にも対応
可能な光記録媒体を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、基板の少なくとも一主面側に情報を示す
凹凸部が形成されて情報記録層となされており、その上
に反射膜が形成されており、さらにその上に基板に対向
する面とは反対側の主面に情報を示す凹凸部が形成され
て情報記録層となされる光透過層が少なくとも１層形成
されてなり、光透過層側から再生光を照射して情報の再
生を行う光記録媒体において、反射膜上に積層形成され
る各光透過層の情報記録層における反射率が反射膜の反
射率よりも小さくなされており、且つ各光透過層の情報
記録層における反射率が反射膜側の光透過層から最上層
となる光透過層に向かうに従って小さくなされているこ
とを特徴とするものである。

【００１５】上記本発明の光記録媒体において、各光透
過層の情報記録層における反射率を反射膜側の光透過層
から最上層となる光透過層に向かうに従って小さくする
方法としては、各光透過層の情報記録層上に半透明膜を
それぞれ積層形成するようにし、これら半透明膜を同一
の材質により形成し、各半透明膜の厚さを反射膜側から
最上層に向かうに従って薄くする方法、各情報記録層上
の半透明膜をそれぞれ異なる材質により形成する方法が
好ましく例示される。

【００１６】なお、前者の方法を適用した本発明の光記
録媒体においては、積層形成される光透過層の各情報記
録層の凹凸部の膜厚方向の大きさが各情報記録層上の半
透明膜の厚さに合わせて変更されていることが好まし
い。

【００１７】また、本発明の光記録媒体においては、積
層形成される光透過層の全体の厚さが３００μｍ以下と
なされていることが好ましい。積層形成される光透過層
の全体の厚さが３００μｍよりも厚いと、基板の厚さと
大差がなくなることから、光透過層側から再生光を照射
する必要がなくなってしまう。

【００１８】本発明の光記録媒体においては、基板の少
なくとも一主面側に情報を示す凹凸部が形成されて情報
記録層となされており、その上に反射膜が形成されてお
り、さらにその上に基板に対向する面とは反対側の主面
に情報を示す凹凸部が形成されて情報記録層となされる
光透過層が少なくとも１層形成されており、反射膜上に
積層形成される各光透過層の情報記録層における反射率
が反射膜の反射率よりも小さくなされており、且つ各光
透過層の情報記録層における反射率が反射膜側の光透過
層から最上層となる光透過層に向かうに従って小さくな
されているため、光透過層側から再生光を照射して情報
の再生を行う場合に、上層となる情報記録層が下層とな
る情報記録層の情報の再生を妨げることがなく、各情報
記録層からの戻り光量が均等に得られ、各情報記録層の
情報が正確に再生される。また、これら多層の光透過層
に２群レンズ系の許容厚み誤差を割り振るようにすれ
ば、各光透過層を著しく薄型化する必要はなく、２群レ
ンズ系に対応可能である。

【００１９】さらに、本発明の光記録媒体において、各
光透過層の情報記録層上に半透明膜をそれぞれ形成する
ようにし、これら半透明膜を同一の材質により形成し、
各半透明膜の厚さを反射膜側から最上層に向かうに従っ
て薄くする方法、或いは各情報記録層上の半透明膜をそ
れぞれ異なる材質により形成する方法により、各光透過
層の情報記録層における反射率が容易に変更され、各光
透過層の情報記録層における反射率を反射膜側の光透過
層から最上層となる光透過層に向かうに従って小さくす
ることが容易に達成される。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、
ここでは本発明を光ディスクに適用した例について述べ
る。

【００２１】本例の光ディスクは、図１に模式的に示す
ように、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂やガラスよ
りなる透明な基板１の一主面１ａに情報に応じて形成さ
れる図示しない凹凸部が形成されており、この上にアル
ミニウムや金等の金属よりなる反射膜２が形成され、さ
らにこの上に基板１との対向面とは反対側の主面３ａに
情報に応じた図示しない凹凸部が形成された第１の光透
過層３が形成され、またこの上に基板１との対向面とは
反対側の主面４ａに情報に応じた図示しない凹凸部が形
成された第２の光透過層４が形成され、さらにこの上に
基板１との対向面とは反対側の主面５ａに情報に応じた
図示しない凹凸部が形成された第３の光透過層５が形成
され、またこの上に基板１との対向面とは反対側の主面
６ａに情報に応じた図示しない凹凸部が形成された第４
の光透過層６が形成されてなるものであり、これらの上
に光透過性の保護層７が形成されてなるものである。す
なわち、本例の光ディスクにおいては、５層の情報記録
層が形成されることとなる。

【００２２】そして、本例の光ディスクにおいては特
に、反射膜２上に積層形成される第１〜第４の光透過層
３，４，５，６の情報記録層における反射率が反射膜２
の反射率よりも小さくなされており、且つこれら第１〜
第４の光透過層３，４，５，６の情報記録層における反
射率が反射膜２側となる第１の光透過層３から最上層と
なる第４の光透過層６に向かうに従って小さくなされて
いる。すなわち、例えば反射膜２の反射率を８０％と
し、第１の光透過層３の情報記録層における反射率を３
３％とし、第２の光透過層４の情報記録層における反射
率を１９％とし、第３の光透過層５の情報記録層におけ
る反射率を１３％とし、第４の光透過層６の情報記録層
における反射率を１０％としている。

【００２３】このように第１〜第４の光透過層３，４，
５，６の情報記録層における反射率を規制する方法とし
ては、第１〜第４の光透過層３，４，５，６の凹凸部が
形成されて情報記録層とされる主面３ａ，４ａ，５ａ，
６ａ上に図示しない半透明膜を形成し、これら半透明膜
を同一の材質により形成し、第１〜第４の光透過層３，
４，５，６上の半透明膜の厚さを反射膜２側の第１の光
透過層３から最上層となる第４の光透過層６に向かうに
従って薄くする方法、或いは積層形成される第１〜第４
の光透過層３，４，５，６上の半透明膜をそれぞれ異な
る材質により形成する方法が好ましく例示される。ここ
では、前者の方法を採ることとする。この場合、第１〜
第４の光透過層３，４，５，６の厚さの関係については
特に規定しないが、同じ厚さとする方が好ましい。そこ
で、本例の光ディスクにおいては、第１〜第４の光透過
層３，４，５，６の厚さをそれぞれ２５μｍとし、保護
膜７の厚さを５０μｍとすることとする。

【００２４】本例の光ディスクの情報を再生するには、
図１中に示すように第１〜第４の光透過層３，４，５，
６側、ここでは保護膜７側から、光学系の対物レンズ８
により図中矢印Ｌで示すような再生光を照射する。

【００２５】本例の光ディスクにおいては、反射膜２、
第１〜第４の光透過層３，４，５，６の情報記録層にお
ける反射率の関係を上述のようにしていることから、保
護膜７側から再生光を照射した場合に、上層となる例え
ば第４の光透過層６の一主面６ａの情報記録層が下層と
なる例えば第３の光透過層５の一主面５ａの情報記録層
の情報の再生を妨げることはなく、各情報記録層からの
戻り光が均等に得られるので、各情報記録層の情報が正
確に再生され、高記録容量化に十分対応可能である。

【００２６】また、これら第１〜第４の光透過層３，
４，５，６に２群レンズ系の許容厚み誤差を割り振るよ
うにすれば、各光透過層を著しく薄型化する必要はな
く、２群レンズ系に対応可能である。

【００２７】さらに、本例の光記録媒体においては、積
層形成される第１〜第４の光透過層３，４，５，６上の
半透明膜を同一の材質により形成して、その膜厚のみを
変える（徐々に薄くしていく）ことにより、各光透過層
の情報記録層の反射率を反射膜側の第１の光透過層３か
ら最上層となる第４の光透過層６に向かうに従って小さ
くするようにしているため、各光透過層の情報記録層の
反射率が容易に変更され、生産性も良好である。

【００２８】次に、本例の光記録媒体の製造方法につい
て述べる。先ず、射出成形により基板を形成する。すな
わち、図２に示すように一主面１２ａに情報を示す凹凸
部に対応する凹凸部１３が形成されたスタンパー１２が
一主面１１ａに設けられた基台１１と、一主面１５ａ側
が凹部となされている蓋部１５よりなり、これら基台１
１と蓋部１５を重ね合わせることにより、図３に示すよ
うに基台１１上のスタンパー１２の一主面１２ａと蓋部
１５の凹部となされている一主面１５ａ間に例えば厚さ
１．２ｍｍの円盤状といった基板に対応する形状の空洞
部１４が形成される金型を用意する。なお、基台１１と
スタンパー１２の略中心部には連通する貫通孔１６，１
７がそれぞれ形成されている。

【００２９】そして、この貫通孔１６，１７を通じて空
洞部１４に溶融樹脂を射出し、固化させて図４に示すよ
うに金型を蓋部１５と基台１１に分解して空洞部の形状
に成形された基板２１を取り出す。この基板２１におい
ては、一主面２１ａにスタンパー１２から転写された情
報に応じて形成される凹凸部３１が形成されて情報記録
層となされていることは言うまでもない。

【００３０】続いて図５に示すように、基板２１の一主
面２１ａにアルミニウムや金といった高反射率の反射膜
２２をスパッタリング等の真空薄膜形成手段により形成
する。この反射膜２２の厚さは１０ｎｍ〜６０ｎｍ程度
とすれば良い。なお、上記反射膜２２により基板２１の
凹凸部３１（ピットやグルーブ）が埋まってしまうこと
のないように、スタンパー１２の凹凸部１３は若干大き
めに形成しておくことが好ましい。

【００３１】次に、第１の光透過層を形成すべく、図６
に示すように、第１の光透過層の情報記録層の凹凸部に
応じた凹凸部３３が一主面３２ａに形成されるスタンパ
ー３２の上記一主面３２ａに感光性樹脂３４を供給す
る。そして、図７に示すようにスタンパー３２上の感光
性樹脂３４上に反射膜２２が対向面となるように基板２
１を重ね合わせ、図中矢印Ｍで示すように面内方向に回
転させ、感光性樹脂３４を面内方向に広げて基板２１の
反射膜２２とスタンパー３２間に行き渡らせる。このと
き、面内方向の回転により余分な感光性樹脂３４は振り
切られる。また、感光性樹脂３４の厚さは回転により制
御され、ここでは１０μｍ〜５０μｍ程度となるように
し、本例においては２５μｍとする。

【００３２】さらに、図８に示すように、基板２１側か
ら図中矢印Ｖで示すように紫外線を照射し、感光性樹脂
３４を硬化させる。次に、図９に示すようにスタンパー
３２を外すと、感光性樹脂が硬化して一主面２３ａ側に
情報を示す凹凸部３５が形成され情報記録層となされた
第１の光透過層２３が反射膜２２上に形成されている。

【００３３】続いて、図１０に示すように、第１の光透
過層２３の一主面２３ａ上にＳｉＮ等よりなる半透明膜
３６を形成して情報記録層における反射率が３３％程度
となるようにする。このとき、凹凸部３５が半透明膜３
６を形成するＳｉＮにより埋まってしまうことがないよ
うに、凹凸部３５の厚さ方向の大きさを半透明膜３６の
厚さに対応させたものとすることが好ましい。このこと
は後述の他の光透過層においても同様である。

【００３４】この後、第１の光透過層２３と同様にして
第２〜第４の光透過層を厚さが２５μｍとなるように形
成する。そしてこのとき、第２及び第３の光透過層の情
報記録層上の半透明膜の厚さを変更する（徐々に薄くす
る。）ことにより第２の光透過層から第４の光透過層に
向かうに従って情報記録層における反射率が小さくなる
ようにする。

【００３５】すなわち、上記のような方法により、第１
の光透過層２３の情報記録層における反射率を３３％と
し、第２の光透過層の情報記録層における反射率を１９
％とし、第３の光透過層の情報記録層における反射率を
１３％とし、第４の光透過層の情報記録層における反射
率を１０％とする。

【００３６】このとき、各光透過層の情報記録層におけ
る反射率の関係が以下に示すような関係となることが好
ましい。ただし、ここでは便宜上、最上層となる情報記
録層を第１層とし、基板側に進むにつれ、第２層，第３
層・・・とする。そして、第１層の反射率をＲ₁ 、第２
層の反射率をＲ₂ ・・・第ｎ層の反射率をＲ_n とする。

【００３７】Ｒ₁ ＝Ｒ₂ （１−Ｒ₁ ）² ＝・・・＝Ｒ_n （１−Ｒ_n-1 ）² （１−Ｒ_n-2）² （１−Ｒ₁ ）² 各光透過層の情報記録層における反射率を上記のような
関係を満たすように設定すれば、各光透過層の情報記録
層からの反射光量が等しくなるため好ましい。

【００３８】そして、最後に第４の光透過層の上に保護
膜を形成する。この保護膜はこれまでのスタンパーのよ
うに凹凸部が形成されていない平滑面のいわゆるミラー
スタンパーを用いて、光透過層と同様にして形成する、
或いは第４の光透過層上に直接紫外線硬化型樹脂を滴下
して回転させて振り切り、紫外線を照射する等して形成
すれば良い。なお、この保護層は厚さが５０μｍとなる
ように形成する。

【００３９】このようにして本例の光ディスクを製造し
た場合、第１層の光透過層２３を形成する際の紫外線が
反射膜２２に照射されてしまう。このため、光透過層の
積層数が増える程、紫外線透過光量が減少し、感光性樹
脂が硬化し難くなる。すなわち、基板への影響が大きく
なってしまう。このような課題を解消するべく、３００
ｎｍ〜４００ｎｍの波長の透過率がアルミニウムよりも
大きく、可視光の反射率が高い金等により反射膜を形成
するようにしても良い。また、紫外線の照射をピークパ
ワーの高いパルス紫外線照射により行うことも考えられ
る。

【００４０】上述の例においては、液状の紫外線硬化型
樹脂を塗布した後に硬化して光透過層を形成する例につ
いて述べたが、両面転写性のシート、或いは各光透過層
の厚さに略対応する厚さのシートと２Ｐレジンを使用し
ても各光透過層の形成は可能である。

【００４１】すなわち、図１１に示すように一主面２１
ａに情報を示す凹凸部３１が形成され、反射膜２２も形
成されてなる基板２１と一主面３２ａに情報を示す凹凸
部３３が形成されてなるスタンパー３２を間に両面転写
性フィルム４４を介して凹凸部３１，３３同士が相対向
するように配する。この両面転写性フィルム４４として
は、デュポン社製のＳＵＲＰＨＥＸ（商品名）等が例示
される。

【００４２】次に、図１２に示すようにローラー４５を
図中矢印ｍ₁ で示すように回転させながら図中矢印ｍ₂
で示すように移動させ、基板２１を両面転写性フィルム
４４を間に介在させながらスタンパー３２に対して押し
付けて圧着させる。この際、両面転写性フィルム４４は
基板２１の凹凸部３１及びスタンパー３２の凹凸部３３
にも押し込まれる。

【００４３】続いて、図１３に示すように、基板２１側
から図中矢印Ｖで示すように紫外線を照射し、両面転写
性フィルム４４を硬化させる。次に、図１４に示すよう
にスタンパー３２を外すと、両面転写性フィルムが硬化
して一主面２３ａ側に情報を示す凹凸部３５が形成され
情報記録層となされた第１の光透過層２３が反射膜２２
上に形成されている。

【００４４】続いて、先に述べた製造方法と同様に、第
１の光透過層２３の一主面２３ａ上にＳｉＮ等よりなる
半透明膜を形成する。さらに、先に述べた製造方法と同
様にして、この他の光透過層も形成し、第２〜第４の光
透過層を形成する。

【００４５】そして、最後にこれまで使用していた両面
転写性フィルムよりもやや厚めの両面転写性フィルムを
接着して保護膜とし、光ディスクを完成する。

【００４６】また、本例の光ディスクは、以下に示すよ
うにして製造しても良い。すなわち、図１５に示すよう
に、一主面２１ａに情報を示す凹凸部３１が形成され、
反射膜２２も形成されてなる基板２１と一主面３２ａに
情報を示す凹凸部３３が形成されてなるスタンパー３２
を間に転写性を有しないシート４５を介して凹凸部３
１，３３同士が相対向するように配する。そして、この
シート４５の基板２１と対向する主面４５ａとスタンパ
ー３２の凹凸部３３が形成される主面３２ａ上に２Ｐレ
ジン４６を配置する。

【００４７】次に、図１６に示すようにローラー４７を
図中矢印ｍ₃ で示すように回転させながら図中矢印ｍ₄
で示すように移動させ、基板２１を２Ｐレジン４６とシ
ート４５を間に介在させながらスタンパー３２に対して
押し付けて圧着させる。この際、２Ｐレジン４６は基板
２１の凹凸部３１及びスタンパー３２の凹凸部３３にも
押し込まれる。

【００４８】続いて、図１７に示すように、基板２１側
から図中矢印Ｖで示すように紫外線を照射し、２Ｐレジ
ン４６を硬化させる。次に、図１８に示すようにスタン
パー３２を外すと、２Ｐレジン４６が硬化して一主面２
３ａ側に情報を示す凹凸部３５が形成され情報記録層と
なされ、シート４５を２層の２Ｐレジン４６により厚さ
方向から挟み込んだ構造の第１の光透過層２３が反射膜
２２上に形成されている。

【００４９】続いて、先に述べた製造方法と同様に、第
１の光透過層２３の一主面２３ａ上にＳｉＮ等よりなる
半透明膜を形成する。さらに、先に述べた製造方法と同
様にして、この他の光透過層も形成し、第２〜第４の光
透過層を形成する。

【００５０】これまで述べた本例の光記録媒体において
は、積層形成される情報記録層上の半透明膜を同一の材
質により形成し、各半透明膜の厚さを反射膜側から最上
層に向かうに従って薄くする方法、或いは積層形成され
る情報記録層上の半透明膜をそれぞれ異なる材質により
形成する方法により、各光透過層の反射率が容易に変更
され、各光透過層の情報記録層における反射率を反射膜
側の光透過層から最上層となる光透過層に向かうに従っ
て小さくするようにでき、生産性も良好である。

【００５１】ここでは、５層の光透過層を有する光ディ
スクの例について述べたが、これら各光透過層の厚さ
は、再生光学系に使用される２群レンズの可動距離によ
って決まる範囲を層数で割ることにより求められる。す
なわち、２群レンズの可動距離が±５０μｍである場合
には、そのダイナミックレンジは１００μｍとなり、光
透過層が２層であれば１層当たりの厚さは５０μｍとな
り、５層であれば１層当たりの厚さは２０μｍとなる。

【００５２】また、上述の例においては、基板の一方の
主面上に複数の光透過層が形成され、複数の情報記録層
が形成される例について述べたが、本発明は、基板の相
対向する主面に複数の光透過層が形成され、複数の情報
記録層が形成される光ディスク等の光記録媒体にも適用
可能である。このような光ディスクとしては、一方の主
面の光透過層の全体の厚さの合計が１００μｍ以下であ
り、基板の厚さが１．０ｍｍ以下であり、他方の主面の
光透過層の全体の厚さの合計が１００μｍ以下であるも
のが挙げられる。

【００５３】さらに、上述の例においては、基板の厚さ
を１．２ｍｍとした例について述べたが、基板の厚さは
０．３ｍｍ〜１．２ｍｍの範囲の厚さとされていれば良
く、例えば厚さ１．０ｍｍの基板の一方の主面に全体の
厚さの合計が１００μｍの光透過層を設けるようにして
も良い。さらには、基板の厚さを０．３ｍｍ程度と非常
に薄くした場合には０．５ｍｍ以上の厚さの補強板を設
けるようにすれば良く、例えば基板の厚さが０．３ｍｍ
〜０．８ｍｍとされ、補強板の厚さが０．２ｍｍ〜０．
８ｍｍとされ、光透過層の全体の厚さが０．０５ｍｍ〜
０．５ｍｍ程度とされるものが挙げられる。

【００５４】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の光記録媒体においては、基板の少なくとも一主面側
に情報を示す凹凸部が形成されて情報記録層となされて
おり、その上に反射膜が形成されており、さらにその上
に基板に対向する面とは反対側の主面に情報を示す凹凸
部が形成されて情報記録層となされる光透過層が少なく
とも１層形成されており、反射膜上に積層形成される各
光透過層の情報記録層における反射率が反射膜の反射率
よりも小さくなされており、且つ各光透過層の情報記録
層における反射率が反射膜側の光透過層から最上層とな
る光透過層に向かうに従って小さくなされているため、
光透過層側から再生光を照射して情報の再生を行う場合
に、上層となる情報記録層が下層となる情報記録層の情
報の再生を妨げることがなく、各情報記録層からの戻り
光量が均等に得られるので、各情報記録層の情報が正確
に再生され、高記録容量化に十分対応可能である。

【００５５】また、これら多層の光透過層に２群レンズ
系の許容厚み誤差を割り振るようにすれば、各光透過層
を著しく薄型化する必要はなく、２群レンズ系に対応可
能である。

【００５６】さらに、本発明の光記録媒体において、各
光透過層の情報記録層上に半透明膜をそれぞれ形成する
ようにし、これら半透明膜を同一の材質により形成し、
各半透明膜の厚さを反射膜側から最上層に向かうに従っ
て薄くする方法、或いは各情報記録層上の半透明膜をそ
れぞれ異なる材質により形成する方法により、各光透過
層の反射率が容易に変更され、各光透過層の情報記録層
における反射率を反射膜側の光透過層から最上層となる
光透過層に向かうに従って小さくすることができ、生産
性も良好である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した光ディスクを模式的に示す要
部拡大断面図である。

【図２】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、金型を分解して示
す断面図である。

【図３】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、金型を組み合わせ
て示す断面図である。

【図４】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、基板を製造する工
程を示す断面図である。

【図５】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、反射膜を形成する
工程を示す断面図である。

【図６】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、スタンパー上に感
光性樹脂を供給する工程を示す断面図である。

【図７】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、感光性樹脂を面内
方向に広げる工程を示す断面図である。

【図８】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、感光性樹脂を硬化
させる工程を示す断面図である。

【図９】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、第１の光透過層が
形成された状態を示す断面図である。

【図１０】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の一例を工程順に示すものであり、半透明膜を形成
する工程を示す断面図である。

【図１１】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の他の例を工程順に示すものであり、基板とスタン
パーを両面性転写フィルムを介して配する工程を示す断
面図である。

【図１２】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の他の例を工程順に示すものであり、基板をスタン
パーに対して圧着する工程を示す断面図である。

【図１３】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の他の例を工程順に示すものであり、両面転写性フ
ィルムを硬化させる工程を示す断面図である。

【図１４】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の他の例を工程順に示すものであり、第１の光透過
層が形成された状態を示す断面図である。

【図１５】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法のさらに他の例を工程順に示すものであり、基板と
スタンパーをシートと２Ｐレジンを介して配する工程を
示す断面図である。

【図１６】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法のさらに他の例を工程順に示すものであり、基板を
スタンパーに対して圧着する工程を示す断面図である。

【図１７】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法のさらに他の例を工程順に示すものであり、２Ｐレ
ジンを硬化させる工程を示す断面図である。

【図１８】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法のさらに他の例を工程順に示すものであり、第１の
光透過層が形成された状態を示す断面図である。

【符号の説明】

１基板、１ａ，３ａ，４ａ，５ａ，６ａ一主面、２
反射膜、３第１の光透過層、４第２の光透過層、
５第３の光透過層、６第４の光透過層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板の少なくとも一主面側に情報を示す
凹凸部が形成されて情報記録層となされており、その上
に反射膜が形成されており、さらにその上に基板に対向
する面とは反対側の主面に情報を示す凹凸部が形成され
て情報記録層となされる光透過層が少なくとも１層形成
されてなり、光透過層側から再生光を照射して情報の再
生を行う光記録媒体において、反射膜上に積層形成される各光透過層の情報記録層にお
ける反射率が反射膜の反射率よりも小さくなされてお
り、且つ各光透過層の情報記録層における反射率が反射
膜側の光透過層から最上層となる光透過層に向かうに従
って小さくなされていることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】各光透過層の情報記録層上に半透明膜が
それぞれ積層形成されており、これら半透明膜が同一の
材質により形成され、各半透明膜の厚さが反射膜側から
最上層に向かうに従って薄くなされて、各光透過層の情
報記録層における反射率が反射膜側の光透過層から最上
層となる光透過層に向かうに従って小さくなされている
ことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】積層形成される光透過層の各情報記録層
の凹凸部の膜厚方向の大きさが各情報記録層上の半透明
膜の厚さに合わせて変更されていることを特徴とする請
求項２記載の光記録媒体。
【請求項４】各光透過層の情報記録層上に半透明膜が
それぞれ積層形成されており、これら各半透明膜がそれ
ぞれ異なる材質により形成されて、各光透過層の情報記
録層における反射率が反射膜側の光透過層から最上層と
なる光透過層に向かうに従って小さくなされていること
を特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項５】積層形成される光透過層の全体の厚さが
３００μｍ以下となされていることを特徴とする請求項
１記載の光記録媒体。