JPH10160850A - ポジトロンect装置 - Google Patents
ポジトロンect装置Info
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- JPH10160850A JPH10160850A JP33474596A JP33474596A JPH10160850A JP H10160850 A JPH10160850 A JP H10160850A JP 33474596 A JP33474596 A JP 33474596A JP 33474596 A JP33474596 A JP 33474596A JP H10160850 A JPH10160850 A JP H10160850A
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Abstract
ータ・トランスミッションデータ同時収集方式でのデー
タの定量性を高める。 【解決手段】 検出器11のすべての対から一様に出力
を生じさせたときにTマスク処理回路14、Eマスク処
理回路15を経たアドレス信号をTCDメモリ23とE
CDメモリ25に導いてTCDデータとECDデータを
収集し、これらを用いてEマスク感度補正回路27でE
マスク感度不均一性を補正したエミッションデータEt
を得るとともに、Tマスク感度補正回路26でTマスク
感度不均一性を補正しかつエミッションデータを除いた
真のトランスミッションデータTtを得る。
Description
リング型に配列したポジトロンECT装置に関し、とく
にマスクデータ収集手法によるエミッションデータ・ト
ランスミッションデータ同時収集方式のポジトロンEC
T装置に関する。
出性の放射性核種を用い、その消滅ガンマ線を検出して
核種の分布像を撮影するものである。たとえば人体にポ
ジトロン放出性の放射性核種で標識された薬剤を投与す
ると、特定の臓器に集積する。そのとき人体の外部に放
出されてくるガンマ線を、人体外に配置した検出器で検
出してデータを収集する。消滅ガンマ線は180゜反対
の方向に放出されるので、1対の検出器に同時に入射し
たことを検出し、その1対の検出器を結ぶ線上に核種が
存在していることのデータを得る。このような同時計数
によって収集したデータを所定のアルゴリズムで処理す
ることにより、所定の断面での核種の濃度分布像を再構
成する。この再構成画像は特定の臓器の診断のために用
いられる。
してシンチレーション検出器などが用いられ、これが多
数リング型に配列される。この検出器のリング型配列の
平面に位置している核種からのガンマ線のうち上記の平
面に平行に放出されたものがリング型に配列された検出
器のどれかに入射して検出されるので、被検体のこの平
面(スライス面)でのデータが収集されることになり、
再構成画像はこのスライス面における核種の濃度分布像
ということになる。
検体の内部の核種からの放射線を外部において検出する
ため、その放射線が被検体の内部で吸収されてしまうこ
との影響を受けることが避けられない。そのため、再構
成画像では被検体の中央部の濃度が異常に低いものとな
ったり、定量的な測定ができず精度が低いなどの問題が
生じる。
て、これによりエミッションデータにおける吸収の影響
を補正しようという考えが登場する。この吸収分布はい
わゆるトランスミッションデータを収集することにより
求められる。ここでトランスミッションデータ(透過デ
ータ)とは、被検体の内部から放射される放射線による
データであるエミッションデータ(放射データ)に対す
るもので、被検体の外部から放射され被検体を透過した
放射線によるデータをいう。
に放射性薬剤の投与されていない被検体を配置するとと
もにポジトロン放出性の線源を配置し、これを検出器の
リング型配列に沿って被検体の周囲に回転させ、その回
転角度ごとに同時計数データを収集する。つぎに被検体
を検出器のリング型配列内から取り出した上で、線源を
同じように回転させながら同時計数データを収集する。
前者のデータは放射線が被検体を通ることによる吸収の
影響を受けたものであるのに対して、後者のデータには
このような影響はない。そこで、これらのデータの関係
から、吸収の影響がわかる。そこで、今度は被検体に放
射性薬剤を投与して検出器のリング型配列内に配置して
エミッションデータを収集する(このとき被検体外部の
線源は取り除かれている)。このエミッションデータを
上記の関係に応じて補正すれば、吸収の影響を除くこと
ができる。
ランスミッションデータとエミッションデータは、被検
体に放射性薬剤を投与した状態と投与していない状態と
で別々に収集していたため、検査時間がかかり、被検体
(患者)を固定している時間が長くかかっていた。そこ
で、特開平4−168392号公報では、被検体に放射
性薬剤を投与した状態でトランスミッションデータとエ
ミッションデータとを同時に収集するようにして、検査
時間の短縮、患者固定時間の短縮を図っている。
せる外部線源の位置が容易に検出でき、その位置が分か
れば、それからの放射線によるデータがアドレス上でど
の領域に現れるかも分かることに着目したものである。
その領域をマスクしてその領域ではデータ収集しないこ
ととすれば、被検体に放射性薬剤を投与した状態で外部
線源を回転させるようにしても、エミッションデータが
得られ、また、これと同時に、一切マスクせずにデータ
収集し、このデータから上記のエミッションデータを引
けばトランスミッションデータを得ることができる、と
いうのである。
集手法によるエミッションデータ・トランスミッション
データ同時収集方式を発展させて、データの定量性を高
めた提案も行っている(特願平7−353619号)。
被検体の周囲に回転させる外部線源は放射能の高いもの
を用いるためその線源周囲に散乱線を生じ、それにより
収集したデータに大きな誤差が含まれることになる。そ
こで、エミッションデータ収集用のマスクの遮蔽部(マ
スク部)の面積を、外部線源からの放射線によるデータ
が現れる領域よりは大きなものとしてその周囲に現れる
散乱線ノイズを取り除いてエミッションデータ収集する
とともに、トランスミッションデータ収集についてもマ
スクを用い、そのマスクの通過部(マスクされない領
域)を狭くし、散乱線ノイズを排除して外部線源からの
放射線によるデータのみを収集する。こうすることによ
り、外部線源の散乱線ノイズの影響をなくして、データ
の定量性を高めることができる、というのがこの提案で
ある。
マスクデータ収集手法によるエミッションデータ・トラ
ンスミッションデータ同時収集方式では、いずれにして
も定量性は完全ではない、という問題がある。すなわ
ち、マスクを用いて選別しながらデータ収集する限り、
アドレスごとの検出効率は均一にならず、マスクデータ
収集における感度のばらつき(不均一性)の問題は不可
避であり、これが原因となって定量性を高めることにも
限界がある。
集における感度不均一性を補正してデータの定量性を高
めるようにした、マスクデータ収集手法によるエミッシ
ョンデータ・トランスミッションデータ同時収集方式の
ポジトロンECT装置を提供することを目的とする。
め、この発明によるポジトロンECT装置においては、
多数の放射線検出手段がリング型に配列された放射線検
出手段のリング型配列と、上記の多数の放射線検出手段
のうちの2つから同時に出力が生じたことを検出する同
時検出手段と、該2つの検出手段の対を、対応するアド
レス信号に変換するアドレス変換手段と、該アドレス信
号が生じたときそのアドレス信号で指定されるアドレス
においてカウントすることによりデータ収集する手段
と、上記リング型配列内に配置され、該リング型配列に
沿って回転移動させられるポジトロン放出性放射線発生
手段と、その回転位置情報を得る手段と、該回転位置情
報に応じて変化させられる、上記アドレス上のマスク領
域をマスクすることによりその領域内のアドレスではカ
ウントさせないこととして、ポジトロン放出性物質を含
む被検体が上記リング型配列内に配置されているときに
上記データ収集手段においてトランスミッションデータ
とエミッションデータとを別個に同時収集させる手段
と、上記収集されたデータのマスクデータ収集に起因し
て生じた感度不均一性を補正するマスク感度補正手段
と、該トランスミッションデータと被検体が上記リング
型配列内に配置されていないときのトランスミッション
データとの関係に応じて上記のエミッションデータの吸
収補正を行う吸収補正手段とが備えられることが特徴と
なっている。
器のリング型配列に沿って回転移動させられるので、そ
の回転位置情報を得ることは容易である。そこで、この
ポジトロン放出性放射線発生手段がある位置にあると
き、それからの放射線によるデータがアドレス上でどの
領域に現れるかが分かるので、その領域をマスクしてそ
の領域ではカウントしないこととすれば、エミッション
データが得られ、同時に一切マスクせずにデータ収集し
たデータからこのエミッションデータを引けばトランス
ミッションデータを得ることができる。あるいは、ポジ
トロン放出性放射線発生手段からの放射線によるデータ
がアドレス上で現れる領域以外の領域を逆にマスクして
トランスミッションデータを収集することもできる。そ
して、上記のエミッションデータに対して、上記のトラ
ンスミッションデータと被検体が上記リング型配列内に
配置されていないときのトランスミッションデータとの
関係に応じて吸収補正を行えば、被検体による吸収を補
正することができるのであるが、そのエミッションデー
タは、マスクデータ収集を行って得たものであるために
アドレスによって収集効率が異なるものとなっているた
め、この感度不均一性が補正される。したがって、マス
クデータ収集を行うことにより不可避な感度不均一性の
補正と、吸収補正とが併用されているため、データの定
量性が高められる。
ついて図面を参照しながら詳細に説明する。この発明に
かかるポジトロンECT装置では、図1に示すように、
多数の放射線検出器11がリング型に配列されており、
そのリング型配列10の中に被検体(患者)30が配置
されるようになっている。これらの検出器11の各出力
はコインシデンス回路12に導かれ、いずれか2つの検
出器11に同時に放射線が入射してこれらから出力が同
時に生じたことが検出される。そして、このように同時
に2つの検出器11から出力が生じてこれがコインシデ
ンス回路12により検出されると、そのコインシデンス
回路12からの出力がアドレス変換器13に送られ、そ
の2つの検出器11の組み合わせに応じたアドレス変換
がなされる。
ら同時に出力が生じたとき、その2つの検出器11を結
ぶ線に関する位置情報に変換するものである。この2つ
の検出器11を結ぶ線の位置を表す情報は、たとえば図
1に示すように、角度θと中心からの距離dとで表され
るものである。つまり、ある2つの検出器11で同時に
検出信号が生じたとき、それらの検出器11を結ぶ線を
表すθとdよりなるアドレスへの変換がなされる。
号は2つのマスク処理回路14、15を経てそれぞれの
データ収集用のメモリ21〜25に送られて、各アドレ
スごとにカウントされる。すなわち、各データ収集用メ
モリ21〜25では、それぞれ、あるアドレス信号が入
力されるとそのアドレスに「1」を加算することによ
り、(d、θ)で表わされるアドレスごとにガンマ線入
射個数を示すカウント値を集積していく。
ている機構により、点線のように検出器リング型配列1
0内でこれに沿って所定の小さな角度ごとにステップ的
に回転移動させられる。このライン線源18は、ライン
状に形成された放射線源であり、スライス面(検出器リ
ング型配列10が含まれる平面)に直交するよう配置さ
れる(図では紙面に直角に配置される)。このライン線
源18はポジトロン放出性の核種により形成されてい
る。
識された薬剤の投与された被検体30を検出器11のリ
ング型配列10中に配置し、ライン線源18をその周囲
に回転させるときにメモリ21〜25で収集されるデー
タは、マスク処理回路14、15での処理を考えないも
のとすると、図3のようになるはずである。なお、図3
のようにアドレス(d、θ)ごとにカウント値を集積し
たデータをサイノグラムという。
ライン線源18が図2の(a)〜(d)のようにそれぞ
れ位置している時点で収集されたものを示している。実
際には、ライン線源18が1回転していく期間で得られ
るアドレス信号が、すべて対応するアドレスに加算され
ていくので、図3の(a)〜(d)のようなサイノグラ
ムが個別に得られるわけではなく、これらが加算された
(重なった)ものとなる。図2の(a)のようにライン
線源18が上方にあるとき、図3の(a)のサイノグラ
ムのように、ライン線源18によるデータは角度0°で
中央(dの中心)に集中し、角度90°で右端になり、
角度180°で中央に位置する。そのため、図3の
(a)では、ライン線源18によるデータは曲線42の
ようなものとなる。これに対して、被検体30は左右方
向に偏平であるため、被検体30内の核種からのガンマ
線によるデータは、角度0°と180°でd方向に広い
領域で、角度90°でd方向に狭い領域で収集される。
そのため、被検体30からのデータは砂目模様部分41
のようになる。
18が左方にあるときは、ライン線源18からのデータ
は図3の(b)の曲線42の位置で収集され、図2の
(c)のようにライン線源18が下方にあるときは、ラ
イン線源18からのデータは図3の(c)の曲線42の
位置で収集され、図2の(d)のようにライン線源18
が右方にあるときは、ライン線源18からのデータは図
3の(d)の曲線42の位置で収集される。これに対し
て、被検体30からのデータは、ライン線源18がどの
ような位置にあっても、被検体30は不変であるから、
同じような形状の砂目模様部分41で収集される。
いていく、ライン線源18からのデータ収集領域42に
対応した通過部を持つマスクをマスク生成器16から、
ライン線源18からのデータ収集領域42に対応した遮
蔽部(マスク部)を持つマスクをマスク生成器17から
発生させる。マスク生成器16は図4に示すようなマス
クを生成し、マスク生成器17は図5のようなマスクを
生成する。このようなマスクによりマスク処理回路1
4、15が行う処理は、特定のアドレスは通過させ、他
の特定のアドレスは遮蔽(マスク)して通過させないと
いう処理であり、ここでのマスクとは、その通過させる
アドレス部(通過部)と、遮蔽するアドレス部(遮蔽
部)とを持つものをいうこととする。図4、図5では、
砂目模様の部分が遮蔽部で、白抜き部分が通過部であ
る。
対応して生成するため、ライン線源18の位置情報がマ
スク生成器16、17に入力される。この位置情報は、
ライン線源18の回転位置を読み取る回転位置読み取り
装置19によって得られる。この回転位置読み取り装置
19はたとえばパルスエンコーダとカウンタ等から構成
される。
各位置にあるときに図4の(a)〜(d)のようなマス
クがマスク生成器16で生成されてその白抜き部分のみ
がマスク処理回路14を通過させられるので、図3の領
域42のデータのみが通過させられることになる。つま
り、ライン線源18からの放射線によるTmデータ(ト
ランスミッションデータ)が取り出される。このTmデ
ータは、データ収集メモリ22に送られてデータ収集が
なされる。このメモリ22をTmメモリといい、マスク
生成器16はTマスク生成器、マスク処理回路14はT
マスク処理回路ということにする。ライン線源18が回
転し、それに伴いマスクが図4の(a)〜(d)のよう
に変化し、1回転(360°)する期間にTmメモリ2
2の各アドレスで加算がなされることによりデータ収集
が行われる。
(d)の各位置にあるときに図5の(a)〜(d)のよ
うなマスクがマスク生成器17で生成されてその白抜き
部分のみがマスク処理回路15を通過させられる。この
遮蔽部(砂目模様部分)は、図3の領域42に対応して
いるが、その幅が拡大されたものとなっている。そこ
で、ライン線源18からの放射線によるデータおよびそ
の周辺のデータが遮蔽され、それ以外の領域のデータ、
つまり被検体30中の核種からのEmデータ(エミッシ
ョンデータ)のみが取り出される。このEmデータは、
データ収集メモリ24に送られてデータ収集がなされ
る。このメモリ24をEmメモり、マスク生成器17を
Eマスク生成器、マスク処理回路15をEマスク処理回
路という。Emメモリ24では、ライン線源18の回転
に伴い図5の(a)〜(d)のように変化していくマス
クの通過部を通ったデータを、そのアドレスごとに加算
していく。
ものとなっているため、Emメモリ24ではライン線源
18からのデータのみならず、その周辺のアドレスのデ
ータも収集されないことになる。そのため、強い放射能
を持つライン線源18の周辺に生じる散乱線によるノイ
ズは収集されないこととなる。このように遮蔽部の幅が
広いが、この遮蔽部はライン線源18の回転とともに図
5の(a)〜(d)のように動いていくので、ライン線
源18の1回転の期間内ではつねに遮蔽されてしまう領
域はなく、おおむね均等にデータ収集される。
効率でデータ収集されるわけではない。このことはTマ
スク生成器16、Tマスク処理回路14およびTmメモ
リ22によるTmデータ収集についてもいえる。これ
は、ライン線源18の1回転の期間に変化する図4、図
5のマスクによって遮蔽されている時間(あるいは通過
部となっている時間)が、すべてのアドレスで同一でな
く、アドレスによって異なることに原因がある。そのた
め、検出器11の各々の対から一様に検出出力を生じさ
せた場合、本来ならサイノグラムのどのアドレスでも均
一なカウントとなるはずであるが、実際にはこれらのマ
スクの作用で図6や図7のようなカウントの高い部分と
低い部分とが存在するサイノグラム(濃い部分はカウン
トが高く、淡い部分はカウントが低い)が得られる。図
6は、図5のEマスクによりマスク処理して収集したサ
イノグラムを示し、d方向の両端に近い領域でカウント
の低い領域が表れている。また、図7は、図4のTマス
クによりマスク処理して収集したサイノグラムを示し、
d方向の両端領域にでカウントの高い領域が表れてい
る。
ノグラムのアドレス上での感度不均一を補正して定量性
を高める。そのため、上記のような被検体30およびラ
イン線源18を配置した状態でのデータ収集に先立っ
て、検出器11の各々の対から一様に検出出力を生じさ
せ、TCDメモリ23、ECDメモリ25を用いてデー
タ収集する。すなわち、このとき、Tマスク生成器1
6、Eマスク生成器17から1回転分変化するTマスク
とEマスクとを順次生成させ、その1回転分変化する期
間において、Tマスク処理回路14、Eマスク処理回路
15を通過したアドレス信号を、TCDメモリ23、E
CDメモリ25にそれぞれ導いてデータ収集する。これ
により、TCDメモリ23には図7で示すようなデータ
(TCDデータ)が、ECDメモリ25には図6で示す
ようなデータ(ECDデータ)がそれぞれ収集される。
るTCDデータおよびECDデータの収集が終わった
後、上記のように被検体30およびライン線源18を配
置した状態でデータ収集し、Tmメモリ22、Emメモ
リ24においてTmデータおよびEmデータを得たと
き、Eマスク感度補正回路27により、まずECDデー
タの平均値が1となるようにこれをノーマライズしてE
CDNデータを求める。具体的には、サイノグラムの各
アドレスごとに異なるECDデータの平均値を求め、こ
の平均値で各アドレスのECDの値を割ることによりア
ドレスごとにECDNの各々の値を得る。つぎに、Eマ
スク感度補正回路27において、つぎの演算を行う。 Et=Em/ECDN これをサイノグラムの各アドレスのEmについてそれぞ
れ行うことにより、Eマスク処理により生じた感度不均
一性を補正した真のエミッションデータEtが求められ
る。
うな演算が各アドレスごとに行われる。 Tt=Tm−(Em/ECD)・TCD ここで(Em/ECD)はEmメモリ24、ECDメモ
リ25から読み出して作る。Tmデータには、線源18
からの真のトランスミッションデータのみならず、Tマ
スク(図4)を通った被検体30からのエミッションデ
ータも重畳している。このエミッションデータはTマス
クの作用による感度不均一性の影響を受けたもので、T
CDに比例したものとなっている。一方Emメモリ24
で収集されたEmデータは、同一対象を同一時間測定し
たものであるから、上記のTmデータに含まれるエミッ
ションデータと基本的には同じものであるはずである
が、EマスクによってECDに比例した値となる。そこ
で、Emに、TマスクとEマスクとの間の収集効率の比
(TCD/ECD)を乗じれば、Tmデータに含まれる
エミッションデータの真の値を得ることができる。とこ
ろが、線源18からの放射線によるデータはすべてTマ
スクを通過するので、Tマスクによる収集効率のばらつ
きの影響を受けない。そのため、上記の演算で、Tmか
ら、Tmデータに含まれるエミッションデータの真の値
を引くこととなり、真のトランスミッションデータTt
を得ることができる。
れて、Tメモリ21から読み出されたTデータと比較さ
れる。このTデータは、被検体30を配置しない状態で
ライン線源18のみを回転させたときTメモリ21で収
集したデータであり、被検体30が存在しないため、被
検体30による吸収をまったく受けていないものであ
る。そのため、各アドレスごとに求めたそれらの比(T
t/T)は、アドレス(d、θ)ごとの、被検体30に
おける吸収割合を表わすことになる。なお、このTメモ
リ21におけるTデータの収集は、線源18からの放射
線によるデータのみを収集することであるため、上記と
同様にTマスクによる収集効率のばらつきの影響を受け
ないので、Tマスク処理回路14によるマスク処理を省
いて無条件に通過させてもよいし、Tmデータと同様に
Tマスク処理回路14によるマスク処理を行ってもよ
い。
スク感度補正回路27から得られるアドレスごとのEt
データに、対応するアドレスの(Tt/T)比を作用さ
せれば、吸収の影響を補正したエミッションデータを得
ることができる。このエミッションデータは画像再構成
装置31によって画像再構成演算を受け、再構成された
画像はディスプレイ装置32で表示され、あるいは図示
しない記録装置で記録される。
個別メモリとして表現したが、これらはいずれも単にサ
イノグラムのアドレスに対応したアドレスを持つデータ
収集用の加算メモリであれば足り、大きな容量の単一の
メモリの一部ずつを利用するよう構成することもでき
る。また、アドレスの所定領域をマスクする処理を一種
のゲート回路であるマスク処理回路14、15で行うと
したが、マスクされた領域に含まれるアドレスでは加算
をしなければよいのであるから、マスク生成器16、1
7で生成されるマスクに関する情報で直接メモリを制御
するようにしてもよいし、アドレス変換器13が、マス
クされる領域のアドレスの変換自体を行わないように構
成することもできる。後者の場合、アドレス変換器13
を2系統設けて、それぞれにTマスク生成器16、Eマ
スク生成器17の機能を持たせることもできる。
出器11のすべての対から一様に出力を生じさせたとき
にマスク処理して収集するデータであるから、Tマスク
とEマスクのパターンが分かっていることを利用してコ
ンピュータシミュレーションによって求めてもよい。こ
の場合には、さらにECDNおよび(TCD/ECD)
も各アドレスごとに求めておいてデータメモリ等に保持
させておき、Eマスク感度補正回路27、Tマスク感度
補正回路26がそれらのデータを読み出して補正するよ
う構成することもできる。
ロンECT装置によれば、マスクデータ収集に不可避な
感度不均一性を補正しながらのマスクデータ収集によ
り、被検体に放射性薬剤を投与した状態で外部線源を回
転させてエミッションデータとトランスミッションデー
タとを同時収集し、吸収補正することができるため、デ
ータの定量性が高められる。
ック図。
す図。
図。
図。
グラムを示す図。
グラムを示す図。
Claims (1)
- 【請求項1】 多数の放射線検出手段がリング型に配列
された放射線検出手段のリング型配列と、上記の多数の
放射線検出手段のうちの2つから同時に出力が生じたこ
とを検出する同時検出手段と、該2つの検出手段の対
を、対応するアドレス信号に変換するアドレス変換手段
と、該アドレス信号が生じたときそのアドレス信号で指
定されるアドレスにおいてカウントすることによりデー
タ収集する手段と、上記リング型配列内に配置され、該
リング型配列に沿って回転移動させられるポジトロン放
出性放射線発生手段と、その回転位置情報を得る手段
と、該回転位置情報に応じて変化させられる、上記アド
レス上のマスク領域をマスクすることによりその領域内
のアドレスではカウントさせないこととして、ポジトロ
ン放出性物質を含む被検体が上記リング型配列内に配置
されているときに上記データ収集手段においてトランス
ミッションデータとエミッションデータとを別個に同時
収集させる手段と、上記収集されたデータのマスクデー
タ収集に起因して生じた感度不均一性を補正するマスク
感度補正手段と、該トランスミッションデータと被検体
が上記リング型配列内に配置されていないときのトラン
スミッションデータとの関係に応じて上記のエミッショ
ンデータの吸収補正を行う吸収補正手段とを備えること
を特徴とするポジトロンECT装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33474596A JP3671283B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | ポジトロンect装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33474596A JP3671283B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | ポジトロンect装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10160850A true JPH10160850A (ja) | 1998-06-19 |
| JP3671283B2 JP3671283B2 (ja) | 2005-07-13 |
Family
ID=18280759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33474596A Expired - Fee Related JP3671283B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | ポジトロンect装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3671283B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003057348A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Shimadzu Corp | ポジトロンect装置 |
-
1996
- 1996-11-29 JP JP33474596A patent/JP3671283B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003057348A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Shimadzu Corp | ポジトロンect装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3671283B2 (ja) | 2005-07-13 |
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