JPH10161139A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH10161139A JPH10161139A JP31840796A JP31840796A JPH10161139A JP H10161139 A JPH10161139 A JP H10161139A JP 31840796 A JP31840796 A JP 31840796A JP 31840796 A JP31840796 A JP 31840796A JP H10161139 A JPH10161139 A JP H10161139A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラスチック基板を用いたプラスチック液晶
表示装置の注入口の封止を簡便に行うことができ、信頼
性の高いプラスチック液晶表示装置を得ることができる
液晶表示装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 液晶材料を注入した後、注入口に紫外線
硬化型樹脂からなる封止剤１を、ディスペンサー等によ
って一対のプラスチック基板２の端面からはみ出すよう
に塗布する。次に、スリット３を介して紫外線４を封止
剤１に照射し、一対のプラスチック基板２の端面上の封
止剤１のみを硬化する。このとき、一対のプラスチック
基板２の端面からはみ出している封止剤１は未硬化の状
態である。次に、一対のプラスチック基板２の端面から
はみ出している未硬化の封止剤１を、エチルアルコール
等の溶剤を用いて布または脱脂綿等でふき取ることによ
り、注入口の封止を完了し、その後、周知の方法を用い
て液晶表示装置を完成させる。
表示装置の注入口の封止を簡便に行うことができ、信頼
性の高いプラスチック液晶表示装置を得ることができる
液晶表示装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 液晶材料を注入した後、注入口に紫外線
硬化型樹脂からなる封止剤１を、ディスペンサー等によ
って一対のプラスチック基板２の端面からはみ出すよう
に塗布する。次に、スリット３を介して紫外線４を封止
剤１に照射し、一対のプラスチック基板２の端面上の封
止剤１のみを硬化する。このとき、一対のプラスチック
基板２の端面からはみ出している封止剤１は未硬化の状
態である。次に、一対のプラスチック基板２の端面から
はみ出している未硬化の封止剤１を、エチルアルコール
等の溶剤を用いて布または脱脂綿等でふき取ることによ
り、注入口の封止を完了し、その後、周知の方法を用い
て液晶表示装置を完成させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の製
造方法に関するもので、特に、プラスチックからなる一
対の基板間に液晶材料を封入したプラスチック液晶表示
装置の製造方法に関するものである。
造方法に関するもので、特に、プラスチックからなる一
対の基板間に液晶材料を封入したプラスチック液晶表示
装置の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、一対の基板をシール材
料を介して貼り合わせ、一対の基板の端面に形成した注
入口から一対の基板間に液晶材料を注入した後、紫外線
硬化型樹脂からなる封止剤を注入口に塗布し、封止剤に
紫外線を照射して硬化することで注入口を封止してい
る。
料を介して貼り合わせ、一対の基板の端面に形成した注
入口から一対の基板間に液晶材料を注入した後、紫外線
硬化型樹脂からなる封止剤を注入口に塗布し、封止剤に
紫外線を照射して硬化することで注入口を封止してい
る。
【０００３】ガラスからなる一対の基板を用いて液晶表
示装置を構成する場合、ガラス基板としては、厚さが
１．１ｍｍまたは０．７ｍｍのガラスを用いることが一
般的である。
示装置を構成する場合、ガラス基板としては、厚さが
１．１ｍｍまたは０．７ｍｍのガラスを用いることが一
般的である。
【０００４】この厚さ１．１ｍｍまたは０．７ｍｍの一
対のガラス基板を貼り合わせて液晶表示装置を構成する
場合、一対の基板の端面の幅は、各々の基板の厚さの２
倍である２．２ｍｍまたは１．４ｍｍとなる。この２．
２ｍｍまたは１．４ｍｍの幅を有する一対の基板の端面
に注入口が形成され、注入口に封止剤を塗布するのであ
る。
対のガラス基板を貼り合わせて液晶表示装置を構成する
場合、一対の基板の端面の幅は、各々の基板の厚さの２
倍である２．２ｍｍまたは１．４ｍｍとなる。この２．
２ｍｍまたは１．４ｍｍの幅を有する一対の基板の端面
に注入口が形成され、注入口に封止剤を塗布するのであ
る。
【０００５】封止剤の塗布は、塗布量が少なすぎると注
入口から空気が一対の基板間に浸入してしまい、液晶表
示装置に気泡不良が発生する。塗布量が多すぎると封止
剤が一対の基板の端面からはみ出してしまい、液晶表示
装置の厚さが基板からはみ出た封止剤の分だけ厚くなる
ため、封止剤を硬化した後、はみ出した封止剤をカッタ
ーナイフ等で削り取る必要がある。
入口から空気が一対の基板間に浸入してしまい、液晶表
示装置に気泡不良が発生する。塗布量が多すぎると封止
剤が一対の基板の端面からはみ出してしまい、液晶表示
装置の厚さが基板からはみ出た封止剤の分だけ厚くなる
ため、封止剤を硬化した後、はみ出した封止剤をカッタ
ーナイフ等で削り取る必要がある。
【０００６】図５に示すように、例えば厚さ０．７ｍｍ
のガラス基板５１を貼り合わせたものに封止剤５２を塗
布する場合、一対のガラス基板５１の端面の幅は１．４
ｍｍとなるため、ガラス基板５１の端面から封止剤５２
をはみ出させることなく塗布することができる。
のガラス基板５１を貼り合わせたものに封止剤５２を塗
布する場合、一対のガラス基板５１の端面の幅は１．４
ｍｍとなるため、ガラス基板５１の端面から封止剤５２
をはみ出させることなく塗布することができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図６に示すように、プ
ラスチック基板５３を貼り合わせたものに封止剤５２を
塗布する際に、封止剤５２がプラスチック基板５３の端
面からはみ出した場合、カッターナイフ等ではみ出した
封止剤５２を削り取るのであるが、その際にプラスチッ
ク基板５３をカッターナイフ等で傷つけることがあり、
プラスチック基板５３を傷つけたときには、修正不可能
な不良品となってしまう。
ラスチック基板５３を貼り合わせたものに封止剤５２を
塗布する際に、封止剤５２がプラスチック基板５３の端
面からはみ出した場合、カッターナイフ等ではみ出した
封止剤５２を削り取るのであるが、その際にプラスチッ
ク基板５３をカッターナイフ等で傷つけることがあり、
プラスチック基板５３を傷つけたときには、修正不可能
な不良品となってしまう。
【０００８】さらに、プラスチック基板５３の厚さが
０．４ｍｍ以下の場合、封止剤５２をプラスチック基板
５３の端面からはみ出さないように塗布することが困難
となり、不良品を発生させる確率が高くなる。
０．４ｍｍ以下の場合、封止剤５２をプラスチック基板
５３の端面からはみ出さないように塗布することが困難
となり、不良品を発生させる確率が高くなる。
【０００９】このことは、一対の基板のどちらか一方が
０．４ｍｍ以下の場合についても同様である。これは、
例えば厚さが０．４ｍｍの基板と０．７ｍｍの基板とを
貼り合わせて、一対の基板の端面の幅が１．１ｍｍにな
ったとしても、封止剤５２の塗布は注入口を中心として
行うため、厚さが０．７ｍｍの基板の方は封止剤５２が
はみ出す確率が低いが、厚さが０．４ｍｍの基板の方か
ら封止剤５２がはみ出す確率は、一対の厚さが０．４ｍ
ｍの基板を貼り合わせた場合とほぼ同じとなるからであ
る。
０．４ｍｍ以下の場合についても同様である。これは、
例えば厚さが０．４ｍｍの基板と０．７ｍｍの基板とを
貼り合わせて、一対の基板の端面の幅が１．１ｍｍにな
ったとしても、封止剤５２の塗布は注入口を中心として
行うため、厚さが０．７ｍｍの基板の方は封止剤５２が
はみ出す確率が低いが、厚さが０．４ｍｍの基板の方か
ら封止剤５２がはみ出す確率は、一対の厚さが０．４ｍ
ｍの基板を貼り合わせた場合とほぼ同じとなるからであ
る。
【００１０】また、封止剤５２が一対の基板の端面から
はみ出さないように最適化する場合、プラスチック基板
５３は薄いため、一対の基板の端面の幅が狭く、一対の
基板の端面に塗布できる封止剤５２の量が少なくなり、
注入口から空気が一対の基板間に浸入して液晶表示装置
に気泡不良が発生する確率が高くなる。
はみ出さないように最適化する場合、プラスチック基板
５３は薄いため、一対の基板の端面の幅が狭く、一対の
基板の端面に塗布できる封止剤５２の量が少なくなり、
注入口から空気が一対の基板間に浸入して液晶表示装置
に気泡不良が発生する確率が高くなる。
【００１１】本発明は、以上のような従来の問題点に鑑
みなされたものであって、プラスチック基板を用いたプ
ラスチック液晶表示装置の注入口の封止を簡便に行うこ
とができ、信頼性の高いプラスチック液晶表示装置を得
ることができる液晶表示装置の製造方法を提供すること
を目的としている。
みなされたものであって、プラスチック基板を用いたプ
ラスチック液晶表示装置の注入口の封止を簡便に行うこ
とができ、信頼性の高いプラスチック液晶表示装置を得
ることができる液晶表示装置の製造方法を提供すること
を目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の請求項１記載の液晶表示装置の製造方
法は、プラスチックからなる一対の基板間に、前記一対
の基板の端面に形成された注入口から液晶材料を注入し
た後、前記注入口に紫外線硬化型樹脂からなる封止剤を
塗布し、前記封止剤に紫外線を照射して硬化することで
前記注入口を封止する液晶表示装置の製造方法におい
て、前記端面からはみ出すように前記封止剤を塗布し、
前記端面部分の前記封止剤にのみ紫外線を照射して硬化
した後、前記端面からはみ出している前記封止剤を未硬
化の状態で除去することを特徴としている。
ために、本発明の請求項１記載の液晶表示装置の製造方
法は、プラスチックからなる一対の基板間に、前記一対
の基板の端面に形成された注入口から液晶材料を注入し
た後、前記注入口に紫外線硬化型樹脂からなる封止剤を
塗布し、前記封止剤に紫外線を照射して硬化することで
前記注入口を封止する液晶表示装置の製造方法におい
て、前記端面からはみ出すように前記封止剤を塗布し、
前記端面部分の前記封止剤にのみ紫外線を照射して硬化
した後、前記端面からはみ出している前記封止剤を未硬
化の状態で除去することを特徴としている。
【００１３】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
スリットを介して紫外線を照射することを特徴としてい
る。
は、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
スリットを介して紫外線を照射することを特徴としてい
る。
【００１４】請求項３記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
紫外線レーザーを用いて紫外線を照射することを特徴と
している。
は、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
紫外線レーザーを用いて紫外線を照射することを特徴と
している。
【００１５】請求項４記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項１乃至請求項３記載の液晶表示装置の製造方
法において、前記一対の基板の少なくとも一方は、厚さ
が０．４ｍｍ以下であることを特徴としている。
は、請求項１乃至請求項３記載の液晶表示装置の製造方
法において、前記一対の基板の少なくとも一方は、厚さ
が０．４ｍｍ以下であることを特徴としている。
【００１６】本発明の液晶表示装置の製造方法によれ
ば、一対の基板の端面からはみ出すように封止剤を塗布
し、一対の基板の端面部分の封止剤にのみ紫外線を照射
して硬化した後、一対の基板の端面からはみ出している
封止剤を未硬化の状態で除去することにより、高精度の
制御を行うことなく封止剤を塗布することができ、一対
の基板の端面からはみ出している封止剤をプラスチック
基板に傷をつけることなく容易に除去することができ
る。
ば、一対の基板の端面からはみ出すように封止剤を塗布
し、一対の基板の端面部分の封止剤にのみ紫外線を照射
して硬化した後、一対の基板の端面からはみ出している
封止剤を未硬化の状態で除去することにより、高精度の
制御を行うことなく封止剤を塗布することができ、一対
の基板の端面からはみ出している封止剤をプラスチック
基板に傷をつけることなく容易に除去することができ
る。
【００１７】このことは、スリットを介して紫外線を照
射することにより、容易に実現することができる。
射することにより、容易に実現することができる。
【００１８】また、紫外線レーザーを用いて紫外線を照
射することよっても、容易に実現することができる。
射することよっても、容易に実現することができる。
【００１９】また、一対の基板の少なくとも一方の厚さ
が０．４ｍｍ以下であることにより、本発明の効果が顕
著なものとなる。従来であれば、基板の厚さが薄くなれ
ばなるほど注入口の封止が困難なものとなったが、本発
明によれば、基板の厚さが薄くなっても同様の効果を得
ることができる。
が０．４ｍｍ以下であることにより、本発明の効果が顕
著なものとなる。従来であれば、基板の厚さが薄くなれ
ばなるほど注入口の封止が困難なものとなったが、本発
明によれば、基板の厚さが薄くなっても同様の効果を得
ることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】図１乃至図４を用いて、本発明の
実施の形態について説明する。
実施の形態について説明する。
【００２１】（実施の形態１）図１及び図２を用いて、
本発明の実施の形態１について説明する。図１は本発明
の実施の形態１に係わる液晶表示装置の製造方法を説明
する工程図、図２は図１を正面から見た場合を示す工程
図である。
本発明の実施の形態１について説明する。図１は本発明
の実施の形態１に係わる液晶表示装置の製造方法を説明
する工程図、図２は図１を正面から見た場合を示す工程
図である。
【００２２】アクリル系またはエポキシ系からなる一対
のプラスチック基板に、ガスバリア層及びハードコート
層等を形成し、ＩＴＯからなる透明電極を形成する。そ
して、フォトリソグラフィー法によって透明電極を所望
のパターンにパターニングし、配向膜を形成してラビン
グ法によって配向処理を行う。
のプラスチック基板に、ガスバリア層及びハードコート
層等を形成し、ＩＴＯからなる透明電極を形成する。そ
して、フォトリソグラフィー法によって透明電極を所望
のパターンにパターニングし、配向膜を形成してラビン
グ法によって配向処理を行う。
【００２３】配向処理の完了した一対のプラスチック基
板の一方にシール材料を形成し、他方にスペーサーを散
布して、この一対のプラスチック基板を貼り合わせる。
そして、貼り合わせた一対のプラスチック基板間に、一
対のプラスチック基板の端面に設けられた注入口から液
晶材料を注入する。
板の一方にシール材料を形成し、他方にスペーサーを散
布して、この一対のプラスチック基板を貼り合わせる。
そして、貼り合わせた一対のプラスチック基板間に、一
対のプラスチック基板の端面に設けられた注入口から液
晶材料を注入する。
【００２４】次に、図１（ａ）及び図２（ａ）に示すよ
うに、注入口に紫外線硬化型樹脂からなる封止剤１を、
ディスペンサー等によって一対のプラスチック基板２の
端面からはみ出すように塗布する。
うに、注入口に紫外線硬化型樹脂からなる封止剤１を、
ディスペンサー等によって一対のプラスチック基板２の
端面からはみ出すように塗布する。
【００２５】封止剤１を一対のプラスチック基板２の端
面からはみ出すように塗布することにより、極端に多量
の封止剤１を塗布しないように制御するだけでよいた
め、封止剤１の塗布量を高精度で制御する必要がなく、
作業が簡便なものとなる。
面からはみ出すように塗布することにより、極端に多量
の封止剤１を塗布しないように制御するだけでよいた
め、封止剤１の塗布量を高精度で制御する必要がなく、
作業が簡便なものとなる。
【００２６】次に、図１（ｂ）及び図２（ｂ）に示すよ
うに、スリット３を介して紫外線４を封止剤１に照射
し、一対のプラスチック基板２の端面上の封止剤１のみ
を硬化する。このとき、一対のプラスチック基板２の端
面からはみ出している封止剤１は未硬化の状態である。
うに、スリット３を介して紫外線４を封止剤１に照射
し、一対のプラスチック基板２の端面上の封止剤１のみ
を硬化する。このとき、一対のプラスチック基板２の端
面からはみ出している封止剤１は未硬化の状態である。
【００２７】スリット３を介して紫外線４を照射するた
め、紫外線４が配向膜及び液晶材料に照射されることが
なく、配向膜及び液晶材料に紫外線４が照射されること
によって生じる配向乱れ等の表示品位に悪影響を及ぼす
不良を発生することがない。
め、紫外線４が配向膜及び液晶材料に照射されることが
なく、配向膜及び液晶材料に紫外線４が照射されること
によって生じる配向乱れ等の表示品位に悪影響を及ぼす
不良を発生することがない。
【００２８】次に、図１（ｃ）及び図２（ｃ）に示すよ
うに、一対のプラスチック基板２の端面からはみ出して
いる未硬化の封止剤１を、エチルアルコール等の溶剤を
用いて布または脱脂綿等でふき取ることにより、注入口
の封止を完了し、その後、周知の方法を用いて液晶表示
装置を完成させる。
うに、一対のプラスチック基板２の端面からはみ出して
いる未硬化の封止剤１を、エチルアルコール等の溶剤を
用いて布または脱脂綿等でふき取ることにより、注入口
の封止を完了し、その後、周知の方法を用いて液晶表示
装置を完成させる。
【００２９】一対のプラスチック基板２の端面からはみ
出している封止剤１は未硬化の状態であるため、エチル
アルコール等の溶剤で容易にふき取ることが可能であ
り、プラスチック基板２に傷をつけることがない。
出している封止剤１は未硬化の状態であるため、エチル
アルコール等の溶剤で容易にふき取ることが可能であ
り、プラスチック基板２に傷をつけることがない。
【００３０】また、硬化した封止剤１は、容易に一対の
プラスチック基板２の端面の幅と略同一の幅にすること
ができ、一対のプラスチック基板２に対する封止剤１の
密着力を高めることができるため、信頼性の高い液晶表
示装置を得ることができる。
プラスチック基板２の端面の幅と略同一の幅にすること
ができ、一対のプラスチック基板２に対する封止剤１の
密着力を高めることができるため、信頼性の高い液晶表
示装置を得ることができる。
【００３１】プラスチック基板２の厚さが０．４ｍｍの
場合について説明したが、本発明によれば、プラスチッ
ク基板２の厚さは０．４ｍｍに限定されるものではな
い。プラスチック基板２の厚さは薄ければ薄いほど効果
が顕著なものとなるため、液晶表示装置を構成すること
が可能な厚さであれば、より薄い方が好ましく、例えば
厚さが０．１ｍｍまたは０．０５ｍｍのプラスチックフ
ィルムを用いてもかまわない。
場合について説明したが、本発明によれば、プラスチッ
ク基板２の厚さは０．４ｍｍに限定されるものではな
い。プラスチック基板２の厚さは薄ければ薄いほど効果
が顕著なものとなるため、液晶表示装置を構成すること
が可能な厚さであれば、より薄い方が好ましく、例えば
厚さが０．１ｍｍまたは０．０５ｍｍのプラスチックフ
ィルムを用いてもかまわない。
【００３２】（実施の形態２）図３及び図４を用いて、
本発明の実施の形態２について説明する。図３は本発明
の実施の形態２に係わる液晶表示装置の製造方法を説明
する工程図、図４は図３を正面から見た場合を示す工程
図である。
本発明の実施の形態２について説明する。図３は本発明
の実施の形態２に係わる液晶表示装置の製造方法を説明
する工程図、図４は図３を正面から見た場合を示す工程
図である。
【００３３】実施の形態１と同様に、一対のプラスチッ
ク基板間に液晶材料を注入し、図３（ａ）及び図４
（ａ）に示すように、注入口に紫外線硬化型樹脂からな
る封止剤１を、ディスペンサー等によって一対のプラス
チック基板２の端面からはみ出すように塗布する。
ク基板間に液晶材料を注入し、図３（ａ）及び図４
（ａ）に示すように、注入口に紫外線硬化型樹脂からな
る封止剤１を、ディスペンサー等によって一対のプラス
チック基板２の端面からはみ出すように塗布する。
【００３４】封止剤１を一対のプラスチック基板２の端
面からはみ出すように塗布することにより、極端に多量
の封止剤１を塗布しないように制御するだけでよいた
め、封止剤１の塗布量を高精度で制御する必要がなく、
作業が簡便なものとなる。
面からはみ出すように塗布することにより、極端に多量
の封止剤１を塗布しないように制御するだけでよいた
め、封止剤１の塗布量を高精度で制御する必要がなく、
作業が簡便なものとなる。
【００３５】次に、図３（ｂ）及び図４（ｂ）に示すよ
うに、紫外線レーザー照射装置を用いて紫外波長のレー
ザー光５を封止剤１に照射し、一対のプラスチック基板
２の端面上の封止剤１のみを硬化する。このとき、一対
のプラスチック基板２の端面からはみ出している封止剤
１は未硬化の状態である。
うに、紫外線レーザー照射装置を用いて紫外波長のレー
ザー光５を封止剤１に照射し、一対のプラスチック基板
２の端面上の封止剤１のみを硬化する。このとき、一対
のプラスチック基板２の端面からはみ出している封止剤
１は未硬化の状態である。
【００３６】紫外線レーザー照射装置用いて紫外波長の
レーザー光５を照射するため、紫外波長のレーザー光５
が配向膜及び液晶材料に照射されることがなく、配向膜
及び液晶材料に紫外波長のレーザー光５が照射されるこ
とによって生じる配向乱れ等の表示品位に悪影響を及ぼ
す不良を発生することがない。
レーザー光５を照射するため、紫外波長のレーザー光５
が配向膜及び液晶材料に照射されることがなく、配向膜
及び液晶材料に紫外波長のレーザー光５が照射されるこ
とによって生じる配向乱れ等の表示品位に悪影響を及ぼ
す不良を発生することがない。
【００３７】次に、図３（ｃ）及び図４（ｃ）に示すよ
うに、一対のプラスチック基板２の端面からはみ出して
いる未硬化の封止剤１を、エチルアルコール等の溶剤を
用いて布または脱脂綿等でふき取ることにより、注入口
の封止を完了し、その後、周知の方法を用いて液晶表示
装置を完成させる。
うに、一対のプラスチック基板２の端面からはみ出して
いる未硬化の封止剤１を、エチルアルコール等の溶剤を
用いて布または脱脂綿等でふき取ることにより、注入口
の封止を完了し、その後、周知の方法を用いて液晶表示
装置を完成させる。
【００３８】一対のプラスチック基板２の端面からはみ
出している封止剤１は未硬化の状態であるため、エチル
アルコール等の溶剤で容易にふき取ることが可能であ
り、プラスチック基板２に傷をつけることがない。
出している封止剤１は未硬化の状態であるため、エチル
アルコール等の溶剤で容易にふき取ることが可能であ
り、プラスチック基板２に傷をつけることがない。
【００３９】また、硬化した封止剤１は、容易に一対の
プラスチック基板２の端面の幅と略同一の幅にすること
ができ、一対のプラスチック基板２に対する封止剤１の
密着力を高めることができるため、信頼性の高い液晶表
示装置を得ることができる。
プラスチック基板２の端面の幅と略同一の幅にすること
ができ、一対のプラスチック基板２に対する封止剤１の
密着力を高めることができるため、信頼性の高い液晶表
示装置を得ることができる。
【００４０】プラスチック基板２の厚さが０．４ｍｍの
場合について説明したが、本発明によれば、プラスチッ
ク基板２の厚さは０．４ｍｍに限定されるものではな
い。プラスチック基板２の厚さは薄ければ薄いほど効果
が顕著なものとなるため、液晶表示装置を構成すること
が可能な厚さであれば、より薄い方が好ましく、例えば
厚さが０．１ｍｍまたは０．０５ｍｍのプラスチックフ
ィルムを用いてもかまわない。
場合について説明したが、本発明によれば、プラスチッ
ク基板２の厚さは０．４ｍｍに限定されるものではな
い。プラスチック基板２の厚さは薄ければ薄いほど効果
が顕著なものとなるため、液晶表示装置を構成すること
が可能な厚さであれば、より薄い方が好ましく、例えば
厚さが０．１ｍｍまたは０．０５ｍｍのプラスチックフ
ィルムを用いてもかまわない。
【００４１】
【発明の効果】以上の説明のように、本発明の液晶表示
装置の製造方法によれば、一対の基板の端面からはみ出
すように封止剤を塗布し、一対の基板の端面部分の封止
剤にのみ紫外線を照射して硬化した後、一対の基板の端
面からはみ出している封止剤を未硬化の状態で除去する
ことにより、簡便に信頼性の高いプラスチック液晶表示
装置を得ることができる。
装置の製造方法によれば、一対の基板の端面からはみ出
すように封止剤を塗布し、一対の基板の端面部分の封止
剤にのみ紫外線を照射して硬化した後、一対の基板の端
面からはみ出している封止剤を未硬化の状態で除去する
ことにより、簡便に信頼性の高いプラスチック液晶表示
装置を得ることができる。
【００４２】このことは、スリットを介して紫外線を照
射することにより、容易に実現することができる。
射することにより、容易に実現することができる。
【００４３】また、紫外線レーザーを用いて紫外線を照
射することよっても、容易に実現することができる。
射することよっても、容易に実現することができる。
【００４４】また、一対の基板の少なくとも一方の厚さ
が０．４ｍｍ以下であることにより、本発明の効果が顕
著なものとなる。
が０．４ｍｍ以下であることにより、本発明の効果が顕
著なものとなる。
【図１】（ａ）〜（ｃ）は本発明の実施の形態１に係わ
る液晶表示装置の製造方法を説明する工程図である。
る液晶表示装置の製造方法を説明する工程図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は図１を正面から見た場合を示
す工程図である。
す工程図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は本発明の実施の形態２に係わ
る液晶表示装置の製造方法を説明する工程図である。
る液晶表示装置の製造方法を説明する工程図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は図３を正面から見た場合を示
す工程図である。
す工程図である。
【図５】従来のガラス基板を用いた液晶表示装置の注入
口の封止状態を説明する斜視図である。
口の封止状態を説明する斜視図である。
【図６】従来のプラスチック基板を用いた液晶表示装置
の注入口の封止状態を説明する斜視図である。
の注入口の封止状態を説明する斜視図である。
１ 封止剤 ２ プラスチック基板 ３ スリット ４ 紫外線 ５ 紫外波長のレーザー光 ５１ ガラス基板 ５２ 封止剤 ５３ プラスチック基板
Claims (4)
- 【請求項１】 プラスチックからなる一対の基板間に、
前記一対の基板の端面に形成された注入口から液晶材料
を注入した後、前記注入口に紫外線硬化型樹脂からなる
封止剤を塗布し、前記封止剤に紫外線を照射して硬化す
ることで前記注入口を封止する液晶表示装置の製造方法
において、前記端面からはみ出すように前記封止剤を塗
布し、前記端面部分の前記封止剤にのみ紫外線を照射し
て硬化した後、前記端面からはみ出している前記封止剤
を未硬化の状態で除去することを特徴とする液晶表示装
置の製造方法。 - 【請求項２】 スリットを介して紫外線を照射すること
を特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】 紫外線レーザーを用いて紫外線を照射す
ることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造
方法。 - 【請求項４】 前記一対の基板の少なくとも一方は、厚
さが０．４ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃
至請求項３記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31840796A JP3445710B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31840796A JP3445710B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10161139A true JPH10161139A (ja) | 1998-06-19 |
| JP3445710B2 JP3445710B2 (ja) | 2003-09-08 |
Family
ID=18098815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31840796A Expired - Fee Related JP3445710B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3445710B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002131763A (ja) * | 2000-10-25 | 2002-05-09 | Optrex Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
| KR100434002B1 (ko) * | 2000-09-01 | 2004-06-04 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 액정 장치의 제조 방법 |
-
1996
- 1996-11-29 JP JP31840796A patent/JP3445710B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100434002B1 (ko) * | 2000-09-01 | 2004-06-04 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 액정 장치의 제조 방법 |
| JP2002131763A (ja) * | 2000-10-25 | 2002-05-09 | Optrex Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3445710B2 (ja) | 2003-09-08 |
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