JPH10168033A - エポキシアクリレート化合物 - Google Patents
エポキシアクリレート化合物Info
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- JPH10168033A JPH10168033A JP33083496A JP33083496A JPH10168033A JP H10168033 A JPH10168033 A JP H10168033A JP 33083496 A JP33083496 A JP 33083496A JP 33083496 A JP33083496 A JP 33083496A JP H10168033 A JPH10168033 A JP H10168033A
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- epoxy acrylate
- acrylate compound
- reaction
- epoxy
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ビスフェノール骨格のフェノール核が親油性の
シクロヘキシル基を置換基として有する新規なエポキシ
アクリレート化合物を提供することにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2 及び
Ｒ3 はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
で表わされる新規なエポキシアクリレート化合物が提供
される。
シクロヘキシル基を置換基として有する新規なエポキシ
アクリレート化合物を提供することにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2 及び
Ｒ3 はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
で表わされる新規なエポキシアクリレート化合物が提供
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なエポキシア
クリレート化合物に関する。本発明によるエポキシアク
リレート化合物は、それ自体を重合させることによっ
て、又はこれと共重合性を有する他の不飽和化合物と共
重合させることによって、耐湿性、耐水性、耐熱性、低
誘電性、耐薬品性等、種々の物性にすぐれた高分子材料
を得ることができ、種々の用途に有利に用いることがで
きる。また、本発明によるエポキシアクリレート化合物
は、光重合開始剤と組み合わせることによって、感光性
樹脂組成物とすることができ、かかる感光性樹脂組成物
は、印刷配線板やプリント配線板等を製造するためのソ
ルダーレジスト用樹脂のほか、無電解めっきレジスト用
樹脂、液晶表示パネルの封止用樹脂、更には、液晶のカ
ラーフィルター等の保護膜等の広範な用途に好適に用い
ることができる。
クリレート化合物に関する。本発明によるエポキシアク
リレート化合物は、それ自体を重合させることによっ
て、又はこれと共重合性を有する他の不飽和化合物と共
重合させることによって、耐湿性、耐水性、耐熱性、低
誘電性、耐薬品性等、種々の物性にすぐれた高分子材料
を得ることができ、種々の用途に有利に用いることがで
きる。また、本発明によるエポキシアクリレート化合物
は、光重合開始剤と組み合わせることによって、感光性
樹脂組成物とすることができ、かかる感光性樹脂組成物
は、印刷配線板やプリント配線板等を製造するためのソ
ルダーレジスト用樹脂のほか、無電解めっきレジスト用
樹脂、液晶表示パネルの封止用樹脂、更には、液晶のカ
ラーフィルター等の保護膜等の広範な用途に好適に用い
ることができる。
【０００２】
【従来の技術】従来、エポキシアクリレート化合物は、
感光材料や架橋剤等、種々の機能性高分子材料の原料と
して幅広く用いられている。例えば、特開昭６１−１８
５５７４号公報や特開昭６１−１８５５７５号公報に
は、2,２−ビス（３−アクリロキシ−２−ヒドロキシプ
ロポキシフェニル）プロパン、ビス（３−アクリロキシ
−２−ヒドロキシプロポキシフェニル）メタン、2,２−
ビス（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ
フェニル）プロパン、又はビス（３−メタクリロキシ−
２−ヒドロキシプロポキシフェニル）メタンをそれぞれ
主成分として用いた紫外線又は電子線硬化性樹脂組成物
が記載されている。また、特開昭５９−１３７９２８号
公報には、分子量が４００前後のビスフェノールＡジグ
リシジルエーテルジアクリレート又はビスフェノールＦ
ジグリシジルエーテルジアクリレートを用いた紫外線硬
化性液晶表示パネル用の液晶注入口封止材料が記載され
ている。
感光材料や架橋剤等、種々の機能性高分子材料の原料と
して幅広く用いられている。例えば、特開昭６１−１８
５５７４号公報や特開昭６１−１８５５７５号公報に
は、2,２−ビス（３−アクリロキシ−２−ヒドロキシプ
ロポキシフェニル）プロパン、ビス（３−アクリロキシ
−２−ヒドロキシプロポキシフェニル）メタン、2,２−
ビス（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ
フェニル）プロパン、又はビス（３−メタクリロキシ−
２−ヒドロキシプロポキシフェニル）メタンをそれぞれ
主成分として用いた紫外線又は電子線硬化性樹脂組成物
が記載されている。また、特開昭５９−１３７９２８号
公報には、分子量が４００前後のビスフェノールＡジグ
リシジルエーテルジアクリレート又はビスフェノールＦ
ジグリシジルエーテルジアクリレートを用いた紫外線硬
化性液晶表示パネル用の液晶注入口封止材料が記載され
ている。
【０００３】しかしながら、近年、一層の耐湿性、耐水
性、耐熱性、溶剤溶解性、低誘電特性、高光透過性、感
光性等にすぐれた高性能のエポキシアクリレート樹脂が
望まれており、最近、このようなエポキシアクリレート
化合物が幾つか、提案されている。例えば、特開平２−
１１１７４３号公報には、2,２−ビス〔３−フェニル−
４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポ
キシ）フェニル〕プロパンが、また、特開平８−６７７
３７号公報には、1,４−ビス〔3,５−ジメチル−４−
（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキ
シ）クミル〕ベンゼンがそれぞれ提案されている。
性、耐熱性、溶剤溶解性、低誘電特性、高光透過性、感
光性等にすぐれた高性能のエポキシアクリレート樹脂が
望まれており、最近、このようなエポキシアクリレート
化合物が幾つか、提案されている。例えば、特開平２−
１１１７４３号公報には、2,２−ビス〔３−フェニル−
４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポ
キシ）フェニル〕プロパンが、また、特開平８−６７７
３７号公報には、1,４−ビス〔3,５−ジメチル−４−
（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキ
シ）クミル〕ベンゼンがそれぞれ提案されている。
【０００４】上述したようなエポキシアクリレート化合
物のなかで、分子内にシクロアルキル基を有するもの
は、そのシクロアルキル基が親油性であるので、これら
のエポキシアクリレート化合物を用いて高分子材料を製
造した場合、それらの高分子材料は、低吸水性、低吸湿
性等の耐水性にすぐれ、それ故、高絶縁性、低誘電性等
の電気特性にもすぐれることが期待できる。
物のなかで、分子内にシクロアルキル基を有するもの
は、そのシクロアルキル基が親油性であるので、これら
のエポキシアクリレート化合物を用いて高分子材料を製
造した場合、それらの高分子材料は、低吸水性、低吸湿
性等の耐水性にすぐれ、それ故、高絶縁性、低誘電性等
の電気特性にもすぐれることが期待できる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のエポ
キシアクリレート化合物の上述したような状況に鑑みて
なされたものであって、ビスフェノール骨格のフェノー
ル核がシクロヘキシル基を置換基として有する新規なエ
ポキシアクリレート化合物を提供することにある。
キシアクリレート化合物の上述したような状況に鑑みて
なされたものであって、ビスフェノール骨格のフェノー
ル核がシクロヘキシル基を置換基として有する新規なエ
ポキシアクリレート化合物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
（Ｉ）
（Ｉ）
【０００７】
【化２】
【０００８】（式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示
し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水素原子又はメチル
基を示す。）で表わされる新規なエポキシアクリレート
化合物が提供される。
し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水素原子又はメチル
基を示す。）で表わされる新規なエポキシアクリレート
化合物が提供される。
【０００９】
【発明の実施の形態】特に、本発明によれば、好ましい
エポキシアクリレート化合物として、上記一般式（Ｉ）
において、Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 及びＲ3 がメチ
ル基である化合物が提供される。本発明によるエポキシ
アクリレート化合物は、下記式（II）
エポキシアクリレート化合物として、上記一般式（Ｉ）
において、Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 及びＲ3 がメチ
ル基である化合物が提供される。本発明によるエポキシ
アクリレート化合物は、下記式（II）
【００１０】
【化３】
【００１１】（式中、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水
素原子又はメチル基を示す。）で表わされるエポキシ化
合物に、下記一般式（III)
素原子又はメチル基を示す。）で表わされるエポキシ化
合物に、下記一般式（III)
【００１２】
【化４】
【００１３】（式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示
す。）で表わされるアクリル酸又はメタクリル酸を反応
させることによって得ることができる。上記式（II）で
表わされるエポキシ化合物は、下記式（IV）
す。）で表わされるアクリル酸又はメタクリル酸を反応
させることによって得ることができる。上記式（II）で
表わされるエポキシ化合物は、下記式（IV）
【００１４】
【化５】
【００１５】で表わされる2,２−ビス（３−シクロヘキ
シル−４−ヒドロキシフェニル）アルカンと下記式
（Ｖ）
シル−４−ヒドロキシフェニル）アルカンと下記式
（Ｖ）
【００１６】
【化６】
【００１７】で表わされるエピクロルヒドリンとを反応
させることによって得ることができる。このエポキシ化
合物を得る反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行な
うことができる。例えば、上記式（IV）で表わされる2,
２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニ
ル）アルカンを過剰のエピクロルヒドリンに溶解させた
後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物の存在下に、５０〜１５０℃、好ましくは、
６０〜１２０℃の範囲で１〜１０時間、反応させればよ
い。この際、エピクロルヒドリンは、2,２−ビス（３−
シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）アルカン中
の水酸基１モル部に対して、通常、0.８〜２モル部、好
ましくは、0.９〜1.２モル部の範囲で用いられる。反応
終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物を
トルエンやメチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解さ
せ、得られた溶液を濾過、水洗して、無機塩を除去し、
次いで、溶剤を留去することによって、前記一般式（I
I）で表わされるエポキシ化合物を主生成物として得る
ことができる。
させることによって得ることができる。このエポキシ化
合物を得る反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行な
うことができる。例えば、上記式（IV）で表わされる2,
２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニ
ル）アルカンを過剰のエピクロルヒドリンに溶解させた
後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物の存在下に、５０〜１５０℃、好ましくは、
６０〜１２０℃の範囲で１〜１０時間、反応させればよ
い。この際、エピクロルヒドリンは、2,２−ビス（３−
シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）アルカン中
の水酸基１モル部に対して、通常、0.８〜２モル部、好
ましくは、0.９〜1.２モル部の範囲で用いられる。反応
終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物を
トルエンやメチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解さ
せ、得られた溶液を濾過、水洗して、無機塩を除去し、
次いで、溶剤を留去することによって、前記一般式（I
I）で表わされるエポキシ化合物を主生成物として得る
ことができる。
【００１８】このようにして、前記一般式（II）で表わ
されるエポキシ化合物を製造するに際しては、一般に、
よく知られているエポキシ化反応と同様に、一般式（V
I）
されるエポキシ化合物を製造するに際しては、一般に、
よく知られているエポキシ化反応と同様に、一般式（V
I）
【００１９】
【化７】
【００２０】（式中、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水
素原子又はメチル基を示し、ｎは、通常、１〜３の数で
ある。）で表わされる二量体、三量体、四量体等のオリ
ゴマーが少量副生する。
素原子又はメチル基を示し、ｎは、通常、１〜３の数で
ある。）で表わされる二量体、三量体、四量体等のオリ
ゴマーが少量副生する。
【００２１】本発明によるエポキシアクリレート化合物
を製造するに際して、用いるエポキシ化合物は、前記一
般式（II）で表わされるエポキシ化合物と共に、上記一
般式（VI）で表わされるオリゴマーを少量含んでいても
よい。また、本発明によるエポキシアクリレート化合物
を製造するに際して、用いるエポキシ化合物は、エポキ
シ化反応時、エポキシ基の形成が未完了のままの所謂加
水分解性塩素を有する末端基を含む化合物を少量含んで
いてもよい。
を製造するに際して、用いるエポキシ化合物は、前記一
般式（II）で表わされるエポキシ化合物と共に、上記一
般式（VI）で表わされるオリゴマーを少量含んでいても
よい。また、本発明によるエポキシアクリレート化合物
を製造するに際して、用いるエポキシ化合物は、エポキ
シ化反応時、エポキシ基の形成が未完了のままの所謂加
水分解性塩素を有する末端基を含む化合物を少量含んで
いてもよい。
【００２２】次に、前記一般式（Ｉ）で表わされるエポ
キシアクリレート化合物は、前記一般式（II）で表わさ
れるエポキシ化合物と前記一般式（III)で表されるアク
リル酸又はメタクリル酸とを反応させることによって得
ることができる。この反応は、通常、５０℃〜１５０℃
の範囲の温度で、１〜８時間程度、行なわれる。反応の
際、好ましくは、触媒が用いられる。触媒としては、具
体例としては、トリエチルアミン、ジメチルブチルアミ
ン、トリ−ｎ−ブチルアミン等のアミン類、テトラメチ
ルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テト
ラブチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニ
ウム塩等の第四級アンモニウム塩、又は第四級ホスホニ
ウム塩、そのほか、トリフェニルホスフィン等のホスフ
ィン類や、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−
メチルイミダゾール等のイミダゾール類等を挙げること
ができる。
キシアクリレート化合物は、前記一般式（II）で表わさ
れるエポキシ化合物と前記一般式（III)で表されるアク
リル酸又はメタクリル酸とを反応させることによって得
ることができる。この反応は、通常、５０℃〜１５０℃
の範囲の温度で、１〜８時間程度、行なわれる。反応の
際、好ましくは、触媒が用いられる。触媒としては、具
体例としては、トリエチルアミン、ジメチルブチルアミ
ン、トリ−ｎ−ブチルアミン等のアミン類、テトラメチ
ルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テト
ラブチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニ
ウム塩等の第四級アンモニウム塩、又は第四級ホスホニ
ウム塩、そのほか、トリフェニルホスフィン等のホスフ
ィン類や、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−
メチルイミダゾール等のイミダゾール類等を挙げること
ができる。
【００２３】また、反応の際、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、
メチルセロソルブ、エチルセルソルブ等のアルコール
類、メチルセロソルブアセテート、エチルセロブアセテ
ート等のエステル類、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン系溶剤、ベンゼン、トルエン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合物等
を反応溶剤として用いることができる。反応の際、重合
禁止剤として、ハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、４−メチルキ
ノリン、フェノチアジン等を反応系に共存させてもよ
い。
ル、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、
メチルセロソルブ、エチルセルソルブ等のアルコール
類、メチルセロソルブアセテート、エチルセロブアセテ
ート等のエステル類、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン系溶剤、ベンゼン、トルエン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合物等
を反応溶剤として用いることができる。反応の際、重合
禁止剤として、ハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、４−メチルキ
ノリン、フェノチアジン等を反応系に共存させてもよ
い。
【００２４】反応に際して、アクリル酸又はメタクリル
酸の重合反応を抑制するために、場合によっては、空気
等の気流下に反応を行なうこともできる。また、その際
に、空気による酸化反応を防止するために2,６−ジ−ｔ
−ブチル−４−メチルフェノール等の酸化防止剤を併用
してもよい。
酸の重合反応を抑制するために、場合によっては、空気
等の気流下に反応を行なうこともできる。また、その際
に、空気による酸化反応を防止するために2,６−ジ−ｔ
−ブチル−４−メチルフェノール等の酸化防止剤を併用
してもよい。
【００２５】本発明によるエポキシアクリレート化合物
は、これに酸無水物類を反応させることによって、上記
エポキシアクリレート化合物の水酸基に酸無水物が反応
し、エステル結合を形成して、酸無水物が付加すると共
に、遊離のカルボキシル基が生成し、かくして、アルカ
リ可溶性のエポキシアクリレートの酸無水物付加物とす
ることができる。このような酸無水物類としては、例え
ば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、
無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサ
ヒドロフタル酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリ
ット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸等を挙げることができるが、しかし、これ
らに限定されるものではない。
は、これに酸無水物類を反応させることによって、上記
エポキシアクリレート化合物の水酸基に酸無水物が反応
し、エステル結合を形成して、酸無水物が付加すると共
に、遊離のカルボキシル基が生成し、かくして、アルカ
リ可溶性のエポキシアクリレートの酸無水物付加物とす
ることができる。このような酸無水物類としては、例え
ば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、
無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサ
ヒドロフタル酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリ
ット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸等を挙げることができるが、しかし、これ
らに限定されるものではない。
【００２６】また、本発明によるエポキシアクリレート
化合物や、上述したようなその酸無水物付加物に光重合
開始剤や、必要に応じて、他の光重合性モノマー類や有
機溶剤を配合することによって、感光性樹脂組成物とす
ることができる。
化合物や、上述したようなその酸無水物付加物に光重合
開始剤や、必要に応じて、他の光重合性モノマー類や有
機溶剤を配合することによって、感光性樹脂組成物とす
ることができる。
【００２７】上記光重合開始剤としては、例えば、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾイン類、
アセトフェノン、1,１−ジクロロアセトフェノン等のア
セトフェノン類、アントラキノン、２−メチルアントラ
キノン等のアントラキノン類、2,４−ジメチルチオキサ
ントン、２−クロロチオキサントン等のチオキサントン
類、ベンジルジメチルケタール等のケタール類、ベンゾ
フェノン、ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の
ベンゾフェノン類等、更に、これらの化合物とベンジル
ジメチルアミン、トリエタノールアミン等のアミン類と
の複合系光重合開始剤等を挙げることができる。
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾイン類、
アセトフェノン、1,１−ジクロロアセトフェノン等のア
セトフェノン類、アントラキノン、２−メチルアントラ
キノン等のアントラキノン類、2,４−ジメチルチオキサ
ントン、２−クロロチオキサントン等のチオキサントン
類、ベンジルジメチルケタール等のケタール類、ベンゾ
フェノン、ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の
ベンゾフェノン類等、更に、これらの化合物とベンジル
ジメチルアミン、トリエタノールアミン等のアミン類と
の複合系光重合開始剤等を挙げることができる。
【００２８】他の光重合性モノマーとしては、２−ヒド
ロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、Ｎ
−ビニルピロリドン、メトキシポリエチレングリコール
アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド等の水
溶性モノマー、メチルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート等の非水溶性モノマー類を挙げることができる。
ロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、Ｎ
−ビニルピロリドン、メトキシポリエチレングリコール
アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド等の水
溶性モノマー、メチルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート等の非水溶性モノマー類を挙げることができる。
【００２９】また、上記有機溶剤としては、例えば、メ
チルエチルケトン、メチルイブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセ
ロソルブ類、セロソルブアセテート、酢酸ブチル等のエ
ステル類等を挙げることができる。このようにして得ら
れる感光性樹脂組成物を硬化させるための光源として
は、特に、限定されるものではないが、通常、キセノン
ランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯等が用いられる。
チルエチルケトン、メチルイブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセ
ロソルブ類、セロソルブアセテート、酢酸ブチル等のエ
ステル類等を挙げることができる。このようにして得ら
れる感光性樹脂組成物を硬化させるための光源として
は、特に、限定されるものではないが、通常、キセノン
ランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯等が用いられる。
【００３０】
【発明の効果】本発明によるエポキシアクリレート化合
物は、分子中に親油性のシクロアルキル基を有するの
で、例えば、このエポキシアクリレート化合物を光重合
開始剤と組合わせて感光性樹脂組成物とすれば、低吸水
性、低吸湿性等の耐水性のほか、親油性有機溶媒に対す
る溶解性にすぐれ、従って、高絶縁性、低誘電性等の電
気特性にもすぐれる樹脂製品を与えることが期待でき
る。
物は、分子中に親油性のシクロアルキル基を有するの
で、例えば、このエポキシアクリレート化合物を光重合
開始剤と組合わせて感光性樹脂組成物とすれば、低吸水
性、低吸湿性等の耐水性のほか、親油性有機溶媒に対す
る溶解性にすぐれ、従って、高絶縁性、低誘電性等の電
気特性にもすぐれる樹脂製品を与えることが期待でき
る。
【００３１】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
【００３２】参考例１ （原料エポキシ化合物の製造）4,4'−（１−メチルエチ
リデン）ビス（２−シクロヘキシルフェノール）５８8.
９ｇをエピクロロヒドリン１３８8.０ｇに溶解させ、次
いで、これに水2.５ｇを加え、６０℃で５時間攪拌し
た。この際、反応の開始時と反応器の開始から２時間後
の２回に分けて、４８％水酸化ナトリウム水溶液を合計
にて２4.７ｇ滴下した。その後、減圧下に４８％水酸化
ナトリウム水溶液２５0.０ｇを２時間かけて滴下し、そ
れと同時に反応系に加わる水と反応系にて生成する水と
を除去した。
リデン）ビス（２−シクロヘキシルフェノール）５８8.
９ｇをエピクロロヒドリン１３８8.０ｇに溶解させ、次
いで、これに水2.５ｇを加え、６０℃で５時間攪拌し
た。この際、反応の開始時と反応器の開始から２時間後
の２回に分けて、４８％水酸化ナトリウム水溶液を合計
にて２4.７ｇ滴下した。その後、減圧下に４８％水酸化
ナトリウム水溶液２５0.０ｇを２時間かけて滴下し、そ
れと同時に反応系に加わる水と反応系にて生成する水と
を除去した。
【００３３】反応終了後、過剰のエピクロロヒドリンを
除去し、得られた樹脂層にメチルイソブチルケトンを加
えた後、生成した塩化ナトリウムを水洗によって除去し
た。更に、１０％水酸化ナトリウム水溶液４５9.０ｇと
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド1.０ｍＬとを
加え、８０℃で９０分間攪拌し、静置分液後，水層を除
去した。
除去し、得られた樹脂層にメチルイソブチルケトンを加
えた後、生成した塩化ナトリウムを水洗によって除去し
た。更に、１０％水酸化ナトリウム水溶液４５9.０ｇと
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド1.０ｍＬとを
加え、８０℃で９０分間攪拌し、静置分液後，水層を除
去した。
【００３４】得られた樹脂のメチルイソブチルケトン溶
液に５％リン酸二水素ナトリウム水溶液を加え、８０℃
で３０分間攪拌して中和し、静置分液後，水層を除去し
た。この後、メチルイソブチルケトンを濃縮除去して、
原料エポキシ化合物として、4,4'−（１−メチルエチリ
デン）ビス（２−シクロヘキシルフェニレンオキシメチ
レンオキシラン）を主成分とする反応生成物６１6.０ｇ
を得た。
液に５％リン酸二水素ナトリウム水溶液を加え、８０℃
で３０分間攪拌して中和し、静置分液後，水層を除去し
た。この後、メチルイソブチルケトンを濃縮除去して、
原料エポキシ化合物として、4,4'−（１−メチルエチリ
デン）ビス（２−シクロヘキシルフェニレンオキシメチ
レンオキシラン）を主成分とする反応生成物６１6.０ｇ
を得た。
【００３５】この反応生成物のエポキシ当量は２６４で
あったので、反応生成物は、前記一般式（VI）におい
て、Ｒ2 及びＲ3 が共にメチル基であり、ｎが０である
もの／ｎが１であるもののモル比が８３／１７の混合物
であることが確認された。
あったので、反応生成物は、前記一般式（VI）におい
て、Ｒ2 及びＲ3 が共にメチル基であり、ｎが０である
もの／ｎが１であるもののモル比が８３／１７の混合物
であることが確認された。
【００３６】実施例１ 攪拌翼、温度計、先端に塩化カルシウム管を取付けた還
流冷却管及び空気吹き込みのためのキャピラリーを取付
けた５００ｍＬ容量四つ口フラスコに上記参考例１で得
た4,4'−（１−メチルエチリデン）ビス（２−シクロヘ
キシルフェニレンオキシメチレンオキシラン）７9.２
ｇ、アクリル酸２5.９２ｇ、テトラブチルアンモニウム
ブロミド4.８４ｇ、ヒドロキノンモノメチルエーテル0.
０５３ｇ、2,６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノー
ル0.０５３ｇ及びトルエン３００ｇを仕込み、これに空
気を吹き込みながら攪拌し、加熱、還流下に８時間反応
させた。
流冷却管及び空気吹き込みのためのキャピラリーを取付
けた５００ｍＬ容量四つ口フラスコに上記参考例１で得
た4,4'−（１−メチルエチリデン）ビス（２−シクロヘ
キシルフェニレンオキシメチレンオキシラン）７9.２
ｇ、アクリル酸２5.９２ｇ、テトラブチルアンモニウム
ブロミド4.８４ｇ、ヒドロキノンモノメチルエーテル0.
０５３ｇ、2,６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノー
ル0.０５３ｇ及びトルエン３００ｇを仕込み、これに空
気を吹き込みながら攪拌し、加熱、還流下に８時間反応
させた。
【００３７】反応終了後、得られた反応混合物（溶液）
の酸価は7.７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応混合物
を室温まで冷却し、これに酢酸エチル５００ｍＬを加え
て希釈し、２％水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍＬで１
回、水１５０ｍＬで２回洗浄した後、有機層を分取し
た。これを無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過し
た。得られた濾液から溶媒を減圧下に留去して、目的物
であるエポキシアクリレート化合物１００ｇを淡黄色の
粘稠液体として得た。収率は９９％以上であった。
の酸価は7.７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応混合物
を室温まで冷却し、これに酢酸エチル５００ｍＬを加え
て希釈し、２％水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍＬで１
回、水１５０ｍＬで２回洗浄した後、有機層を分取し
た。これを無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過し
た。得られた濾液から溶媒を減圧下に留去して、目的物
であるエポキシアクリレート化合物１００ｇを淡黄色の
粘稠液体として得た。収率は９９％以上であった。
【００３８】このエポキシアクリレート化合物の窒素気
流中におけるＴＧ／ＤＳＣ測定による１０％重量減少温
度は、３８２℃であった。このエポキシアクリレート化
合物は、原料として用いた参考例１による前記エポキシ
化合物が前記混合物であることから、下記構造１／構造
２（モル比）＝８３／１７の混合物であるとして、ＦＴ
−ＩＲ及びプロトン核磁気共鳴スペクトルによりその構
造の確認を行なった。結果を以下に示す。
流中におけるＴＧ／ＤＳＣ測定による１０％重量減少温
度は、３８２℃であった。このエポキシアクリレート化
合物は、原料として用いた参考例１による前記エポキシ
化合物が前記混合物であることから、下記構造１／構造
２（モル比）＝８３／１７の混合物であるとして、ＦＴ
−ＩＲ及びプロトン核磁気共鳴スペクトルによりその構
造の確認を行なった。結果を以下に示す。
【００３９】
【化８】
【００４０】赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ、ｃ
ｍ-1）：３４６０（νＯＨ）、１７２８（νＣ＝Ｏ）、
１６３５（νＣ＝ＣＨ2) プロトン核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、溶媒Ｃ
ＤＣｌ3 、ＴＭＳ基準、δ（ｐｐｍ））：
ｍ-1）：３４６０（νＯＨ）、１７２８（νＣ＝Ｏ）、
１６３５（νＣ＝ＣＨ2) プロトン核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、溶媒Ｃ
ＤＣｌ3 、ＴＭＳ基準、δ（ｐｐｍ））：
【００４１】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷津 忠男 和歌山市小雑賀二丁目５番115号 本州化 学工業株式会社内 (72)発明者 栢木 實 和歌山市有本687番地 新中村化学工業株 式会社内 (72)発明者 伊豫 昌己 和歌山市有本687番地 新中村化学工業株 式会社内 (72)発明者 西川 幸志 和歌山市有本687番地 新中村化学工業株 式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2 及び
Ｒ3 はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
で表わされるエポキシアクリレート化合物。 - 【請求項２】請求項１のエポキシアクリレート化合物の
酸無水物付加物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33083496A JP3763625B2 (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | エポキシアクリレート化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33083496A JP3763625B2 (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | エポキシアクリレート化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10168033A true JPH10168033A (ja) | 1998-06-23 |
| JP3763625B2 JP3763625B2 (ja) | 2006-04-05 |
Family
ID=18237068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33083496A Expired - Lifetime JP3763625B2 (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | エポキシアクリレート化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3763625B2 (ja) |
-
1996
- 1996-12-11 JP JP33083496A patent/JP3763625B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3763625B2 (ja) | 2006-04-05 |
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