JPH10168488A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH10168488A JPH10168488A JP9010097A JP9010097A JPH10168488A JP H10168488 A JPH10168488 A JP H10168488A JP 9010097 A JP9010097 A JP 9010097A JP 9010097 A JP9010097 A JP 9010097A JP H10168488 A JPH10168488 A JP H10168488A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】低粘度を有し、油脂、機械油、切削油、グリー
ス、液晶、ロジン系フラックスの溶解性及び洗浄性に優
れ、複雑化かつ小型化した精密部品、治工具類の油汚れ
やプリント配線基板、セラミック基板、セラミックパッ
ケージ、プラスチックパッケージ等の電子部品のアセン
ブリに使用されるロジン系ハンダフラックスの汚れの除
去、多ピン化や狭小化が進んだＩＣパッケージ等の洗浄
等に好適に使用しうる洗浄剤組成物を提供すること。 【解決手段】一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は炭素数１〜６のアルキル基又は
炭素数２〜６のアルケニル基、ｍは２〜４の整数、ｎは
１〜４の整数、ｎ個のＣm Ｈ2mＯは同一又は異なる）で
表されるポリオキシアルキレンジアルキルエーテルの１
種以上と、アミン系化合物とを含有し、２５℃での動粘
度が５ｍｍ2 ／ｓ以下の洗浄剤組成物。
ス、液晶、ロジン系フラックスの溶解性及び洗浄性に優
れ、複雑化かつ小型化した精密部品、治工具類の油汚れ
やプリント配線基板、セラミック基板、セラミックパッ
ケージ、プラスチックパッケージ等の電子部品のアセン
ブリに使用されるロジン系ハンダフラックスの汚れの除
去、多ピン化や狭小化が進んだＩＣパッケージ等の洗浄
等に好適に使用しうる洗浄剤組成物を提供すること。 【解決手段】一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は炭素数１〜６のアルキル基又は
炭素数２〜６のアルケニル基、ｍは２〜４の整数、ｎは
１〜４の整数、ｎ個のＣm Ｈ2mＯは同一又は異なる）で
表されるポリオキシアルキレンジアルキルエーテルの１
種以上と、アミン系化合物とを含有し、２５℃での動粘
度が５ｍｍ2 ／ｓ以下の洗浄剤組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄剤組成物に関
する。さらに詳しくは、電子部品、精密部品またはその
組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存在す
る油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フ
ラックス等の汚れ除去に好適に使用しうる洗浄剤組成物
に関する。
する。さらに詳しくは、電子部品、精密部品またはその
組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存在す
る油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フ
ラックス等の汚れ除去に好適に使用しうる洗浄剤組成物
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、精密部品、治工具類等の固体表面
に存在する油脂等の有機物を主体とする汚れの除去に使
用される洗浄剤としては、トリクロロトリフルオロエタ
ン等のフロン系溶剤や、トリクロロエチレン、パークロ
ロエチレン、トリクロロエタン、エチレンクロライド等
の塩素系溶剤が用いられている。
に存在する油脂等の有機物を主体とする汚れの除去に使
用される洗浄剤としては、トリクロロトリフルオロエタ
ン等のフロン系溶剤や、トリクロロエチレン、パークロ
ロエチレン、トリクロロエタン、エチレンクロライド等
の塩素系溶剤が用いられている。
【０００３】しかしながら、フロン系溶剤やトリクロロ
エタンは、大気圏のオゾン層を破壊するおそれがあるこ
とから、１９９５年末で全廃となり、その他の塩素系溶
剤も毒性、環境汚染等の点から、できるだけその使用を
回避することが好ましい。
エタンは、大気圏のオゾン層を破壊するおそれがあるこ
とから、１９９５年末で全廃となり、その他の塩素系溶
剤も毒性、環境汚染等の点から、できるだけその使用を
回避することが好ましい。
【０００４】そこで、近年、フロン系溶剤および塩素系
溶剤の代替洗浄剤として、例えば、エーテル、エステ
ル、アミン等のアルキレンオキサイド化合物を５０重量
％以上含有する洗浄剤組成物（特開平３−６２８９５号
公報）や、エーテル、エステル、アミン等のアルキレン
オキサイド化合物５０重量％以上およびアミン系化合物
０．０５〜５重量％を含有する洗浄剤組成物（特開平４
−５７８９７号公報）が提案されている。
溶剤の代替洗浄剤として、例えば、エーテル、エステ
ル、アミン等のアルキレンオキサイド化合物を５０重量
％以上含有する洗浄剤組成物（特開平３−６２８９５号
公報）や、エーテル、エステル、アミン等のアルキレン
オキサイド化合物５０重量％以上およびアミン系化合物
０．０５〜５重量％を含有する洗浄剤組成物（特開平４
−５７８９７号公報）が提案されている。
【０００５】しかしながら、近年の電子部品のアセンブ
リ技術の高度化に伴なって、ＩＣパッケージの多ピン化
や、洗浄する部品のピンピッチが０．３ｍｍ程度となっ
たりＩＣチップと基板の隙間も５０μｍ以下となるなど
の狭小化が進んでいるが、前記洗浄剤組成物では、その
粘度が高いため、これらの電子部品の汚れを除去するの
に長時間を要したり、狭小部での洗浄性が低下するとい
う欠点がある。
リ技術の高度化に伴なって、ＩＣパッケージの多ピン化
や、洗浄する部品のピンピッチが０．３ｍｍ程度となっ
たりＩＣチップと基板の隙間も５０μｍ以下となるなど
の狭小化が進んでいるが、前記洗浄剤組成物では、その
粘度が高いため、これらの電子部品の汚れを除去するの
に長時間を要したり、狭小部での洗浄性が低下するとい
う欠点がある。
【０００６】また、近年、組立加工工程に用いられてい
る治工具類の形状が複雑化するとともに小型化し、しか
も一度に大量の部品を洗浄しなければならないような状
況が増大しつつある。このため、例えば、ボルトやナッ
ト等の金属加工品、その他の小型ワーク等の部品同士の
間隙が狭くなったり、部品同士が重なりあうという、洗
浄にとっては極めて悪条件となりつつある。
る治工具類の形状が複雑化するとともに小型化し、しか
も一度に大量の部品を洗浄しなければならないような状
況が増大しつつある。このため、例えば、ボルトやナッ
ト等の金属加工品、その他の小型ワーク等の部品同士の
間隙が狭くなったり、部品同士が重なりあうという、洗
浄にとっては極めて悪条件となりつつある。
【０００７】そこで、前記粘度を低下させ、洗浄効果を
物理的に向上させるために、洗浄温度を８０℃以上の高
温にした場合には、電子部品や洗浄機の部材に悪影響を
与えるおそれがある。
物理的に向上させるために、洗浄温度を８０℃以上の高
温にした場合には、電子部品や洗浄機の部材に悪影響を
与えるおそれがある。
【０００８】また、ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤
として、ポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルを
有効成分とする洗浄剤（特開平３−１５２１９７号公
報）、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルとノニオ
ン性界面活性剤の混合物を有効成分とする洗浄剤（特開
平３−２２７４００号公報）、ポリオキシアルキレンジ
アルキルエーテルを有効成分として水のみを配合してな
る洗浄剤（特開平８−２７４８５号公報）等が提案され
ている。
として、ポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルを
有効成分とする洗浄剤（特開平３−１５２１９７号公
報）、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルとノニオ
ン性界面活性剤の混合物を有効成分とする洗浄剤（特開
平３−２２７４００号公報）、ポリオキシアルキレンジ
アルキルエーテルを有効成分として水のみを配合してな
る洗浄剤（特開平８−２７４８５号公報）等が提案され
ている。
【０００９】しかしながら、特開平３−１５２１９７号
公報に記載の洗浄剤には、有効成分として用いられてい
るポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルが同程度
の分子量を有するジアルキルエーテルと対比して粘度が
高く、狭小部での洗浄に時間がかかったり、洗浄性が低
下するという欠点がある。
公報に記載の洗浄剤には、有効成分として用いられてい
るポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルが同程度
の分子量を有するジアルキルエーテルと対比して粘度が
高く、狭小部での洗浄に時間がかかったり、洗浄性が低
下するという欠点がある。
【００１０】また、特開平３−２２７４００号公報に記
載の洗浄剤には、水すすぎ工程でフラックスを可溶化さ
せるために、ノニオン性界面活性剤の含有量を５重量％
以上に調節した場合には、洗浄剤組成物の粘度が上昇
し、狭小部での洗浄性が低したり、洗浄水やすすぎ水が
起泡しやすくなるため、洗浄に有効な気中スプレー法を
行なうことが困難となるという欠点がある。
載の洗浄剤には、水すすぎ工程でフラックスを可溶化さ
せるために、ノニオン性界面活性剤の含有量を５重量％
以上に調節した場合には、洗浄剤組成物の粘度が上昇
し、狭小部での洗浄性が低したり、洗浄水やすすぎ水が
起泡しやすくなるため、洗浄に有効な気中スプレー法を
行なうことが困難となるという欠点がある。
【００１１】また、特開平８−２７４８５号公報に記載
の洗浄剤は、該洗浄剤中に汚れが蓄積してくると水すす
ぎ工程でフラックスが析出し、洗浄性が悪化するという
欠点がある。
の洗浄剤は、該洗浄剤中に汚れが蓄積してくると水すす
ぎ工程でフラックスが析出し、洗浄性が悪化するという
欠点がある。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術に鑑みてなされたもであり、低粘度を有し、油脂、機
械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フラックスの
溶解性および洗浄性に優れ、例えば、複雑化かつ小型化
した精密部品、治工具類の油汚れやプリント配線基板、
セラミック基板、セラミックパッケージ、プラスチック
パッケージ等の電子部品のアセンブリに使用されるロジ
ン系ハンダフラックスの汚れの除去、多ピン化や狭小化
が進んだＩＣパッケージ等の洗浄等に好適に使用しうる
洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
術に鑑みてなされたもであり、低粘度を有し、油脂、機
械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フラックスの
溶解性および洗浄性に優れ、例えば、複雑化かつ小型化
した精密部品、治工具類の油汚れやプリント配線基板、
セラミック基板、セラミックパッケージ、プラスチック
パッケージ等の電子部品のアセンブリに使用されるロジ
ン系ハンダフラックスの汚れの除去、多ピン化や狭小化
が進んだＩＣパッケージ等の洗浄等に好適に使用しうる
洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明の要旨は、
（１） 一般式（Ｉ）：
（１） 一般式（Ｉ）：
【００１４】
【化４】
【００１５】（式中、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ炭素数
１〜６のアルキル基または炭素数２〜６のアルケニル
基、ｍは２〜４の整数、ｎは１〜４の整数を示し、ｎ個
のＣm Ｈ2mＯはそれぞれ同一であってもよく異なってい
てもよい）で表わされるポリオキシアルキレンジアルキ
ルエーテルの少なくとも１種と、アミン系化合物とを含
有し、２５℃における動粘度が５ｍｍ2 ／ｓ以下である
洗浄剤組成物、（２） さらに、一般式（II）：
１〜６のアルキル基または炭素数２〜６のアルケニル
基、ｍは２〜４の整数、ｎは１〜４の整数を示し、ｎ個
のＣm Ｈ2mＯはそれぞれ同一であってもよく異なってい
てもよい）で表わされるポリオキシアルキレンジアルキ
ルエーテルの少なくとも１種と、アミン系化合物とを含
有し、２５℃における動粘度が５ｍｍ2 ／ｓ以下である
洗浄剤組成物、（２） さらに、一般式（II）：
【００１６】
【化５】
【００１７】（式中、Ｒ3 は炭素数１〜８のアルキル基
または炭素数２〜８のアルケニル基、ｐは２〜４の整
数、ｑは１〜４の整数を示し、ｑ個のＣp Ｈ2pＯはそれ
ぞれ同一であってもよく異なっていてもよい）で表わさ
れるポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルを含有
する前記（１）記載の洗浄剤組成物、（３） ポリオキ
シアルキレンジアルキルエーテルの少なくとも１種が一
般式(III):
または炭素数２〜８のアルケニル基、ｐは２〜４の整
数、ｑは１〜４の整数を示し、ｑ個のＣp Ｈ2pＯはそれ
ぞれ同一であってもよく異なっていてもよい）で表わさ
れるポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルを含有
する前記（１）記載の洗浄剤組成物、（３） ポリオキ
シアルキレンジアルキルエーテルの少なくとも１種が一
般式(III):
【００１８】
【化６】
【００１９】（式中、Ｒ4 およびＲ5 はそれぞれ炭素数
１〜４のアルキル基または炭素数２〜４のアルケニル
基、Ｒ4 とＲ5 との炭素数の合計が５〜８、ｒは２また
は３、ｓは１〜４の整数を示し、ｓ個のＣr Ｈ2rＯはそ
れぞれ同一であってもよく異なっていてもよい）で表わ
されるポリオキシアルキレンジアルキルエーテルである
前記（１）または（２）記載の洗浄剤組成物、（４）
一般式（Ｉ）で表わされるポリオキシアルキレンジアル
キルエーテルの含有量が４０〜９９．９重量％である前
記（１）〜（３）いずれか記載の洗浄剤組成物、（５）
一般式(III) で表わされるポリオキシアルキレンジア
ルキルエーテルの含有量が５〜７５重量％である前記
（４）記載の洗浄剤組成物、（６） アミン系化合物が
チッ素原子１〜５個を有し、分子量５０〜３００を有す
るものである前記（１）〜（５）いずれか記載の洗浄剤
組成物、（７） アミン系化合物の含有量が０．１〜１
０重量％である前記（１）〜（６）いずれか記載の洗浄
剤組成物、ならびに（８） 引火点が７０℃以上である
前記（１）〜（７）いずれか記載の洗浄剤組成物に関す
る。
１〜４のアルキル基または炭素数２〜４のアルケニル
基、Ｒ4 とＲ5 との炭素数の合計が５〜８、ｒは２また
は３、ｓは１〜４の整数を示し、ｓ個のＣr Ｈ2rＯはそ
れぞれ同一であってもよく異なっていてもよい）で表わ
されるポリオキシアルキレンジアルキルエーテルである
前記（１）または（２）記載の洗浄剤組成物、（４）
一般式（Ｉ）で表わされるポリオキシアルキレンジアル
キルエーテルの含有量が４０〜９９．９重量％である前
記（１）〜（３）いずれか記載の洗浄剤組成物、（５）
一般式(III) で表わされるポリオキシアルキレンジア
ルキルエーテルの含有量が５〜７５重量％である前記
（４）記載の洗浄剤組成物、（６） アミン系化合物が
チッ素原子１〜５個を有し、分子量５０〜３００を有す
るものである前記（１）〜（５）いずれか記載の洗浄剤
組成物、（７） アミン系化合物の含有量が０．１〜１
０重量％である前記（１）〜（６）いずれか記載の洗浄
剤組成物、ならびに（８） 引火点が７０℃以上である
前記（１）〜（７）いずれか記載の洗浄剤組成物に関す
る。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明の洗浄剤組成物は、前記し
たように、一般式（Ｉ）：
たように、一般式（Ｉ）：
【００２１】
【化７】
【００２２】（式中、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ炭素数
１〜６のアルキル基または炭素数２〜６のアルケニル
基、ｍは２〜４の整数、ｎは１〜４の整数を示し、ｎ個
のＣm Ｈ2mＯはそれぞれ同一であってもよく異なってい
てもよい）で表わされるポリオキシアルキレンジアルキ
ルエーテルの少なくとも１種と、アミン系化合物とを含
有し、２５℃における動粘度５ｃＳｔ（ＳＩ単位でｍｍ
2 ／ｓ、以下同様）以下を有するものである。
１〜６のアルキル基または炭素数２〜６のアルケニル
基、ｍは２〜４の整数、ｎは１〜４の整数を示し、ｎ個
のＣm Ｈ2mＯはそれぞれ同一であってもよく異なってい
てもよい）で表わされるポリオキシアルキレンジアルキ
ルエーテルの少なくとも１種と、アミン系化合物とを含
有し、２５℃における動粘度５ｃＳｔ（ＳＩ単位でｍｍ
2 ／ｓ、以下同様）以下を有するものである。
【００２３】本発明の洗浄剤組成物は、前記一般式
（Ｉ）で表わされるポリオキシアルキレンジアルキルエ
−テルが用いられている点に、１つの大きな特徴があ
る。
（Ｉ）で表わされるポリオキシアルキレンジアルキルエ
−テルが用いられている点に、１つの大きな特徴があ
る。
【００２４】このように、本発明においては、前記ポリ
オキシアルキレンジアルキルエ−テルが用いられている
ことにより、本発明の洗浄剤組成物は、低粘度を有し、
しかも優れた洗浄性を呈する。
オキシアルキレンジアルキルエ−テルが用いられている
ことにより、本発明の洗浄剤組成物は、低粘度を有し、
しかも優れた洗浄性を呈する。
【００２５】一般式（Ｉ）で表わされるポリオキシアル
キレンジアルキルエ−テルにおいて、Ｒ1 およびＲ
2 は、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基または炭素数
２〜６のアルケニル基である。かかるＲ1 およびＲ2 の
炭素数は、水に対する溶解性を向上させ、得られる洗浄
剤組成物の粘度が高くなりすぎないようにするために、
６以下、好ましくは４以下とされる。また、ｍは２〜４
の整数であるが、低粘度で適度な水溶性を有する点か
ら、２または３であることが好ましい。また、ｎは、１
〜４の整数であるが、得られる洗浄剤組成物の粘度が高
くなりすぎず、適度な水溶性を有するようにするため
に、２または３であることが好ましい。
キレンジアルキルエ−テルにおいて、Ｒ1 およびＲ
2 は、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基または炭素数
２〜６のアルケニル基である。かかるＲ1 およびＲ2 の
炭素数は、水に対する溶解性を向上させ、得られる洗浄
剤組成物の粘度が高くなりすぎないようにするために、
６以下、好ましくは４以下とされる。また、ｍは２〜４
の整数であるが、低粘度で適度な水溶性を有する点か
ら、２または３であることが好ましい。また、ｎは、１
〜４の整数であるが、得られる洗浄剤組成物の粘度が高
くなりすぎず、適度な水溶性を有するようにするため
に、２または３であることが好ましい。
【００２６】前記一般式（Ｉ）で表わされるポリオキシ
アルキレンジアルキルエーテルの具体例としては、例え
ば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールメチルプロピルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールエチルプロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールメチルペンチルエーテル、ジ
エチレングリコールエチルブチルエーテル、ジエチレン
グリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコール
メチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールエチル
ペンチルエーテル、ジエチレングリコールプロピルブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエー
テル、ジエチレングリコールプロピルペンチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテル；それらに
対応するトリエチレングリコールジアルキルエーテル、
ジプロピレングリコールメチルブチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールエチルプロピルエーテル、ジプロピレ
ングリコールエチルブチルエーテル、ジプロピレングリ
コールジプロピルエーテル、ジプロピレングリコールプ
ロピルブチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチ
ルエーテルなどのジプロピレングリコールジアルキルエ
ーテルなどのジプロピレングリコールジアルキルエーテ
ル；それらに対応するトリプロピレングリコールジアル
キルエーテル等があげられる。これらのポリオキシアル
キレンジアルキルエーテルは、単独でまたは２種類以上
を混合して用いることができる。これらのポリオキシア
ルキレンジアルキルエーテルのなかでは、洗浄性に優
れ、引火性が低いことから、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエ
チレングリコールエチルプロピルエーテル、ジエチレン
グリコールエチルブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジプロピルエーテル、ジエチレングリコールプロピル
ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルプロピル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、
トリエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエ
チレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレ
ングリコールメチルブチルエーテル、トリエチレングリ
コールジエチルエーテル、トリエチレングリコールエチ
ルプロピルエーテルおよびジプロピレングリコールメチ
ルエチルエーテルが好ましい。
アルキレンジアルキルエーテルの具体例としては、例え
ば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールメチルプロピルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールエチルプロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールメチルペンチルエーテル、ジ
エチレングリコールエチルブチルエーテル、ジエチレン
グリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコール
メチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールエチル
ペンチルエーテル、ジエチレングリコールプロピルブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエー
テル、ジエチレングリコールプロピルペンチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテル；それらに
対応するトリエチレングリコールジアルキルエーテル、
ジプロピレングリコールメチルブチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールエチルプロピルエーテル、ジプロピレ
ングリコールエチルブチルエーテル、ジプロピレングリ
コールジプロピルエーテル、ジプロピレングリコールプ
ロピルブチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチ
ルエーテルなどのジプロピレングリコールジアルキルエ
ーテルなどのジプロピレングリコールジアルキルエーテ
ル；それらに対応するトリプロピレングリコールジアル
キルエーテル等があげられる。これらのポリオキシアル
キレンジアルキルエーテルは、単独でまたは２種類以上
を混合して用いることができる。これらのポリオキシア
ルキレンジアルキルエーテルのなかでは、洗浄性に優
れ、引火性が低いことから、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエ
チレングリコールエチルプロピルエーテル、ジエチレン
グリコールエチルブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジプロピルエーテル、ジエチレングリコールプロピル
ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルプロピル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、
トリエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエ
チレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレ
ングリコールメチルブチルエーテル、トリエチレングリ
コールジエチルエーテル、トリエチレングリコールエチ
ルプロピルエーテルおよびジプロピレングリコールメチ
ルエチルエーテルが好ましい。
【００２７】前記一般式（Ｉ）で表わされるポリオキシ
アルキレンジアルキルエーテルのなかでは、リンス性
と、該リンス性とは相反する性質である排水処理性とを
同時に両立させるという観点から、一般式(III) ：
アルキレンジアルキルエーテルのなかでは、リンス性
と、該リンス性とは相反する性質である排水処理性とを
同時に両立させるという観点から、一般式(III) ：
【００２８】
【化８】
【００２９】（式中、Ｒ4 およびＲ5 はそれぞれ炭素数
１〜４のアルキル基または炭素数２〜４のアルケニル
基、Ｒ4 とＲ5 との炭素数の合計が５〜８、ｒは２また
は３、ｓは１〜４の整数を示し、ｓ個のＣr Ｈ2rＯはそ
れぞれ同一であってもよく異なっていてもよい）で表わ
されるポリオキシアルキレンジアルキルエーテルを用い
ることが好ましい。
１〜４のアルキル基または炭素数２〜４のアルケニル
基、Ｒ4 とＲ5 との炭素数の合計が５〜８、ｒは２また
は３、ｓは１〜４の整数を示し、ｓ個のＣr Ｈ2rＯはそ
れぞれ同一であってもよく異なっていてもよい）で表わ
されるポリオキシアルキレンジアルキルエーテルを用い
ることが好ましい。
【００３０】ここで、前記リンス性とは、洗浄工程（本
発明の洗浄剤組成物を用いて超音波または浸漬、スプレ
ー法等を用いて６０〜７０℃程度の温度で洗浄する工
程）の次のプレリンス工程やリンス工程で、洗浄物に付
着した洗浄剤を温水、水等でリンスする（濯ぐ）が、こ
の時に洗浄剤を除去する性質をいう。なお、たとえ洗浄
工程で汚れを除去することができたとしても、プレリン
ス工程やリンス工程で洗浄剤を除去することができなけ
れば、洗浄物に洗浄剤組成物に由来する有機物が残存す
ることになる。
発明の洗浄剤組成物を用いて超音波または浸漬、スプレ
ー法等を用いて６０〜７０℃程度の温度で洗浄する工
程）の次のプレリンス工程やリンス工程で、洗浄物に付
着した洗浄剤を温水、水等でリンスする（濯ぐ）が、こ
の時に洗浄剤を除去する性質をいう。なお、たとえ洗浄
工程で汚れを除去することができたとしても、プレリン
ス工程やリンス工程で洗浄剤を除去することができなけ
れば、洗浄物に洗浄剤組成物に由来する有機物が残存す
ることになる。
【００３１】また、前記排水処理性とは、プレリンス槽
で洗浄物から除去した洗浄剤組成物が曇点以上の温度で
加熱処理された際に、油層（洗浄剤組成物に由来の有機
物）と水層とに分離する性質をいう。この水層を再利用
することにより、リンス廃液の負荷、ひいては排水処理
に要する費用を大幅に低減させることができ、しかも環
境に対しても悪影響を及ぼさないようにすることができ
る。
で洗浄物から除去した洗浄剤組成物が曇点以上の温度で
加熱処理された際に、油層（洗浄剤組成物に由来の有機
物）と水層とに分離する性質をいう。この水層を再利用
することにより、リンス廃液の負荷、ひいては排水処理
に要する費用を大幅に低減させることができ、しかも環
境に対しても悪影響を及ぼさないようにすることができ
る。
【００３２】一般式(III) において、ｓは１〜４の整数
であるが、そのなかでは、得られる洗浄剤組成物の粘度
が高くなりすぎず、適度な水溶性を有する観点から、２
または３であることがより好ましく、２であることがと
くに好ましい。
であるが、そのなかでは、得られる洗浄剤組成物の粘度
が高くなりすぎず、適度な水溶性を有する観点から、２
または３であることがより好ましく、２であることがと
くに好ましい。
【００３３】一般式(III) で表わされるポリオキシアル
キレンジアルキルエーテルの具体例としては、ジエチレ
ングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコ
ールエチルプロピルエーテル、ジエチレングリコールエ
チルブチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピル
エーテル、ジエチレングリコールプロピルブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエ
チレングリコールジアルキルエーテル；ジプロピレング
リコールメチルブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルエチルプロピルエーテル、ジプロピレングリコールエ
チルブチルエーテル、ジプロピレングリコールジプロピ
ルエーテル、ジプロピレングリコールプロピルブチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテルなど
のジプロピレングリコールジアルキルエーテル等があげ
られる。
キレンジアルキルエーテルの具体例としては、ジエチレ
ングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコ
ールエチルプロピルエーテル、ジエチレングリコールエ
チルブチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピル
エーテル、ジエチレングリコールプロピルブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエ
チレングリコールジアルキルエーテル；ジプロピレング
リコールメチルブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルエチルプロピルエーテル、ジプロピレングリコールエ
チルブチルエーテル、ジプロピレングリコールジプロピ
ルエーテル、ジプロピレングリコールプロピルブチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテルなど
のジプロピレングリコールジアルキルエーテル等があげ
られる。
【００３４】前記一般式（Ｉ）で表わされるポリオキシ
アルキレンジアルキルエーテルは、例えば、苛性アルカ
リ等の触媒の存在下で、炭素数１〜６のアルコールに、
加熱しながら炭素数２〜４のアルキレンオキシド（エチ
レンオキシド、プロピレンオキシドまたはブチレンオキ
シド）を液状または気体状で添加し、反応させることに
よって得られたポリオキシアルキレンモノアルキルエー
テルに、さらに炭素数１〜６のハロゲン化アルキルを苛
性アルカリの存在下で反応させることによって得られ
る。アルキレンオキシドの重合は、その２種以上を混合
して反応させるランダム付加重合法やアルキレンオキシ
ドを順次付加させるブロック付加重合法等によって行な
うことができる。
アルキレンジアルキルエーテルは、例えば、苛性アルカ
リ等の触媒の存在下で、炭素数１〜６のアルコールに、
加熱しながら炭素数２〜４のアルキレンオキシド（エチ
レンオキシド、プロピレンオキシドまたはブチレンオキ
シド）を液状または気体状で添加し、反応させることに
よって得られたポリオキシアルキレンモノアルキルエー
テルに、さらに炭素数１〜６のハロゲン化アルキルを苛
性アルカリの存在下で反応させることによって得られ
る。アルキレンオキシドの重合は、その２種以上を混合
して反応させるランダム付加重合法やアルキレンオキシ
ドを順次付加させるブロック付加重合法等によって行な
うことができる。
【００３５】かくして得られるポリオキシアルキレンジ
アルキルエーテルは、精製して未反応物や触媒を除去し
たのち、使用に供することができる。
アルキルエーテルは、精製して未反応物や触媒を除去し
たのち、使用に供することができる。
【００３６】前記一般式（Ｉ）で表わされるポリオキシ
アルキレンジアルキルエーテルの洗浄剤組成物中におけ
る含有量は、該洗浄剤組成物の粘度が高くなりすぎない
ようにし、また洗浄性を向上させるために、４０重量％
以上、なかんづく６０重量％以上とすることが好まし
く、アミン系化合物等の含有量を考慮して、９９．９重
量％以下、なかんづく９９．５重量％以下とすることが
好ましく、また水を配合する場合には、９５重量％以
下、なかんづく９３重量％以下とすることが好ましい。
アルキレンジアルキルエーテルの洗浄剤組成物中におけ
る含有量は、該洗浄剤組成物の粘度が高くなりすぎない
ようにし、また洗浄性を向上させるために、４０重量％
以上、なかんづく６０重量％以上とすることが好まし
く、アミン系化合物等の含有量を考慮して、９９．９重
量％以下、なかんづく９９．５重量％以下とすることが
好ましく、また水を配合する場合には、９５重量％以
下、なかんづく９３重量％以下とすることが好ましい。
【００３７】前記一般式(III) で表わされるポリオキシ
アルキレンジアルキルの洗浄剤組成物中における含有量
は、排水処理性を高めるために、５重量％以上であるこ
とが好ましく、またリンス性を高めるために７５重量％
以下であることが好ましい。したがって、前記一般式
（Ｉ）で表わされるポリオキシアルキレンジアルキルエ
ーテルとして、一般式(III) で表わされるポリオキシア
ルキレンジアルキルエーテルを単独で使用する場合に
は、前記一般式(III) で表わされるポリオキシアルキレ
ンジアルキルエーテルの含有量は、４０〜７５重量％、
なかんづく６０〜７５重量％であることが好ましい。
アルキレンジアルキルの洗浄剤組成物中における含有量
は、排水処理性を高めるために、５重量％以上であるこ
とが好ましく、またリンス性を高めるために７５重量％
以下であることが好ましい。したがって、前記一般式
（Ｉ）で表わされるポリオキシアルキレンジアルキルエ
ーテルとして、一般式(III) で表わされるポリオキシア
ルキレンジアルキルエーテルを単独で使用する場合に
は、前記一般式(III) で表わされるポリオキシアルキレ
ンジアルキルエーテルの含有量は、４０〜７５重量％、
なかんづく６０〜７５重量％であることが好ましい。
【００３８】本発明においては、前記ポリオキシアルキ
レンジアルキルエーテルと、アミン系化合物とが併用さ
れている点にも、１つの大きな特徴がある。
レンジアルキルエーテルと、アミン系化合物とが併用さ
れている点にも、１つの大きな特徴がある。
【００３９】このように、前記ポリオキシアルキレンジ
アルキルエーテルと、前記アミン系化合物とが併用され
ていることにより、本発明の洗浄剤組成物は、優れた洗
浄性のみならず、水ですすぐ際に汚れを容易に可溶化さ
せることができる。また、前記アミン系化合物の配合量
がノニオン性界面活性剤と対比して少量であっても、優
れた洗浄効果が呈されるので、えられる洗浄組成物の低
粘度化を図ることができ、従って、気中スプレー法等の
洗浄方法を採用した場合であっても起泡しにくいという
利点がある。
アルキルエーテルと、前記アミン系化合物とが併用され
ていることにより、本発明の洗浄剤組成物は、優れた洗
浄性のみならず、水ですすぐ際に汚れを容易に可溶化さ
せることができる。また、前記アミン系化合物の配合量
がノニオン性界面活性剤と対比して少量であっても、優
れた洗浄効果が呈されるので、えられる洗浄組成物の低
粘度化を図ることができ、従って、気中スプレー法等の
洗浄方法を採用した場合であっても起泡しにくいという
利点がある。
【００４０】本発明に用いられるアミン系化合物のチッ
素原子数は、汚れの可溶化力が良好である点から、１〜
５であることが好ましい。また、その分子量は、得られ
る洗浄剤組成物の臭気を低下させるために５０以上であ
ることが好ましく、また粘度があまり高くなりすぎない
ようにし、洗浄性を向上させるために３００以下である
ことが好ましい。
素原子数は、汚れの可溶化力が良好である点から、１〜
５であることが好ましい。また、その分子量は、得られ
る洗浄剤組成物の臭気を低下させるために５０以上であ
ることが好ましく、また粘度があまり高くなりすぎない
ようにし、洗浄性を向上させるために３００以下である
ことが好ましい。
【００４１】前記アミン系化合物の具体例としては、例
えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジブ
チルエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミ
ン、メチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミ
ン等のアミノアルコール類；３−（２−エチルヘキシル
オキシ）プロピルアミン、３−エトキシプロピルアミ
ン、３−メトキシプロピルアミン等のアルコキシプロピ
ルアミン類；モルホリン、メチルモルホリン、エチルモ
ルホリン、３−アミノプロピルモルホリン等のモルホリ
ン類；ピペラジン、トリエチルジアミン、ペンタメチル
ジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミ
ン等があげられる。これらのアミン系化合物は、単独で
または２種以上を混合して用いることができる。また、
本発明においては、前記アミン系化合物として、例えば
エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキ
シド等のアルキレンオキシドを付加させた化合物や、前
記アミン系化合物と炭酸とを反応させた炭酸塩を好適に
使用することができる。これらのアミン系化合物の中で
は、低粘度を有するもの、例えば、ジメチルエタノール
アミン、ジブチルエタノールアミン等は、得られる洗浄
剤組成物の低粘度化を図るうえで好ましい。
えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジブ
チルエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミ
ン、メチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミ
ン等のアミノアルコール類；３−（２−エチルヘキシル
オキシ）プロピルアミン、３−エトキシプロピルアミ
ン、３−メトキシプロピルアミン等のアルコキシプロピ
ルアミン類；モルホリン、メチルモルホリン、エチルモ
ルホリン、３−アミノプロピルモルホリン等のモルホリ
ン類；ピペラジン、トリエチルジアミン、ペンタメチル
ジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミ
ン等があげられる。これらのアミン系化合物は、単独で
または２種以上を混合して用いることができる。また、
本発明においては、前記アミン系化合物として、例えば
エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキ
シド等のアルキレンオキシドを付加させた化合物や、前
記アミン系化合物と炭酸とを反応させた炭酸塩を好適に
使用することができる。これらのアミン系化合物の中で
は、低粘度を有するもの、例えば、ジメチルエタノール
アミン、ジブチルエタノールアミン等は、得られる洗浄
剤組成物の低粘度化を図るうえで好ましい。
【００４２】前記アミン系化合物の洗浄剤組成物中にお
ける含有量は、前記一般式（Ｉ）で表わされるポリオキ
シアルキレンジアルキルエーテルとの併用による洗浄性
を向上させるために、０．１重量％以上、なかんづく
０．５重量％以上とすることが好ましく、また、過剰に
入れても汚れを可溶化させる効果が変わらず、洗浄剤組
成物の低粘度化を図る点から、１０重量％以下、なかん
づく５重量％以下とすることが好ましい。
ける含有量は、前記一般式（Ｉ）で表わされるポリオキ
シアルキレンジアルキルエーテルとの併用による洗浄性
を向上させるために、０．１重量％以上、なかんづく
０．５重量％以上とすることが好ましく、また、過剰に
入れても汚れを可溶化させる効果が変わらず、洗浄剤組
成物の低粘度化を図る点から、１０重量％以下、なかん
づく５重量％以下とすることが好ましい。
【００４３】本発明の洗浄剤組成物には、種々の汚れを
溶解させ、洗浄性をより一層向上させるために、一般式
（II）：
溶解させ、洗浄性をより一層向上させるために、一般式
（II）：
【００４４】
【化９】
【００４５】（式中、Ｒ3 は炭素数１〜８のアルキル基
または炭素数２〜８のアルケニル基、ｐは２〜４の整
数、ｑは１〜４の整数を示し、ｑ個のＣp Ｈ2pＯはそれ
ぞれ同一であってもよく異なっていてもよい）で表わさ
れるポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルや、溶
剤を配合してもよい。
または炭素数２〜８のアルケニル基、ｐは２〜４の整
数、ｑは１〜４の整数を示し、ｑ個のＣp Ｈ2pＯはそれ
ぞれ同一であってもよく異なっていてもよい）で表わさ
れるポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルや、溶
剤を配合してもよい。
【００４６】前記一般式（II）で表わされるポリオキシ
アルキレンモノアルキルエーテルの代表例としては、例
えば、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル；
トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチ
レングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコール
モノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシ
ルエーテル；それらに対応するプロピレングリコールモ
ノアルキルエーテル等があげられる。これらのポリオキ
シアルキレンモノアルキルエーテルは、単独でまたは２
種以上を混合して用いることができる。
アルキレンモノアルキルエーテルの代表例としては、例
えば、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル；
トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチ
レングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコール
モノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシ
ルエーテル；それらに対応するプロピレングリコールモ
ノアルキルエーテル等があげられる。これらのポリオキ
シアルキレンモノアルキルエーテルは、単独でまたは２
種以上を混合して用いることができる。
【００４７】なお、これらのポリオキシアルキレンモノ
アルキルエーテルのなかでは、洗浄性および水すすぎ性
に優れることから、ジエチレングリコールモノヘキシル
エーテルやジエチレングリコールモノブチルエーテルが
好ましい。
アルキルエーテルのなかでは、洗浄性および水すすぎ性
に優れることから、ジエチレングリコールモノヘキシル
エーテルやジエチレングリコールモノブチルエーテルが
好ましい。
【００４８】また、前記溶剤の代表例としては、例え
ば、ベンジルアルコール、フェノール、フルフリルアル
コール、テトラヒドロフルフリルアルコール、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等
があげられる。これらの溶剤は、単独でまたは２種以上
を混合して用いることができる。
ば、ベンジルアルコール、フェノール、フルフリルアル
コール、テトラヒドロフルフリルアルコール、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等
があげられる。これらの溶剤は、単独でまたは２種以上
を混合して用いることができる。
【００４９】前記一般式（II）で表わされるポリオキシ
アルキレンモノアルキルエーテルおよび溶剤の量は、多
すぎる場合には、本発明の洗浄剤組成物の粘度が高くな
りすぎるので、本発明の洗浄剤組成物における含有量が
３５重量％以下となるように調整することが好ましい。
また、前記一般式（II）で表わされるポリオキシアルキ
レンモノアルキルエーテルおよび溶剤を用いる場合に
は、これらの化合物の本発明の洗浄剤組成物における含
有量が１０重量％以上、なかんづく２０重量％以上とな
るように調整することが好ましい。
アルキレンモノアルキルエーテルおよび溶剤の量は、多
すぎる場合には、本発明の洗浄剤組成物の粘度が高くな
りすぎるので、本発明の洗浄剤組成物における含有量が
３５重量％以下となるように調整することが好ましい。
また、前記一般式（II）で表わされるポリオキシアルキ
レンモノアルキルエーテルおよび溶剤を用いる場合に
は、これらの化合物の本発明の洗浄剤組成物における含
有量が１０重量％以上、なかんづく２０重量％以上とな
るように調整することが好ましい。
【００５０】本発明の洗浄剤組成物には、必要により、
洗浄性や水すすぎ性の向上の点から、炭素数１０以上の
親油性を有する非イオン性界面活性剤を添加することが
できる。
洗浄性や水すすぎ性の向上の点から、炭素数１０以上の
親油性を有する非イオン性界面活性剤を添加することが
できる。
【００５１】前記非イオン性界面活性剤の具体例として
は、例えば、ポリオキシアルキレンモノアルキルエーテ
ル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル、
ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオ
キシアルキレンアリルフェニルエーテル、ポリオキシア
ルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキ
レンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル等があ
げられる。これらのなかでは、平均ＨＬＢが４〜１５の
もの、例えば、ポリオキシアルキレンモノアルキルエー
テル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル
等は、特に優れた洗浄性および水すすぎ性を発現するの
で、本発明においては、好適に使用しうるものである。
は、例えば、ポリオキシアルキレンモノアルキルエーテ
ル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル、
ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオ
キシアルキレンアリルフェニルエーテル、ポリオキシア
ルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキ
レンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル等があ
げられる。これらのなかでは、平均ＨＬＢが４〜１５の
もの、例えば、ポリオキシアルキレンモノアルキルエー
テル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル
等は、特に優れた洗浄性および水すすぎ性を発現するの
で、本発明においては、好適に使用しうるものである。
【００５２】前記非イオン性界面活性剤の添加量は、本
発明の洗浄剤組成物の２５℃における動粘度が５ｍｍ2
／ｓをこえない範囲内であればよく、特に限定がない。
通常、非イオン性界面活性剤の添加量は、本発明の洗浄
剤組成物中に５重量％以下、なかんづく３重量％以下含
有されるように調整されることが好ましい。なお、前記
非イオン性界面活性剤を添加することにより、洗浄性や
水すすぎ性を十分に発現させるためには、前記非イオン
性界面活性剤の添加量は、本発明の洗浄剤組成物中に
０．１重量％以上、なかんづく０．５重量％以上含有さ
れるように調整されることが好ましい。
発明の洗浄剤組成物の２５℃における動粘度が５ｍｍ2
／ｓをこえない範囲内であればよく、特に限定がない。
通常、非イオン性界面活性剤の添加量は、本発明の洗浄
剤組成物中に５重量％以下、なかんづく３重量％以下含
有されるように調整されることが好ましい。なお、前記
非イオン性界面活性剤を添加することにより、洗浄性や
水すすぎ性を十分に発現させるためには、前記非イオン
性界面活性剤の添加量は、本発明の洗浄剤組成物中に
０．１重量％以上、なかんづく０．５重量％以上含有さ
れるように調整されることが好ましい。
【００５３】また、本発明の洗浄剤組成物には、本発明
の目的が阻害されない範囲内で、必要により、その他の
界面活性剤やシリコーン等の消泡剤等を配合してもよ
い。
の目的が阻害されない範囲内で、必要により、その他の
界面活性剤やシリコーン等の消泡剤等を配合してもよ
い。
【００５４】本発明の洗浄剤組成物は、一般式（Ｉ）で
表わされるポリオキシアルキレンジアルキルエーテルお
よびアミン系化合物、ならびに必要により、一般式（I
I）で表わされるポリオキシアルキレンモノアルキルエ
ーテル、溶剤、非イオン性界面活性剤等の界面活性剤や
シリコ−ン等の消泡剤を含有したものであり、さらに要
すれば、残部として水が配合される。
表わされるポリオキシアルキレンジアルキルエーテルお
よびアミン系化合物、ならびに必要により、一般式（I
I）で表わされるポリオキシアルキレンモノアルキルエ
ーテル、溶剤、非イオン性界面活性剤等の界面活性剤や
シリコ−ン等の消泡剤を含有したものであり、さらに要
すれば、残部として水が配合される。
【００５５】前記水としては、特に限定がないが、通
常、精製水、純水、市水、イオン交換水等を用いること
ができる。
常、精製水、純水、市水、イオン交換水等を用いること
ができる。
【００５６】本発明の洗浄剤組成物の動粘度は、汚れの
溶解性を向上させ、洗浄時間の短縮を図り、また優れた
洗浄性を呈するようにするために、２５℃において、５
ｍｍ2 ／ｓ以下、好ましくは３．５ｍｍ2 ／ｓ以下とな
るように、例えば、ポリオキシアルキレンジアルキルエ
ーテルの量を加減することにより、調整される。
溶解性を向上させ、洗浄時間の短縮を図り、また優れた
洗浄性を呈するようにするために、２５℃において、５
ｍｍ2 ／ｓ以下、好ましくは３．５ｍｍ2 ／ｓ以下とな
るように、例えば、ポリオキシアルキレンジアルキルエ
ーテルの量を加減することにより、調整される。
【００５７】本発明の洗浄剤組成物は、洗浄機に防爆処
理を施す必要性をなくし、また保管時における火災に対
する安全性を高め、加熱洗浄の際の引火に対する危険性
をなくすことが好ましい。
理を施す必要性をなくし、また保管時における火災に対
する安全性を高め、加熱洗浄の際の引火に対する危険性
をなくすことが好ましい。
【００５８】かかる観点から、本発明の洗浄剤組成物の
引火点は、７０℃以上、なかんづく１００℃以上である
ことが好ましい。
引火点は、７０℃以上、なかんづく１００℃以上である
ことが好ましい。
【００５９】なお、本発明の洗浄剤組成物は、その組成
により、引火点が７０℃よりも低い場合があるが、その
場合には、通常、本発明の洗浄剤組成物中に水を５〜２
０重量％程度含有させれば、引火点を７０℃以上とする
ことができる。また、本発明の洗浄剤組成物の引火点が
１００℃をこえるばあいには、例えば、水を５〜２０重
量％程度含有させることにより、非危険物化させること
ができる。
により、引火点が７０℃よりも低い場合があるが、その
場合には、通常、本発明の洗浄剤組成物中に水を５〜２
０重量％程度含有させれば、引火点を７０℃以上とする
ことができる。また、本発明の洗浄剤組成物の引火点が
１００℃をこえるばあいには、例えば、水を５〜２０重
量％程度含有させることにより、非危険物化させること
ができる。
【００６０】本発明の洗浄剤組成物は、電子部品、精密
部品又はその組立加工工程に使用される治工具類の表面
に存在する油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロ
ジン系フラックス等の汚れの除去に好適に使用しうるも
のである。
部品又はその組立加工工程に使用される治工具類の表面
に存在する油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロ
ジン系フラックス等の汚れの除去に好適に使用しうるも
のである。
【００６１】本発明の洗浄剤組成物を用いて洗浄を行な
う方法には特に限定がないが、例えば、本発明の洗浄剤
組成物を用いて超音波洗浄または浸漬洗浄を６０〜７０
℃程度の温度で行ない、最後に溶剤または温水、水等で
リンスする操作を連続的に行なう方法は、効率よく洗浄
を行なうことができるので、本発明において好適に使用
しうる方法である。また、かかる方法の他にも、本発明
においては、振動法、液中スプレー法、気中スプレー法
等の洗浄方法を採用することができる。また、洗浄後に
行なう最初のリンス工程（プレリンス工程）では、洗浄
工程から、被洗浄物に付着して同伴される洗浄剤組成物
を曇点以上に加熱して油水分離して分離した水層を再利
用することが好ましい。
う方法には特に限定がないが、例えば、本発明の洗浄剤
組成物を用いて超音波洗浄または浸漬洗浄を６０〜７０
℃程度の温度で行ない、最後に溶剤または温水、水等で
リンスする操作を連続的に行なう方法は、効率よく洗浄
を行なうことができるので、本発明において好適に使用
しうる方法である。また、かかる方法の他にも、本発明
においては、振動法、液中スプレー法、気中スプレー法
等の洗浄方法を採用することができる。また、洗浄後に
行なう最初のリンス工程（プレリンス工程）では、洗浄
工程から、被洗浄物に付着して同伴される洗浄剤組成物
を曇点以上に加熱して油水分離して分離した水層を再利
用することが好ましい。
【００６２】
【実施例】つぎに、本発明の洗浄剤組成物を実施例に基
づいてさらに詳細に説明するが、本発明はかかる実施例
のみに限定されるものではない。
づいてさらに詳細に説明するが、本発明はかかる実施例
のみに限定されるものではない。
【００６３】実施例１〜１７および比較例１〜９ 表１〜２に示す各成分を表１〜２に示す割合で混合し、
洗浄剤組成物を調製した。
洗浄剤組成物を調製した。
【００６４】次に得られた洗浄剤組成物の物性として、
２５℃における動粘度、引火点、フラックスの溶解性、
洗浄性およびリンス性を以下の方法に基づいて調べた。
その結果を表３に示す。
２５℃における動粘度、引火点、フラックスの溶解性、
洗浄性およびリンス性を以下の方法に基づいて調べた。
その結果を表３に示す。
【００６５】（Ａ）２５℃における動粘度 キャノンフェンスケ粘度計（（株）草野科学器械製作所
製、毛細管式粘度計）を用い、２５℃における動粘度を
測定する。
製、毛細管式粘度計）を用い、２５℃における動粘度を
測定する。
【００６６】（Ｂ）引火点 JIS K 2265に規定のクリーブランドオープンカップ（Cl
eaveland Open Cup)法に準じて測定する。なお、表３
中、「＞１００」とあるのは、引火点を測定しうる前に
水が沸騰して該引火点の測定が不可能であったことを意
味する。
eaveland Open Cup)法に準じて測定する。なお、表３
中、「＞１００」とあるのは、引火点を測定しうる前に
水が沸騰して該引火点の測定が不可能であったことを意
味する。
【００６７】（Ｃ）フラックスの溶解性 ２０ｍｍ×２５ｍｍ×１ｍｍ（厚さ）のガラス板に２０
０μｍのスペーサーを設け、これにもう１枚の同じ大き
さのガラス板をかぶせ、両ガラス板の間隙が２００μｍ
の狭ピッチのセルを作製する。
０μｍのスペーサーを設け、これにもう１枚の同じ大き
さのガラス板をかぶせ、両ガラス板の間隙が２００μｍ
の狭ピッチのセルを作製する。
【００６８】次に、このセルの間隙にフラックス（千住
金属（株）製、SPT-OZ-63-177F）を充填したのち、２３
０℃で５分間焼成し、試験用のセルを作製する。
金属（株）製、SPT-OZ-63-177F）を充填したのち、２３
０℃で５分間焼成し、試験用のセルを作製する。
【００６９】得られたセルを、表１〜２に示す組成から
なる洗浄剤組成物中に６０℃、３０分間浸漬する。な
お、浸漬に際しては、洗浄剤組成物のみによる洗浄性を
調べるために、洗浄剤組成物には、敢えて攪拌等の外的
応力を加えない。
なる洗浄剤組成物中に６０℃、３０分間浸漬する。な
お、浸漬に際しては、洗浄剤組成物のみによる洗浄性を
調べるために、洗浄剤組成物には、敢えて攪拌等の外的
応力を加えない。
【００７０】次に、セルを洗浄剤組成物から取り出し、
セルの縁からフラックスが溶解した距離を拡大鏡（１０
倍）を用いて測定する。
セルの縁からフラックスが溶解した距離を拡大鏡（１０
倍）を用いて測定する。
【００７１】（Ｄ）洗浄性 ５ｍｍ角のＩＣチップが、該ＩＣチップと基板との隙間
が５０μｍとなるように、該基板に設けられたハンダボ
ールを介して３０個搭載された１０ｃｍ角のセラミック
基板の接続部やその周辺に付着したフラックスの洗浄を
気中スプレー洗浄機を用い、以下の洗浄条件に基づいて
行なう。
が５０μｍとなるように、該基板に設けられたハンダボ
ールを介して３０個搭載された１０ｃｍ角のセラミック
基板の接続部やその周辺に付着したフラックスの洗浄を
気中スプレー洗浄機を用い、以下の洗浄条件に基づいて
行なう。
【００７２】（洗浄条件） 洗浄剤槽 ：２槽（洗浄温度：５０℃） すすぎ ：３槽 市水２槽＋イオン交換水１槽 （洗
浄温度：室温） スプレー圧：３ｋｇ／ｃｍ2 （フルコーンノズル）、基
板とノズルの距離は１０ｃｍ 洗浄タクト：２分間（１槽あたりの洗浄時間）
浄温度：室温） スプレー圧：３ｋｇ／ｃｍ2 （フルコーンノズル）、基
板とノズルの距離は１０ｃｍ 洗浄タクト：２分間（１槽あたりの洗浄時間）
【００７３】洗浄後、ＩＣチップをすべて剥がし、基板
の外観を目視にて観察し、以下の評価基準に基づいて評
価する。
の外観を目視にて観察し、以下の評価基準に基づいて評
価する。
【００７４】（評価基準） ◎：フラックスの残渣がまったくなし。 ○：フラックスの残渣が１〜３カ所あり。 △：フラックスの残渣が４〜１０カ所あり。 ×：フラックスの残渣が１１カ所以上あり。
【００７５】（Ｅ）洗浄性 ２０ｍｍ×２５ｍｍ×１ｍｍ（厚さ）のガラス板に２０
０μｍのスペーサーを設け、これにもう１枚の同じ大き
さのガラス板をかぶせ、両ガラス板の間隙が２００μｍ
の狭ピッチのセルを作製する。
０μｍのスペーサーを設け、これにもう１枚の同じ大き
さのガラス板をかぶせ、両ガラス板の間隙が２００μｍ
の狭ピッチのセルを作製する。
【００７６】次に、このセルの間隙に、ナフテン系鉱油
を充填したのち、このセルを得られた洗浄液組成物中に
浸漬し、超音波洗浄機（シャープ（株）製、品番：UT-3
05、条件：３５ｋＨｚ、２００Ｗ／８．６Ｌ）を用いて
４０℃で５分間洗浄を行なう。
を充填したのち、このセルを得られた洗浄液組成物中に
浸漬し、超音波洗浄機（シャープ（株）製、品番：UT-3
05、条件：３５ｋＨｚ、２００Ｗ／８．６Ｌ）を用いて
４０℃で５分間洗浄を行なう。
【００７７】次に、セルのガラス板上およびセルの周囲
の汚れ残渣を拡大鏡（１０倍）を用いて目視にて観察
し、以下の評価基準に基づいて評価する。
の汚れ残渣を拡大鏡（１０倍）を用いて目視にて観察
し、以下の評価基準に基づいて評価する。
【００７８】（評価基準） ◎：汚れ物質の残渣がまったくなし。 ○：汚れ物質の残渣が１〜３カ所あり。 △：汚れ物質の残渣が４〜１０カ所あり。 ×：汚れ物質の残渣が１１カ所以上あり。
【００７９】（Ｆ）リンス性 得られた洗浄剤組成物の液温を６０℃に調整し、スプレ
ー圧３ｋｇ／ｃｍ2 でプリント基板（１０ｃｍ×２０ｃ
ｍ、重量１００ｇ）とノズルとの距離が１０ｃｍとなる
ようにして該プリント基板に２分間気中スプレー（フル
コーンノズル）にて洗浄を行なう。洗浄後のプリント基
板の重量を測定し、プリント基板の初期重量（１００
ｇ）を洗浄後の該プリント基板の重量から差し引いて洗
浄槽からプレリンス槽への洗浄剤組成物の「持込量」を
測定する。
ー圧３ｋｇ／ｃｍ2 でプリント基板（１０ｃｍ×２０ｃ
ｍ、重量１００ｇ）とノズルとの距離が１０ｃｍとなる
ようにして該プリント基板に２分間気中スプレー（フル
コーンノズル）にて洗浄を行なう。洗浄後のプリント基
板の重量を測定し、プリント基板の初期重量（１００
ｇ）を洗浄後の該プリント基板の重量から差し引いて洗
浄槽からプレリンス槽への洗浄剤組成物の「持込量」を
測定する。
【００８０】つぎに、洗浄後のプリント基板に、室温の
イオン交換水をスプレー圧３ｋｇ／ｃｍ2 でプリント基
板とノズルとの距離が１０ｃｍとなるようにして該プリ
ント基板に１分間気中スプレー（フルコーンノズル）に
てプレリンスを行なったのち、さらにもう一度かかる操
作を繰り返してリンスを行なう。
イオン交換水をスプレー圧３ｋｇ／ｃｍ2 でプリント基
板とノズルとの距離が１０ｃｍとなるようにして該プリ
ント基板に１分間気中スプレー（フルコーンノズル）に
てプレリンスを行なったのち、さらにもう一度かかる操
作を繰り返してリンスを行なう。
【００８１】リンス後、プリント基板を２分間室温で放
置し、ついで該プリント基板を送風定温乾燥器（（株）
東洋製作所製、品番：ＦＣ−６１０）に入れて８０℃で
２０分間乾燥させた。そののち、乾燥後のプリント基板
の重量を測定し、プリント基板の初期重量（１００ｇ）
から乾燥後の該プリント基板の重量を差し引いてリンス
できない洗浄剤組成物の「付着量」を測定する。
置し、ついで該プリント基板を送風定温乾燥器（（株）
東洋製作所製、品番：ＦＣ−６１０）に入れて８０℃で
２０分間乾燥させた。そののち、乾燥後のプリント基板
の重量を測定し、プリント基板の初期重量（１００ｇ）
から乾燥後の該プリント基板の重量を差し引いてリンス
できない洗浄剤組成物の「付着量」を測定する。
【００８２】以上の結果から、式： 〔リンス率〕＝〔持込量−付着量〕÷〔持込量〕×１０
０ に基づいてリンス率を求め、以下の評価基準に基づいて
評価を行なう。
０ に基づいてリンス率を求め、以下の評価基準に基づいて
評価を行なう。
【００８３】（評価基準） ◎：リンス性が極めて良好（リンス率が９０％以上） ○：リンス性が良好（リンス率が７５％以上９０％未
満） △：リンス性が不充分（リンス率が５０％以上７５％未
満） ×：リンス性が悪い（リンス率が５０％未満）
満） △：リンス性が不充分（リンス率が５０％以上７５％未
満） ×：リンス性が悪い（リンス率が５０％未満）
【００８４】なお、表１〜３中、各化合物は、以下のこ
とを意味する。 〔ポリオキシアルキレンジアルキルエーテル〕 ジエチレングリコールジメチルエーテル： ２５℃における動粘度：１．１ｍｍ2 ／ｓ、引火点：５
６℃ ジエチレングリコールメチルブチルエーテル： ２５℃における動粘度：１．７ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
０２℃ ジエチレングリコールジエチルエーテル： ２５℃における動粘度：１．４ｍｍ2 ／ｓ、引火点：７
５℃ ジエチレングリコールイソプロピルブチルエーテル： ２５℃における動粘度：２．４ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
１５℃ トリエチレングリコールジメチルエーテル： ２５℃における動粘度：２．０ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
１８℃ トリエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル： ２５℃における動粘度：２．６ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
２７℃ トリエチレングリコールメチルイソブチルエーテル： ２５℃における動粘度：３．０ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
３２℃ ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル： ２５℃における動粘度：１．６ｍｍ2 ／ｓ、引火点：７
９℃ ジエチレングリコールエチルブチルエーテル： ２５℃における動粘度：２．３ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
１２℃ ジエチレングリコールジブチルエーテル： ２５℃における動粘度：２．４ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
２８℃
とを意味する。 〔ポリオキシアルキレンジアルキルエーテル〕 ジエチレングリコールジメチルエーテル： ２５℃における動粘度：１．１ｍｍ2 ／ｓ、引火点：５
６℃ ジエチレングリコールメチルブチルエーテル： ２５℃における動粘度：１．７ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
０２℃ ジエチレングリコールジエチルエーテル： ２５℃における動粘度：１．４ｍｍ2 ／ｓ、引火点：７
５℃ ジエチレングリコールイソプロピルブチルエーテル： ２５℃における動粘度：２．４ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
１５℃ トリエチレングリコールジメチルエーテル： ２５℃における動粘度：２．０ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
１８℃ トリエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル： ２５℃における動粘度：２．６ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
２７℃ トリエチレングリコールメチルイソブチルエーテル： ２５℃における動粘度：３．０ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
３２℃ ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル： ２５℃における動粘度：１．６ｍｍ2 ／ｓ、引火点：７
９℃ ジエチレングリコールエチルブチルエーテル： ２５℃における動粘度：２．３ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
１２℃ ジエチレングリコールジブチルエーテル： ２５℃における動粘度：２．４ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
２８℃
【００８５】〔アミン系化合物〕 メチルジエタノールアミン： ２５℃における動粘度：１０１ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
４０℃ ジブチルエタノールアミン： ２５℃における動粘度：８ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１０４
℃ メチルエタノールアミン： ２５℃における動粘度：１３ｍｍ2 ／ｓ、引火点：７４
℃
４０℃ ジブチルエタノールアミン： ２５℃における動粘度：８ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１０４
℃ メチルエタノールアミン： ２５℃における動粘度：１３ｍｍ2 ／ｓ、引火点：７４
℃
【００８６】〔その他の配合物〕 Ｃ10Ｈ21（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）2 Ｃ2 Ｈ5 ： ２５℃における動粘度：８．５ｍｍ2 ／ｓ、引火点：２
１０℃ Ｃ6 Ｈ13（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）5 Ｃ3 Ｈ7 ： ２５℃における動粘度：９. ６ｍｍ2 ／ｓ、引火点：２
３０℃ Ｃ8 Ｈ16（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）2 ＣＨ3 ： ２５℃における動粘度：３. ０ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
４８℃ Ｃ4 Ｈ9 （Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）2 Ｈ： ２５℃における動粘度：５．２ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
２０℃ Ｃ6 Ｈ13（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）2 Ｈ： ２５℃における動粘度：７．１ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
４１℃ ベンジルアルコール： ２５℃における動粘度：５．２ｍｍ2 ／ｓ、引火点：９
４℃ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル： ２５℃における動粘度：１２０ｍｍ2 ／ｓ、ＨＬＢ：１
２ ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル（高級アル
コールの炭素数：１２〜１４）： ２５℃における動粘度：４０ｍｍ2 ／ｓ、ＨＬＢ：１
０．５
１０℃ Ｃ6 Ｈ13（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）5 Ｃ3 Ｈ7 ： ２５℃における動粘度：９. ６ｍｍ2 ／ｓ、引火点：２
３０℃ Ｃ8 Ｈ16（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）2 ＣＨ3 ： ２５℃における動粘度：３. ０ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
４８℃ Ｃ4 Ｈ9 （Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）2 Ｈ： ２５℃における動粘度：５．２ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
２０℃ Ｃ6 Ｈ13（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）2 Ｈ： ２５℃における動粘度：７．１ｍｍ2 ／ｓ、引火点：１
４１℃ ベンジルアルコール： ２５℃における動粘度：５．２ｍｍ2 ／ｓ、引火点：９
４℃ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル： ２５℃における動粘度：１２０ｍｍ2 ／ｓ、ＨＬＢ：１
２ ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル（高級アル
コールの炭素数：１２〜１４）： ２５℃における動粘度：４０ｍｍ2 ／ｓ、ＨＬＢ：１
０．５
【００８７】
【表１】
【００８８】
【表２】
【００８９】
【表３】
【００９０】表３に示された結果から、実施例１〜１７
で得られた洗浄剤組成物は、いずれも低粘度を有するこ
とから、流動性に優れたものであり、小型化かつ複雑化
した精密部品、治工具類、狭小化した液晶パネル、多ピ
ン化や狭小化が進んだＩＣパッケージ等の洗浄に好適に
使用しうるものであることがわかる。
で得られた洗浄剤組成物は、いずれも低粘度を有するこ
とから、流動性に優れたものであり、小型化かつ複雑化
した精密部品、治工具類、狭小化した液晶パネル、多ピ
ン化や狭小化が進んだＩＣパッケージ等の洗浄に好適に
使用しうるものであることがわかる。
【００９１】また、実施例１〜１７で得られた洗浄剤組
成物は、いずれもフラックスの溶解性に優れ、しかも洗
浄性にも優れたものであるので、例えば、プリント配線
基板、セラミック基板、セラミックパッケージ、プラス
チックパッケージ等の電子部品のアセンブリに使用され
るロジン系ハンダフラックスの汚れの除去に好適に使用
するものであることがわかる。
成物は、いずれもフラックスの溶解性に優れ、しかも洗
浄性にも優れたものであるので、例えば、プリント配線
基板、セラミック基板、セラミックパッケージ、プラス
チックパッケージ等の電子部品のアセンブリに使用され
るロジン系ハンダフラックスの汚れの除去に好適に使用
するものであることがわかる。
【００９２】また、実施例１〜１７で得られた洗浄剤組
成物は、いずれも引火点が７０℃以上であるので、火災
等に対する安全性にも優れたものであることがわかる。
成物は、いずれも引火点が７０℃以上であるので、火災
等に対する安全性にも優れたものであることがわかる。
【００９３】さらに、実施例１〜１７で得られた洗浄剤
組成物は、いずれもリンス性にも優れたものであること
がわかる。
組成物は、いずれもリンス性にも優れたものであること
がわかる。
【００９４】実験例 実施例１〜１７および比較例１〜９で得られた洗浄剤組
成物を用い、以下に示す方法に従って排水処理性を調べ
た。その結果を表４に示す。
成物を用い、以下に示す方法に従って排水処理性を調べ
た。その結果を表４に示す。
【００９５】〔排水処理性（油水分離性）〕プレリンス
液として、洗浄剤組成物の５％水溶液を調製し、これを
６０℃で２０分間加温する。加温すると曇点現像によ
り、水層と油層（洗剤）とに分離する。この水層のＴＯ
Ｃ値と分離前の水溶液のＴＯＣ値とから、式： 〔分離率（％）〕＝〔分離前の水溶液のＴＯＣ値×分離
前の水溶液の重量−分離後の水層のＴＯＣ値×分離後の
水層の重量〕÷〔分離前の水溶液のＴＯＣ値×分離前の
水溶液の重量〕×１００ に基づいて分離率を求め、以下の評価基準に基づいて評
価を行なう。なお、分離率が大きいほど、排水処理性が
良好である。
液として、洗浄剤組成物の５％水溶液を調製し、これを
６０℃で２０分間加温する。加温すると曇点現像によ
り、水層と油層（洗剤）とに分離する。この水層のＴＯ
Ｃ値と分離前の水溶液のＴＯＣ値とから、式： 〔分離率（％）〕＝〔分離前の水溶液のＴＯＣ値×分離
前の水溶液の重量−分離後の水層のＴＯＣ値×分離後の
水層の重量〕÷〔分離前の水溶液のＴＯＣ値×分離前の
水溶液の重量〕×１００ に基づいて分離率を求め、以下の評価基準に基づいて評
価を行なう。なお、分離率が大きいほど、排水処理性が
良好である。
【００９６】なお、前記ＴＯＣとは、全有機炭素を示す
「Total Organic Carbon」の略号であり、具体的には、
水中の有機物に含まれている炭素をいう。
「Total Organic Carbon」の略号であり、具体的には、
水中の有機物に含まれている炭素をいう。
【００９７】前記ＴＯＣは、試料を微酸性とし、これに
パージガスを通気して無機炭素を除去し、この試料の一
定量を燃焼部に入れ、有機物の燃焼によって生成した二
酸化炭素を非分散形赤外線ガス分析計で測定することに
よって求められる。
パージガスを通気して無機炭素を除去し、この試料の一
定量を燃焼部に入れ、有機物の燃焼によって生成した二
酸化炭素を非分散形赤外線ガス分析計で測定することに
よって求められる。
【００９８】（評価基準） Ａ：排水処理性が極めて良好（分離率が６０％以上） Ｂ：排水処理性が良好（分離率が３０％以上６０％未
満） Ｃ：排水処理性がやや不充分（分離率が１０％以上２９
％未満） Ｄ：排水処理性が不充分（分離率が１０％未満）
満） Ｃ：排水処理性がやや不充分（分離率が１０％以上２９
％未満） Ｄ：排水処理性が不充分（分離率が１０％未満）
【００９９】
【表４】
【０１００】表４に示された結果から、実施例１〜１７
のなかでも、特に実施例１３〜１７で得られた洗浄剤組
成物は、一般式(III) で表わされるポリオキシアルキレ
ンジアルキルエーテルが５〜７５重量％の範囲内で含有
されているので、排水処理性に極めて優れたものである
ことがわかる。
のなかでも、特に実施例１３〜１７で得られた洗浄剤組
成物は、一般式(III) で表わされるポリオキシアルキレ
ンジアルキルエーテルが５〜７５重量％の範囲内で含有
されているので、排水処理性に極めて優れたものである
ことがわかる。
【０１０１】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、低粘度を有
し、流動性に優れたものであるから、小型化かつ複雑化
した精密部品、治工具類の油汚れや狭小化した液晶パネ
ルの液晶汚れ、あるいは多ピン化や狭小化が進んだＩＣ
パッケージ等のロジン系フラックス等の汚れの洗浄に好
適に使用しうるものである。
し、流動性に優れたものであるから、小型化かつ複雑化
した精密部品、治工具類の油汚れや狭小化した液晶パネ
ルの液晶汚れ、あるいは多ピン化や狭小化が進んだＩＣ
パッケージ等のロジン系フラックス等の汚れの洗浄に好
適に使用しうるものである。
【０１０２】また、本発明の洗浄剤組成物は、ロジン系
フラックス、油脂、機械油、切削油、グリース、液晶等
の溶解性に優れ、しかも洗浄性にも優れたものであるの
で、例えば、プリント配線基板、セラミック基板、セラ
ミックパッケージ、プラスチックパッケージ等の電子部
品のアセンブリに使用されるロジン系ハンダフラックス
の汚れ、小型化かつ複雑化した精密部品、治工具類の油
汚れや、狭小化した液晶パネルの液晶汚れを短時間で除
去することができ、また気中でスプレー洗浄法により洗
浄した場合であっても、洗浄液や水すすぎ液が起泡しに
くいので、洗浄を容易に行なうことができるという効果
を奏する。
フラックス、油脂、機械油、切削油、グリース、液晶等
の溶解性に優れ、しかも洗浄性にも優れたものであるの
で、例えば、プリント配線基板、セラミック基板、セラ
ミックパッケージ、プラスチックパッケージ等の電子部
品のアセンブリに使用されるロジン系ハンダフラックス
の汚れ、小型化かつ複雑化した精密部品、治工具類の油
汚れや、狭小化した液晶パネルの液晶汚れを短時間で除
去することができ、また気中でスプレー洗浄法により洗
浄した場合であっても、洗浄液や水すすぎ液が起泡しに
くいので、洗浄を容易に行なうことができるという効果
を奏する。
【０１０３】さらに、本発明の洗浄剤組成物は、一般式
(III) で表わされるポリオキシアルキレンジアルキルエ
ーテルが５〜７５重量％の範囲内で含有されている場合
には、排水処理性がより一層優れるという効果が奏され
る。
(III) で表わされるポリオキシアルキレンジアルキルエ
ーテルが５〜７５重量％の範囲内で含有されている場合
には、排水処理性がより一層優れるという効果が奏され
る。
Claims (8)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ炭素数１〜６のアル
キル基または炭素数２〜６のアルケニル基、ｍは２〜４
の整数、ｎは１〜４の整数を示し、ｎ個のＣm Ｈ2mＯは
それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい）で表
わされるポリオキシアルキレンジアルキルエーテルの少
なくとも１種と、アミン系化合物とを含有し、２５℃に
おける動粘度が５ｍｍ2 ／ｓ以下である洗浄剤組成物。 - 【請求項２】 さらに、一般式（II）： 【化２】 （式中、Ｒ3 は炭素数１〜８のアルキル基または炭素数
２〜８のアルケニル基、ｐは２〜４の整数、ｑは１〜４
の整数を示し、ｑ個のＣp Ｈ2pＯはそれぞれ同一であっ
てもよく異なっていてもよい）で表わされるポリオキシ
アルキレンモノアルキルエーテルを含有する請求項１記
載の洗浄剤組成物。 - 【請求項３】 ポリオキシアルキレンジアルキルエーテ
ルの少なくとも１種が一般式(III): 【化３】 （式中、Ｒ4 およびＲ5 はそれぞれ炭素数１〜４のアル
キル基または炭素数２〜４のアルケニル基、Ｒ4 とＲ5
との炭素数の合計が５〜８、ｒは２または３、ｓは１〜
４の整数を示し、ｓ個のＣr Ｈ2rＯはそれぞれ同一であ
ってもよく異なっていてもよい）で表わされるポリオキ
シアルキレンジアルキルエーテルである請求項１または
２記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ）で表わされるポリオキシア
ルキレンジアルキルエーテルの含有量が４０〜９９．９
重量％である請求項１〜３いずれか記載の洗浄剤組成
物。 - 【請求項５】 一般式(III) で表わされるポリオキシア
ルキレンジアルキルエーテルの含有量が５〜７５重量％
である請求項４記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項６】 アミン系化合物がチッ素原子１〜５個を
有し、分子量５０〜３００を有するものである請求項１
〜５いずれか記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項７】 アミン系化合物の含有量が０．１〜１０
重量％である請求項１〜６いずれか記載の洗浄剤組成
物。 - 【請求項８】 引火点が７０℃以上である請求項１〜７
いずれか記載の洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9010097A JP2949425B2 (ja) | 1996-10-11 | 1997-03-24 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-289146 | 1996-10-11 | ||
| JP28914696 | 1996-10-11 | ||
| JP9010097A JP2949425B2 (ja) | 1996-10-11 | 1997-03-24 | 洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10168488A true JPH10168488A (ja) | 1998-06-23 |
| JP2949425B2 JP2949425B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=26431614
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