JPH10170712A - カラーフィルタ基板及びその製造方法、該基板を用いた液晶素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐熱性、耐溶剤性、解像性に優れ、且つ混色
のないカラーフィルタを安価に製造する。 【解決手段】 光透過性基板１上に遮光性樹脂組成物層
２と、主鎖又は側鎖にシリコン原子を含有する感光性樹
脂組成物層３を形成し、フォトマスクを用いてパターン
露光して形成されたシリコーン樹脂層４をマスクとして
遮光性樹脂組成物層２をパターニングしてブラックマト
リクス５を形成し、該ブラックマトリクス５の開口部に
インクジェット方式によりＲ，Ｇ，Ｂのインク７ａ〜７
ｃを付与し、着色部８ａ〜８ｃからなるカラーフィルタ
８を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等に使用される
カラー液晶ディスプレイに利用されるカラーフィルタ基
板の製造方法に関し、特に、インクジェット方式を利用
したその製造方法に関し、さらに、該製造方法によって
得られるカラーフィルタ基板と該基板を用いた液晶素子
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要
が増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及の
ためには液晶ディスプレイのコストダウンが必要であ
り、特にコスト的に比重の高いカラーフィルタのコスト
ダウンに対する要求が高まっている。従来から、カラー
フィルタの要求特性を満足しつつ上記の要求に応えるべ
く種々の製造方法が試みられているが、未だ全ての要求
特性を満足する方法は確立されていない。以下にそれぞ
れの方法を説明する。

【０００３】第１の方法が染色法である。染色法は、ガ
ラス基板上に染色用の材料である水溶性高分子材料を塗
布し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形
状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に
浸漬して着色されたパターンを得る。これを３回繰り返
すことによりＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の着色層を
形成し、カラーフィルタとする。

【０００４】この染色法の別の例として特開平５−２８
８９１３号公報には、基板上に感光層を設け、これをパ
ターン状に露光した後、未露光部を染色する方法が記載
され、この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ，Ｇ，Ｂ
の３色からなるカラーフィルタを製造することが記載さ
れている。

【０００５】第２の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って代わりつつある。この方法は、基板上に顔料
を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニング
することにより単色のパターンを得る。さらにこの工程
を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂの着色層を形成
し、カラーフィルタとする。

【０００６】第３の方法としては電着法がある。この方
法は、基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹
脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第１の色を
電着する。この工程を３回繰り返してＲ，Ｇ，Ｂの着色
層を形成し、最後に焼成してカラーフィルタとするもの
である。

【０００７】第４の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成し、カラーフィルタとするものである。また、
いずれの方法においても着色層上に保護膜を形成するの
が一般的である。

【０００８】これらの方法に共通している点は、Ｒ，
Ｇ，Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
が多いほど歩留が低下するという問題を有している。さ
らに、電着法においては、形成可能なパターン形状が限
定されるため、現状の技術ではＴＦＴ用には適用困難で
ある。また、印刷法は、解像性が悪いためファインピッ
チのパターン形成には不向きである。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】これらの欠点を補うべ
く、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭６３−２３
５９０１号公報或いは特開平１−２１７３０２号公報等
には、インクジェット方式を用いてカラーフィルタを製
造する方法が記載されているが、いまだ十分満足できる
ものは得られていない。

【００１０】特に、インクジェット方式によりカラーフ
ィルタを作製する際には、隣接する異なる色のカラーフ
ィルタ間における混色が問題となる。そこで、カラーフ
ィルタ間における混色防止方法として、特開平４−１２
３００５号公報に記載された提案がある。当該方法は、
ブラックマトリクス上に撥水性、撥油性の大きなシリコ
ーンゴムのパターンを形成し、インクジェット法或いは
印刷法における混色を防止するという方法である。しか
しながら、シリコーンゴムのパターンを形成する方法と
しては、感光性樹脂層上にシリコーンゴム層を形成した
後にフォトリソグラフィによってシリコーンゴム層或い
はシリコーンゴム層と感光性樹脂層を除去するため、２
回の塗布工程が必要であり、製造工程的に不利である。

【００１１】そこで、より簡便な方法で表面が撥水、撥
油性を有するブラックマトリクスを得る方法として、特
開平７−３５９１６号の提案がある。該公報には、ブラ
ックマトリクス形成用の部材上に、シリコーン微粒子を
含有する光透過性の感光性樹脂層を形成し、該感光性樹
脂層をフォトリソ工程によりパターニングした後、パタ
ーニングされた該感光性樹脂層をマスクとしてブラック
マトリクス形成用部材を加工する方法が記載されてい
る。

【００１２】しかしながら、該提案は、感光性樹脂中に
微粒子状態でシリコーンを含有するため、 （１）シリコーン微粒子が現像残渣となり、これがブラ
ックマトリクス形成用部材に転写されてブラックマトリ
クスの欠陥が発生する （２）シリコーン微粒子の添加量を多くすると解像性が
低下するため、微細パターンの形成には不向きである （３）シリコーン微粒子の添加量が限定されるため、高
い撥インク性を得ることが困難である 等の問題がある。

【００１３】本発明の目的は、耐熱性、耐溶剤性、解像
性等の必要特性を満足し、且つインクジェット方式によ
っても混色が防止された信頼性の高いカラーフィルタ
を、安価に提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の第一は、光透過
性基板上にブラックマトリクスと該ブラックマトリクス
の開口部に位置するカラーフィルタを有するカラーフィ
ルタ基板の製造方法であって、光透過性基板上に遮光性
樹脂組成物層を形成する工程と、上記遮光性樹脂組成物
層上に、主鎖又は側鎖にシリコン原子を含有する可溶性
シリコーン樹脂を主成分とする感光性樹脂組成物層を形
成する工程と、上記感光性樹脂組成物層をフォトリソグ
ラフィーによりパターニングして一部を除去する工程
と、上記パターニングされた感光性樹脂組成物層をマス
クとして上記遮光性樹脂組成物層をパターニングして一
部を除去し、ブラックマトリクスとする工程と、インク
ジェット方式により、上記ブラックマトリクスの開口部
にインクを付与してカラーフィルタを形成する工程と、
を有することを特徴とする。

【００１５】また本発明の第二は、上記製造方法によっ
て製造されたことを特徴とするカラーフィルタ基板であ
り、第三は、該カラーフィルタ基板を用いたことを特徴
とする液晶素子である。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳
細に説明する。図１は、本発明の製造方法の一実施形態
を示した工程図である。以下、図１の（ａ）〜（ｅ）は
下記工程−ａ〜ｅに該当する断面図である。

【００１７】工程−ａ 光透過性基板１上に、遮光性樹脂組成物層２、及び感光
性樹脂組成物層３を形成する。

【００１８】本発明においては、光透過性基板として一
般にガラス基板が用いられるが、液晶表示装置等最終的
な用途に必要な特性、例えば透明性、機械的強度等を満
足し、後工程に耐えるものであればガラス基板に限定さ
れるものではない。

【００１９】また、遮光性樹脂組成物層２は、後述する
ように、最終的にブラックマトリクスとして使用される
ものであり、充分な遮光性を有する必要がある。さらに
は、後工程においてパターニングする必要があるため、
アルカリ水溶液或いは有機溶剤に対する溶解性、或い
は、酸素プラズマによる良好なエッチング特性を有する
必要がある。

【００２０】具体的には、ポリビニルフェノール型樹
脂、フェノールノボラック型樹脂等に黒色顔料、黒色染
料等の遮光性物質を分散又は混合させた樹脂組成物が好
適に用いられるが、これらに限定されるものではない。
本発明において遮光性樹脂組成物層２の形成には、スピ
ンコート、ロールコート、バーコート、スプレーコー
ト、ディップコート等の塗布方法を用いることができ
る。また、塗布膜厚はブラックマトリクスとした場合に
十分な遮光性が得られる範囲で任意に設定することがで
きる。特に、フォトリソグラフィー工程を用いてパター
ニングし、そのままブラックマトリクスとして使用され
るブラックマトリクス用フォトレジスト材と異なり、本
発明にかかる遮光性樹脂組成物には感光性が必要とされ
ないため、基材樹脂に対する遮光性物質の添加量を多く
することが可能であり、薄い膜厚でブラックマトリクス
として機能させるために必要な遮光性を得ることができ
るという利点がある。

【００２１】次に、本発明に用いられる感光性樹脂組成
物層３としては、後述するインクジェット方式によるイ
ンクの付与の際に、隣接する着色部のインク同士の混色
を防止するための撥インク部として機能するものであ
り、撥水性、撥油性の高い、主鎖又は側鎖にシリコン原
子を含有する可溶性シリコーン樹脂を主成分とする感光
性樹脂組成物を用いる。

【００２２】本発明において上記可溶性シリコーン樹脂
としては、光照射部が不溶化するネガ型、光照射部分が
可溶化するポジ型のいずれも使用可能である。具体的に
は、ネガ型としては、不飽和基を有するシロキサン、シ
ルセスキオキサン等にビスアジドを添加した系、或いは
アルカリ可溶性シリコーン樹脂に架橋剤及び酸発生剤を
添加した系等が用いられる。また、ポジ型としては、ア
ルカリ可溶性のシロキサン、シルセスキオキサン等にナ
フトキノンジアジドエステルを添加した系、或いは同様
のアルカリ可溶性シリコーン樹脂に溶解禁止剤及び酸発
生剤を添加した系、アルカリ可溶性のノボラック型樹脂
をシリコーン変性したものにナフトキノンジアジドエス
テルを添加した系、或いは同様のノボラック型樹脂に溶
解禁止剤及び酸発生剤を添加した系、主鎖分解性のアク
リル型樹脂をシリコーン変性したもの、ポリシラン等を
用いることが可能である。

【００２３】また、インクの混色を完全に防止するため
には、より撥インク性の高い可溶性シリコーン樹脂を用
いることが好ましい。さらに詳しくは、シリコン原子含
有量が１０重量％以上であることが好ましく、特に、シ
リコン原子含有率の高いシロキサン構造或いはポリシラ
ン構造を主鎖或いは側鎖に有する高分子化合物が好適に
用いられる。

【００２４】また、本発明において感光性樹脂組成物層
３の形成には、スピンコート、ロールコート、バーコー
ト、スプレーコート、ディップコート等の塗布方法を用
いることができる。また、塗布膜厚は遮光性樹脂組成物
層の一部を除去する際に用いるアルカリ水溶液、有機溶
剤、酸素プラズマ等に対する十分な耐性が得られる範囲
内で、また、パターニングの際に十分な解像性が得られ
る範囲内で任意に設定することができる。アルカリ水溶
液、有機溶剤、酸素プラズマ等に対する十分な耐性を得
るためには、膜厚を厚くすることが有効であり、また、
高解像性を得るためには膜厚を薄くすることが有効であ
る。

【００２５】工程−ｂ フォトマスクを用いて感光性樹脂組成物層３をパターン
露光、現像処理を行ってパターニングし、所望のパター
ンのシリコーン樹脂層４とする。

【００２６】工程−ｃ 上記シリコーン樹脂層４をマスクとして、遮光性樹脂組
成物をパターニングし、ブラックマトリクス５を形成す
る。具体的には、アルカリ水溶液或いは有機溶剤による
溶解除去、酸素プラズマによるドライエッチング等を用
いることができる。特に、感光性樹脂組成物としてアル
カリ現像型のシリコン化合物を用い、さらに遮光性樹脂
組成物としてアルカリ水溶液に可溶性のものを用いた場
合には、感光性樹脂組成物層３の現像と同時に遮光性樹
脂組成物層２の溶解除去が可能であり、プロセスの大幅
な簡略化が可能である。

【００２７】また、遮光性樹脂組成物の矩形性、残渣の
発生等を考慮した場合には、酸素プラズマによるドライ
エッチングが有効である。

【００２８】工程−ｄ インクジェットヘッド６を用いて、ブラックマトリクス
５の開口部にＲ，Ｇ，Ｂの各色のインク７ａ〜７ｃを付
与し、必要に応じて該インクを乾燥し、Ｒ，Ｇ，Ｂの各
着色部８ａ〜９ｃからなるカラーフィルタ８とする。

【００２９】本発明においてカラーフィルタの形成に用
いるインクとしては、染料系、顔料系共に用いることが
可能である。また、後工程におけるプロセス耐性、信頼
性等を考慮した場合、熱処理或いは光照射等により硬化
し、インクの着色剤として使用される染料或いは顔料を
固定化する成分、即ち架橋可能なモノマー或いはポリマ
ー等の成分を含有する硬化型インクであることが好まし
い。

【００３０】さらに、インクジェット方式としては、エ
ネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジ
ェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェット
タイプ等が使用可能であり、着色面積及び着色パターン
は任意に設定することができる。

【００３１】本発明においては、ブラックマトリクス５
の上に撥インク性のあるシリコーン樹脂層４が設けられ
ているため、該樹脂層４上に乗ったインクははじかれて
スムーズに各開口部内に収納されるため、隣接する着色
部間でのインクの混じりが防止される。

【００３２】工程−ｅ 必要に応じて、カラーフィルタ８上に保護膜９を形成す
る。保護膜としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプ、或
いは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によ
って形成された無機膜等を用いることができ、カラーフ
ィルタとしての透明性を損なわず、その後の工程、例え
ばＩＴＯや配向膜形成といったプロセスに耐え得るもの
であれば使用可能である。

【００３３】図２に、本発明のカラーフィルタ基板を用
いた液晶素子の一実施形態の断面図を示す。図中、１１
は基板１と同様の光透過性基板、１２ａ，１２ｂは電
極、１３ａ，１３ｂは配向膜、１４は液晶で、１５ａ，
１５ｂは偏光板である。本実施形態は、不図示のＴＦＴ
を用いたアクティブマトリクス型の液晶素子である。

【００３４】図２の液晶素子の製造方法について説明す
る。先に述べたカラーフィルタ基板の保護膜８上に、
（共通）電極１２ｂ、配向膜１３ｂを形成する。一方、
対向する基板１１にはＴＦＴ（不図示）と（画素）電極
１２ａがマトリクス状に形成され、さらにその上に配向
膜１３ａが形成される。これらの基板を、カラーフィル
タ８の各着色部８ａ〜８ｃが画素電極１２ａに対向する
位置に配列するように対向配置し、封止材を介して接着
し、その間隙に液晶化合物１４を充填して図２に示した
液晶素子が構成される。上記配向膜１３ａ，１３ｂの表
面は通常ラビング処理等配向処理が施されており、これ
によって液晶分子を一定方向に配列させることができ
る。

【００３５】さらに、基板１，１１の外側にはそれぞれ
偏光板１５ａ，１５ｂが接着されている。

【００３６】バックライトとしては蛍光灯と散乱板との
組合せ（不図示）が一般的に用いられており、上記液晶
素子を、バックライトの光２０の透過率を変化させる光
シャッターとして機能させることにより表示を行なう。

【００３７】本発明において用いられる液晶化合物とし
ては特に限定されず、ＴＮ型液晶や、強誘電性液晶（Ｆ
ＬＣ）などが好適に用いられる。また、本発明は、上記
実施形態で示したアクティブマトリクス型の液晶素子に
限らず、例えば単純マトリクス型の液晶素子も構成する
ことができる。

【００３８】また、本発明のカラーフィルタ基板は、液
晶素子以外にも好適に利用することができる。

【００３９】

【実施例】

［実施例１］ガラス基板上に、クレゾールノボラック樹
脂に黒色顔料を分散してなる遮光性樹脂組成物層を膜厚
１μｍとなるように形成した。さらに、アルカリ可溶性
のポリシルセスキオキサン及びナフトキノンジアジドエ
ステルからなる可溶性シリコーン樹脂を膜厚０．３μｍ
となるようにスピンコートし、９０℃で２０分間のプリ
ベークを行って可溶性シリコーン樹脂層を形成した。

【００４０】次いで、フォトマスクを介して、３００ｍ
Ｊ／ｃｍ² の露光量でパターン露光し、アルカリ水溶液
に浸漬して可溶性シリコーン樹脂層及び遮光性樹脂組成
物層の一部を除去することにより、表面にシリコーン樹
脂層の形成されたブラックマトリクス基板を得た。

【００４１】次いでインクジェット記録装置を用いて、
水、有機溶剤、メラミン樹脂、及び顔料からなる熱硬化
型のＲ，Ｇ，Ｂの各インクをブラックマトリクスの開口
部に付与して、Ｒ，Ｇ，Ｂのマトリクスパターンを形成
した後、９０℃で５分間、引き続き２３０℃で３０分間
の熱処理を行って該インクを硬化し、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色
部からなるカラーフィルタを形成した。

【００４２】さらに、保護膜として二液型の熱硬化性樹
脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるよう
にスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を行って
硬化させた。

【００４３】このようにして作製された液晶素子用カラ
ーフィルタ基板を光学顕微鏡により観察したところ、混
色は観察されなかった。

【００４４】［実施例２］ガラス基板上に、アルカリ可
溶性のアクリル樹脂と黒色染料を混合してなる遮光性樹
脂組成物層を膜厚１μｍとなるように形成した。さら
に、側鎖にフェニル基とメチル基を有するポリシランを
膜厚０．３μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で
２０分間のプリベークを行ってポリシラン層を形成し
た。

【００４５】次いで、フォトマスクを介して、２００ｍ
Ｊ／ｃｍ² の露光量でパターン露光し、アルカリ水溶液
に浸漬してポリシラン層及び遮光性樹脂組成物層の一部
を除去することにより、表面にシリコーン樹脂層の形成
されたブラックマトリクス基板を得た。

【００４６】次いでインクジェット記録装置を用いて、
水、有機溶剤、アクリル樹脂、及び顔料からなる熱硬化
型のＲ，Ｇ，Ｂの各インクをブラックマトリクスの開口
部に付与して、Ｒ，Ｇ，Ｂのマトリクスパターンを形成
した後、９０℃で５分間、引き続き２３０℃で３０分間
の熱処理を行って該インクを硬化し、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色
部からなるカラーフィルタを形成した。

【００４７】さらに、保護膜として二液型の熱硬化性樹
脂ＳＳ−６５００（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるよう
にスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を行って
硬化させた。

【００４８】このようにして作製された液晶素子用カラ
ーフィルタ基板を光学顕微鏡により観察したところ、混
色は観察されなかった。

【００４９】［実施例３］ガラス基板上に、アルカリ可
溶性のアクリル樹脂と黒色染料を混合してなる遮光性樹
脂組成物層を膜厚１μｍとなるように形成した。さら
に、側鎖にフェニル基とメチル基を有するポリシランを
膜厚０．３μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で
２０分間のプリベークを行ってポリシラン層を形成し
た。

【００５０】次いで、フォトマスクを介して、２００ｍ
Ｊ／ｃｍ² の露光量でパターン露光し、現像処理を行っ
てポリシラン層をパターニングした後、酸素プラズマで
ドライエッチングを行って遮光性樹脂組成物層の一部を
除去することにより、表面にシリコーン樹脂層の形成さ
れたブラックマトリクス基板を得た。

【００５１】次いでインクジェット記録装置を用いて、
水、メラミン樹脂、及び染料からなる熱硬化型のＲ，
Ｇ，Ｂの各インクをブラックマトリクスの開口部に付与
して、Ｒ，Ｇ，Ｂのマトリクスパターンを形成した後、
９０℃で５分間、引き続き２３０℃で３０分間の熱処理
を行って該インクを硬化し、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色部からな
るカラーフィルタを形成した。

【００５２】さらに、保護膜として二液型の熱硬化性樹
脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるよう
にスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を行って
硬化させた。

【００５３】このようにして作製された液晶素子用カラ
ーフィルタ基板を光学顕微鏡により観察したところ、混
色は観察されなかった。

【００５４】［比較例］ガラス基板上に、ブラックマト
リクス用フォトレジスト材料（新日鉄化学製）を膜厚
１．２μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で２０
分間のプリベークを行った。次いで、フォトマスクを介
して、２００ｍＪ／ｃｍ² の露光量でパターン露光し、
現像処理を行ってブラックマトリクス基板を作製した。

【００５５】次いで、インクジェット記録装置を用い
て、水、メラミン樹脂、及び染料からなる熱硬化型の
Ｒ，Ｇ，Ｂの各インクをブラックマトリクスの開口部に
付与して、Ｒ，Ｇ，Ｂのマトリクスパターンを形成した
後、９０℃で５分間、引き続き２３０℃で３０分間の熱
処理を行ってインクを硬化させ、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色部か
らなるカラーフィルタを形成した。

【００５６】さらに、保護膜として二液型の熱硬化性樹
脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍとなるよう
にスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を行って
硬化させた。

【００５７】このようにして作製された液晶素子用カラ
ーフィルタ基板を光学顕微鏡により観察したところ、混
色が観察された。

【００５８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
耐熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、且つ
混色のないカラーフィルタを安価に製造することがで
き、信頼性の高い液晶素子を安価に提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法の一実施形態を示す工程図で
ある。

【図２】本発明の液晶素子の一実施形態の断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 光透過性基板 ２ 遮光性樹脂組成物層 ３ 感光性樹脂組成物層 ４ シリコーン樹脂層 ５ ブラックマトリクス ６ インクジェットヘッド ７ａ〜７ｃ インク ８ａ〜８ｂ 着色部 ８ カラーフィルタ ９ 保護膜 １１ 光透過性基板 １２ａ，１２ｂ 電極 １３ａ，１３ｂ 配向膜 １４ 液晶化合物 １５ａ，１５ｂ 偏光板 ２０ 光

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光透過性基板上にブラックマトリクスと
   該ブラックマトリクスの開口部に位置するカラーフィル
   タを有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、光
   透過性基板上に遮光性樹脂組成物層を形成する工程と、
   上記遮光性樹脂組成物層上に、主鎖又は側鎖にシリコン
   原子を含有する可溶性シリコーン樹脂を主成分とする感
   光性樹脂組成物層を形成する工程と、上記感光性樹脂組
   成物層をフォトリソグラフィーによりパターニングして
   一部を除去する工程と、上記パターニングされた感光性
   樹脂組成物層をマスクとして上記遮光性樹脂組成物層を
   パターニングして一部を除去し、ブラックマトリクスと
   する工程と、インクジェット方式により、上記ブラック
   マトリクスの開口部にインクを付与してカラーフィルタ
   を形成する工程と、を有することを特徴とするカラーフ
   ィルタ基板の製造方法。
2. 【請求項２】 上記遮光性樹脂組成物層のパターニング
   が、パターニングされた感光性樹脂組成物層をマスクと
   して、アルカリ水溶液又は有機溶剤で処理することによ
   り行う請求項１記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
3. 【請求項３】 上記感光性樹脂組成物層のパターニング
   と遮光性樹脂組成物層のパターニングを同時に行う請求
   項１又は２記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
4. 【請求項４】 上記遮光性樹脂組成物層のパターニング
   が、パターニングされた感光性樹脂組成物層をマスクと
   して、酸素プラズマで処理することにより行う請求項１
   記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
5. 【請求項５】 上記インクが架橋成分を含有する請求項
   １記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
6. 【請求項６】 上記インクが、赤、緑、青の各色を有す
   る請求項５記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の製造方
   法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ基
   板。
8. 【請求項８】 カラーフィルタ上に保護膜を有する請求
   項７記載のカラーフィルタ基板。
9. 【請求項９】 一対の電極基板間に液晶を挟持してな
   り、一方の電極基板として請求項７又は８に記載のカラ
   ーフィルタ基板を用いたことを特徴とする液晶素子。