JPH10171111A - Water-developing photosensitive resin composition - Google Patents

Water-developing photosensitive resin composition

Info

Publication number
JPH10171111A
JPH10171111A JP33320296A JP33320296A JPH10171111A JP H10171111 A JPH10171111 A JP H10171111A JP 33320296 A JP33320296 A JP 33320296A JP 33320296 A JP33320296 A JP 33320296A JP H10171111 A JPH10171111 A JP H10171111A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
component
resin composition
water
weight ratio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33320296A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuya Nakano
克也 中野
Hiroshi Tomeba
啓 留場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP33320296A priority Critical patent/JPH10171111A/en
Publication of JPH10171111A publication Critical patent/JPH10171111A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photosensitive resin compsn. having good deveroping property with water and excellent resistance against flexographic ink, printing durability and storage stability for a long time by adding a surfactant and a specified thermoplastic elastomer having resistance against flexographic ink into a photosensitive resin compsn. SOLUTION: This compsn. contains (A) a sulfonate group-contg. polyurethane which is synthesized from (a) a diol selected from sulfonate group-contg. polyamide diols and sulfonate group-contg. polyester diols, (b) dihydroxyhydrocarbons having 400 to 4000 number average mol.wt., and (c) diisocyanate, (B) a thermoplastic polymer, (C) a surfactant, (D) an ethylene type unsatd. compd. and (E) a photopolymn. initiator. The weight ratio of the component (B) to the component (A) is 10/100 to 300/100, the weight ratio of the component (C) to the sum of components (A) and (B) is 1/100 to 10/100, and the weight ratio of the component (E) to the sum of (A) and (B) is 0.1/100 to 30/100.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はフレキソ印刷版用感
光性樹脂組成物に関するものであり、特に高温多湿時の
経時後の耐フレキソインキ性が改良された水現像性フレ
キソ印刷版用感光性樹脂組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive resin composition for a flexographic printing plate, and more particularly to a water-developable photosensitive resin for a flexographic printing plate having improved flexographic ink resistance after aging at high temperature and high humidity. It relates to a composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、感光性樹脂版材に用いられる感光
性樹脂組成物のベースポリマーとしては種々のものが知
られており、特にポリアミド系ポリマーが良く知られて
いる。このポリアミド系ポリマーとしては、かつてはア
ルコール可溶性共重合ポリアミドが主に用いられていた
が、このものはアルコールを使用するために取り扱い作
業性に問題がある上、耐防爆タイプのウオッシュアウト
装置を必要とする等の欠点があり、現在では水又は水溶
液によるウオッシュアウト可能なタイプが主流となって
いる。
2. Description of the Related Art Heretofore, various base polymers of a photosensitive resin composition used for a photosensitive resin plate material have been known, and particularly, a polyamide polymer is well known. In the past, alcohol-soluble copolymerized polyamides were mainly used as this polyamide-based polymer, but this one has problems in handling workability due to the use of alcohol, and requires an explosion-proof washout device. However, at present, the type that can be washed out with water or an aqueous solution is mainly used.

【0003】このようなタイプのポリアミドとしては、
例えばスルホン酸基を有するポリアミド(特開昭48−
68302号公報、特開昭48−72250号公報等参
照)、塩基性窒素又はアンアンモニウム塩型窒素を有す
るポリアミド(特開昭50−7605号公報、特開昭5
0−78401号公報等参照)、エーテルを有するポリ
アミド(特開昭48−42049号公報、特開昭49−
43565号公報等参照)が提案されている。しかしな
がら上記ポリアミドより得られる印刷版はフレキソイン
キ耐性に劣っている。
[0003] Polyamides of this type include:
For example, a polyamide having a sulfonic acid group (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 68302, JP-A-48-72250, etc.) and polyamides having basic nitrogen or ammonium salt-type nitrogen (JP-A-50-7605, JP-A-5-7605)
0-78401, etc.), and polyamides having ethers (JP-A-48-42049, JP-A-49-49149).
43565). However, printing plates obtained from the above polyamides are inferior in flexographic ink resistance.

【0004】また、ゴム版にかわるゴム弾性体として位
置づけられる、熱可塑性エラストマーをベースポリマー
としたフレキソ印刷用感光性樹脂版についても種々のも
のが知られているが、そのうち工業化されているものは
塩素系溶剤現像タイプが主体である。このような塩素系
溶剤現像タイプは健康障害や環境汚染等の問題があるた
め、水又は水系現像液で現像可能な感光性エラストマー
組成物の研究が行なわれており、これまでいくつかの感
光性エラストマー組成物(特公昭59−29849号公
報、特公昭58−33884号公報等参照)が提案され
ている。しかしながら、これらの組成物は耐インキ性等
に問題を有しているため、まだ工業化されていないのが
実情である。
Various types of photosensitive resin plates for flexographic printing using a thermoplastic elastomer as a base polymer, which are positioned as a rubber elastic body in place of a rubber plate, are also known. Mainly chlorine-based solvent development type. Since such a chlorine-based solvent developing type has problems such as health hazards and environmental pollution, research has been conducted on photosensitive elastomer compositions that can be developed with water or an aqueous developing solution. Elastomer compositions (see JP-B-59-29849, JP-B-58-33884, etc.) have been proposed. However, these compositions have a problem in ink resistance and the like, and have not been industrialized yet.

【0005】他方、水ウオッシュアウト性が良好であ
り、柔軟でかつ強靭なレリーフを与えるものとして、ポ
リエーテルセグメントをポリアミド鎖に導入した共重合
アミド、例えば、末端にアミノ基又はカルボキシル基を
有するポリオキシエチレンと、脂肪族ジカルボン酸又は
ジアミンとから成る構成単位を有する共重合ポリアミド
(特公昭57−18173号公報、特公昭57−487
1号公報等参照)や、ラクタム又はナイロン塩とポリオ
キシアルキレングリコールとジカルボン酸とから成るポ
リエーテルエステルアミド(特開昭58−117537
号公報、特開昭60−14232号公報等参照)等が提
案されている。
On the other hand, a copolymer amide having a polyether segment introduced into a polyamide chain, for example, a polymer having an amino group or a carboxyl group at a terminal, is provided as a material having a good water washout property and giving a soft and tough relief. Copolyamide having a structural unit composed of oxyethylene and an aliphatic dicarboxylic acid or diamine (JP-B-57-18173, JP-B-57-487)
No. 1) or a polyetheresteramide comprising a lactam or nylon salt, a polyoxyalkylene glycol and a dicarboxylic acid (JP-A-58-11737).
And JP-A-60-14232).

【0006】また、さらに水ウオッシュアウト性を良好
にするために、スルホン酸基含有ポリアミドとポリオキ
シアルキレングリコールとジカルボン酸とから成るポリ
エーテルエステルアミド(特開昭60−8322号公
報、特開昭61−162524号公報等参照)や、塩基
性窒素を有するポリアミドとポリオキシアルキレングリ
コールとジカルボン酸とから成るポリエーテルエステル
アミド(特開昭59−221327号公報、特公平2−
372号公報等参照)が提案されている。しかしなが
ら、これらのポリアミド共重合体から得られるフレキソ
印刷版も耐フレキソインキ性に劣っている。
Further, in order to further improve water washout properties, polyetheresteramides comprising a sulfonic acid group-containing polyamide, a polyoxyalkylene glycol and a dicarboxylic acid (JP-A-60-8322, JP-A-60-8322) No. 61-162524), and a polyetheresteramide comprising a polyamide having a basic nitrogen, a polyoxyalkylene glycol and a dicarboxylic acid (JP-A-59-221327;
372). However, flexographic printing plates obtained from these polyamide copolymers also have poor flexographic ink resistance.

【0007】これらの問題点に対して、特開平3−20
6456号公報では、水現像性を有し、しかも柔軟性、
耐フレキソインキ性に優れたフレキソ印刷用感光性樹脂
組成物として、新規なスルホン酸基含有ポリウレタンを
ベースポリマーとして含有する感光性樹脂組成物が提案
されている。しかしながら、このスルホン酸基含有ポリ
ウレタン含有感光性樹脂組成物の版は、長時間・高温・
多湿の条件で保管すると物性が低下して、印刷すると破
損し易くなるということが判ってきたため、この技術に
関してさらなる改良が望まれていた。
To solve these problems, Japanese Patent Laid-Open Publication No.
No. 6456 discloses water developability, and flexibility.
As a photosensitive resin composition for flexographic printing having excellent flexographic ink resistance, a photosensitive resin composition containing a novel sulfonic acid group-containing polyurethane as a base polymer has been proposed. However, the plate of the sulfonic acid group-containing polyurethane-containing photosensitive resin composition requires a long time, a high temperature,
It has been found that when stored under humid conditions, the physical properties are reduced, and when printed, the paper is liable to be damaged. Therefore, further improvements in this technology have been desired.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、スル
ホン酸基含有ポリウレタンをベースポリマーとする水現
像性が良好で耐フレキソインキ性・耐刷性・長時間保管
安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供することであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photopolymer having excellent water developability and excellent flexographic ink resistance, printing durability and long-term storage stability using a sulfonic acid group-containing polyurethane as a base polymer. It is to provide a resin composition.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題を
達成するために鋭意研究を重ねた結果、特開平3−20
6456号公報で提案された感光性樹脂組成物に耐フレ
キソインキ性を有する熱可塑性エラストマー及び界面活
性剤を添加することにより本件課題が達成される事を見
出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above-mentioned object, and as a result, have found that Japanese Patent Laid-Open No.
The present inventors have found that the object can be achieved by adding a thermoplastic elastomer having flexographic ink resistance and a surfactant to the photosensitive resin composition proposed in Japanese Patent No. 6456, and completed the present invention.

【0010】すなわち、本発明は、(A)(a)スルホ
ン酸基含有ポリアミドジオールとスルホン酸基含有ポリ
エステルジオールとから成る群から選ばれた少なくとも
一種のジオール、(b)数平均分子量が400〜4,0
00のジヒドロキシ炭化水素、及び(c)ジイソシアナ
ートから合成されたスルホン酸基含有ポリウレタン、
(B)熱可塑性ポリマー、(C)界面活性剤、(D)エ
チレン性不飽和化合物、(E)光重合開始剤を含む感光
性樹脂組成物であり、上記(A)成分に対する上記
(B)成分の重量比が10/100〜300/100、
上記(A)及び(B)成分の合計量に対する上記(C)
成分の重量比が0.1/100〜10/100、上記
(A)及び(B)成分の合計量に対する上記(D)成分
の重量比が5/100〜200/100、上記(A)及
び(B)成分の合計量に対する上記(E)成分の重量比
が0.1/100〜30/100の範囲であることを特
徴とする印刷版用感光性樹脂組成物である。
That is, the present invention relates to (A) (a) at least one diol selected from the group consisting of a sulfonic acid group-containing polyamide diol and a sulfonic acid group-containing polyester diol, and (b) a number average molecular weight of 400 to 4,0
(C) a sulfonic acid group-containing polyurethane synthesized from a dihydroxy hydrocarbon and (c) a diisocyanate;
A photosensitive resin composition comprising (B) a thermoplastic polymer, (C) a surfactant, (D) an ethylenically unsaturated compound, and (E) a photopolymerization initiator. The weight ratio of the components is 10/100 to 300/100,
The above (C) with respect to the total amount of the above components (A) and (B)
The weight ratio of the components is 0.1 / 100 to 10/100, the weight ratio of the component (D) to the total amount of the components (A) and (B) is 5/100 to 200/100, A photosensitive resin composition for a printing plate, wherein the weight ratio of the component (E) to the total amount of the component (B) is in the range of 0.1 / 100 to 30/100.

【0011】本発明者らは、上記の印刷版用感光性樹脂
組成物を用いることにより、高温多湿下での水膨潤後の
強伸度物性が向上するとともに、界面活性剤が水現像性
の向上に著しい効果を発揮し、かつ、スルホン酸基含有
ポリウレタンと熱可塑性ポリマーとエチレン性不飽和化
合物等との相溶性の向上にも効果を発揮することを見出
し、本発明を完成させるに至ったものである。
The present inventors have found that the use of the above-described photosensitive resin composition for a printing plate improves the strength and elongation properties after water swelling under high temperature and high humidity, and makes the surfactant water-developable. The present invention has been found to exert a remarkable effect on the improvement, and also exert an effect on the improvement of the compatibility between the sulfonic acid group-containing polyurethane, the thermoplastic polymer, the ethylenically unsaturated compound, and the like, and have completed the present invention. Things.

【0012】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
組成物における成分(A)[以下、(A)成分という]
の原料成分(a)の一つであるスルホン酸基含有ポリア
ミドジオールとしては、例えばポリアミド形成単量体
(1)とジカルボン酸又はその誘導体(2)とから合成
したポリアミドジカルボン酸とジオール成分(3)とし
て炭素数2〜4のアルキレングリコール及び数平均分子
量400未満のポリオキシアルキレングリコールの中か
ら選ばれた少なくとも一種のジオールとから合成された
ポリアミドジオールを挙げることができる。上記(1)
及び(2)で使用するジカルボン酸又はその誘導体の一
部又は全部が分子内にスルホン酸基を含有するジカルボ
ン酸又はその誘導体であることが必要である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. Component (A) in the composition of the present invention [hereinafter, referred to as component (A)]
As the sulfonic acid group-containing polyamide diol which is one of the raw material components (a), for example, a polyamide dicarboxylic acid synthesized from a polyamide-forming monomer (1) and a dicarboxylic acid or a derivative thereof (2) and a diol component (3) Examples of the above include polyamide diols synthesized from alkylene glycols having 2 to 4 carbon atoms and at least one diol selected from polyoxyalkylene glycols having a number average molecular weight of less than 400. The above (1)
It is necessary that a part or all of the dicarboxylic acid or a derivative thereof used in (2) is a dicarboxylic acid or a derivative thereof containing a sulfonic acid group in a molecule.

【0013】上記(1)のポリアミド形成単量体として
は、炭素数6以上のアミノカルボン酸、もしくはラクタ
ム又は炭素数6以上のジカルボン酸とジアミンの等モル
塩等、例えばω−アミノカプロン酸、11−アミノウン
デカン酸、12−アミノドデカン酸等のアミノカルボン
酸、カプロラクタム、ラウロラクタム、ヘキサメチレン
ジアミン−アジピン酸塩、ヘキサメチレンジアミン−セ
バシン酸塩、ヘキサメチレンジアミン−イソフタル酸
塩、ウンデカメチレンジアミン−アジピン酸塩、ウンデ
カメチレンジアミン−1,4−シクロヘキサンジカルボ
ン酸塩、ウンデカメチレンジアミン−イソフタル酸塩等
のジアミン−ジカルボン酸塩を単独又は併用して用いる
ことができる。
Examples of the polyamide-forming monomer (1) include aminocarboxylic acids having 6 or more carbon atoms, or lactams or equimolar salts of dicarboxylic acids having 6 or more carbon atoms with diamines, such as ω-aminocaproic acid, 11 -Aminocarboxylic acids such as aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid, caprolactam, laurolactam, hexamethylenediamine-adipate, hexamethylenediamine-sebacate, hexamethylenediamine-isophthalate, undecamethylenediamine- Diamine-dicarboxylates such as adipate, undecamethylenediamine-1,4-cyclohexanedicarboxylate, and undecamethylenediamine-isophthalate can be used alone or in combination.

【0014】また、原料成分(a)のもう1つであるス
ルホン酸基含有ポリエステルジオールとしては、例えば
ジカルボン酸及びその誘導体(2)と、ジオール成分と
して炭素数2〜4のアルキレングリコール及び数平均分
子量400未満のポリオキシアルキレングリコールの中
から選ばれた少なくとも一種のジオール(3)とから合
成されたポリエステルジオールで、ジカルボン酸及びそ
の誘導体(2)の一部又は全部が分子内にスルホン酸基
を含有するジカルボン酸及びその誘導体であるものが用
いられる。
The sulfonic acid group-containing polyester diol as another raw material component (a) includes, for example, dicarboxylic acid and its derivative (2), and a diol component of alkylene glycol having 2 to 4 carbon atoms and a number average molecular weight. A polyester diol synthesized from at least one diol (3) selected from polyoxyalkylene glycols having a molecular weight of less than 400, wherein a part or all of dicarboxylic acid and its derivative (2) are sulfonic acid groups in the molecule. And a dicarboxylic acid and a derivative thereof.

【0015】(2)の分子内にスルホン酸基を含有する
ジカルボン酸誘導体としては、例えば2,5−あるいは
3,5−ジカルボキシベンゼンスルホン酸及びそのアル
カリ金属塩、2,5−あるいは3,5−ジカルボキシメ
チルベンゼンスルホン酸及びそのアルカリ金属塩、2,
5−あるいは3,5−ジカルボメトキシベンゼンスルホ
ン酸及びそのアルカリ金属塩、2,5−あるいは3,5
−ジカルボメトキシメチルベンゼンスルホン酸及びその
アルカリ金属塩、α−スルホコハク酸及びそのアルカリ
金属塩、α−スルホコハク酸ジメチルエステル及びその
アルカリ金属塩、β−スルホアジピン酸及びそのアルカ
リ金属塩、β−スルホアジピン酸ジメチルエステル及び
そのアルカリ金属塩等があげられる。
As the dicarboxylic acid derivative having a sulfonic acid group in the molecule of (2), for example, 2,5- or 3,5-dicarboxybenzenesulfonic acid and its alkali metal salt, 2,5- or 3,3 5-dicarboxymethylbenzenesulfonic acid and its alkali metal salt, 2,
5- or 3,5-dicarbomethoxybenzenesulfonic acid and its alkali metal salt, 2,5- or 3,5
-Dicarbomethoxymethylbenzenesulfonic acid and its alkali metal salt, α-sulfosuccinic acid and its alkali metal salt, α-sulfosuccinic acid dimethyl ester and its alkali metal salt, β-sulfoadipic acid and its alkali metal salt, β-sulfo And adipic acid dimethyl ester and its alkali metal salts.

【0016】ジカルボン酸またはその誘導体に含まれる
スルホン酸基の数は、ポリマー分子量1,000当り
0.05以上が好ましいが、更に好ましくはポリマー分
子量1,000当り0.1〜2の範囲である。スルホン
酸基の数がポリマー分子量1,000当り0.1未満の
場合は、親水性が不足する傾向にある。一方、スルホン
酸基の数がポリマー分子量1,000当り2を超える場
合は、高物性ポリマーの合成が困難となる傾向があり好
ましくない。
The number of sulfonic acid groups contained in the dicarboxylic acid or the derivative thereof is preferably 0.05 or more per 1,000 molecular weight of the polymer, more preferably 0.1 to 2 per 1,000 molecular weight of the polymer. . When the number of sulfonic acid groups is less than 0.1 per 1,000 molecular weight of the polymer, the hydrophilicity tends to be insufficient. On the other hand, when the number of sulfonic acid groups exceeds 2 per 1,000 in the molecular weight of the polymer, the synthesis of a polymer having high physical properties tends to be difficult, which is not preferable.

【0017】本発明の組成物における成分(A)の原料
成分(b)としては数平均分子量が400〜4,000
のジヒドロキシ炭化水素が用いられる。ここで数平均分
子量は、無水酢酸とピリジンの混合溶媒を用いる水酸基
価定量法により求めることができる。このようなジヒド
ロキシ炭化水素の具体例としては、オレフィンやジオレ
フィン等を単独又は共重合するか、又は他のモノマーと
共重合して、末端を水酸基化したもの、あるいはこのも
のの二重結合を水添したもの等が挙げられる。例えば、
ポリブタジエンジオール、水添ポリブタジエンジオー
ル、ポリイソプレンジオール、水添ポリイソプレンジオ
ール等である。これらのジヒドロキシ炭化水素類は、一
種用いてもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよ
い。
The raw material component (b) of the component (A) in the composition of the present invention has a number average molecular weight of 400 to 4,000.
Are used. Here, the number average molecular weight can be determined by a hydroxyl value determination method using a mixed solvent of acetic anhydride and pyridine. Specific examples of such dihydroxy hydrocarbons include olefins, diolefins, and the like, homopolymerized or copolymerized, or copolymerized with other monomers to form a hydroxyl group at the terminal, or to form a double bond of this compound with hydroxyl. And the like. For example,
Polybutadiene diol, hydrogenated polybutadiene diol, polyisoprene diol, hydrogenated polyisoprene diol and the like. These dihydroxy hydrocarbons may be used alone or in combination of two or more.

【0018】また、水又は水溶液によるウォッシュアウ
トを有利にするために、原料成分(b)にポリエチレン
グリコールを組み合わせて用いることも可能である。但
し、その含有量としては、耐フレキソインキ性を損なわ
ない程度にすることが好ましい。一般に、ポリエチレン
グリコールは、(b)成分の30重量%までの範囲で用
いることができる。
Further, in order to favor washout with water or an aqueous solution, it is also possible to use polyethylene glycol in combination with the raw material component (b). However, it is preferable that the content is such that the resistance to flexographic ink is not impaired. Generally, polyethylene glycol can be used in a range of up to 30% by weight of the component (b).

【0019】また、鎖延長剤を用いることも可能であ
り、鎖延長剤としては例えばジオール類(エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、1,4−ブタンジオール、ハイドロキノンジエチロ
ールエーテル等)を挙げることができる。ジヒドロキシ
炭化水素の数平均分子量が400未満では印刷版として
必要な弾性や柔軟性が得られにくいし、4,000を超
えると反応点が少なくなり、高分子量化しにくくなる傾
向がみられる。好ましいジヒドロキシ炭化水素の数平均
分子量は1,000〜3,500の範囲である。
It is also possible to use a chain extender. Examples of the chain extender include diols (such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,4-butanediol, and hydroquinone diethylol ether). Can be. If the number average molecular weight of the dihydroxy hydrocarbon is less than 400, it is difficult to obtain the required elasticity and flexibility as a printing plate, and if it exceeds 4,000, the number of reaction points tends to be small, and it tends to be difficult to increase the molecular weight. The number average molecular weight of the preferred dihydroxy hydrocarbon ranges from 1,000 to 3,500.

【0020】印刷版のゴム弾性及び耐フレキソインキ性
は、ジヒドロキシ炭化水素をソフトセグメントを使用す
ることにより達成される。本発明の組成物における成分
(A)の原料成分(a)と原料成分(b)は、(a)/
(b)=1/20〜2/1の量比で反応させることが好
ましく、その量比が2/1より大きいと得られたポリマ
ーは融点が高くなり、成形が困難になったり、柔軟性が
失われるために、印刷版用感光性樹脂版材としての使用
が難しく、1/20より小さいと得られたポリマーは低
強度となり、印刷版用感光性樹脂版材としての使用が難
しくなる。従って、好ましい(a)/(b)の量比は1
/10〜1/1の範囲で選ばれる。
The rubber elasticity and the flexographic ink resistance of the printing plate are achieved by using dihydroxy hydrocarbon as a soft segment. The raw material component (a) and the raw material component (b) of the component (A) in the composition of the present invention are (a) /
(B) It is preferable to carry out the reaction in a ratio of 1/20 to 2/1, and if the ratio is larger than 2/1, the obtained polymer has a high melting point, making molding difficult and / or flexibility. , It is difficult to use as a photosensitive resin plate material for a printing plate, and if it is smaller than 1/20, the obtained polymer has low strength, and it is difficult to use the polymer as a photosensitive resin plate material for a printing plate. Therefore, the preferable ratio of (a) / (b) is 1
/ 10 to 1/1.

【0021】本発明の組成物における成分(A)の原料
成分(c)のジイソシアナート化合物は、遊離型のもの
であってもよいし、マスクされたものであってもよい。
遊離型のジイソシアナート化合物としては、例えば2,
4−あるいは2,6−トリレンジイソシアナート、ジフ
ェニルメタン−4,4’−ジイソシアナート、ヘキサメ
チレンジイソシアナート、ナフチレン−1,5−ジイソ
シアナート、キシリレンジイソシアナート、イソホロン
ジイソシアナート、ジシクロヘキシルイソシアナート、
水添化キシリレンジイソシアナート、水添化ジフェニル
メタン−4,4’−ジイソシアナート、m−あるいはp
−テトラメチルキシリレンジイソシアナート等が挙げら
れる。
The diisocyanate compound as the raw material component (c) of the component (A) in the composition of the present invention may be a free type or a masked one.
Examples of the free diisocyanate compound include, for example, 2,
4- or 2,6-tolylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, naphthylene-1,5-diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexyl Isocyanate,
Hydrogenated xylylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, m- or p
-Tetramethylxylylene diisocyanate and the like.

【0022】また、マスクされたジイソシアナート化合
物としては、例えばラクタム、フェノール、低級アルコ
ール等でマスクされた前記ジイソシアナート化合物が挙
げられるが、これらの中で特にカプロラクタムでマスク
されたジイソシアナート化合物を挙げることができる。
これらのジイソシアナート化合物は、1種用いてもよい
し、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the masked diisocyanate compound include, for example, the above-mentioned diisocyanate compounds masked with lactam, phenol, lower alcohol, etc. Among them, diisocyanate masked with caprolactam is particularly preferable. Compounds can be mentioned.
These diisocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0023】本発明において、(a)成分[スルホン酸
基含有ポリアミドジオール又はスルホン酸基含有ポリエ
ステルジオール]の水酸基と(b)成分[ジヒドロキシ
炭化水素]の水酸基の合計量に対する、前記(c)成分
[ジイソシアナート化合物]のイソシアナート基のモル
比(以下、NCO/OH比と称する)が、0.60〜
1.30になるような割合で、反応させることが好まし
い。この反応により、低粘度のポリアミドジオールやポ
リエステルジオール、ジヒドロキシ炭化水素及びジイソ
シアナートは急速に高分子量化し、高親水性であり、フ
レキソ印刷版製造に用いる感光性樹脂組成物のベースポ
リマーに要求される高機械的強度、高耐熱性、低永久引
張歪、低硬度を併せ有し、エチレン性不飽和化合物との
相溶性に優れたポリウレタンが得られる。このNCO/
OH比が0.60未満では高重合体とならず、高強度の
エラストマーが得られ難いし、また、1.30を超える
とウレタン部にジイソシアナートの架橋が多く起こり、
目的とする感光性樹脂組成物を均一に混練することが難
しくなる傾向が生じる。また、ポリウレタンの機械的特
性や感光性樹脂組成物の均一性等の観点から、このNC
O/OH比は、0.70〜1.10の範囲で選ばれるこ
とがさらに好ましい。
In the present invention, the component (c) based on the total amount of the hydroxyl groups of the component (a) [polyamide diol containing a sulfonic acid group or the polyester diol containing a sulfonic acid group] and the hydroxyl group of the component [b] (dihydroxy hydrocarbon). The molar ratio of the isocyanate groups of the [diisocyanate compound] (hereinafter referred to as NCO / OH ratio) is 0.60 to
The reaction is preferably performed at a ratio of 1.30. By this reaction, low-viscosity polyamide diols and polyester diols, dihydroxy hydrocarbons and diisocyanates rapidly increase in molecular weight, are highly hydrophilic, and are required as base polymers for photosensitive resin compositions used in flexographic printing plate production. Polyurethane having high mechanical strength, high heat resistance, low permanent tensile strain and low hardness, and having excellent compatibility with ethylenically unsaturated compounds can be obtained. This NCO /
If the OH ratio is less than 0.60, it does not become a high polymer, and it is difficult to obtain a high-strength elastomer, and if it exceeds 1.30, a large amount of diisocyanate crosslinking occurs in the urethane portion,
There is a tendency that it becomes difficult to uniformly knead the desired photosensitive resin composition. Further, from the viewpoints of the mechanical properties of the polyurethane and the uniformity of the photosensitive resin composition, the NC
More preferably, the O / OH ratio is selected in the range of 0.70 to 1.10.

【0024】ウレタン化反応は、通常100〜270℃
の範囲の温度で行なわれる。この温度が100℃未満で
はスルホン酸基含有ポリアミドジオールやスルホン酸基
含有ポリエステルジオールが溶融しにくいことがあり、
また、溶融しても十分に高分子量体となる前に、溶融粘
度が高くなってかきまぜがし難くなり、一方、この温度
が270℃を超えるとウレタン結合の分解が起こりやす
く、重合のコントロールが困難となる上、熱劣化が起こ
る場合がある。さらに、この反応を円滑に進行させるた
めには、ジイソシアナート化合物を反応させる前に、ポ
リアミドジオールやポリエステルジオール中の水分を除
去しておくのが望ましい。
The urethanization reaction is usually performed at 100 to 270 ° C.
At a temperature in the range of If the temperature is less than 100 ° C., the sulfonic acid group-containing polyamide diol and the sulfonic acid group-containing polyester diol may not be easily melted,
In addition, even before melting, before the polymer becomes sufficiently high molecular weight, the melt viscosity becomes high and it becomes difficult to stir. On the other hand, when this temperature exceeds 270 ° C., the urethane bond is easily decomposed, and the polymerization is controlled. In addition to the difficulty, thermal degradation may occur. Furthermore, in order for this reaction to proceed smoothly, it is desirable to remove water in the polyamide diol or polyester diol before reacting the diisocyanate compound.

【0025】また、このウレタン反応において、溶媒を
使用することも可能である。この溶媒は反応原料である
ポリアミドジオールやポリエステルジオール、ジヒドロ
キシ炭化水素、ジイソシアナート化合物を溶解又は分散
させることができ、かつ、ジイソシアナート化合物と反
応しないものであればよく、例えば、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアクリルアミド等の高極性溶媒、芳香族系溶
媒、高沸石油系溶媒及びこれらの混合溶媒等が挙げられ
る。溶媒は通常、生成ポリウレタン濃度が5〜80重量
%となるような量で用いられる。
In this urethane reaction, it is also possible to use a solvent. The solvent may be any one capable of dissolving or dispersing the reaction materials such as polyamide diol and polyester diol, dihydroxy hydrocarbon, and diisocyanate compound, and not reacting with the diisocyanate compound. Pyrrolidone, dimethylsulfoxide, dimethylformamide,
Examples thereof include highly polar solvents such as dimethylacrylamide, aromatic solvents, high-boiling petroleum solvents, and mixed solvents thereof. The solvent is usually used in an amount such that the concentration of the produced polyurethane is 5 to 80% by weight.

【0026】ウレタン化反応は前記のような溶媒を使用
することにより、20〜150℃の温度でも容易に行な
うことができ、しかも、反応のコントロールが容易とな
る。また、必要に応じてアミン触媒や有機金属触媒等の
公知のウレタン化触媒を使用することもできる。このよ
うにして得られたスルホン酸基含有ポリアミドウレタン
やスルホン酸基含有ポリエステルウレタンは、末端に水
酸基を有するポリアミドジオールやポリエステルジオー
ルとジヒドロキシ炭化水素とが、ジイソシアネート化合
物で鎖延長されることにより、高分子量化したエラスト
マーとなるものである。ポリアミドジオールやポリエス
テルジオールの混合物を用いた場合は、ポリアミドエス
テルウレタンが得られる。
The urethanization reaction can be easily carried out even at a temperature of 20 to 150 ° C. by using the above-mentioned solvent, and the control of the reaction becomes easy. Further, a known urethanization catalyst such as an amine catalyst or an organic metal catalyst can be used as needed. The sulfonic acid group-containing polyamide urethane and sulfonic acid group-containing polyester urethane obtained in this manner have a high degree of chain extension of a polyamide diol or polyester diol having a hydroxyl group at a terminal and a dihydroxy hydrocarbon with a diisocyanate compound. It is an elastomer having a molecular weight. When a mixture of polyamide diol and polyester diol is used, polyamide ester urethane is obtained.

【0027】この親水性ポリウレタンにおいては、ポリ
アミドジオール由来のセグメント及びポリエステルジオ
ール由来のセグメントがハードセグメントとして、ジヒ
ドロキシ炭化水素由来のセグメントがソフトセグメント
としての性質を持つため、ジイソシアナート化合物で鎖
延長されることにより、優れた弾性を有する軟質強靭な
エラストマーとなり、これをベースポリマーとして用い
た後述する感光性樹脂組成物から得られるフレキソ印刷
版は、耐フレキソインキ性を有する機械的性質の優れた
ものとなる。
In this hydrophilic polyurethane, segments derived from polyamide diol and segments derived from polyester diol have properties as hard segments, and segments derived from dihydroxy hydrocarbons have properties as soft segments. Therefore, the chain is extended with a diisocyanate compound. By doing so, it becomes a soft tough elastomer having excellent elasticity, and a flexographic printing plate obtained from a photosensitive resin composition described below using this as a base polymer has excellent mechanical properties having flexographic ink resistance. Becomes

【0028】本発明の組成物における(A)成分のスル
ホン酸基含有ポリウレタンの分子量としては、小さすぎ
ると得られるフレキソ印刷版の機械的物性が小さくなり
好ましくない。また、この分子量が大きすぎると、均一
混練性、水現像性が悪くなり好ましくない。一般的に
は、数平均分子量として5000〜50万、好ましく
は、1万〜20万のスルホン酸基含有ポリウレタンが用
いられる。
If the molecular weight of the sulfonic acid group-containing polyurethane of the component (A) in the composition of the present invention is too small, the mechanical properties of the resulting flexographic printing plate become undesirably small. On the other hand, if the molecular weight is too large, the uniform kneading property and the water developability deteriorate, which is not preferable. Generally, a sulfonic acid group-containing polyurethane having a number average molecular weight of 5,000 to 500,000, preferably 10,000 to 200,000 is used.

【0029】スルホン酸基含有ポリウレタンの安定性を
高めるために、各種の耐熱老化防止剤、酸化防止剤等の
安定剤を用いることができ、これらは重合の初期、中
期、末期のどの段階で添加しても良いし、重合後に添加
してもよい。耐熱安定剤としては、例えばN,N’−ヘ
キサメチレン−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシケイ皮酸アミド)、4,4’−ビス(2,6−
ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス
(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)等の各種ヒ
ンダートフェノール類、N,N’−ビス(β−ナフチ
ル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル
−p−フェニレンジアミン、ポリ(2,2,4−トリメ
チル−1,2−ジヒドロキノリン)等の芳香族アミン
類、塩化銅、ヨウ化銅等の銅塩、ジラウリルチオジプロ
ピオネート等のイオウ化合物やリン化合物等が挙げられ
る。
In order to enhance the stability of the sulfonic acid group-containing polyurethane, various stabilizers such as a heat aging inhibitor and an antioxidant can be used. These stabilizers are added at any stage of the initial stage, middle stage and final stage of polymerization. And may be added after polymerization. Examples of the heat stabilizer include N, N'-hexamethylene-bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxycinnamic acid amide) and 4,4'-bis (2,6-
Various hindered phenols such as di-t-butylphenol) and 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol), N, N′-bis (β-naphthyl) -p-phenylenediamine, N , N'-diphenyl-p-phenylenediamine, aromatic amines such as poly (2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline), copper salts such as copper chloride and copper iodide, dilauryl thiodipro Examples thereof include a sulfur compound such as a pionate and a phosphorus compound.

【0030】これらの安定剤は、感光性樹脂組成物にお
いて熱重合禁止剤又は遅延剤として作用し、貯蔵安定剤
としても役立つ。本発明の組成物における成分(B)
[以下、(B)成分という]の熱可塑性ポリマーとして
は耐フレキソインキ性を有することが必要であり、例え
ばスチレン・ブタジエンブロックコポリマー、スチレン
・イソプレンブロックコポリマー、スチレン・エチレン
/ブチレンブロックコポリマー、プロピレン・エチレン
/プロピレンブロックコポリマー、ポリウレタン系熱可
塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマ
ー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、塩化ビニル系
熱可塑性エラストマー、イソプレンゴム、ブタジエンゴ
ム、スチレン・ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ニ
トリルゴム、ブチルゴム、アクリルゴム、エピクロルヒ
ドリンゴム等が使用でき、これらを2種類以上混合して
使用することもできる。
These stabilizers act as thermal polymerization inhibitors or retarders in the photosensitive resin composition, and also serve as storage stabilizers. Component (B) in the composition of the present invention
The thermoplastic polymer [hereinafter referred to as “component (B)”] needs to have flexographic ink resistance. For example, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, styrene-ethylene / butylene block copolymer, propylene- Ethylene / propylene block copolymer, polyurethane thermoplastic elastomer, polyester thermoplastic elastomer, polyamide thermoplastic elastomer, vinyl chloride thermoplastic elastomer, isoprene rubber, butadiene rubber, styrene / butadiene rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, butyl rubber, Acrylic rubber, epichlorohydrin rubber and the like can be used, and two or more of these can be used in combination.

【0031】これらの熱可塑性ポリマーの分子量は、小
さすぎると物性低下の抑止効果が小さくなり、大きすぎ
ると、均一混練性、水現像性が悪くなるので、適切な分
子量を選択することが好ましい。一般的に数平均分子量
として1万〜100万、好ましくは2万〜50万の分子
量の熱可塑性ポリマーが選択できる。この(B)成分の
重量比が(A)成分に対し10/100未満であると、
物性低下を抑える効果が小さくなり好ましくない。ま
た、300/100を超えると、水現像性が低下して好
ましくない。
If the molecular weight of these thermoplastic polymers is too small, the effect of suppressing deterioration in physical properties is reduced, and if the molecular weight is too large, uniform kneading properties and water developability deteriorate. Therefore, it is preferable to select an appropriate molecular weight. In general, a thermoplastic polymer having a number average molecular weight of 10,000 to 1,000,000, preferably 20,000 to 500,000 can be selected. When the weight ratio of the component (B) is less than 10/100 with respect to the component (A),
The effect of suppressing a decrease in physical properties is reduced, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 300/100, the water developability is undesirably reduced.

【0032】本発明に用いられる(C)界面活性剤[以
下(C)成分という]としては、アニオン界面活性剤、
ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活
性剤を用いることができる。例えば高級脂肪酸塩、高級
アルコール硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸
エステル塩、硫酸化油、硫酸化脂肪酸エステル、硫酸化
オレフィン、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル
ナフタレンスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩、α
−オレフィンスルホン酸塩、フェニルエーテルスルホン
酸塩、スルホコハク酸塩、高級アルコールリン酸エステ
ル塩、アルキルフェノール、高級アルコール、ポリアル
キレングリコール、アルキロールアミド、脂肪酸エステ
ル、アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、アルキ
ルジアミンエチレンオキサイド付加物、アルキルアミド
エチレンオキサイド付加物、アルキルアミンオキサイ
ド、高級アルキルアミン塩、高級アルキルアミン・エチ
レンオキサイド付加物、イミダゾリン型カチオン界面活
性剤、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキルジ
メチルベンジルアンモニウム塩、エチレンオキサイド付
加型アンモニウム塩、アミノ酸型両性界面活性剤、ベタ
イン型両性界面活性剤等が使用できる。これらの中で相
溶性、水現像効果の観点から、ノニオン界面活性剤、ア
ニオン界面活性剤が好ましく、アニオン界面活性剤が特
に好ましい。これらの界面活性剤の添加量は、水現像
性、相溶性、インキ溶剤の膨潤性等で適宜決められる。
この添加量が少なすぎると、水現像性が悪くなり、多す
ぎると、相溶性、溶剤膨潤性の面で性能が悪くなる。一
般的に(A)成分及び(B)成分の合計量に対し0.1
/100〜10/100、好ましくは0.2/100〜
5/100の割合で(C)成分が添加される。
The surfactant (C) used in the present invention (hereinafter referred to as “component (C)”) includes an anionic surfactant,
Nonionic surfactants, cationic surfactants, and amphoteric surfactants can be used. For example, higher fatty acid salts, higher alcohol sulfates, higher alkyl ether sulfates, sulfated oils, sulfated fatty acid esters, sulfated olefins, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, paraffin sulfonates, α
-Olefin sulfonate, phenyl ether sulfonate, sulfosuccinate, higher alcohol phosphate ester salt, alkylphenol, higher alcohol, polyalkylene glycol, alkylolamide, fatty acid ester, alkylamine ethylene oxide adduct, alkyldiamine ethylene oxide Adducts, alkylamide ethylene oxide adducts, alkylamine oxides, higher alkylamine salts, higher alkylamine / ethylene oxide adducts, imidazoline-type cationic surfactants, alkyltrimethylammonium salts, alkyldimethylbenzylammonium salts, ethylene oxide addition types Ammonium salts, amino acid type amphoteric surfactants, betaine type amphoteric surfactants and the like can be used. Among these, nonionic surfactants and anionic surfactants are preferred, and anionic surfactants are particularly preferred, from the viewpoints of compatibility and water developing effect. The amount of these surfactants to be added is appropriately determined depending on the water developability, compatibility, swelling of the ink solvent, and the like.
If the amount is too small, the water developability will be poor, and if it is too large, the performance will be poor in terms of compatibility and solvent swellability. Generally, 0.1 to the total amount of the components (A) and (B).
/ 100 to 10/100, preferably 0.2 / 100 to
The component (C) is added at a ratio of 5/100.

【0033】本発明の感光性樹脂組成物に用いる(D)
エチレン性不飽和化合物〔以下(D)成分という〕とし
ては、公知の各種エチレン性不飽和モノマーやエチレン
性不飽和プレポリマーを用いることができる。エチレン
性不飽和モノマーの具体例としては、アクリル酸やメタ
クリル酸等の不飽和カルボン酸及びそのエステル類、例
えばアルキル−、シクロアルキル−、ハロゲン化アルキ
ル−、アルコキシアルキル−、ヒドロキシアルキル−、
アミノアルキル−、テトラヒドロフルフリル−、アリル
−、グリシジル−、ベンジル−、フェノキシ−アクリレ
ート又はメタクリレート、アルキレングリコールジアク
リレート又はメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート又はメタクリレート、グリセリントリ
アクリレート又はメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート又はメタクリレート等やアクリル
アミド、メタクリルアミド及びその誘導体、例えば、ア
ルキル基やヒドロキシアルキル基でN−置換又はN,N
´−置換したアクリルアミド又はメタクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミド又はメタクリルアミド、N,N
´−アルキレンビスアクリルアミド又はメタクリルアミ
ド等やアリル化合物、例えばアリルアルコール、アリル
イソシアナート等やマレイン酸、フマル酸及びそのエス
テル類、例えばアルキル、ハロゲン化アルキル、アルコ
キシアルキルのモノ又はジエステル等や、あるいはその
他のビニル化合物、例えばスチレン、ビニルトルエン、
ジビニルベンゼン、N−ビニルカルバゾール、N−ビニ
ルピロリドン等を挙げることができる。
(D) used in the photosensitive resin composition of the present invention
As the ethylenically unsaturated compound (hereinafter, referred to as component (D)), various known ethylenically unsaturated monomers and ethylenically unsaturated prepolymers can be used. Specific examples of the ethylenically unsaturated monomers include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid and esters thereof, for example, alkyl-, cycloalkyl-, halogenated alkyl-, alkoxyalkyl-, hydroxyalkyl-,
Aminoalkyl-, tetrahydrofurfuryl-, allyl-, glycidyl-, benzyl-, phenoxy-acrylate or methacrylate, alkylene glycol diacrylate or methacrylate, trimethylolpropane triacrylate or methacrylate, glycerin triacrylate or methacrylate, pentaerythritol tetraacrylate or Methacrylates and the like, acrylamide, methacrylamide and derivatives thereof, for example, N-substituted or N, N
'-Substituted acrylamide or methacrylamide, diacetone acrylamide or methacrylamide, N, N
'-Alkylenebisacrylamide or methacrylamide and the like, allyl compounds such as allyl alcohol, allyl isocyanate and the like, maleic acid, fumaric acid and esters thereof such as alkyl, alkyl halide, alkoxyalkyl mono- and diesters and the like, and others Vinyl compounds such as styrene, vinyl toluene,
Examples thereof include divinylbenzene, N-vinylcarbazole, and N-vinylpyrrolidone.

【0034】一方、エチレン性不飽和プレポリマーとし
ては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、エ
ポキシ樹脂、アクリル樹脂等にカルボキシル基、水酸
基、イソシアナート基等の反応性基を有するエチレン性
不飽和化合物を用いて、エチレン性不飽和基を導入した
ものが用いられる。本発明の感光性樹脂組成物において
は、前記(D)成分のエチレン性不飽和化合物は、一種
用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
On the other hand, as the ethylenically unsaturated prepolymer, an ethylenically unsaturated compound having a reactive group such as a carboxyl group, a hydroxyl group or an isocyanate group on a polyester, polyurethane, polyether, epoxy resin, acrylic resin or the like is used. What introduces an ethylenically unsaturated group is used. In the photosensitive resin composition of the present invention, the ethylenically unsaturated compound of the component (D) may be used alone or in combination of two or more.

【0035】上記(A)及び(B)成分の合計量に対す
る上記(D)成分の重量比は、5/100〜200/1
00の範囲で選ばれる。この重量比が5/100未満で
は活性光線による硬化が不十分となる恐れがあるし、2
00/100を超えると得られた組成物の室温での形状
維持性が十分でなくなる傾向が生じ、好ましくない。本
発明の感光性樹脂組成物における光重合開始剤〔以下
(E)成分という〕としては、公知の各種のものを用い
ることができるが、各種の有機カルボニル化合物、特に
芳香族カルボニル化合物が好適である。
The weight ratio of the component (D) to the total amount of the components (A) and (B) is from 5/100 to 200/1.
00 is selected in the range. If the weight ratio is less than 5/100, curing by actinic light may be insufficient.
If it exceeds 00/100, the resulting composition tends to have insufficient shape retention at room temperature, which is not preferable. As the photopolymerization initiator (hereinafter referred to as "component (E)") in the photosensitive resin composition of the present invention, various known compounds can be used, and various organic carbonyl compounds, particularly aromatic carbonyl compounds, are preferred. is there.

【0036】この様なものの具体例としては、以下の一
般式(1)〜(3)で示される化合物またはその誘導体
が挙げられる。 (1)下記一般式(1)で示されるベンゾイン、および
その誘導体であり具体的には、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾイン−n−プロピルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルな
どである。
Specific examples of such compounds include compounds represented by the following general formulas (1) to (3) or derivatives thereof. (1) Benzoin represented by the following general formula (1) and derivatives thereof, specifically, benzoin ethyl ether, benzoin-n-propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and the like.

【0037】[0037]

【化1】 Embedded image

【0038】(式中のR1は水素原子又はメチル、エチ
ル、イソプロピル、イソブチル等のアルキル基である) (2)下記一般式で示されるフェニルケトン類であり、
2,2ージメトキシー2ーフェニルアセトフェノンなど
である。
(Wherein R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group such as methyl, ethyl, isopropyl and isobutyl). (2) Phenyl ketones represented by the following general formula:
2,2 dimethoxy-2-phenylacetophenone and the like.

【0039】[0039]

【化2】 Embedded image

【0040】(式中のR2、R3、R4及びR5は、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、水酸基、フェニル基、アルキルチオ基、モルフォリ
ノ基等であり、それらは同一であってもよいし、互いに
異なっていてもよい) (3)下記一般式で示されるベンゾフェノン及びその誘
導体であり、メチル−Oーベンゾイルベンゾエートなど
がある。
(Wherein R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, a phenyl group, an alkylthio group, a morpholino group, etc. (3) Benzophenone represented by the following general formula and derivatives thereof, such as methyl-O-benzoylbenzoate.

【0041】[0041]

【化3】 Embedded image

【0042】(式中のR6及びR7は、それぞれ水素原
子、アルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル基、アルキルチオ基、アミノ基等であ
り、それらは同一であってもよいし、互いに異なってい
てもよい) これらの光重合開始剤は、それぞれ単独で用いてもよい
し、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Wherein R 6 and R 7 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylthio group, an amino group, etc., which may be the same or These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

【0043】上記(A)及び(B)成分の合計量に対す
る上記(E)成分の重量比が0.1/100未満である
と、組成物全体の光硬化性が不十分になるし、30/1
00を超えると光の透過が妨げられて表面のみの光硬化
になり好ましくないので、この範囲で選ばれる。また、
本発明の感光性樹脂組成物には、貯蔵中における暗反応
を防ぐために、公知の重合禁止剤又は重合遅延剤を所望
に応じ添加することができる。
When the weight ratio of the component (E) to the total amount of the components (A) and (B) is less than 0.1 / 100, the photocurability of the entire composition becomes insufficient, and / 1
If it exceeds 00, light transmission is hindered and photo-curing of only the surface is unpreferable, so it is selected in this range. Also,
In order to prevent a dark reaction during storage, a known polymerization inhibitor or polymerization retarder can be added to the photosensitive resin composition of the present invention as desired.

【0044】本発明の感光性樹脂組成物には、前記各成
分以外に、必要に応じ有機、無機充填剤、染料、顔料等
が添加することができるし、また得られる版材のシート
成形性や印刷版の柔軟性を良好にするために、前記
(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)成分と均一
に相溶し、かつ可塑化効果を示す適当な可塑剤を配合す
ることもできる。
The photosensitive resin composition of the present invention may contain, if necessary, organic and inorganic fillers, dyes, pigments, etc. in addition to the above-mentioned components. In order to improve the flexibility of the printing plate and the printing plate, a suitable plasticizer which is uniformly compatible with the components (A), (B), (C), (D) and (E) and has a plasticizing effect is obtained. An agent can also be compounded.

【0045】本発明の感光性樹脂版材は、通常厚さ0.
1〜10mmの感光性樹脂層を有するものである。この
感光性樹脂版材を作成するには、例えば、前記の感光性
樹脂組成物を構成する各成分を、水または有機溶剤に溶
解し、十分に混合して均質な溶液とした後、支持体上に
均一に一定厚さに流し留め、溶剤を蒸発除去して、該支
持体上に、厚さ0.1〜10mmの感光層を形成する方
法を用いることができるし、あるいは感光性樹脂組成物
の溶剤を留去したものを、支持体上にプレス成形等によ
り加熱加圧して感光層を形成する方法も用いることがで
きる。さらに、感光性樹脂組成物を構成する各成分をニ
ーダー、バンバリミキサー等で十分に混合したものを支
持体上にプレス成形して感光層を形成する方法や、その
他キャスト成形、押出し成形等により感光層を形成する
方法等も用いることができる。
The photosensitive resin plate material of the present invention usually has a thickness of 0.1 mm.
It has a photosensitive resin layer of 1 to 10 mm. In order to prepare this photosensitive resin plate material, for example, after dissolving each component constituting the photosensitive resin composition in water or an organic solvent and sufficiently mixing to obtain a homogeneous solution, A method in which a photosensitive layer having a thickness of 0.1 to 10 mm is formed on the support by uniformly flowing the solution on the support to a constant thickness, and removing the solvent by evaporation. A method of forming a photosensitive layer by heating and pressurizing a solvent obtained by distilling off the solvent of the product by press molding or the like on a support can also be used. Further, a photosensitive layer is formed by press-molding a mixture of the components constituting the photosensitive resin composition in a kneader, a Banbury mixer or the like on a support, or by other methods such as cast molding and extrusion molding. A method of forming a layer or the like can also be used.

【0046】また、シート成形された感光層は支持体上
で直接成形して成形と同時に接着することもできるし、
シート成形された感光層を接着剤を用いて支持体上に接
着しても良く、さらには感光層のみのシートを版材とし
て用いることができる。このような支持体を用いない場
合には、例えば、特公昭45−23615号公報に示さ
れる方法により印刷版を作成することができる。支持体
上に感光層を設けた版材を作成する場合、支持体と感光
層との間には接着層以外にアンチハレーション層を設け
ることも有利である。このような支持体としては、例え
ばポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、セル
ローストリアセテート、ポリカーボネート等のプラスチ
ックシートや、合成ゴムシート、金属シート、合成紙又
はこれらの複合材等を用いることができる。
Further, the photosensitive layer formed into a sheet can be directly formed on a support and adhered simultaneously with the formation.
The photosensitive layer formed into a sheet may be adhered to a support using an adhesive, and a sheet having only the photosensitive layer may be used as a plate material. When such a support is not used, for example, a printing plate can be prepared by the method disclosed in Japanese Patent Publication No. 45-23615. When preparing a plate material having a photosensitive layer provided on a support, it is also advantageous to provide an antihalation layer between the support and the photosensitive layer in addition to the adhesive layer. As such a support, for example, a plastic sheet such as polyethylene terephthalate, polypropylene, cellulose triacetate, or polycarbonate, a synthetic rubber sheet, a metal sheet, a synthetic paper, or a composite material thereof can be used.

【0047】感光性樹脂版材の形状については特に制限
はなく、シート状はもちろん、スリーブ状に成形しても
用いることもできるし、スリーブ状の支持体表面に感光
層を形成させても良い。この場合感光層は厚さ0.1〜
10.0mmの範囲に成形される。露光に用いられる活
性光線源としては高圧水銀灯、超高圧水銀灯、紫外線蛍
光灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ等が用いられ
る。
The shape of the photosensitive resin plate material is not particularly limited, and it may be formed into a sheet shape or a sleeve shape, or may be used, or a photosensitive layer may be formed on the surface of a sleeve-shaped support. . In this case, the photosensitive layer has a thickness of 0.1 to
It is formed in a range of 10.0 mm. As an active light source used for exposure, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, or the like is used.

【0048】また、未硬化樹脂の現像液としては、例え
ば水、アルカリ水溶液、界面活性剤水溶液等が用いられ
る。
As the developer for the uncured resin, for example, water, an aqueous alkali solution, an aqueous surfactant solution or the like is used.

【0049】[0049]

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を更に
詳細に説明する。この実施例で用いられる水現像性測定
法、感光性樹脂凸版製造法、膨潤率測定法及び引張強伸
度測定法については以下の通りである。 水現像性測定法:各実施例で得られた感光性樹脂組成
物を、厚さ100μmのポリエステルフィルム及び予め
接着剤を塗布しておいた厚さ100μmのポリエステル
フィルムで挟み、厚さ2.0mmのスペーサーを用いて
熱プレスした。このようにして接着剤を介して厚さ10
0μmのポリエステルフィルム上に2.0mmの感光性
樹脂層を有する感光性樹脂版材を作成する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. The water developability measuring method, the photosensitive resin relief printing plate manufacturing method, the swelling ratio measuring method, and the tensile strength and elongation measuring method used in this example are as follows. Water developability measurement method: The photosensitive resin composition obtained in each example was sandwiched between a 100 μm-thick polyester film and a 100 μm-thick polyester film to which an adhesive was previously applied, and was 2.0 mm thick Was hot-pressed using the spacer. In this way, a thickness of 10
A photosensitive resin plate material having a 2.0 mm photosensitive resin layer on a 0 μm polyester film is prepared.

【0050】次に得られた版材を200μm径のナイロ
ンブラシを装着した市販の平型現像機(JOW A3−
P型:日本電子精機製)を用いて、温水にW−1及びW
−6(APR用ウオッシュアウト剤:旭化成製)を各々
2重量%溶解して得た40℃の現像液で厚さ1mmを現
像するのに要した時間:T(分)を求める。ここで水現
像速度=T(分/mm)とする。
Next, a commercially available flat developing machine (JOW A3-) equipped with a 200 μm diameter nylon brush
P-type: manufactured by JEOL Ltd.)
-6 (washout agent for APR: manufactured by Asahi Kasei) is dissolved at 2% by weight, and the time required to develop a 1 mm thick film with a developing solution at 40 ° C .: T (minute) is determined. Here, it is assumed that the water development speed = T (min / mm).

【0051】感光性樹脂凸版製造法:前記水現像性測
定法で得た感光性樹脂版材の上に、文字や図柄から成る
ネガフィルムを密着させ、紫外線蛍光灯でまずポリエス
テルフィルム側から波長370nmでの露光量1000
mj/cm2、次にネガフィルム側から露光量6000
mj/cm2を照射した後、ネガフィルムを除く。次に
前述の水現像性測定法と同じ装置及び条件でT分現像し
て未露光部を除去した後、乾燥及び後露光して感光性樹
脂凸版を作成する。
A method for producing a photosensitive resin relief printing plate: A negative film composed of characters and patterns is adhered to the photosensitive resin plate material obtained by the water developability measurement method, and a wavelength of 370 nm is first applied from the polyester film side with an ultraviolet fluorescent lamp. Exposure at 1000
mj / cm 2 , then exposure from the negative film side 6000
After irradiation with mj / cm 2 , the negative film is removed. Next, after developing for T minutes in the same apparatus and under the same conditions as in the above-described water developability measuring method, the unexposed portions are removed, followed by drying and post-exposure to prepare a photosensitive resin relief plate.

【0052】膨潤率測定法:各実施例で得られた感光
性樹脂組成物を2枚の厚さ100μmのポリエステルフ
ィルムの間に挟み、厚さ調整用のスペーサーを用いて熱
プレスすることで、厚さ100μmのポリエステルフィ
ルムに挟まれた厚さ1mmの感光性樹脂版材を作成す
る。次にこの樹脂版材を紫外線蛍光灯を用い、露光量3
600mj/cm2を照射した後、版材の両側からポリ
エステルフィルムを剥がして性能測定用の感光性樹脂硬
化版材を得る。
Swelling ratio measurement method: The photosensitive resin composition obtained in each of the examples was sandwiched between two polyester films having a thickness of 100 μm, and hot pressed using a spacer for adjusting the thickness. A photosensitive resin plate material having a thickness of 1 mm sandwiched between polyester films having a thickness of 100 μm is prepared. Next, the resin plate material was exposed to light with an exposure amount of 3 using an ultraviolet fluorescent lamp.
After irradiating 600 mj / cm 2 , the polyester film is peeled off from both sides of the plate to obtain a photosensitive resin cured plate for performance measurement.

【0053】得られた硬化版材を縦50mm×横10m
mのサンプルを作成し、膨潤率測定用試験片とする。硬
化版材の水中及びイソプロピルアルコール(IPA)中
の膨潤率は下記の方法で測定する。浸積前の試験片の重
量Ww1を測定する。次に水中に20℃で24時間浸積
し、取り出した後、表面の水滴をふき取ってから試験片
の重量Ww2を測定する。水膨潤率=XW(%)は以下の
ように計算して得る。
The obtained hardened plate material is 50 mm long × 10 m wide.
A sample of m is prepared and used as a test piece for measuring a swelling ratio. The swelling ratio of the hardened plate material in water and isopropyl alcohol (IPA) is measured by the following method. The weight W w1 of the test piece before immersion is measured. Next, the test piece is immersed in water at 20 ° C. for 24 hours, taken out, and after removing water drops on the surface, the weight W w2 of the test piece is measured. The water swelling ratio = X W (%) is obtained by calculation as follows.

【0054】 上記の方法で水の代わりにIPAを用いて、IPA膨潤
率=XI(%)を得る。
[0054] Using IPA instead of water by the above method, IPA swelling ratio = X I (%) is obtained.

【0055】引張強伸度測定法:前記膨潤率測定法で
得た感光性樹脂硬化版材を用いて測定部分が縦30mm
×横3mmのサンプルを作成し、引張強伸度測定用試験
片とする。引張強伸度は引張試験機(AUTOGRAP
H AG−A型:島津製作所製)を用いて、20℃にお
いて前記試験片を500mm/min.の引張スピード
で破壊するまで引張して、引張破壊強度=TSB(kg
/cm2)及び引張破壊伸度=EB(%)を得る。
Tensile strength and elongation measuring method: The photosensitive resin cured printing plate obtained by the above-mentioned swelling ratio measuring method was used and the measuring portion was 30 mm in length.
X A 3 mm wide sample is prepared and used as a test piece for measuring tensile strength and elongation. Tensile strength and elongation are measured using a tensile tester (AUTOGRAP
HAG-A type: manufactured by Shimadzu Corporation) at 20 ° C. and 500 mm / min. Tensile breaking strength = TS B (kg
/ Cm 2 ) and tensile elongation at break = E B (%).

【0056】又縦30mm×横3mmのサンプルを50
℃・湿度80%雰囲気で7日保管し、取り出した後、引
張強伸度測定用試験片とする。前記と同じ装置及び条件
で引張強伸度を測定して、多湿経時後の引張破壊強度=
TSW(kg/cm2)及び引張破壊伸度=EW(%)を
得る。
A sample of 30 mm long × 3 mm wide is used for 50 samples.
It is stored for 7 days in an atmosphere of 80 ° C. and 80% humidity, taken out, and used as a test piece for measuring tensile strength and elongation. The tensile strength and elongation were measured using the same apparatus and conditions as described above, and the tensile breaking strength after humid aging =
TS W (kg / cm 2 ) and tensile elongation at break = E W (%) are obtained.

【0057】[0057]

【実施例1】まず感光性樹脂組成物の主成分の一つであ
るスルホン酸基含有ポリウレタンの製造方法を説明し、
次に感光性樹脂組成物の製造方法について説明する。 (1)スルホン酸基含有ポリエステルジオールの合成 かきまぜ機、窒素導入口及び流出管を取り付けた1,0
00mlセパラブルフラスコに、スルホイソフタル酸ナ
トリウムジメチルエステル296g、エチレングリコー
ル310g、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロシンナマミド)[IRGA
NOX1098:チバガイギー製]0.43g、酢酸亜
鉛0.43gを仕込み、窒素雰囲気中において、200
℃で5時間反応させた後、減圧下で未反応のエチレング
リコールを留去して末端に水酸基を有する淡黄色のスル
ホン酸基含有ポリエステルジオールを得た。このものの
数平均分子量は水酸基価の測定より492であった。
Example 1 First, a method for producing a sulfonic acid group-containing polyurethane which is one of the main components of the photosensitive resin composition will be described.
Next, a method for producing the photosensitive resin composition will be described. (1) Synthesis of polyester diol containing sulfonic acid group 1,0 equipped with a stirrer, a nitrogen inlet and an outlet pipe.
In a 00 ml separable flask, 296 g of sodium sulfoisophthalate dimethyl ester, 310 g of ethylene glycol, N, N'-hexamethylenebis (3,5-
Di-t-butyl-4-hydrocinnamamide) [IRGA
NOX1098: Ciba-Geigy], 0.43 g and zinc acetate 0.43 g, and 200
After reacting at 5 ° C. for 5 hours, unreacted ethylene glycol was distilled off under reduced pressure to obtain a pale yellow sulfonic acid group-containing polyester diol having a hydroxyl group at a terminal. Its number average molecular weight was 492 as measured by hydroxyl value.

【0058】(2)スルホン酸基含有ポリウレタンの合
成 かきまぜ機、窒素導入口及び流出管を取り付けた3,0
00mlセパラブルフラスコに上記工程(1)で得たス
ルホン酸基含有ポリエステルジオール39.9g、数平
均分子量2,439で両末端に水酸基を有するポリイソ
プレンジオール[出光石油化学製]377.7g、オク
チル化ジフェニルアミン[NOCRACAD:大内新興
化学製]1.4gを仕込んだ後、ジメチルアセトアミド
1000gと2−クロルトルエン1000gを加えて1
10℃で均一溶液とした。
(2) Synthesis of Sulfonic Acid Group-Containing Polyurethane 3,0 equipped with a stirrer, a nitrogen inlet and an outlet pipe.
In a 00 ml separable flask, 39.9 g of the sulfonic acid group-containing polyester diol obtained in the above step (1), 377.7 g of polyisoprene diol having a number average molecular weight of 2,439 and hydroxyl groups at both terminals [manufactured by Idemitsu Petrochemical], octyl After charging 1.4 g of diphenylamine hydride [NOCRACAD: manufactured by Ouchi Shinko Chemical Co., Ltd.], 1000 g of dimethylacetamide and 1000 g of 2-chlorotoluene were added thereto to prepare 1
A homogeneous solution was obtained at 10 ° C.

【0059】次にジブチルチンジラウレート0.11g
とスタナウスオクトエート0.34gを添加し、更にキ
シリレンジイソシアナート43.1gを滴下しながら1
10℃で3時間反応させた後、ジメチルアセトアミドと
2−クロルトルエンを減圧留去して均一透明なスルホン
酸基含有ポリウレタンを得た。 (3)感光性樹脂組成物の作成 上記工程(2)で得たスルホン酸基含有ポリウレタン4
9.5gを窒素雰囲気下、150℃で加圧ニーダーを用
いて、スチレン・イソプレンブロックコポリマー[カリ
フリックスTR1107:シェル化学製]20g
{(B)成分/(A)成分(重量比)=40.4/10
0}、ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム2g
{(C)成分/(A)+(B)成分(重量比)=2.9
/100}、ポリブタジエンジアクリレート[BAC−
45:大阪有機化学製]5g、脂肪族ジアクリレート
[C−2000:サートマー製]1g、ジオクチルフマ
レート2g{以上(D)成分/(A)+(B)成分(重
量比)=11.5/100}、2,2−ジメトキシフェ
ニルアセトフェノン2g{(E)成分/(A)+(B)
成分(重量比)=2.9/100}、マレイン化変性ポ
リブタジエン[ME−1000−80:日本石油化学
製]10g、N−エチルトルエンスルホンアミド7.5
g、2,2−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.1g
と混練して均一透明な感光性樹脂組成物を得た。
Next, 0.11 g of dibutyltin dilaurate
And 0.44 g of stannaus octoate, and 43.1 g of xylylene diisocyanate was added dropwise while adding 13.1 g of xylylene diisocyanate.
After reacting at 10 ° C. for 3 hours, dimethylacetamide and 2-chlorotoluene were distilled off under reduced pressure to obtain a uniform and transparent sulfonic acid group-containing polyurethane. (3) Preparation of photosensitive resin composition The sulfonic acid group-containing polyurethane 4 obtained in the above step (2)
9.5 g of styrene-isoprene block copolymer [Califlix TR1107: Shell Chemical Co., Ltd.] in a nitrogen atmosphere at 150 ° C. using a pressure kneader at 20 g.
{(B) component / (A) component (weight ratio) = 40.4 / 10
0%, sodium laurylbenzenesulfonate 2g
{(C) component / (A) + (B) component (weight ratio) = 2.9
/ 100}, polybutadiene diacrylate [BAC-
45: Osaka Organic Chemicals] 5 g, aliphatic diacrylate [C-2000: Sartomer] 1 g, dioctyl fumarate 2 g or more (component (D) / component (A) + component (B) (weight ratio) = 11.5) / 100}, 2g of 2,2-dimethoxyphenylacetophenone {(E) component / (A) + (B)
Component (weight ratio) = 2.9 / 100 °, 10 g of maleated modified polybutadiene [ME-1000-80: manufactured by Nippon Petrochemical], N-ethyltoluenesulfonamide 7.5
g, 0.1 g of 2,2-di-t-butyl-p-cresol
And a uniform transparent photosensitive resin composition was obtained.

【0060】次に得られた感光性樹脂組成物を用いて、
感光性樹脂凸版製造法により版再現性の良好な感光性
樹脂凸版を作成し、フレキソ輪転機で、水性インキを使
い紙の上に印刷したところインキによる膨潤もなく画像
の太りも少ないシャープな印刷物が得られた。尚このイ
ンキ溶剤の主成分は水:イソプロピルアルコール=8:
2の混合成分であった。又この感光性樹脂凸版を25℃
・80%で30日保管後、印刷しても感光性樹脂凸版画
像部の欠けはなかった。
Next, using the obtained photosensitive resin composition,
A photosensitive resin relief printing plate with good plate reproducibility was created by the photosensitive resin relief printing plate manufacturing method, and when printed on paper using a water-based ink with a flexo rotary press, sharp prints with no swelling due to the ink and little image thickening were obtained. was gotten. The main component of this ink solvent is water: isopropyl alcohol = 8:
2 mixed components. In addition, this photosensitive resin letterpress is 25 ° C.
-After storage at 80% for 30 days, there was no chipping of the photosensitive resin relief image portion even after printing.

【0061】同様に、水現像性測定法により水現像速
度を、膨潤率測定法により水膨潤率及びIPA膨潤率
を、引張強伸度測定法により引張破壊強伸度及び多湿
経時後の引張破壊強伸度を得て、その結果を表1に示し
た。
Similarly, the water development rate was measured by the water developability measuring method, the water swelling rate and the IPA swelling rate were measured by the swelling rate measuring method, the tensile elongation was measured by the tensile elongation measuring method, and the tensile elongation after humid aging was measured. Strong elongation was obtained and the results are shown in Table 1.

【0062】[0062]

【比較例1】実施例1の工程(3)において、スチレン
・イソプレンブロックコポリマー、ラウリルベンゼンス
ルフォン酸ナトリウムを抜いた組成を混練して同様に感
光性樹脂組成物を得た。次に得られた感光性樹脂組成物
を用いて、感光性樹脂凸版製造法により版再現性の良
好な感光性樹脂凸版を作成し、フレキソ輪転機で実施例
1と同様に印刷したところインキによる膨潤もなく画像
の太りも少ないシャープな印刷物が得られた。又この感
光性樹脂凸版を25℃・80%で30日保管後、印刷し
たところ印刷物はインキの乗り、インキの転移性も良好
であったが、1万部印刷すると、感光性樹脂凸版画像部
の一部が欠けて印刷できなくなった。
Comparative Example 1 In step (3) of Example 1, a composition excluding the styrene / isoprene block copolymer and sodium laurylbenzenesulfonate was kneaded to similarly obtain a photosensitive resin composition. Next, using the obtained photosensitive resin composition, a photosensitive resin relief printing plate having good plate reproducibility was prepared by a photosensitive resin relief printing plate manufacturing method, and printed using a flexo rotary press in the same manner as in Example 1 to obtain an ink. A sharp print with no swelling and little image thickening was obtained. When this photosensitive resin letterpress was stored at 25 ° C. and 80% for 30 days and printed, the printed matter had good ink transfer and ink transferability. However, when 10,000 copies were printed, the photosensitive resin letterpress image area was printed. Could not be printed due to missing part.

【0063】同様に、水現像性測定法により水現像速
度を、膨潤率測定法により水膨潤率及びIPA膨潤率
を、引張強伸度測定法により引張破壊強伸度及び多湿
経時後の引張破壊強伸度を得て、その結果を表1に示し
た。これから判るように、多湿経時後の機械物性が小さ
く、そのために欠けたものと推定された。
Similarly, the water development rate was measured by a water developability measuring method, the water swelling rate and IPA swelling rate were measured by a swelling rate measuring method, the tensile elongation was measured by a tensile elongation measuring method, and the tensile elongation after humid aging was measured. Strong elongation was obtained and the results are shown in Table 1. As can be seen from this, it was presumed that the mechanical properties after the lapse of time under the humid condition were small, and were therefore lacking.

【0064】[0064]

【比較例2】実施例1の工程(3)においてラウリルベ
ンゼンスルフォン酸ナトリウムを抜いた組成を混練して
同様に感光性樹脂組成物を得た。次に得られた感光性樹
脂組成物を用いて、感光性樹脂凸版製造法により感光
性樹脂凸版を作成したが、現像に実施例1に比べ約10
倍かかった。さらにハイライト部の周辺に欠けが観察さ
れ版再現性の良好なものは得られなかった。
Comparative Example 2 A composition excluding sodium laurylbenzenesulfonate in step (3) of Example 1 was kneaded to similarly obtain a photosensitive resin composition. Next, using the obtained photosensitive resin composition, a photosensitive resin relief printing plate was prepared by a photosensitive resin relief printing plate manufacturing method.
It took twice. Further, chipping was observed around the highlight portion, and a plate having good plate reproducibility was not obtained.

【0065】同様に、水現像性測定法により水現像速
度を、膨潤率測定法により水膨潤率及びIPA膨潤率
を、引張強伸度測定法により引張破壊強伸度及び多湿
経時後の引張破壊強伸度を得て、その結果を表1に示し
た。
Similarly, the water development rate was measured by the water developability measuring method, the water swelling ratio and the IPA swelling ratio were measured by the swelling ratio measuring method, the tensile elongation was measured by the tensile elongation measuring method, and the tensile elongation after humid aging was measured. Strong elongation was obtained and the results are shown in Table 1.

【0066】[0066]

【実施例2】実施例1の工程(3)でラウリルベンゼン
スルフォン酸ナトリウムの代わりにラウリル硫酸ナトリ
ウムを用いて混練して均一透明な感光性樹脂組成物を得
た。次に得られた感光性樹脂組成物を用いて、感光性
樹脂凸版製造法により版再現性の良好な感光性樹脂凸版
を作成し、フレキソ輪転機で実施例1と同様に印刷した
ところインキによる膨潤もなく画像の太りも少ないシャ
ープな印刷物が得られた。又この感光性樹脂凸版を25
℃・80%で30日保管後、印刷しても良好で2万部印
刷しても感光性樹脂凸版画像部の欠けはなかった。
Example 2 In step (3) of Example 1, kneading was carried out using sodium lauryl sulfate instead of sodium lauryl benzene sulfonate to obtain a uniform transparent photosensitive resin composition. Next, using the obtained photosensitive resin composition, a photosensitive resin relief printing plate having good plate reproducibility was prepared by a photosensitive resin relief printing plate manufacturing method, and printed using a flexo rotary press in the same manner as in Example 1 to obtain an ink. A sharp print with no swelling and little image thickening was obtained. Also, this photosensitive resin relief printing plate is 25
After storage at 80 ° C. for 30 days, there was no chipping of the photosensitive resin relief image portion even after printing for 20,000 copies.

【0067】同様に、水現像性測定法により水現像速
度を、膨潤率測定法により水膨潤率及びIPA膨潤率
を、引張強伸度測定法により引張破壊強伸度及び多湿
経時後の引張破壊強伸度を得て、その結果を表1に示し
た。
Similarly, the water development rate was measured by the water developability measuring method, the water swelling rate and the IPA swelling rate were measured by the swelling rate measuring method, the tensile elongation was measured by the tensile elongation measuring method, and the tensile elongation after humid aging was measured. Strong elongation was obtained and the results are shown in Table 1.

【0068】[0068]

【実施例3】実施例1の工程(3)で、ラウリルベンゼ
ンスルフォン酸ナトリウムの代わりにα−オレフィンス
ルホン酸ナトリウムを用いて混練し、均一透明な感光性
樹脂組成物を得た。次に得られた感光性樹脂組成物を用
いて、感光性樹脂凸版製造法により版再現性の良好な
感光性樹脂凸版を作成し、フレキソ輪転機で実施例1と
同様に印刷したところインキによる膨潤もなく画像の太
りも少ないシャープな印刷物が得られた。又この感光性
樹脂凸版を25℃・80%で30日保管後、印刷しても
良好で2万部印刷しても感光性樹脂凸版画像部の欠けは
なかった。
Example 3 In step (3) of Example 1, kneading was carried out using sodium α-olefin sulfonate instead of sodium laurylbenzenesulfonate to obtain a homogeneous and transparent photosensitive resin composition. Next, using the obtained photosensitive resin composition, a photosensitive resin relief printing plate having good plate reproducibility was prepared by a photosensitive resin relief printing plate manufacturing method, and printed using a flexo rotary press in the same manner as in Example 1 to obtain an ink. A sharp print with no swelling and little image thickening was obtained. Also, after storing this photosensitive resin relief plate at 25 ° C. and 80% for 30 days, there was no chipping of the photosensitive resin relief image portion even after printing 20,000 copies.

【0069】同様に、水現像性測定法により水現像速
度を、膨潤率測定法により水膨潤率及びIPA膨潤率
を、引張強伸度測定法により引張破壊強伸度及び多湿
経時後の引張破壊強伸度を得て、その結果を表1に示し
た。
Similarly, the water development rate was measured by the water developability measuring method, the water swelling rate and the IPA swelling rate were measured by the swelling rate measuring method, the tensile elongation was measured by the tensile elongation measuring method, and the tensile elongation after humid aging was measured. Strong elongation was obtained and the results are shown in Table 1.

【0070】[0070]

【実施例4】実施例1の工程(3)で、ラウリルベンゼ
ンスルフォン酸ナトリウムの含有量を半分にして混練
し、均一透明な感光性樹脂組成物を得た。次に得られた
感光性樹脂組成物を用いて、感光性樹脂凸版製造法に
より版再現性の良好な感光性樹脂凸版を作成し、フレキ
ソ輪転機で実施例1と同様に印刷したところインキによ
る膨潤もなく画像の太りも少ないシャープな印刷物が得
られた。又この感光性樹脂凸版を25℃・80%で30
日保管後、印刷しても良好で2万部印刷しても感光性樹
脂凸版画像部の欠けはなかった。
Example 4 In step (3) of Example 1, the content of sodium laurylbenzenesulfonate was reduced to half and kneaded to obtain a homogeneous and transparent photosensitive resin composition. Next, using the obtained photosensitive resin composition, a photosensitive resin relief printing plate having good plate reproducibility was prepared by a photosensitive resin relief printing plate manufacturing method, and printed using a flexo rotary press in the same manner as in Example 1 to obtain an ink. A sharp print with no swelling and little image thickening was obtained. Also, this photosensitive resin letterpress was used at 25 ° C and 80% for 30 days.
After storage for one day, there was no chipping in the photosensitive resin relief image portion even when printing was good and 20,000 copies were printed.

【0071】同様に、水現像性測定法により水現像速
度を、膨潤率測定法により水膨潤率及びIPA膨潤率
を、引張強伸度測定法により引張破壊強伸度及び多湿
経時後の引張破壊強伸度を得て、その結果を表1に示し
た。
Similarly, the water development rate was measured by the water developability measuring method, the water swelling rate and the IPA swelling rate were measured by the swelling rate measuring method, the tensile elongation was measured by the tensile elongation measuring method, and the tensile elongation after humid aging was measured. Strong elongation was obtained and the results are shown in Table 1.

【0072】[0072]

【実施例5】実施例1の工程(2)で得たスルホン酸基
含有ポリウレタン29.5gを窒素雰囲気下、150℃
で加圧ニーダーを用いて、スチレン・イソプレンブロッ
クコポリマー[カリフリックスTR1107:シェル化
学製]20g、熱可塑性ポリウレタン樹脂[エラストラ
ンET680:武田バーディッシシェウレタン]20g
{以上(B)成分/(A)成分(重量比)=136/1
00}、ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム2g、
{(C)成分/(A)+(B)成分(重量比)=2.9
/100}メタクリレート変性ポリブタジエン[MM−
1000−80:日本石油化学製]10g、ポリブタジ
エンジアクリレート[BAC−45:大阪有機化学製]
3g、フェノキシエチルメタクリレート3.6g、ジオ
クチルフマレート2.7g、ラウリルマレイミド2.5
g{以上(D)成分/(A)+(B)成分(重量比)=
31.4/100}、2,2’ージメトキシフェニルア
セトフェノン1.8g{(E)成分/(A)+(B)重
量比=2.6/100}、ポリスチレンオリゴマー[ピ
コラスティックA5:理化ハーキュレス製]8g、液状
ポリブタジエン[B−2000:日本石油化学製]4.
5g、2,2−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.1
gと混練して均一透明な感光性樹脂組成物を得た。
Example 5 29.5 g of the sulfonic acid group-containing polyurethane obtained in step (2) of Example 1 was heated at 150 ° C. in a nitrogen atmosphere.
Using a pressure kneader, 20 g of a styrene-isoprene block copolymer [Califlix TR1107: manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.] and 20 g of a thermoplastic polyurethane resin [Elastollan ET680: Takeda Birdish Urethane]
{Or more (B) component / (A) component (weight ratio) = 136/1
00}, 2 g of sodium laurylbenzenesulfonate,
{(C) component / (A) + (B) component (weight ratio) = 2.9
/ 100} methacrylate-modified polybutadiene [MM-
1000-80: Nippon Petrochemical] 10 g, polybutadiene diacrylate [BAC-45: Osaka Organic Chemical]
3 g, phenoxyethyl methacrylate 3.6 g, dioctyl fumarate 2.7 g, lauryl maleimide 2.5
g {or more (D) component / (A) + (B) component (weight ratio) =
31.4 / 100%, 1.8 g of 2,2′-dimethoxyphenylacetophenone {weight ratio of (E) component / (A) + (B) = 2.6 / 100}, polystyrene oligomer [picola stick A5: Rika Hercules 3 g of liquid polybutadiene [B-2000: manufactured by Nippon Petrochemical].
5 g, 2,2-di-t-butyl-p-cresol 0.1
g and kneaded to obtain a uniform and transparent photosensitive resin composition.

【0073】次に得られた感光性樹脂組成物を用いて、
感光性樹脂凸版製造法により版再現性の良好な感光性
樹脂凸版を作成し、フレキソ輪転機で実施例1と同様に
印刷したところインキによる膨潤もなく画像の太りも少
ないシャープな印刷物が得られた。又この感光性樹脂凸
版を25℃・80%で30日保管後、印刷しても良好で
2万部印刷しても感光性樹脂凸版画像部の欠けはなかっ
た。
Next, using the obtained photosensitive resin composition,
A photosensitive resin relief plate having good plate reproducibility was prepared by the photosensitive resin relief printing plate manufacturing method, and printing was performed by a flexographic rotary press in the same manner as in Example 1. As a result, a sharp printed matter without swelling due to ink and having a small image thickness was obtained. Was. Also, after storing this photosensitive resin relief plate at 25 ° C. and 80% for 30 days, there was no chipping of the photosensitive resin relief image portion even after printing 20,000 copies.

【0074】同様に、水現像性測定法により水現像速
度を、膨潤率測定法により水膨潤率及びIPA膨潤率
を、引張強伸度測定法により引張破壊強伸度及び多湿
経時後の引張破壊強伸度を得て、その結果を表1に示し
た。
Similarly, the water development rate was measured by the water developability measuring method, the water swelling rate and the IPA swelling rate were measured by the swelling rate measuring method, the tensile elongation was measured by the tensile elongation measuring method, and the tensile elongation after humid aging was measured. Strong elongation was obtained and the results are shown in Table 1.

【0075】[0075]

【表1】 [Table 1]

【0076】[0076]

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物は熱可塑性エ
ラストマー及び界面活性剤を含有する事により、長時間
・高温多湿な条件で保管後、印刷しても欠けを生じるこ
とがなく、しかも水現像性にも優れたものである。
Since the photosensitive resin composition of the present invention contains a thermoplastic elastomer and a surfactant, it does not chip even when printed after being stored for a long time at a high temperature and high humidity. It has excellent water developability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/035 G03F 7/035 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/035 G03F 7/035

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)(a)スルホン酸基含有ポリアミ
ドジオールとスルホン酸基含有ポリエステルジオールと
から成る群から選ばれた少なくとも一種のジオール、
(b)数平均分子量が400〜4,000のジヒドロキ
シ炭化水素、及び(c)ジイソシアナートから合成され
たスルホン酸基含有ポリウレタン、(B)熱可塑性ポリ
マー、(C)界面活性剤、(D)エチレン性不飽和化合
物、(E)光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物であ
り、上記(A)成分に対する上記(B)成分の重量比が
10/100〜300/100、上記(A)及び(B)
成分の合計量に対する上記(C)成分の重量比が0.1
/100〜10/100、上記(A)及び(B)成分の
合計量に対する上記(D)成分の重量比が5/100〜
200/100、上記(A)及び(B)成分の合計量に
対する上記(E)成分の重量比が0.1/100〜30
/100の範囲であることを特徴とする印刷版用感光性
樹脂組成物。
(A) (a) at least one diol selected from the group consisting of a sulfonic acid group-containing polyamide diol and a sulfonic acid group-containing polyester diol,
(B) a dihydroxy hydrocarbon having a number average molecular weight of 400 to 4,000, and (c) a sulfonic acid group-containing polyurethane synthesized from diisocyanate, (B) a thermoplastic polymer, (C) a surfactant, (D A) a photosensitive resin composition containing an ethylenically unsaturated compound and (E) a photopolymerization initiator, wherein the weight ratio of the component (B) to the component (A) is 10/100 to 300/100; ) And (B)
The weight ratio of the component (C) to the total amount of the components is 0.1.
The weight ratio of the component (D) to the total amount of the components (A) and (B) is from 5/100 to 100/100.
200/100, and the weight ratio of the component (E) to the total amount of the components (A) and (B) is 0.1 / 100 to 30.
The photosensitive resin composition for a printing plate, wherein the ratio is in the range of / 100.
【請求項2】 界面活性剤(C)がアニオン界面活性剤
であることを特徴とする請求項1の印刷版用感光性樹脂
組成物。
2. The photosensitive resin composition for a printing plate according to claim 1, wherein the surfactant (C) is an anionic surfactant.
JP33320296A 1996-12-13 1996-12-13 Water-developing photosensitive resin composition Pending JPH10171111A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33320296A JPH10171111A (en) 1996-12-13 1996-12-13 Water-developing photosensitive resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33320296A JPH10171111A (en) 1996-12-13 1996-12-13 Water-developing photosensitive resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10171111A true JPH10171111A (en) 1998-06-26

Family

ID=18263460

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33320296A Pending JPH10171111A (en) 1996-12-13 1996-12-13 Water-developing photosensitive resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10171111A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003066605A (en) * 2001-08-23 2003-03-05 Asahi Kasei Corp Photosensitive resin composition for flexographic printing
WO2008126606A1 (en) 2007-03-20 2008-10-23 Asahi Kasei E-Materials Corporation Method for producing photosensitive resin plate or relief printing plate having recessed and projected pattern, and plate surface treating liquid used in the production method
WO2008133055A1 (en) 2007-04-19 2008-11-06 Asahi Kasei E-Materials Corporation Method for production of photosensitive resin plate having concave-convex shape or letterpress printing plate, and printing surface treatment solution for use in the method
WO2011081084A1 (en) 2009-12-29 2011-07-07 東洋紡績株式会社 Method for producing flexographic printing plate and flexographic printing plate
JP2011197103A (en) * 2010-03-17 2011-10-06 Asahi Kasei E-Materials Corp Method for manufacturing photosensitive resin letterpress printing plate
JP2011203453A (en) * 2010-03-25 2011-10-13 Tokai Rubber Ind Ltd Photosensitive resin composition, printing plate precursor and flexographic printing plate
US8445180B2 (en) 2003-12-26 2013-05-21 Asahi Kasei Chemicals Corporation Water-developable photopolymer plate for letterpress printing
WO2014157064A1 (en) 2013-03-28 2014-10-02 東洋紡株式会社 Method for manufacturing flexographic printing plate

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003066605A (en) * 2001-08-23 2003-03-05 Asahi Kasei Corp Photosensitive resin composition for flexographic printing
US8445180B2 (en) 2003-12-26 2013-05-21 Asahi Kasei Chemicals Corporation Water-developable photopolymer plate for letterpress printing
WO2008126606A1 (en) 2007-03-20 2008-10-23 Asahi Kasei E-Materials Corporation Method for producing photosensitive resin plate or relief printing plate having recessed and projected pattern, and plate surface treating liquid used in the production method
US8632956B2 (en) 2007-03-20 2014-01-21 Asahi Kasei E-Materials Corporation Process for producing photosensitive resin plate and relief printing plate having recessed and projected pattern, and plate surface treating liquid used in the process
WO2008133055A1 (en) 2007-04-19 2008-11-06 Asahi Kasei E-Materials Corporation Method for production of photosensitive resin plate having concave-convex shape or letterpress printing plate, and printing surface treatment solution for use in the method
WO2011081084A1 (en) 2009-12-29 2011-07-07 東洋紡績株式会社 Method for producing flexographic printing plate and flexographic printing plate
US9937524B2 (en) 2009-12-29 2018-04-10 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Method for manufacturing flexographic printing plate and flexographic printing plate
JP2011197103A (en) * 2010-03-17 2011-10-06 Asahi Kasei E-Materials Corp Method for manufacturing photosensitive resin letterpress printing plate
JP2011203453A (en) * 2010-03-25 2011-10-13 Tokai Rubber Ind Ltd Photosensitive resin composition, printing plate precursor and flexographic printing plate
WO2014157064A1 (en) 2013-03-28 2014-10-02 東洋紡株式会社 Method for manufacturing flexographic printing plate
US9358771B2 (en) 2013-03-28 2016-06-07 Toyobo Co., Ltd. Method for producing flexographic printing plate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4197130A (en) Photosensitive elastomeric composition and element
KR910008750B1 (en) Photosensitive Resin Composition
JP2872783B2 (en) Sulfonic acid group-containing polyurethane and photosensitive resin composition
US8703382B2 (en) Photosensitive resin composition for flexographic printing having excellent solvent resistance
AU602296B2 (en) Thermoplastic elastomer and photosensitive resin composition based therein, and printing plate precursor comprising the composition
AU671529B2 (en) Photosensitive polymer composition for flexographic printing plates processable in aqueous media
US5317080A (en) Polyether acrylamide and active energy ray curable resin composition
US4889793A (en) Photosensitive polymer composition containing an ethylenically unsaturated compound and a polyamide or polyesteramide
JPH10171111A (en) Water-developing photosensitive resin composition
JPH01245245A (en) Photosensitive resin composition for letterpress printing plate
US4269680A (en) Curable polymeric composition comprising natural or synthetic rubbers
US5916732A (en) Photosensitive resin compositions for printing plates and photosensitive resin plate materials
EP0312624B1 (en) Photosensitive composition
JPH0940728A (en) Modified block copolymer and its application
JPH02146043A (en) Photosensitive resin coposition and photosensitive resin printing material using the same
JPH0497154A (en) Photosensitive resin composition
JPH0216329B2 (en)
JPH0315071A (en) Photosensitive resin composition
WO1993016414A1 (en) Photosensitive composition for flexographic plate material
JPH0470660A (en) Composition for water-soluble photosensitive flexo plate
JPH03100552A (en) Photosensitive resin composition for printing plate
JPH03296059A (en) Photosensitive resin composition for water-developable flexographic printing plate
CA2157268A1 (en) Toughened photocurable polymer composition for processible flexographic printing plates
JPH06208225A (en) Photosensitive resin composition
JPH10254127A (en) Water developable photosensitive resin composition