JPH10172886A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 載置台の清掃が容易であり、パーティクルの
付着による基板の汚染を防止することができる基板処理
装置を提供する。 【解決手段】 この基板処理装置は、減圧乾燥装置であ
り、載置台１５と、蓋１６と、載置台１５上に載置され
た状態で頭部が基板１１下面に当接して基板１１を支持
する４個の支持部材１７と、載置台１５の下面側の複数
箇所に設置され、支持部材１７内に備えられた磁石との
間で働く磁気吸着力により支持部材１７を載置台１５上
に固定する磁石２１とを備えている。磁石２１は、大き
さの異なる複数種類の基板１１に対応する位置に予め固
定されており、支持部材１７の設置位置が、基板１１の
周辺領域に当接するように、処理する基板１１の大きさ
に応じて変更可能になっている。また、載置台１５の支
持部材１７が載置される載置面２３が平坦であり、パー
ティクルが溜まりにくい構成となっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル用
ガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造用のマスク基板
等の基板を、その下面に当接する支持部材によって支持
しつつ、基板に減圧乾燥処理、加熱処理、冷却処理、Ｈ
ＭＤＳ処理などの所定の処理を施す基板処理装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の基板処理装置の一つとして、基板
に加熱処理または冷却処理を施す熱処理処理装置が、特
開平６−３３３８１１号公報に開示されている。

【０００３】この装置は、図１５に示されるように、加
熱源または冷却源として機能する熱源の上に載置される
載置台１と、載置台１の上面に設けられた複数の孔３に
着脱自在であり、孔３に装着された状態で、頭部が載置
台１の上面から突出すると共に基板５の下面に当接して
基板５をほぼ水平に支持する支持部材７と、各孔３の少
なくとも一部に沿うように載置台１に組み込まれ、各孔
３に装着された支持部材７との間で働く磁力によって、
支持部材７と引き合う抜け止め部材９とを備えている。

【０００４】このような支持部材７は、基板５の上面に
形成された、例えば、レジスト膜や素子などに与える悪
影響を抑制するために、レジスト膜や素子などが形成さ
れた基板中央領域より外側の周辺領域に当接して基板５
を支持するようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
基板処理装置では、大きさの異なる複数種類の基板５を
処理するために、支持部材７が各種類の基板５の周辺領
域に当接するように、支持部材７の設置位置が変更可能
な構成としようとすると、処理する各種類の基板５の大
きさに対応した載置台１の上面の複数箇所に支持部材７
の総数よりも多くの孔３を設ける必要がある。

【０００６】このように、載置台１の複数箇所に支持部
材７の総数よりも多くの孔３を設けると、支持部材７で
基板５を支持した際、載置台１上に支持部材７が装着さ
れていない孔３が生じ、載置台１上の清掃が困難になる
と共に、この支持部材７が装着されていない孔３にパー
ティクルが溜まり易くなり、孔３に溜まったパーティク
ルが基板５に付着して基板５を汚染するとういう問題が
発生する。

【０００７】そこで、本発明は前記問題点に鑑み、載置
台の清掃が容易であり、パーティクルの付着による基板
の汚染を防止することができる基板処理装置を提供する
ことを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の技術的手段は、基板をほぼ水平に支持しつつ、その基
板に所定の処理を施す基板処理装置において、基板の下
面に当接する頭部を有すると共に、配置位置が変更可能
であり、少なくとも一部分が磁石材料で構成される複数
の支持部材と、支持部材が載置される上向きの平坦な載
置面を有し、少なくとも支持部材が対向する部分が強磁
性体で構成される載置台と、を備えることを特徴とす
る。

【０００９】また、基板をほぼ水平に支持しつつ、基板
に所定の処理を施す基板処理装置において、基板の下面
に当接する頭部を有すると共に、配置位置が変更可能で
あり、少なくとも一部分が強磁性体で構成される複数の
支持部材と、支持部材が載置される上向きの平坦な載置
面を有する載置台と、載置台の下面側に設けられ、載置
台を介して支持部材との間に生じる磁気吸着力により、
支持部材を載置台に固定する磁石部材と、を備えること
を特徴とする。

【００１０】さらに、基板をほぼ水平に支持しつつ、そ
の基板に所定の処理を施す基板処理装置において、基板
の下面に当接する頭部を有すると共に、配置位置が変更
可能であり、少なくとも一部分が磁石材料で構成される
複数の支持部材と、支持部材が載置される上向きの平坦
な載置面を有する載置台と、載置台の下面側に設けら
れ、載置台を介して支持部材との間に生じる磁気吸着力
により、支持部材を載置台に固定する磁石部材と、を備
えることを特徴とする。

【００１１】また、磁石部材をほぼ水平方向に移動させ
て、支持部材を載置面に沿って移動させる移動手段をさ
らに備えることを特徴とする。

【００１２】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１実施形態の
基板処理装置の断面図である。この基板処理装置は、角
形の基板１１の上面に塗布されたレジスト液等の所定の
処理液を減圧乾燥するための減圧乾燥装置であり、装置
本体１３上に設置された載置台１５と、この載置台１５
に対して開閉可能に設けられる蓋１６と、載置台１５上
に載置された状態で頭部３９（図２）が基板１１下面に
当接して基板１１を支持する複数、ここでは４個の支持
部材１７と、載置台１５の下面側の複数箇所に設置さ
れ、支持部材１７内に備えられた磁石１９（図２）との
間で生じる磁気吸着力により支持部材１７を載置台１５
上に固定する磁石２１とを備えて構成されている。

【００１３】載置台１５の上面の支持部材１７が載置さ
れる載置される領域は、平坦な載置面２３となってい
る。また、載置台１５の上面の前記蓋１７と当接する外
周部には、Ｏリング２５が備えられている。

【００１４】装置本体１３内には、載置台１５と蓋１６
とにより形成される密閉空間内の雰囲気を排気し、密閉
空間内を減圧状態にするための真空ポンプ２７と、減圧
された密閉空間内にガスを供給し、密閉空間内の減圧状
態を解除するガス供給手段２９とが備えられている。こ
れらの真空ポンプ２７とガス供給手段２９とは、切替弁
３１を介して配管３３に接続され、この配管３３が、密
閉空間内と外部と連通するように載置台１５に設けられ
た貫通孔３５に接続されている。

【００１５】各支持部材１９は、図２に示されるよう
に、概ね釣鐘形の外形を有する樹脂で形成された外層部
３７と、外層部３７内に埋め込まれた磁石１９とを備え
て構成されおり、基板１１の下面に当接する頭部３９
は、基板１１との接触面積が小さくなるようにドーム形
の形状となっており、載置台１５の載置面２３と当接す
る底面は平面になっている。

【００１６】載置台１５への磁石２１の取付け部の構成
は、図２に示されように、アルミニウム等の金属で形成
される載置台１５の下面の磁石２１が設置される部分
に、取付凹部４１が設けられ、この取付凹部４１内に磁
石２１が嵌め込まれるようになっている。取付凹部４１
の下側の内周面には、ねじ溝が形成されており、磁石２
１が取付凹部４１内に嵌め込まれた状態でねじ４３が取
付凹部４１にねじ込まれて、磁石２１が取付凹部４１内
の上端部に位置決め固定される。このように、載置台１
５の下面に取付凹部４１を設け、その取付凹部４１の上
端部に磁石２１を固定する構成であるので、載置面２３
上に載置された支持部材１７と磁石２１との間の距離が
短くなり、その結果、維持部材１７の磁石１９と磁石２
１との間に働く磁力が大きくなり、支持部材１７を強固
に載置面２３上に固定することができるようになってい
る。

【００１７】このようにして載置台１５に取付けられる
磁石２１は、図３に示されるように、載置面２３に対向
する載置台１７の下面の複数箇所、ここでは８箇所に設
置されている。その８個の磁石２１のうちの内側の４個
の磁石２１ａが、小型の基板１１ａの周辺領域、ここで
は四隅に対応する位置に設置されており、残りの外側の
４個の磁石２１ｂが、大型の基板１１ｂの周辺領域、こ
こでは四隅に対応する位置に設置されている。また、載
置面２３の各磁石２１に対向している部分には、支持部
材２７の設置位置が容易に視認できるように塗料等によ
り印が付けられている。なお、ここでは、大小２種類の
基板１１ａ，１１ｂに対応して内側と外側との２組の磁
石２１を設置したが、磁石２１の設置個所をさらに増や
し、３種類以上の基板サイズに対応できるようにしても
よい。

【００１８】４個の支持部材１７は、基板１１の大きさ
に応じて設置位置が変更されるようになっており、小型
の基板１１ａを支持する際には、図４に示されるよう
に、載置面２３上の内側の磁石２１ａに対向する位置に
設置され、大型の基板１１ａを支持する際には、図５に
示されるように、載置面２３上の外側の磁石２１ｂに対
向する位置に設置され、各支持部材１７が大小の基板１
１ａ，１ｂの周辺領域の下面に当接するようになってい
る。

【００１９】支持部材１７は、載置台１５を介して支持
部材１７の磁石１９と磁石２１との間に働く磁気吸着力
により載置面２３上に固定されているので、支持部材１
７の設置位置の変更等の際には、容易に載置面２３から
取り外して設置位置を移動できるようになっている。

【００２０】以上のように本実施形態によれば、基板１
１を支持する支持部材２１の設置位置が基板１１の大き
さに応じて容易に変更可能であると共に、支持部材２１
が設置される載置台１５の載置面２３が平坦な構成とな
っているので、載置台１５上にパーティクルが溜まりに
くく、載置台１５の清掃が容易であり、従来のように載
置台上の孔に溜まったパーティクルが基板１１に付着す
ることがなく、パーティクルによる基板１１の汚染を防
止することができる。

【００２１】また、従来のように載置台１５の上面に支
持部材の取付け孔を設け、その孔に支持部材を挿入して
取付ける構成では、孔を設けてあるため、基板１１が設
置される前記密閉空間内の構成が複雑になり減圧に要す
る時間が長くなるという問題があるが、本実施形態で
は、載置台１５の載置面２３が平坦であるので、減圧に
要する時間を短くすることができる。

【００２２】なお、本実施形態では、支持部材１７の一
部を磁石材料で構成したが、支持部材１７全体を磁石材
料で構成してもよい。

【００２３】図６は、本発明の第２実施形態の基板処理
装置に備えられる載置台１５ａおよび支持部材１７の構
成を示す部分断面図である。本実施形態の基板処理装置
は上述の第１実施形態の基板処理装置と同様な減圧乾燥
装置であり、載置台１５ａが鉄等の強磁性体で形成さ
れ、磁石２１および磁石２１を載置台１５ａに取付ける
ための構成が取り除かれている点を除いて、第１実施形
態の基板処理装置と同一の構成であり、対応する部分に
は同一の参照符号を付して説明を省略する。

【００２４】載置台１５ａの載置面２３上の支持部材１
７が設置される部分には、基板１１の大きさに応じた支
持部材１７の設置位置を容易に視認できるように第１実
施形態と同様な印が付けられている。そして、支持部材
１７が載置台１５ａの載置面２３上に設置されると、支
持部材１７の磁石１９と載置台１５ａとの間に働く磁気
吸着力により、支持部材１７が載置面２３上に固定され
るようになっている。

【００２５】したがって、本実施形態でも、支持部材２
１の設置位置が容易に変更可能であると共に、載置台１
５ａの載置面２３が平坦な構成となっているので、載置
台１５ａの清掃が容易であり、パーティクルによる基板
１１の汚染を防止することができ、減圧に要する時間を
短くすることができるという第１実施形態と同様な効果
を奏する共に、磁石２１および磁石２１を載置台１５ａ
に取付けるための構成が不要である分、構成を簡単化す
ることができる。

【００２６】なお、本実施形態では、載置台１５ａ全体
を強磁性体で構成したが、少なくとも支持部材１７と当
接する部分が強磁性体で構成されていればよい。

【００２７】図７は、本発明の第３実施形態の基板処理
装置に備えられる載置台１５および支持部材１７ａの構
成を示す部分断面図である。本実施形態の基板処理装置
は上述の第１実施形態の基板処理装置と同様な減圧乾燥
装置であり、磁石１９の代わりに鉄等の強磁性体５１が
支持部材１７ａ内に備えられる点を除いて、第１実施形
態の基板処理装置と同一の構成であり、対応する部分に
は同一の参照符号を付して説明を省略する。

【００２８】支持部材１７ａは、載置台１５の下面側に
備えられた磁石２１と支持部材１７ａ内に備えられた強
磁性体５１との間に働く磁気吸着力により載置面２３上
に固定されるようになっている。

【００２９】したがって、本実施形態でも、支持部材２
１の設置位置が容易に変更可能であると共に、載置台１
５ａの載置面２３が平坦な構成となっているので、載置
台１５ａの清掃が容易であり、パーティクルによる基板
１１の汚染を防止することができ、減圧に要する時間を
短くすることができるという第１実施形態と同様な効果
を奏する。

【００３０】なお、本実施形態では、支持部材１７ａの
一部を強磁性体で構成したが、支持部材１７ａ全体を強
磁性体で構成してもよい。

【００３１】図８は、上述の第１および第３実施形態の
基板処理装置の第１の変形例を示す部分断面図である。
この変形例では、載置台１５の下面に磁石２１がぴった
りと嵌まり込む取付凹部４１ａが設けられ、この取付凹
部４１ａ内に磁石２１が接着剤により固定されている。

【００３２】図９は、上述の第１および第３実施形態の
基板処理装置の第２の変形例を示す部分断面図である。
この変形例では、載置台１５の下面に磁石２１が押さえ
金具５３により固定されている。

【００３３】図１０は本発明の第４実施形態の基板処理
装置に備えられる載置台６１の周辺の構成を示す右側面
図であり、図１１は図１０のＡ−Ａ線断面図である。本
実施形態の基板処理装置は、上述の第１実施形態の基板
処理装置と同様な減圧乾燥装置であり、載置台６１の下
面側に設置された移動手段６３により磁石２１を水平移
動させて、支持部材１７を載置面２３に沿って移動させ
る点を除いて第１実施形態の基板処理装置と同様な構成
であり、対応する部分には同一の参照符号を付して説明
を省略する。

【００３４】移動手段６３は、上端部にそれぞれ磁石２
１が取付けられた４個のブラケット６５ａ，６５ｂ，６
７ａ，６７ｂと、このブラケット６５ａ，６５ｂ，６７
ａ，６７ｂを前後方向に移動させる左右一対の第１移動
部６９ａ，６９ｂと、ブラケット６５ａ，６５ｂ，６７
ａ，６７ｂを第１移動部６９ａ，６９ｂと共に左右方向
に移動させる第２移動部７１とを備えている。

【００３５】左右の第１移動部６９ａ，６９ｂは、前後
方向に互いに離間させて、左右方向に沿って載置台６１
の下面に取付けられたガイド７３，７５に摺動可能に取
付けられた摺動部材７７，７９に固定されており、互い
に近接および離反するように左右方向に移動可能になっ
ている。ここで、右側のブラケット６５ａ，６７ａおよ
び第１移動部６９ａと左側のブラケット６５ｂ，６７ｂ
および第１移動部６９ｂとは、左右対称な構造であり、
互いに対応する部分には同一の参照符号を付すものとす
る。また、ここでは、右側のブラケット６５ａ，６７ａ
および第１移動部６９ａのみを説明し、左側のブラケッ
ト６５ｂ，６７ｂおよび第１移動部６９ｂついては説明
を省略する。なお、ブラケット６５ｂは、図面上には現
れていない。

【００３６】第１移動部６９ａは、前述の摺動部材７
７，７９に固定されたプレート８１と、ベルト８３を駆
動するための駆動プーリ８５および従動プーリ８７と、
駆動プーリ８５を回転駆動するモータ８９と、前後方向
に沿って延びるガイド９１とを備えて構成され、駆動軸
に駆動プーリ８５が固定されたモータ８９、従動プーリ
８７およびガイド９１はプレート８１に取付けられてお
り、一体となって左右方向に移動するようになってい
る。

【００３７】図１２はブラケット６５ａの取付け部の構
成を示す断面図であり、図１３はブラケット６７ａの取
付け部の構成を示す断面図である。ブラケット６５ａ
は、図１２に示されるように、前後方向に摺動可能にガ
イド９１に取付けられた摺動部材９３と、ガイド９１と
平行になるように駆動プーリ８５および従動プーリ８７
に巻掛けられたベルト８３の上側部分８３ａとにねじ９
５によって固定されている。ブラケット６７ａは、図１
３に示されるように、前後方向に摺動可能にガイド９１
に取付けられた摺動部材９７と、ベルト８３の下側部分
８３ｂとにねじ９９によって固定されている。

【００３８】また、ブラケット６５ａ，６７ａは、ブラ
ケット６５ａがブラケット６７ａの前方側に位置するよ
うに取付けられており、これによって、駆動プーリが矢
印Ｂ１方向に回転駆動されると、ベルト８３の上側部分
８３ａが矢印Ｃ１方向、即ち後方に駆動され、下側部分
８３ｂが矢印Ｃ２方向、即ち前方に駆動されて、ブラケ
ット６５ａ，６７ａが、互いの間隔が狭くなるように移
動される。反対に、駆動プーリが矢印Ｂ２方向に回転駆
動されると、ベルト８３の上側部分８３ａが矢印Ｃ２方
向に駆動され、下側部分８３ｂが矢印Ｃ１方向に駆動さ
れて、ブラケット６５ａ，６７ａが、互いの間隔が広く
なるように移動される。

【００３９】第２移動部７１は、左右の第１移動部６９
ａ，６９ｂ毎に設けられたボールねじ１０１，１０３
と、各ボールねじ１０１，１０３のねじ軸１０５，１０
７を回転駆動するモータ１０８とを備えて構成されてい
る。ボールねじ１０１，１０３の各ねじ軸１０５，１０
７は、左右方向に沿って載置台６１の下面に回転可能な
状態で取付けられており、このねじ軸１０５，１０７と
螺合するナット体１０９，１１１は、第１移動部６９
ａ，６９ｂの各プレート８１に固定されている。各ねじ
軸１０５，１０７の互いに対向する内側端部には、モー
タ１０８の駆動軸に連結されたかさ歯車１１３と噛合す
るかさ歯車１１５，１１７がそれぞれ連結されており、
モータ１０８が回転駆動すると、これに伴って外周部に
同一方向のねじ溝が形成されたねじ軸１０５，１０７が
互いに逆方向に正逆転駆動される。

【００４０】モータ１０８によりねじ軸１０５，１０７
が回転駆動されると、各ねじ軸１０５，１０７の回転方
向に応じて第１移動部６９ａ，６９ｂと共に左右のブラ
ケット６５ａ，６７ａおよび６５ｂ，６７ｂが、左右方
向に沿って互いに近接または離反するように移動され
る。

【００４１】一方、載置台６１の載置面２３上には、各
ブラケット６５ａ，６５ｂ，６７ａ，６７ｂの上端部に
備えられた４個の磁石２１と対向する各位置に、４個の
支持部材１７がそれぞれ載置されており、各支持部材１
７の磁石１９とこれに対向する磁石２１とは、載置台６
１を介して、磁力により互いに引き合っている。このた
め、前述のようにして第１移動部６９ａ，６９ｂおよび
第２移動部７１が駆動され、ブラケット６５ａ，６５
ｂ，６７ａ，６７ｂに伴って磁石２１が前後左右に移動
されると、支持部材１７が載置面２３上に沿って前後左
右に移動するようになっている。

【００４２】第１移動部６９ａ，６９ｂの各モータ８９
および第２移動部７１のモータ１０８は、制御部（図示
せず）により互いに連動して駆動されるようになってい
る。制御部には、大きさの異なる複数種類の基板サイズ
が予め登録されており、処理する基板１１の種類が作業
者により入力部（図示せず）から入力されると、この入
力データに基づいて制御部により各モータ８９およびモ
ータ１０８が駆動され、４個の支持部材１７が、各支持
部材１７の前後方向の間隔および左右方向の間隔が拡大
および縮小するようにして載置面２３に沿って移動さ
れ、支持部材１７が処理すべき基板１１の四隅に当接す
る位置まで移動されると、各モータ８９およびモータ１
０８が停止される。

【００４３】載置台６１は、支持部材１７の移動を妨げ
ないように非磁性体、ここではアルミニウムで形成され
ており、その下面側の磁石２１が移動される領域には、
支持部材１７の磁石１９と磁石２１との間の距離を小さ
くするために、凹部１１９が設けられている。

【００４４】以上のように本実施形態によれば、支持部
材１７の設置位置が容易に変更可能であると共に、載置
台６１の載置面２３が平坦な構成となっているので、載
置台６１の清掃が容易であり、パーティクルによる基板
１１の汚染を防止することができ、減圧に要する時間を
短くすることができるという第１実施形態と同様な効果
を奏する共に、移動手段６３により支持部材１７を載置
面２３上に磁気吸着した状態で前後左右に連続的に移動
移動させることができるので、任意の大きさの基板１１
に対応することができる。

【００４５】また、載置台６１および蓋１６により形成
される密閉空間の外部から載置台６１を介して移動手段
６３により支持部材１７が移動されるので、特別なシー
ルを施す必要がなく、外部から密閉空間内にパーティク
ルが侵入することもない。

【００４６】さらに、支持部材１７が基板１１の大きさ
に応じた所定の位置に移動手段６３により自動的に移動
されるので、作業者が支持部材１７をわざわざ移動させ
る必要がなく、作業効率を向上させることができる。

【００４７】なお、上述の各実施形態では、支持部材１
７，１７ａが直接載置台１５，１５ａ，６１の上面に当
接するようにようにしたが、載置台１５，１５ａ，６１
の上面を樹脂、或いは薄いセラミック等で被覆し、支持
部材１７，１７ａがこの被覆層を介して載置台１５，１
５ａ，６１上に載置されるようにしてもよい。

【００４８】図１４は、本発明の第５実施形態の基板処
理装置の断面図である。本実施形態の基板処理装置は、
基板１１を現像液等の所定の薬液１２１に浸して薬液処
理を行うためのものであり、前記所定の薬液１２１で満
たされた薬液槽１２３の底部１２５（載置台）の上面１
２７（載置面）には、基板１１を支持するための４個の
支持部材１７が設置されており、薬液槽１２３の底部１
２５の下面側に備えられた４個の磁石２１を、上述の第
４実施形態の基板処理装置に備えられる移動手段６３と
同様な構成の移動手段１２９により前後左右に移動させ
ることにより、支持部材１７が前記上面１２７に沿って
移動されるようになっている。

【００４９】移動手段１２９が上述の移動手段６３と対
応する部分には、同一の参照符号を付して説明を省略す
る。

【００５０】本実施形態でも、支持部材１７の設置位置
が容易に変更可能であり、薬液槽１２３の底部１２５の
上面１２７が平坦な構成となっているので薬液槽１２３
の清掃が容易であり、任意の大きさの基板１１に対応す
ることができると共に、支持部材１７が、薬液槽１２３
の外部から薬液槽１２３を介して移動手段１２９により
移動されるので、特別なシール等を施す必要がない。

【００５１】また、作業者が手を薬液１２１で満たされ
た薬液槽１２３内に挿入して支持部材１７をわざわざ移
動させる必要がないので、作業性がよい。

【００５２】なお、上述の第１、第３ないし第５実施形
態では、支持部材１７，１７ａを磁気吸着して載置面２
３（上面１２７）上に固定するための磁石部材に磁石２
１を用いたが、電磁石でもよい。

【００５３】

【発明の効果】以上のように、第１ないし第３発明によ
れば、基板を支持する支持部材の設置位置が基板の大き
さに応じて容易に変更可能であると共に、支持部材が設
置される載置台の載置面が平坦な構成となっているの
で、載置台上にパーティクルが溜まりにくく、載置台の
清掃が容易であり、従来のように載置台上の孔に溜まっ
たパーティクルが基板に付着することがなく、パーティ
クルによる基板の汚染を防止することができる。

【００５４】また、第４発明によれば、移動手段により
支持部材が移動されので、作業者が支持部材をわざわざ
移動させる必要がなく、作業性がよいと共に、載置台の
下面側に備えらえた磁石を移動手段により移動させるこ
とにより、支持部材が移動されるので、移動手段より発
生するパーティクルが基板に付着し、基板を汚染するこ
とがない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態の基板処理装置の断面図
である。

【図２】図１の基板処理装置の要部断面図である。

【図３】図１の基板処理装置の載置台の平面図である。

【図４】図１の基板処理装置に備えられる支持部材の載
置台上における小型の基板に対応した設置位置を示す平
面図である。

【図５】図１の基板処理装置に備えられる支持部材の載
置台上における大型の基板に対応した設置位置を示す平
面図である。

【図６】本発明の第２実施形態の基板処理装置の要部断
面図である。

【図７】本発明の第３実施形態の基板処理装置の要部断
面図である。

【図８】上記第１および第３実施形態の基板処理装置の
第１の変形例を示す要部断面図である。

【図９】上記第１および第３実施形態の基板処理装置の
第２の変形例を示す要部断面図である。

【図１０】本発明の第４実施形態の基板処理装置に備え
られる載置台の周辺部の構成を示す右側面図である。

【図１１】図１０のＡ−Ａ線断面図である。

【図１２】図１０の基板処理装置に備えられるブラケッ
トの取付け部の構成を示す断面図である。

【図１３】図１０の基板処理装置に備えられるブラケッ
トの取付け部の構成を示す断面図である。

【図１４】本発明の第５実施形態の基板処理装置の断面
図である。

【図１５】従来の基板処理装置を示す図である。

【符号の説明】

１１ 基板 １５，１５ａ 載置台 １７，１７ａ 支持部材 １９ 磁石 ２１ 磁石 ２３ 載置面 ５１ 強磁性体 ６１ 載置台 ６３ 移動手段 １２３ 薬液槽 １２９ 移動手段

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板をほぼ水平に支持しつつ、その基板
   に所定の処理を施す基板処理装置において、 前記基板の下面に当接する頭部を有すると共に、配置位
   置が変更可能であり、少なくとも一部分が磁石材料で構
   成される複数の支持部材と、 前記支持部材が載置される上向きの平坦な載置面を有
   し、少なくとも前記支持部材が対向する部分が強磁性体
   で構成される載置台と、を備えることを特徴とする基板
   処理装置。
2. 【請求項２】 基板をほぼ水平に支持しつつ、基板に所
   定の処理を施す基板処理装置において、 前記基板の下面に当接する頭部を有すると共に、配置位
   置が変更可能であり、少なくとも一部分が強磁性体で構
   成される複数の支持部材と、 前記支持部材が載置される上向きの平坦な載置面を有す
   る載置台と、 前記載置台の下面側に設けられ、前記載置台を介して前
   記支持部材との間に生じる磁気吸着力により、前記支持
   部材を前記載置台に固定する磁石部材と、を備えること
   を特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】 基板をほぼ水平に支持しつつ、その基板
   に所定の処理を施す基板処理装置において、 前記基板の下面に当接する頭部を有すると共に、配置位
   置が変更可能であり、少なくとも一部分が磁石材料で構
   成される複数の支持部材と、 前記支持部材が載置される上向きの平坦な載置面を有す
   る載置台と、 前記載置台の下面側に設けられ、前記載置台を介して前
   記支持部材との間に生じる磁気吸着力により、前記支持
   部材を前記載置台に固定する磁石部材と、を備えること
   を特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 前記磁石部材をほぼ水平方向に移動させ
   て、前記支持部材を前記載置面に沿って移動させる移動
   手段をさらに備えることを特徴とする請求項２または３
   に記載の基板処理装置。