JPH10174801A - 模擬移動床吸着装置内での2つの流体分配管路を含む洗浄装置およびその使用 - Google Patents

模擬移動床吸着装置内での2つの流体分配管路を含む洗浄装置およびその使用

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JPH10174801A
JPH10174801A JP9335647A JP33564797A JPH10174801A JP H10174801 A JPH10174801 A JP H10174801A JP 9335647 A JP9335647 A JP 9335647A JP 33564797 A JP33564797 A JP 33564797A JP H10174801 A JPH10174801 A JP H10174801A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】溶媒の消費量の増加と、生産性の低下と、純度
の非常に大幅な低下と、収率の低下といった問題を解消
する。 【解決手段】 本発明洗浄装置では、各床が第1および
第2流体分配管路2,1 を含む分配装置5 に連結される。
各分配装置の第1分配管路2 が少なくとも1つの仕込原
料導入管路7 と所望物質に乏しい流出物の少なくとも1
つの抜出し管路8とに連結されるか、あるいは少なくと
も1つの溶媒導入管路3 と所望物質に富む流出物の少な
くとも1つの抜出し管路4 とに連結される。第2分配管
路1 が第1分配管路2 に連結されない少なくとも1つの
導入管路と少なくとも1つの抜出し管路とに連結され
る。各導入管路と各抜出し管路とが弁7a,8a,3a,4aの全
部を有するかまたは有さず、第1分配管路2 が洗浄弁9
を有し、第1分配管路2 全体に対する洗浄弁9 全体が、
移動すべき流体の循環手段100,102に連結される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、模擬移動床吸着装
置内における仕込原料の向流または並流での洗浄装置お
よびその使用に関する。
【0002】本発明は、とりわけ非常に高純度のパラキ
シレンを製造するための、特に炭素原子数8を有する芳
香族炭化水素の分離に適用される。
【0003】
【従来の技術】技術背景は、特許US-3201491、WO-96/12
542 、EP-A-0787517およびUS-3268605により例証され
る。
【0004】模擬向流床または模擬移動床での吸着によ
る分離方法においては、必然的に下記が見出される: - 閉鎖回路で配置される吸着床(または固定相)の一
式。床の全数は、一般に3〜24である。
【0005】- 該床の各々と、分離装置に供給される
流、例えば溶媒、分離すべき仕込原料および内部還流と
の連結手段。
【0006】- 該床の各々と、分離装置から生じた流、
例えば抽出物およびラフィネートとの連結手段。
【0007】- 該床の各々と、(流体の循環方向におい
て)次に来る床との連結手段。
【0008】実施形態の特別なタイプによれば、最終床
と第1床との間の流体再循環装置(ポンプまたは圧縮
器)か、あるいは連続する2床間の流の遮断(弁の全部
または皆無)の確保を可能にする装置か、あるいは各床
の入口での流量および/または圧力の調節を可能にする
装置が見出される。
【0009】実施形態の2つのタイプが使用できる: - 各床は独立容器内に含まれ、管路は該床を次に来る床
に連結する。この場合、該管路に、導入されかつ排出さ
れる流による独立管路を接続させるようにするのが有利
である。大きなサイズを用いる実施形態例を成す東レ社
製のAROMAX方法は、この実施形態の分類に整理される。
個別の床は単一塔に配置されるにも拘らず、該床は中実
の板により分離される。各床から生じた流体全体は、塔
から排出されかつ塔に戻る管路により集められて、新た
に次に来る床に供給されるようになる。
【0010】より一般に、小さいサイズの装置に関して
は、特別な容器内に各床を隔離して、該床を管路により
次に来る床と連結させるのが適している。
【0011】この実施形態のタイプでは、導入される
か、または排出される流により、および床により管路を
使用するのは容易であり、これにより、流のあらゆる汚
染問題が別の流により回避される。
【0012】いくつかの床が単一の容器または塔内に含
まれる。該床の各々が、分配板により次に来る床から分
離され、該分配板は、次の4つの機能を満たさねばなら
ない:・床の終りに回収された流体を集めること、 ・流体から抜出される部の組成が流体全体の組成と同一
であるように、該流体の一部をいくつかのサイクル段階
の間に抜出すこと、 ・いくつかのサイクル段階の間に外部流体を内部流体中
に注入して、組成の均一混合を行うこと、および ・流体を次に来る床の入口に分配すること。
【0013】特許US-2985589に記載されているPAREX 方
法は、吸着剤を含む床の各床に向けて、弁により少なく
とも2つの導入流と2つの排出流とを連続的にどのよう
に連結するのが可能であるかを示している。
【0014】この特許は、分配器の各々が単一管路によ
り弁に連結され、該弁により、連続的に各分配器が仕込
原料に、次いで抽出物に、次いで溶媒に、次いでラフィ
ネートに接続されることを明白に示す。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】従って、このやり方で
は、各流が、特定流を特定床に接続する時に共通管路の
内容物により汚染された状態で存在するので、プロセス
の性能(純度および収率)をかなり低下させる不都合が
示される。
【0016】純粋に例示的に、12床に再分割されかつ
次のように作用する塔が考えられる: (12周期からなる)サイクルの第1周期では、溶媒が
第1床に注入され、抽出物が第3床から採取され、仕込
原料が第7床に注入され、ラフィネートが第9床から採
取される。サイクルの第2周期の始めにおいて、注入箇
所と抜出し箇所とが1床ずらされており、第2床に注入
される溶媒、第4床から抜出される抽出物、第8床に注
入される仕込原料および第10床から抜出されるラフィ
ネートが見出される。従って、サイクルは、第12周期
まで続けられ、該周期において、溶媒は第12床に注入
され、抽出物は第2床から抜出され、仕込原料は第6床
に注入され、ラフィネートは第8床から抜出される。
【0017】従って、第1周期の終りに、第1分配器を
流の管理を確保する弁に連結させる管路は、溶媒で満た
されている。従って、第4周期の始めに、ラフィネート
は、第1周期中に溶媒の注入に使用された管路を用いて
第12床から抜出される。該管路の容積の排出に必要な
時間の間、ラフィネートが抜出される代わりに溶媒が抜
出される。従って、その結果、無用な希釈が、要するに
溶媒の過剰消費により現われて、それ故に追加費用を要
することになる。第4周期の終りに、該管路はラフィネ
ートで満たされている。第7周期中に、仕込原料は第1
床に注入される。しばらくの間、仕込原料が注入される
代わりにラフィネートが第1床内に押し返される。その
結果、仕込原料のパラキシレンがラフィネートによる希
釈を被る。装置の生産性は、仕込原料中のパラキシレン
濃度に比例するので、正味の結果は生産性の低下であ
る。第7周期の終りに、管路は仕込原料で満たされてい
る。第2周期中に、抽出物は第12床から抜出される。
管路の一掃に必要な時間の間、抽出物が抜出される代わ
りに仕込原料が抜出される。その結果、仕込原料のパラ
キシレン含有量は20%程度(つまり不純物80%)で
あるので、非常に大きな純度の低下が生じる。この汚染
により、高純度のパラキシレンの製造が不可能になる。
第10周期の終りに、管路は抽出物で満たされている。
第1周期の初めに、管路の内容物をパラキシレン脱着帯
域(帯域1)の初めにある吸着器内に押し返す。従っ
て、このパラキシレンの一部は、固定相で吸着されて留
まることになり、後にラフィネート流中の一部において
塩析される。従って、その結果、パラキシレン収率の損
失を生じる。
【0018】要するに、プロセスの4つの流の各々を分
配板の入口に接続する共通管路の使用による汚染は、溶
媒の消費量の増加と、生産性の低下と、純度の非常に大
幅な低下と、収率の低下とを引き起こす。
【0019】PAREX 方法において、注入が、抽出物の抜
出しと仕込原料の注入との間に介在するのは公知である
にも拘らず、この主題に関して発行されている2つの文
献のみが、一方において、抽出物と仕込原料の間か、あ
るいは仕込原料とラフィネートの間に位置する蒸留抽出
物または蒸留ラフィネートの1つまたは2つの内部還流
の注入に関し(特許US-3761533)、他方において、不確
定種類の洗浄流体のさらに不確定位置での注入に関する
(特許US-4434051)。仕込原料と抽出物との間に抽出物
または溶媒を再注入することは、純度の大幅な低下の問
題を単に解消するだけである。
【0020】本出願人のELUXYL方法では、種々の流と床
の各々との間の全接続を行う単一弁による代わりに、流
および床による弁の全部を用いるかまたはいずれも用い
ない。
【0021】該弁の各々が、それが通じている床のやや
近くに位置するにも拘らず、各分配器を、溶媒弁、抽出
物弁、仕込原料弁、ラフィネート弁および場合によって
は内部還流弁に連結しなければならない。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明の対象は、先行技
術の不都合を改善することにある。
【0023】より正確には、本発明は、吸着剤の複数の
床(10)(11)を含む模擬移動床(移動床またはこれに近似
したもの)での吸着による、所望物質を含む仕込原料の
分離装置内での洗浄装置に関し、該装置は、該床の各々
が、第1および第2流体分配管路(2)(1)を含む分配装置
(5) に連結され、各分配装置の第1分配管路(2) が、少
なくとも1つの仕込原料導入管路(7) と所望物質に乏し
い流出物の少なくとも1つの抜出し管路(8) とに連結さ
れるか、あるいは少なくとも1つの溶媒導入管路(3) と
所望物質に富む流出物の少なくとも1つの抜出し管路
(4) とに連結され、第2分配管路(1) が、前記第1分配
管路(2) に連結されない少なくとも1つの導入管路と少
なくとも1つの抜出し管路とに連結され、各導入管路と
各抜出し管路とが弁(7a)(8a)(3a)(4a)の全部を有するか
またはどの弁も有さず、前記第1分配管路(2) が洗浄弁
(9) を有し、第1分配管路(2) 全体に対する洗浄弁(9)
全体が、移動すべき流体の循環手段(100)(102)に連結さ
れることを特徴とする。
【0024】さらに該洗浄装置は、洗浄弁(9) と弁(3a)
(4a)(7a)(8a)の全部または皆無(全部の弁がない)との
開口あるいは閉口制御装置 (50) を備える。
【0025】装置を使用する操作条件および吸着剤の選
択は、所望物質、例えばC8 芳香族異性体の混合物に由
来するパラキシレンに乏しい流出物がラフィネート(最
も吸着されなかった留分)中にあり、かつパラキシレン
に富む流出物が抽出物(最も吸着された留分)中にある
ようなものである。しかしながら、特許US-4490830によ
れば、ラフィネートが所望物質に富むものであるよう
に、かつ抽出物が所望物質に乏しいものであるように吸
着剤を変更することが可能である。
【0026】装置の特徴によれば、流体の循環手段は、
少なくとも1つの流体循環ポンプ(102) と、第1分配管
路(2) 内を循環する流体の少なくとも1つの流量調節手
段(103)(104)とを有する。
【0027】別の特徴によれば、第2分配管路(1) は洗
浄弁(19)を有し、第2分配管路(1)全体に対する洗浄弁
全体が、移動すべき流体の循環手段(100b)に連結され
る。この循環手段は第1分配管路に連結される手段に類
似するものである。
【0028】例えば、第1分配管路(2) が、仕込原料の
導入管路(7) および所望物質に乏しい流出物の抜出し管
路(8) に連結される場合、第2分配管路(1) は、溶媒導
入管路(3) および所望物質に富む流出物の抜出し管路
(4) に連結される。この場合、洗浄弁(19)と循環管路(1
00b)とにより、所望物質を溶媒により過度に希釈するこ
とを回避しかつ所望物質に富む流出物の少量を溶媒注入
の初めに再注入することを回避する。
【0029】制御装置は、プロセスを成立させるサイク
ルと周期との適当な時間を有する方法の別の操作方法を
用いて同期的に該洗浄弁の開口および閉口を作用するの
に適用されてよい。
【0030】吸着方法は、模擬向流(向流に近似したも
の)または模擬並流(並流に近似したもの)であってよ
い。該方法は、次の特許:US-2985589、US-4498991、US
-5422007およびEP-B-531191 に記載されている。
【0031】脱着剤すなわち溶媒は液相であってよい
し、あるいは超臨界相、亜臨界相またはガス相であって
もよい。これらの条件下、溶媒の循環ポンプによって、
圧縮器もまた注目される。
【0032】本発明は、仕込原料から該仕込原料の成分
の少なくとも1成分を分離する方法における、流体分配
装置(5) と、流体の導入および抜出し用の弁(7a)(8a)の
全部または皆無と、洗浄弁(9) との間の少なくとも1つ
の第1分配管路(2) 上に位置する容積共通区間(v) を、
各周期において特定の床のレベルで洗浄するための洗浄
装置の使用にも関する。
【0033】この分離方法は、テレフタル酸またはテレ
フタル無水物の調製、ナイロンまたはテレフタル酸メチ
ルの合成における中間体およびいくつかのプラスチック
物質の合成における中間体のための、キシレンを含む炭
素原子数8の芳香族炭化水素仕込原料からのパラキシレ
ンの分離に適用されてよい。
【0034】該方法は、ジエチルベンゼンの分離、並び
にエチルベンゼン、ノーマルおよびイソパラフィン、オ
レフィン、スクロースの分離、より一般には例えば吸着
またはクロマトグラフィーによる物質の混合物の分離お
よび光学異性体の分離にも適用されてよい。
【0035】該方法は、十分な脱着剤であるジエチルベ
ンゼン混合物からのパラジエチルベンゼンの分離に適用
されてよい。
【0036】該方法の特徴によれば、交換期間の少なく
とも一部に相当する時間(T) の間、流量v/T で同期的に
第1分配管路(2) に対する共通区間(v) の内容物を抜出
してよい。
【0037】別の特徴によれば、交換期間の少なくとも
一部に相当する時間(T) の間、流量v'/Tで同期的に第2
分配管路(1) に対する共通区間(v')の内容物を同様に抜
出してもよい。
【0038】脱着剤および仕込原料の各々により、分配
装置に供給を行う各分配管路を洗浄して、抽出物の純度
とラフィネートの純度とを同時に重視することも可能で
ある。
【0039】
【発明の実施の形態】本発明は、図式的に装置を例証す
る下記図面を検討してより良く理解されるものである。
【0040】・図1は、装置の洗浄を行うために使用す
べき手段の一式を示し、 ・図2は、吸着器の床の内の1つの床レベルでの装置の
一変形例を詳細に表す。図1および図2によれば、1つ
または複数の塔内に局在されかつ適当な吸着剤を含む吸
着器(20)は、例えば17の床(10)(11)を備える。各床
は、分配板(5) により第1分配管路(2) に接続され、該
管路(2) は、導入管路(7) による仕込原料の供給、ある
いは弁(7a)(8a)により調節される所望物質に乏しいラフ
ィネートの抜出し管路(8) による抜出しを周期的に受け
る。
【0041】分配板(5) に連結された第2分配管路(1)
は、溶媒導入管路(3) と所望物質に富む抽出物の抜出し
管路(4) とに接続される。
【0042】さらに第1分配管路(2) は、(吸着器から
採取された)洗浄流体の循環管路(100) に連結され、該
循環管路は、吸着剤床(10)(11)全体から来るすべての第
1分配管路(2) からの洗浄流体を受容する。各管路(2)
の流量は、導入管路(7) または抜出し管路(8) と管路(1
00) との間に位置する洗浄弁(9) により調節される。ブ
ロック弁(13)は、導入管路(7) または抜出し管路(8) と
分配板(5) との間の管路(2) 上に位置しかつ特定の床を
隔離することを可能にする。洗浄弁(9) 全体は、開口ま
たは閉口制御装置(50)に接続され、該制御装置は、装置
の弁(7a)(8a)(13)全体の作動を制御することも可能であ
る。
【0043】簡略化への配慮により、図1において、1
から17に番号付けられた洗浄弁(9) は、吸着器(20)の
17の床に対応する。循環管路(100) は、調整弁(103)
を経る管路(101) により、例えば仕込原料ポンプ(102)
の導入口に連結される。循環管路(100) 内の流量は、調
整弁(103) および流量計(104) により調節される。
【0044】従って、上記の装置により、分配板(5) 、
弁(7a)(8a)および洗浄弁(9) の間の第1分配管路(2) の
区間の内容物を吸い上げることが可能になる。該内容物
は、仕込原料またはラフィネートである。このようにし
て、抽出物に対する仕込原料またはラフィネートの汚染
のあらゆるリスクが回避される。
【0045】同じ分配板(5) において、ブロック弁(12)
を含む第2分配管路(1) は、抽出物抜出し管路(4) およ
び溶媒導入管路(3) に連結され、該抽出物抜出し管路
(4) および溶媒導入管路(3) の流量は、各々弁(4a)およ
び弁(3a) により調節される。
【0046】分配板(5) の上流にあるブロック弁(12)
は、第2分配管路(1) 上の吸着剤床を隔離する。分配板
(5) 全体に対応する全ての弁は、その開口または閉口を
集中自動制御する制御装置(50)により調節されてよい。
【0047】抽出物を無益に希釈することを回避するの
が望まれる場合、第2分配管路(1)を別の洗浄弁(19)を
経る別の循環管路(100b)に連結させてもよい(図2参
照)。循環管路(100b)は、調節された流量で例えば(図
2に無表示の)溶媒ポンプの吸い上げ手段に連結され
る。洗浄弁(19)の全体は、(図2に無表示の)集中自動
制御装置により調節される。
【0048】第2分配管路(1) による溶媒の注入および
抽出物の抜出し、並びに洗浄弁を使用しないで第1分配
管路(2) による仕込原料の注入およびラフィネートの抜
出しの不都合は、次の通りである:抽出物で満たされて
いる第2分配管路(1) 内に溶媒を注入する場合、その結
果として、収率の相当な損失が生じる。第2分配管路
(1) を経て抽出物を抜出す場合、該抽出物は溶媒で満た
されている。その結果、無益な希釈が生じ、該希釈は、
溶媒の過剰消費となって現れる。仕込原料を第1分配管
路(2) 内に注入する場合、該仕込原料はラフィネートで
満たされており、その結果、仕込原料成分のラフィネー
トによる無益な希釈が生じる。最後に、第1分配管路
(2) を経てラフィネートを抜出す場合、該管路は仕込原
料で満たされており、その結果、収率の大きな損失が生
じる。
【0049】従って、洗浄弁(9) の目的は、まさしくラ
フィネートを抜出す前に第1分配管路(2) 内に含まれる
仕込原料を抜出して、ラフィネート弁が開口される時に
は、該第1分配管路(2) がすでにラフィネートで満たさ
れているようにする。第1分配管路(2) に含まれかつ洗
浄弁(9) を経て抜出される仕込原料は、流量調節手段で
ある調整弁(103) と流量計(104) 、並びに管路(101) に
より仕込原料ポンプ(102) の吸い上げ手段に再送され
る。第2分配管路(1) は抽出物および溶媒に共通してい
るので、この配置が、抽出物形態で抜出される成分の純
度を向上することを目的とすることが理解される。抽出
物の純度の代わりにラフィネートの純度の向上が望まれ
る場合、第2分配管路(1) 上に溶媒とラフィネートとを
集め、第1分配管路(2) 上に仕込原料と抽出物と洗浄流
体とを集める。
【0050】仕込原料とラフィネートとの流に共通する
管路の内容物の抜出しが望まれる場合、これを周期中に
開始される別の操作を用いて同期的に実施しなければな
らない。
【0051】ラフィネートの抜出しの直前に先行する周
期の間、第1分配管路(2) の共通区間内に含まれる仕込
原料の詰まり分(bouchon)の吸い上げが望まれる場合、
次のように処理される:サイクルの第1周期では、ラフ
ィネートが第12 床から抜出される(第13 弁が、第12
床の出口および第13床の入口に通じる)と仮定しよ
う。第14 洗浄弁(9) は開口され、(仕込原料の)共通
区間の内容物は、管路(100) および管路(101) を経て仕
込原料ポンプの吸い上げ手段に向けて排出される。T 以
下の時間の間、流量v/T 以上を課して、共通区間の容積
が、周期中に少なくとも1回一掃されるようにする。こ
の流量は、調整弁(103) と流量計(104) とにより調整さ
れる。
【0052】図3から図6において、Sは溶媒、Eは抽
出物、Fは仕込原料、Rはラフィネート、D1 、D2 、
D3 、D4 は流量をそれぞれ意味する。
【0053】この操作の終りにおいて、共通区間の内容
物は、もはや仕込原料ではなく、希釈ラフィネートであ
る。仕込原料の平均流量は、回収された仕込原料の詰ま
り分を用いることにより、仕込原料の過剰消費を生じな
いでv/T だけ増加される。
【0054】装置内の流量収支の見地から、共通区間の
無い理想的な装置の流量とできるだけ同じに近い流量を
保証することが望まれる。溶媒導入管路(3) の流量(D3)
と抽出物抜出し管路(4) の初めの流量とがv/T だけ増加
される図3のように行ってよい。しかしながら、溶媒導
入管路(3) における流量の増加は、収率の損失を引き起
こす。従って、仕込原料とラフィネートとの正味の流量
がv/T だけ減少される図4のフローチャートが好まし
い。この場合、仕込原料とラフィネートとに共通する管
路区間の無い理想的なフローチャートに比して、生産性
はより低いものである。しかしながら、共通区間を用い
るが管路の洗浄を用いないフローチャートに比して、収
率の損失が回避されるので、生産性が維持される。理想
的なフローチャートに対する唯一の内部流量差は、抽出
物抜出し管路(4) の第1床が僅かに大きな流量を体験す
ることであり、このことは、ほとんど重要でない。
【0055】2つの洗浄弁の各段階を備え、溶媒と抽出
物とが同じ管路により搬送されることに関連する不都合
をさらに解消するようにすることは当然可能である。こ
の場合、洗浄弁(19)が第2分配管路(1) に接続され、図
1の洗浄装置に類似する洗浄装置が吸着器に追加され
る。
【0056】従って、第2分配管路(1) の共通区間内に
含まれる溶媒が回収され、該溶媒を溶媒ポンプの吸い上
げ手段に再送して、溶媒の節約を現実化するようにす
る。このことは、操作費用の見地から常に有利である。
【0057】吸着器内の流量収支の見地から、図5およ
び図6が、図3および図4の単なる置き換えを構成する
ことは、当業者にとっては自明である。
【0058】この操作は、他の弁の開口と同期化して行
われるものである。
【0059】抽出物の抜出しの直前に先行する周期の
間、第2分配管路(1) の共通区間内に含まれる溶媒の詰
まり分の吸い上げが望まれる場合、次のように処理され
る:サイクルの第1周期では、抽出物が第4床から抜出
される(第5弁が、第4床の出口および第5床の入口に
通じる)と仮定しよう。第5洗浄弁は開口され、(溶媒
の)共通区間の内容物は、管路(100b)を経て溶媒ポンプ
の吸い上げ手段に向けて排出される。T 以下の時間の
間、流量v'/T以上を課して、共通区間の容積が、周期中
に少なくとも1回一掃されるようにする。
【0060】この操作の終りにおいて、共通区間の内容
物は、もはや溶媒ではなく、濃縮抽出物である。溶媒の
平均流量は、回収された溶媒の詰まり分を用いることに
より、溶媒の過剰消費を生じないでv'/Tだけ増加され
る。
【0061】装置内の流量収支の見地から、共通区間の
無い理想的な装置の流量とできるだけ同じに近い流量を
保証することが望まれる。第2分配管路(1) の流量と第
1分配管路(2) の初めの流量とがv'/Tだけ増加される図
5のように行ってよい。しかしながら、溶媒と抽出物と
の正味の流量がv'/Tだけ減少される図6のフローチャー
トが好ましい。この場合、溶媒と抽出物とに共通する管
路区間の無い理想的なフローチャートに比して、生産性
はより低いものである。しかしながら、共通区間を用い
るが管路の洗浄を用いないフローチャートに比して、収
率の損失が回避されるので、生産性が維持される。理想
的なフローチャートに対する唯一の内部流量差は、第1
分配管路(2) の第1床が僅かに大きな流量を体験するこ
とであり、このことは純度を向上させる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す洗浄装置のフローチャー
トである。
【図2】本発明の実施例を示す洗浄装置のフローチャー
トである。
【図3】洗浄装置の各箇所における流量を示すフローチ
ャートである。
【図4】洗浄装置の各箇所における流量を示すフローチ
ャートである。
【図5】洗浄装置の各箇所における流量を示すフローチ
ャートである。
【図6】洗浄装置の各箇所における流量を示すフローチ
ャートである。
【符号の説明】
S:溶媒 E:抽出物 F:仕込原料 R:ラフィネート D1 、D2 、D3 、D4 :流量 v、v´:共通区間 T:時間 1:第2流体分配管路 2:第1流体分配管路 3:溶媒導入管路 4:抽出物抜出し管路(流出物抜出し管路) 5:分配板(分配装置) 7:仕込原料導入管路 8:ラフィネート抜出し管路(流出物の抜出し管路) 7a、8a、3a、4a:弁 9、19:洗浄弁 10、11:吸着剤の床 12、13:ブロック弁 20:吸着器(分離装置) 50:制御装置 100、100b:循環管路(循環手段) 101:管路 102:流体循環ポンプ(循環手段) 103:調整弁(流量調節手段) 104:流量計(流量調節手段)

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 吸着剤の複数の床(10)(11)を含む模擬移
    動床での吸着による、所望物質を含む仕込原料の分離装
    置内での洗浄装置において、該複数床の各々が、第1お
    よび第2流体分配管路(2)(1)を含む分配装置(5) に連結
    され、各分配装置の第1分配管路(2) が、少なくとも1
    つの仕込原料導入管路(7) と所望物質に乏しい流出物の
    少なくとも1つの抜出し管路(8) とに連結されるか、あ
    るいは少なくとも1つの溶媒導入管路(3) と所望物質に
    富む流出物の少なくとも1つの抜出し管路(4) とに連結
    され、第2分配管路(1) が、前記第1分配管路(2) に連
    結されない少なくとも1つの導入管路と少なくとも1つ
    の抜出し管路とに連結され、各導入管路と各抜出し管路
    とが弁(7a)(8a)(3a)(4a)の全部を有するかまたは有さ
    ず、前記第1分配管路(2) が洗浄弁(9) を有し、第1分
    配管路(2) 全体に対する洗浄弁(9) 全体が、移動すべき
    流体の循環手段(100)(102)に連結される洗浄装置であっ
    て、さらに該洗浄装置が洗浄弁(9) と弁(3a)(4a)(7a)(8
    a)の全部または皆無との開口あるいは閉口制御装置 (5
    0) を備えることを特徴とする洗浄装置。
  2. 【請求項2】 循環手段(100)(102)が、少なくとも1つ
    の流体循環ポンプ(102) と、管路内を循環する流体の少
    なくとも1つの流量調節手段(103)(104)とを有する、請
    求項1による装置。
  3. 【請求項3】 第2分配管路(1) が洗浄弁(19)を有し、
    第2分配管路(1) 全体に対する洗浄弁全体が、移動すべ
    き流体の循環手段(100b)に連結され、制御装置が、前記
    洗浄弁(19)の開口あるいは閉口の作動に適用される、請
    求項1または2による装置。
  4. 【請求項4】 仕込原料から該仕込原料の成分の少なく
    とも1成分を分離する方法における、流体分配装置(5)
    と、流体の導入および抜出し用の弁(7a)(8a)の全部また
    は皆無と、洗浄弁(9) との間の少なくとも1つの第1分
    配管路(2) 上に位置する容積共通区間(v) を、各周期に
    おいて特定の床のレベルで洗浄するための請求項1から
    3のいずれか1項による装置の使用。
  5. 【請求項5】 交換期間の少なくとも一部に相当する時
    間(T) の間、流量v/Tで同期的に第1分配管路(2) に対
    する容積共通区間(v) から内容物を抜出す、請求項4に
    よる使用。
  6. 【請求項6】 交換期間の少なくとも一部に相当する時
    間(T) の間、流量v'/Tで同期的に第2分配管路(1) に対
    する容積共通区間(v')から内容物を抜出す、請求項4ま
    たは5による使用。
  7. 【請求項7】 前記共通区間の容積が少なくとも1回洗
    浄される、請求項4から6のいずれか1項による使用。
  8. 【請求項8】 仕込原料がキシレンの混合物を含む、請
    求項4から7のいずれか1項による使用。
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