JPH10177176A - 反射型液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射型液晶表示装置において、従来はその反
射電極層の表面の液晶配向膜として斜方蒸着法による無
機液晶配向膜を適用せざるを得なかったが、既に液晶デ
ィスプレイや透過型液晶表示装置で実績のある有機液晶
配向膜の適用を可能にして、製造コストの低減化とスル
ープットや信頼性の向上を実現する。 【解決手段】 能動素子基板21の反射電極層9側の表面
にスパッタリング法等によって酸化珪素又は酸化アルミ
ニウムの薄膜23を成膜し、その上側に有機液晶配向膜24
を形成する。その薄膜23は、透明性と絶縁性を有すると
共に、有機液晶配向膜24の材料であるポリイミド等のイ
ンクと親和性を有しており、インクの良好な濡れ性が得
られて、均一で平坦な有機液晶配向膜24を形成すること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は映像を大画面に表示
するための反射型液晶表示装置に係り、特にその液晶配
向膜として既に一般の液晶ディスプレイや透過型液晶表
示装置において実績のあるポリイミド等の有機液晶配向
膜を適用し得るようにするための改善に関する。

【０００２】

【従来の技術】最近、屋外公衆用や管制業務用のディス
プレイ、またハイビジョン等の高精細映像の表示用ディ
スプレイ等のように、映像を大画面に表示するための投
射型表示装置の要望が高まっている。投射型表示装置に
は大別すると透過型方式と反射型方式のものがあり、前
者は薄膜トランジスタと透明電極からなる画素をマトリ
クス状に配設した液晶パネルを透過する光を投影させる
方式であり、後者は前記の液晶パネルで反射した光を投
影させる方式である。

【０００３】透過型方式は、光学系の構成が比較的簡単
で安価に製造できるという利点があるが、表示パネルを
小型化すると画素電極の電圧を制御するトランジスタや
配線が占める面積の割合が大きくなり、開口率が小さく
なって画像の輝度が低下するという欠点がある。一方、
反射型方式では、反射電極層の下側にトランジスタや配
線を配置できるため、開口率を低下させることなく画素
数を増大させて、高輝度で高解像度の画像を表示させる
ことができる。従って、拡大投影方式の画像表示装置で
は、小型で高密度化が可能な反射型方式の方が適してい
る。

【０００４】ここで、従来の反射型液晶表示装置の一画
素分に係る断面構造の一例を図３に示す。同図におい
て、1はＳi基板であり、そのＳi基板1に半導体プロセス
によってＭＯＳ-ＦＥＴ2と電荷蓄積容量部3を形成して
一画素分の能動素子が構成されている。より詳細には、
Ｓi基板1の表面に絶縁層4を形成してＭＯＳ-ＦＥＴ2と
電荷蓄積容量部3を構成しているが、5はＭＯＳ-ＦＥＴ2
のソース、6はゲート、7はドレインであり、そのドレイ
ン7と電荷蓄積容量部3の間は信号検出用電極8によって
接続されている。前記の能動素子はＳi基板1に多数個マ
トリクス状に配設されるが、その配設領域の上側は絶縁
層4'で覆われ、その絶縁層4'の上面に各能動素子に対応
した反射電極層9が形成されると共に、反射電極層9は絶
縁層4'を貫通した導通部9'によって信号検出用電極8に
接続されている。また、反射電極層9と絶縁層4'がなす
上側表面には液晶配向膜10が被膜形成され、以上の層構
造によって能動素子基板11が構成されている。

【０００５】一方、12は能動素子基板11に対向せしめら
れた透明基板であり、基体となるガラス基板13の表面に
透明電極膜14と液晶配向膜15を被膜形成したものであ
る。そして、対向した能動素子基板11側の液晶配向膜10
と透明基板13側の液晶配向膜15の間には光変調層となる
液晶層16が挾装・封止され、全体として反射型液晶表示
装置のパネル構造が構成されている。

【０００６】前記の反射型液晶表示装置は次のように動
作する。先ず、走査信号をＭＯＳ-ＦＥＴ2のゲート6に
印加するとＭＯＳ-ＦＥＴ2がオンになり、その状態でソ
ース5に画像信号を印加すると信号検出用電極8と反射電
極層9がその印加電位となって、液晶層16の反射電極層9
に対応した部分と電荷蓄積容量部3が充電される。充電
された液晶層16と電荷蓄積容量部3の蓄積電荷は走査信
号が０レベルになってもそれらの合計容量と放電抵抗に
よる時定数で定まる時間だけ反射電極層9の電位を保持
させるが、前記の時定数はその保持時間がフィールド走
査時間より長くなるように設定してある。従って、走査
信号で各ＭＯＳ-ＦＥＴ2のゲート6を走査しながらそれ
に同期させて画像信号をソース5へ入力させれば、透明
基板1側の透明電極膜14と能動素子基板11側の各反射電
極層9の間の電位差が画像信号に対応して変化し、画素
単位で液晶層16の屈折率が変化せしめられることによ
り、読出し光を画素単位で変調した投射画像を表示させ
ることが可能になる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、能動素子基
板11と透明基板12に被膜されている液晶配向膜10,15
は、液晶分子の誘電率異方性を利用してその動作モード
に適した配列や傾き(プレティルト)を制御するためであ
るが、前記の反射型液晶表示装置においては斜方蒸着法
によって酸化珪素を成膜させた無機配向膜になってい
る。

【０００８】一方、近年多量に製造されている液晶ディ
スプレイ等においては、ポリイミドに代表される有機材
料からなる薄膜を液晶配向膜として適用しており、その
形成工程は、ポリイミド前駆体又はポリイミド溶液から
なるインクを凸版印刷法で塗布し、それを焼成した後
に、ラビング法によって液晶配向性能を付与するもので
あり、極めて量産性に優れた方式で安定した品質の液晶
配向膜が得られる。

【０００９】従って、前記の反射型液晶表示装置におい
ても、その液晶配向膜10,15に有機配向膜を適用すれば
よいように考えられるが、次のような理由から適用され
ていない。一般の液晶ディスプレイや透過型液晶表示装
置のように、液晶配向膜を施す際の下地がＩＴＯ(Indiu
m Tin Oxide:酸化インジウムに酸化錫を１〜５重量％ド
ーピングしたもの)の透明電極である場合には、ポリイ
ミド等の有機性材料溶液はそのＩＴＯの表面に対して親
和性を有し、塗布した際に良好な濡れ性が得られて有機
液晶配向膜を均一に形成することが可能である。しか
し、反射型液晶表示装置では、図４に示したように一方
の液晶配向膜10の下地が反射電極層9であり、その反射
電極層9は可視光に対する十分な反射率を得るためにＡl
やＡg等で形成されている。その場合、前記の有機性材
料溶液はＡl面やＡg面に対して親和性がなく、凸版印刷
法やスピンコーティング法によるインク塗布を試みる
と、反射電極層9に展延されたインクの厚みにムラが発
生したり、一旦展延されたインクが凝集する等の不具合
が発生して液晶配向膜としての特性が実用に耐えないも
のとなる。従って、反射型液晶表示装置では有機液晶配
向膜が適用できず、無機液晶配向膜によらざるを得ない
とされている。

【００１０】そして、反射型液晶表示装置では、前記の
ように反射電極層9側に無機液晶配向膜10を適用する関
係で、透明電極14側にも同様の無機液晶配向膜15を形成
するようにしているが、それらの無機液晶配向膜10,15
を形成するには、酸化珪素等の無機材料を真空中で加熱
・蒸発させ、基板側に対して斜め方向から蒸着させるこ
とにより、基板表面に微細な形状や分極の配列パターン
を有した薄膜を形成するという極めて複雑な斜方蒸着工
程を要し、高価で性能維持が煩雑な真空装置が必要にな
ると共に、スループットも量産によるスケールメリット
を確保できるだけのものを得ることが困難であるという
問題点がある。

【００１１】そこで、本発明は、反射電極層の表面に対
して、既に十分な実績があると共に量産性の点でも極め
て優れている有機液晶配向膜を十分な均一性を確保しな
がら安定的に形成できる反射型液晶表示装置の構造を提
供し、装置の製造コストの低減及び量産性や信頼性の向
上を図ることを目的として創作された。

【００１２】

【課題を解決するための手段】第１の発明は、基板上
に、スイッチング素子とその出力端子に接続されてスイ
ッチング素子の導通状態に対応して電荷を蓄積する電荷
蓄積容量部とを一画素分の能動素子として多数個マトリ
クス状に配設させ、その配設領域を絶縁層で覆い、前記
絶縁層の上面に前記の各能動素子に対応した反射電極層
を形成すると共に、前記絶縁層を貫通した導通部によっ
て前記スイッチング素子と前記電荷蓄積容量部を接続す
る信号検出部と前記反射電極層とを接続し、且つ前記反
射電極層と前記絶縁層の上に液晶配向膜を被膜形成した
能動素子基板と、前記能動素子基板に対向せしめられ、
その対向面側に可視光を透過させる透明電極膜と液晶配
向膜を被膜形成した透明基板と、前記能動素子基板と前
記透明基板の各液晶配向膜の間に挾装・封止された液晶
層とからなる反射型液晶表示装置において、前記反射電
極層と前記絶縁層の上に、絶縁性と可視光に対する透明
性を有すると共に、有機液晶配向膜の材料溶液に対して
親和性を有する材料からなる薄膜を形成し、その薄膜の
上面に有機液晶配向膜を被膜形成したことを特徴とする
反射型液晶表示装置に係る。

【００１３】従来の反射型液晶表示装置において無機液
晶配向膜の適用を余儀なくされていたのは、有機液晶配
向膜がＡlやＡg等で形成されている反射電極層の表面に
対して親和性を有しておらず、有機液晶配向膜の形成工
程で濡れ性が得られずに塗布インクに厚みムラや凝集等
の不具合が発生するためであった。この発明では、反射
電極層と有機液晶配向膜の間に、ポリイミド等の有機材
料溶液に対して親和性を有する薄膜を介在させたため、
有機液晶配向膜の材料溶液を塗布して被膜形成する際に
十分な濡れ性が得られ、下地がＩＴＯの場合と同様に均
一性と平坦性を確保しながら有機液晶配向膜を構成する
ことが可能になる。そして、発明者の研究の結果、薄膜
の材料としては酸化珪素又は酸化アルミニウムを適用で
きることが判明した。ここで、その薄膜自体は配向膜と
して機能せしめるものではないため、通常の半導体プロ
セスで適用されているスパッタリング法や電子ビーム法
によって成膜することができる。また、前記の薄膜は前
記の親和性と共に絶縁性と可視光に対する透明性を有し
ているため、反射型液晶表示装置の電気的及び光学的機
能に支障を生じさせない。

【００１４】第２の発明は、反射型液晶表示装置が、反
射電極層と絶縁層の上面に低屈折率の誘電体膜と高屈折
率の誘電体膜を交互に積層構成した増反射層及び液晶配
向膜を被膜形成したものである場合において、前記増反
射層における高屈折率の誘電体膜を有機液晶配向膜の材
料溶液に対して親和性を有する材料からなる薄膜で形成
すると共に、その増反射層の最上面膜を前記の高屈折率
の誘電体膜とし、前記増反射層の上面に有機液晶配向膜
を被膜形成したことを特徴とする反射型液晶表示装置に
係る。

【００１５】この発明は、反射電極層の表面に増反射層
を設けて反射率を向上させる方式の反射型液晶表示装置
に関するものであるが、その増反射層における液晶配向
膜に接合する最上面膜を第１の発明の薄膜と同様の材料
からなるもので構成しているため、増反射層の上面に有
機材料溶液を十分な濡れ性を確保しながら塗布でき、均
一な有機液晶配向膜を形成することが可能になる。

【００１６】第３の発明は、反射型液晶表示装置が、第
２の発明における増反射層の構造に限らず、増反射膜を
設けたものである場合において、前記増反射層の上面
に、絶縁性と可視光に対する透明性を有すると共に、有
機液晶配向膜の材料溶液に対して親和性を有する材料か
らなる薄膜を形成し、その薄膜の上側に有機液晶配向膜
を形成したことを特徴とする反射型液晶表示装置に係
る。

【００１７】この発明では、有機液晶配向膜の材料溶液
が増反射層の表面に対して親和性を有しているか否かを
問わず、形成した増反射層の上側に第１の発明の薄膜と
同様の材質を有した薄膜を形成し、その上に有機液晶配
向膜を被膜形成させており、前記の各発明と同様の効果
が得られる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の反射型液晶表示装
置の実施形態を、図１から図３を用いて詳細に説明す
る。但し、図１から図３において、図４と同一の符号で
示される各要素は同一の要素に相当し、また電気的及び
光学的な基本機能は図４の装置と同様であるため、以下
の各実施形態では主にその構造的な特徴部分について説
明する。

【００１９】《実施形態１》この実施形態の反射型液晶
表示装置における一画素分に係る断面構造は図１に示さ
れる。この実施形態の特徴は、能動素子基板21の反射電
極層9と絶縁層4'の上面に、酸化珪素又は酸化アルミニ
ウムの薄膜23を形成しておき、その上側にポリイミド等
の有機液晶配向膜24を被膜形成した点にある。

【００２０】装置の製造に際しては、能動素子基板21側
の製造工程で、絶縁層4'の上側に反射電極層9を形成し
た段階でスパッタリング蒸着法又は電子ビーム蒸着法に
よって酸化珪素又は酸化アルミニウムの薄膜23を形成
し、その上側にポリイミド前駆体又はポリイミド溶液か
らなるインクを凸版印刷法で塗布し、それを焼成した後
に、ラビング処理することで液晶配向性能を付与する。
一方、この実施形態では、透明基板22側についてもポリ
イミドからなる有機液晶配向膜25が成膜されているが、
その下地は透明電極膜(ＩＴＯ)14であるため、従来の液
晶ディスプレイや透過型液晶表示装置の場合と同様の工
程で透明電極膜14の表面に有機液晶配向膜25を成膜させ
れば足りる。

【００２１】ここで、酸化珪素又は酸化アルミニウムの
薄膜23はポリイミド前駆体又はポリイミド溶液であるイ
ンクに対して親和性を有しており、そのインクを十分な
濡れ性をもって薄膜23の表面に塗布でき、薄膜23に対し
て密着性が強く、均一で平坦な有機液晶配向膜24を安定
的に形成できる。そして、以上の製造工程を従来の反射
型液晶表示装置(図４)の製造工程と比較してみると、ス
パッタリング蒸着法又は電子ビーム蒸着法による薄膜23
の成膜工程が必要となるが、その成膜工程は通常の半導
体プロセスで適用されるものであり、また有機液晶配向
膜24の形成工程も液晶ディスプレイ等で最も一般的に適
用されているものであることから、従来の無機液晶配向
膜24の成膜のように高価な設備と複雑な制御を必要とす
る斜方蒸着工程を必要とせず、製造コストの低減化及び
量産性や信頼性の点で従来のものより優れているといえ
る。

【００２２】《実施形態２》この実施形態の反射型液晶
表示装置の一画素分に係る断面構造は図２に示される。
この実施形態の特徴は、能動素子基板31の反射電極層9
と絶縁層4'の上側に特殊な構成の増反射層33が構成され
ており、その上側にポリイミド等の有機液晶配向膜24が
被膜形成されている点にある。一般に、増反射層は高屈
折率の誘電体膜と低屈折率の誘電体膜をそれぞれλ/４
(但し、λは読出し光の中心波長)の光学膜厚で交互に積
層させて構成されている。この実施形態の増反射層33で
は、高屈折率の誘電体膜33aに酸化チタン又は酸化アル
ミニウム等を適用し、低屈折率の誘電体膜33bにそれよ
りも屈折率が小さい誘電体(例えば、酸化珪素等)を適用
している。

【００２３】そして、更に、増反射層33は交互積層の最
終段として酸化珪素又は酸化アルミニウムの蒸着を行
い、その結果、その最上面膜は酸化珪素又は酸化アルミ
ニウム等の誘電体膜33aになっており、その上側にポリ
イミド等の有機液晶配向膜24が成膜されていることにな
る。実施形態１で説明したように、酸化珪素又は酸化ア
ルミニウムはポリイミド前駆体又はポリイミド溶液であ
るインクに対して親和性を有しており、そのインクを十
分な濡れ性をもって増反射層33の表面に塗布できるた
め、有機液晶配向膜24を増反射層33に対して十分な密着
性を確保しながら均一且つ平坦に形成できる。尚、増反
射層33はスパッタリング法によって構成され、有機液晶
配向膜24は、実施形態１の場合と同様に、ポリイミド前
駆体又はポリイミド溶液であるインクの塗布とその焼成
処理とラビング処理を施すことにより形成される。

【００２４】この実施形態によれば、反射電極層9の上
側に増反射層33を設けて反射率を向上させる方式を採用
した場合の反射型液晶表示装置においても、その能動素
子基板31側に有機液晶配向膜24を適用することを可能に
する。尚、本実施形態に係る透明基板32側の構成は実施
形態１の場合と同様であり、当然に液晶層16との接合面
側に同様の有機液晶配向膜25が成膜されている。

【００２５】《実施形態３》この実施形態の反射型液晶
表示装置の一画素分に係る断面構造は図３に示される。
この実施形態の特徴は、能動素子基板41の反射電極層9
と絶縁層4'の上面に増反射層43が構成されており、その
上側に酸化珪素又は酸化アルミニウムの薄膜44が被膜形
成され、更にその上側にポリイミド等の有機液晶配向膜
24が成膜されており、且つ、この実施形態における増反
射層43は、実施形態２における増反射層33のように材料
が特定されたものではない点にある。

【００２６】従って、増反射層43は有機液晶配向膜の材
料の塗布性を考慮せずに形成されたものであり、その最
上面膜であるＴiＯ₂膜の表面にポリイミド前駆体又はポ
リイミド溶液のインクを塗布すると厚みムラや凝集が生
じ、結果的に均一な有機液晶配向膜を成膜できないこと
になる。そこで、この実施形態では、増反射層43の最上
面膜(ＴiＯ₂)の上側に、実施形態１の場合と同様にスパ
ッタリング蒸着法又は電子ビーム蒸着法によって酸化珪
素又は酸化アルミニウムの薄膜44を形成しておき、その
上側に実施形態１の場合と同様の工程でポリイミドの有
機液晶配向膜24を成膜するようにしている。

【００２７】その結果、実施形態２の場合と同様に増反
射層43を設けながら有機液晶配向膜24を適用が可能にな
ると共に、この実施形態では増反射層43として、いかな
る組成・構造のものでも利用できるという利点を有して
いる。

【００２８】

【発明の効果】本発明の反射型液晶表示装置は、以上の
構成を有していることにより、次のような効果を奏す
る。従来の反射型液晶表示装置では、反射電極層がＡl
やＡgの面になるために有機液晶配向膜材料との親和性
が得られず、高価な設備を用いた複雑な工程である斜方
蒸着によって無機液晶配向膜を成膜する必要があった
が、各請求項の発明では、有機配向膜材料と親和性を有
して良好な濡れ性が確保できる酸化珪素又は酸化アルミ
ニウム等の薄膜を下地に形成しておき、その上に液晶配
向膜を施すことにしたため、既に一般の液晶ディスプレ
イや透過型液晶表示装置で実績があり、量産性と品質の
安定性に優れた有機液晶配向膜を適用することを可能に
する。その結果、反射型液晶表示装置の製造コストの低
減化が図れると共に、スループットと信頼性の向上が実
現できる。また、請求項２及び請求項３は、反射電極層
の表面に増反射層を施す場合にも有機液晶配向膜の適用
を可能にする。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１に係る反射型液晶表示装置
の一画素分の断面構造図である。

【図２】実施形態２に係る反射型液晶表示装置の一画素
分の断面構造図である。

【図３】実施形態３に係る反射型液晶表示装置の一画素
分の断面構造図である。

【図４】従来の反射型液晶表示装置の一画素分の断面構
造図である。

【符号の説明】

1…Ｓi基板、2…ＭＯＳ-ＦＥＴ、3…電荷蓄積容量部、
4,4'…絶縁層、5…ソース、6…ゲート、7…ドレイン、8
…信号検出用電極、9…反射電極層、9'…導通部、10,15
…液晶配向膜(無機液晶配向膜)、11,21,31,41…能動素
子基板、12,22,32,42…透明基板、13…ガラス基板、14
…透明電極膜、16…液晶層、23,44…薄膜(酸化珪素又は
酸化アルミニウム)、24,25…有機液晶配向膜(ポリイミ
ド等)、33,43…増反射膜、33a…高屈折率の誘電体膜(酸
化珪素又は酸化アルミニウム)、33b…低屈折率の誘電体
膜(酸化珪素)。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に、スイッチング素子とその出力
   端子に接続されてスイッチング素子の導通状態に対応し
   て電荷を蓄積する電荷蓄積容量部とを一画素分の能動素
   子として多数個マトリクス状に配設させ、その配設領域
   を絶縁層で覆い、前記絶縁層の上面に前記の各能動素子
   に対応した反射電極層を形成すると共に、前記絶縁層を
   貫通した導通部によって前記スイッチング素子と前記電
   荷蓄積容量部を接続する信号検出部と前記反射電極層と
   を接続し、且つ前記反射電極層と前記絶縁層の上に液晶
   配向膜を被膜形成した能動素子基板と、前記能動素子基
   板に対向せしめられ、その対向面側に可視光を透過させ
   る透明電極膜と液晶配向膜を被膜形成した透明基板と、
   前記能動素子基板と前記透明基板の各液晶配向膜の間に
   挾装・封止された液晶層とからなる反射型液晶表示装置
   において、前記反射電極層と前記絶縁層の上に、絶縁性
   と可視光に対する透明性を有すると共に、有機液晶配向
   膜の材料溶液に対して親和性を有する材料からなる薄膜
   を形成し、その薄膜の上面に有機液晶配向膜を被膜形成
   したことを特徴とする反射型液晶表示装置。
2. 【請求項２】 基板上に、スイッチング素子とその出力
   端子に接続されてスイッチング素子の導通状態に対応し
   て電荷を蓄積する電荷蓄積容量部とを一画素分の能動素
   子として多数個マトリクス状に配設させ、その配設領域
   を絶縁層で覆い、前記絶縁層の上面に前記の各能動素子
   に対応した反射電極層を形成すると共に、前記絶縁層を
   貫通した導通部によって前記スイッチング素子と前記電
   荷蓄積容量部を接続する信号検出部と前記反射電極層と
   を接続し、且つ前記反射電極層と前記絶縁層の上面に低
   屈折率の誘電体膜と高屈折率の誘電体膜を交互に積層構
   成した増反射層及び液晶配向膜を被膜形成した能動素子
   基板と、前記能動素子基板に対向せしめられ、その対向
   面側に可視光を透過させる透明電極膜と液晶配向膜を被
   膜形成した透明基板と、前記能動素子基板と前記透明基
   板の各液晶配向膜の間に挾装・封止された液晶層とから
   なる反射型液晶表示装置において、前記増反射層におけ
   る高屈折率の誘電体膜を有機液晶配向膜の材料溶液に対
   して親和性を有する材料からなる薄膜で形成すると共
   に、その増反射層の最上面膜を前記の高屈折率の誘電体
   膜とし、前記増反射層の上面に有機液晶配向膜を被膜形
   成したことを特徴とする反射型液晶表示装置。
3. 【請求項３】 基板上に、スイッチング素子とその出力
   端子に接続されてスイッチング素子の導通状態に対応し
   て電荷を蓄積する電荷蓄積容量部とを一画素分の能動素
   子として多数個マトリクス状に配設させ、その配設領域
   を絶縁層で覆い、前記絶縁層の上面に前記の各能動素子
   に対応した反射電極層を形成すると共に、前記絶縁層を
   貫通した導通部によって前記スイッチング素子と前記電
   荷蓄積容量部を接続する信号検出部と前記反射電極層と
   を接続し、且つ前記反射電極層と前記絶縁層の上面に低
   屈折率の誘電体膜と高屈折率の誘電体膜を交互に積層構
   成した増反射層及び液晶配向膜を被膜形成した能動素子
   基板と、前記能動素子基板に対向せしめられ、その対向
   面側に可視光を透過させる透明電極膜と液晶配向膜を被
   膜形成した透明基板と、前記能動素子基板と前記透明基
   板の各液晶配向膜の間に挾装・封止された液晶層とから
   なる反射型液晶表示装置において、前記増反射層の上面
   に、絶縁性と可視光に対する透明性を有すると共に、有
   機液晶配向膜の材料溶液に対して親和性を有する材料か
   らなる薄膜を形成し、その薄膜の上面に有機液晶配向膜
   を被膜形成したことを特徴とする反射型液晶表示装置。
4. 【請求項４】 薄膜が、酸化珪素又は酸化アルミニウム
   をスパッタリング蒸着法又は電子ビーム蒸着法により成
   膜したものである請求項１又は請求項３の反射型液晶表
   示装置。