JPH10178088A - 基板チャック装置 - Google Patents
基板チャック装置Info
- Publication number
- JPH10178088A JPH10178088A JP33689296A JP33689296A JPH10178088A JP H10178088 A JPH10178088 A JP H10178088A JP 33689296 A JP33689296 A JP 33689296A JP 33689296 A JP33689296 A JP 33689296A JP H10178088 A JPH10178088 A JP H10178088A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- vacuum
- cylinder
- chuck device
- chuck
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 動力源として真空のみでメカチャックを行う
ことができるとともに、清浄性にも優れた基板チャック
装置を提供する。 【解決手段】 本発明の基板チャック装置１は、基板３
を固定して保持するための装置である。基板３に当接す
る位置と離隔する位置とをとりうる保持具（可動ピン
７）と、このピン７を上記両位置間で駆動する機構と、
を備える。この機構中に、真空を動力源とするアクチュ
エータ（シリンダー３３）を含む。
ことができるとともに、清浄性にも優れた基板チャック
装置を提供する。 【解決手段】 本発明の基板チャック装置１は、基板３
を固定して保持するための装置である。基板３に当接す
る位置と離隔する位置とをとりうる保持具（可動ピン
７）と、このピン７を上記両位置間で駆動する機構と、
を備える。この機構中に、真空を動力源とするアクチュ
エータ（シリンダー３３）を含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェーハ等
の基板を保持するためのチャック装置に関する。特に
は、動力源として真空のみでメカチャックを行うことが
できるとともに清浄性にも優れた基板チャック装置に関
する。
の基板を保持するためのチャック装置に関する。特に
は、動力源として真空のみでメカチャックを行うことが
できるとともに清浄性にも優れた基板チャック装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハの側縁を複数の可動ピン
で機械的に把持するタイプのチャックを例にとって説明
する。従来のこのようなタイプのチャックは、Ａｉｒ又
はＮ2を動力源とするシリンダーをアクチュエータとし
た機械的チャッキング機構を有している。そのアクチュ
エータの動きを、レバーやコネクティングロッドを介し
て、ウェーハの周囲に振り分けて配置されている可動ピ
ンに伝え、可動ピンをウェーハの側縁に押し当ててチャ
ッキングしている。
で機械的に把持するタイプのチャックを例にとって説明
する。従来のこのようなタイプのチャックは、Ａｉｒ又
はＮ2を動力源とするシリンダーをアクチュエータとし
た機械的チャッキング機構を有している。そのアクチュ
エータの動きを、レバーやコネクティングロッドを介し
て、ウェーハの周囲に振り分けて配置されている可動ピ
ンに伝え、可動ピンをウェーハの側縁に押し当ててチャ
ッキングしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述のＡｉｒ（又はＮ
2 ）シリンダーを用いたメカチャックでは、チャッキン
グを行う時やチャッキングを解除する時に、シリンダー
内のＡｉｒ等がシリンダー外に多量に放出される。そし
て、放出されたＡｉｒ等が、チャックのステージの回転
による気流と衝突して、ステージ周辺の気流が乱れてダ
ストが発生しやすいという問題点がある。また、メカチ
ャックの場合、チャック力が真空チャックに比べ弱いと
いう欠点もある。
2 ）シリンダーを用いたメカチャックでは、チャッキン
グを行う時やチャッキングを解除する時に、シリンダー
内のＡｉｒ等がシリンダー外に多量に放出される。そし
て、放出されたＡｉｒ等が、チャックのステージの回転
による気流と衝突して、ステージ周辺の気流が乱れてダ
ストが発生しやすいという問題点がある。また、メカチ
ャックの場合、チャック力が真空チャックに比べ弱いと
いう欠点もある。
【０００４】本発明は、半導体ウェーハ等の基板を保持
するためのチャック装置であって、動力源として真空の
みでメカチャックを行うことができるとともに、清浄性
にも優れた基板チャック装置を提供することを目的とす
る。さらに、メカチャックのチャック力を補強する手段
をも有する基板チャック装置を提供することを目的とす
る。
するためのチャック装置であって、動力源として真空の
みでメカチャックを行うことができるとともに、清浄性
にも優れた基板チャック装置を提供することを目的とす
る。さらに、メカチャックのチャック力を補強する手段
をも有する基板チャック装置を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の基板チャック装置は、 基板を固定して保
持するための基板チャック装置であって； 基板に当接
する位置と、基板と離隔する位置と、をとりうる保持具
と、 この保持具を上記両位置間で駆動する機構と、を
備え； 該機構が、真空を動力源とするアクチュエータ
を有することを特徴とする。
め、本発明の基板チャック装置は、 基板を固定して保
持するための基板チャック装置であって； 基板に当接
する位置と、基板と離隔する位置と、をとりうる保持具
と、 この保持具を上記両位置間で駆動する機構と、を
備え； 該機構が、真空を動力源とするアクチュエータ
を有することを特徴とする。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつより詳し
く説明する。図１は、本発明の１実施例に係る基板チャ
ック装置のチャッキング機構（チャッキング状態）を模
式的に示す図である。（Ａ）は平面図であり、（Ｂ）は
要部の側面断面図であり、（Ｃ）は可動ピンの詳細を示
す側面図である。図２は、図１の基板チャック装置のチ
ャッキング開放状態を示す図である。（Ａ）は平面図で
あり、（Ｂ）は要部の側面断面図である。図４は、図１
の基板チャック装置が装備されるブラシスクラバー装置
を示す斜視図である。
く説明する。図１は、本発明の１実施例に係る基板チャ
ック装置のチャッキング機構（チャッキング状態）を模
式的に示す図である。（Ａ）は平面図であり、（Ｂ）は
要部の側面断面図であり、（Ｃ）は可動ピンの詳細を示
す側面図である。図２は、図１の基板チャック装置のチ
ャッキング開放状態を示す図である。（Ａ）は平面図で
あり、（Ｂ）は要部の側面断面図である。図４は、図１
の基板チャック装置が装備されるブラシスクラバー装置
を示す斜視図である。
【０００７】図４のブラシスクラバー９０の右端のブラ
シ洗浄室９１内には、本実施例のチャック１が設置され
ており、同チャック１の上に洗浄するウェーハ３が載置
されている。このチャック１はウェーハ３を保持しなが
ら回転するチャックである。そして、ウェーハ３を回転
させながら、図示せぬブラシや洗浄水シャワーをウェー
ハ３に当ててウェーハを洗浄する。
シ洗浄室９１内には、本実施例のチャック１が設置され
ており、同チャック１の上に洗浄するウェーハ３が載置
されている。このチャック１はウェーハ３を保持しなが
ら回転するチャックである。そして、ウェーハ３を回転
させながら、図示せぬブラシや洗浄水シャワーをウェー
ハ３に当ててウェーハを洗浄する。
【０００８】図１（Ａ）はチャック１を上から見た状態
である。なお、チャックの駆動機構は実際はステージ５
の下にあって見えないが、ステージを透視した仮想状態
を模式的に描いてある。同図において、ウェーハ３が円
形のステージ５の上に載置されている。ステージ５の周
辺部には、それぞれ１２０°振り分けで、固定ピン２５
と可動ピン７が配置されている。可動ピン７は、図の矢
印方向に駆動されて、ウェーハ３の側壁に押し付けられ
る。３本の可動ピン７で、ウェーハ３の周縁の３カ所を
把持してウェーハ３をステージ５上に固定する。
である。なお、チャックの駆動機構は実際はステージ５
の下にあって見えないが、ステージを透視した仮想状態
を模式的に描いてある。同図において、ウェーハ３が円
形のステージ５の上に載置されている。ステージ５の周
辺部には、それぞれ１２０°振り分けで、固定ピン２５
と可動ピン７が配置されている。可動ピン７は、図の矢
印方向に駆動されて、ウェーハ３の側壁に押し付けられ
る。３本の可動ピン７で、ウェーハ３の周縁の３カ所を
把持してウェーハ３をステージ５上に固定する。
【０００９】可動ピン７は、図１（Ｃ）に詳しく示され
ているように、レバー９の一端上に取り付けられてい
る。レバー９は、ステージ５に固定されている回転支点
１１の回りに回動する。レバー９の他端には、レバー９
を駆動するコネクティングロッド１５との接続支点１３
が設けられている。図１（Ａ）に矢印で示されているよ
うに、コネクティングロッド１５を外に押すと、支点１
３が外側に押され、レバー９は、回転支点１１を中心と
して反時計回りに回動する。そうすると、可動ピン７は
ステージ５の中心方向に寄り、ウェーハ３の周縁に当接
する。
ているように、レバー９の一端上に取り付けられてい
る。レバー９は、ステージ５に固定されている回転支点
１１の回りに回動する。レバー９の他端には、レバー９
を駆動するコネクティングロッド１５との接続支点１３
が設けられている。図１（Ａ）に矢印で示されているよ
うに、コネクティングロッド１５を外に押すと、支点１
３が外側に押され、レバー９は、回転支点１１を中心と
して反時計回りに回動する。そうすると、可動ピン７は
ステージ５の中心方向に寄り、ウェーハ３の周縁に当接
する。
【００１０】コネクティングロッド１５を上から見た中
央部には（図１（Ａ））、スプリング１９が組み込まれ
ている。同スプリング１９は、ステージ５の裏面に固定
されている支柱１７と、コネクティングロッド５上の支
点２１の間に押し勝手にはさみ込まれており、コネクテ
ィングロッド５を中央方向に付勢している。
央部には（図１（Ａ））、スプリング１９が組み込まれ
ている。同スプリング１９は、ステージ５の裏面に固定
されている支柱１７と、コネクティングロッド５上の支
点２１の間に押し勝手にはさみ込まれており、コネクテ
ィングロッド５を中央方向に付勢している。
【００１１】コネクティングロッド１５の中心部は、図
１（Ｂ）に示されているように、直角に折れて下方に垂
下し、その下端で再び水平となり横に延びている（ピス
トン接触部１６）。同ピストン接触部１６の先端は、ピ
ストン３１の下側の円錐面３９に当接している。
１（Ｂ）に示されているように、直角に折れて下方に垂
下し、その下端で再び水平となり横に延びている（ピス
トン接触部１６）。同ピストン接触部１６の先端は、ピ
ストン３１の下側の円錐面３９に当接している。
【００１２】ピストン３１は、その上部が円筒形をして
おり、その下部が円錐形をしている。ピストン３１は、
上下方向に軸芯を有する中空円筒であるシリンダー３３
の中に、上下摺動自在に収められている。このシリンダ
ー３３の中で、ピストン３１は、上方にスプリング３５
で吊り下げられており、スプリング３５はピストン３１
を上方に付勢している。ピストン３１の円錐面３９に
は、上述のようにコネクティングロッド１５の先端（ピ
ストン接触部１６）が当接している（スプリング１９の
付勢力による）。そして、ピストン３１が上下すると、
コネクティングロッド１５は、カムと同様の機構によ
り、ステージ５の半径方向に出入りする。
おり、その下部が円錐形をしている。ピストン３１は、
上下方向に軸芯を有する中空円筒であるシリンダー３３
の中に、上下摺動自在に収められている。このシリンダ
ー３３の中で、ピストン３１は、上方にスプリング３５
で吊り下げられており、スプリング３５はピストン３１
を上方に付勢している。ピストン３１の円錐面３９に
は、上述のようにコネクティングロッド１５の先端（ピ
ストン接触部１６）が当接している（スプリング１９の
付勢力による）。そして、ピストン３１が上下すると、
コネクティングロッド１５は、カムと同様の機構によ
り、ステージ５の半径方向に出入りする。
【００１３】シリンダー３３の下部室４１は、図示せぬ
真空ラインに接続されており、バルブ４３を閉にしてお
いて室内を排気すると、下部室４１は減圧状態となる。
そうなると、ピストン３１は、その上面と下面の気圧の
差によって、下方に移動して図１の位置に来る。このと
きピストン３１は、台座３７に当接して停止している。
このとき、上述のように、コネクティングロッド１５は
外周方向に押されて、可動ピン７は中心方向に移動して
ウェーハ３に押し当てられウェーハ３が固定される。す
なわち、シリンダー３３とピストン３１が真空を動力源
として駆動されるアクチュエータとなって、メカチャッ
クの保持具である可動ピン７を基板に当接する位置と基
板と離隔する位置との間で駆動している。
真空ラインに接続されており、バルブ４３を閉にしてお
いて室内を排気すると、下部室４１は減圧状態となる。
そうなると、ピストン３１は、その上面と下面の気圧の
差によって、下方に移動して図１の位置に来る。このと
きピストン３１は、台座３７に当接して停止している。
このとき、上述のように、コネクティングロッド１５は
外周方向に押されて、可動ピン７は中心方向に移動して
ウェーハ３に押し当てられウェーハ３が固定される。す
なわち、シリンダー３３とピストン３１が真空を動力源
として駆動されるアクチュエータとなって、メカチャッ
クの保持具である可動ピン７を基板に当接する位置と基
板と離隔する位置との間で駆動している。
【００１４】一方、ステージ５の内部には、シリンダー
の下部室４１と連通する真空吸引口２３が設けられてい
る。したがって、同吸引口２３も真空ラインに接続され
ており減圧状態におかれる。このとき、ウェーハ３は、
ステージ５の表面に押し付けられる。ウェーハ３は、真
空チャックと同様のメカニズムでステージ５に固定され
る。したがって、図１のチャック１は、メカチャックの
メカニズムと真空チャックのメカニズムの双方を有する
ものである。すなわち、シリンダー３３下部から真空チ
ャック用のライン（真空吸込口２３）をウェーハ３の裏
面接触部まで延ばし、メカチャックと真空チャックに使
用する真空系を同一にすることでチャックのＯＮ、ＯＦ
Ｆを同期させることができる。この場合チャック力に応
じて真空チャック（吸込口２３）の数を自由に変えるこ
とができる。なお、当然ではあるが、メカチャックのみ
を有し真空チャックのない構造であっても、高速回転し
ないようなチャックとしては十分に使用できる。
の下部室４１と連通する真空吸引口２３が設けられてい
る。したがって、同吸引口２３も真空ラインに接続され
ており減圧状態におかれる。このとき、ウェーハ３は、
ステージ５の表面に押し付けられる。ウェーハ３は、真
空チャックと同様のメカニズムでステージ５に固定され
る。したがって、図１のチャック１は、メカチャックの
メカニズムと真空チャックのメカニズムの双方を有する
ものである。すなわち、シリンダー３３下部から真空チ
ャック用のライン（真空吸込口２３）をウェーハ３の裏
面接触部まで延ばし、メカチャックと真空チャックに使
用する真空系を同一にすることでチャックのＯＮ、ＯＦ
Ｆを同期させることができる。この場合チャック力に応
じて真空チャック（吸込口２３）の数を自由に変えるこ
とができる。なお、当然ではあるが、メカチャックのみ
を有し真空チャックのない構造であっても、高速回転し
ないようなチャックとしては十分に使用できる。
【００１５】次に、図２に示すように、バルブ４３開と
してシリンダー３３の下部室４１内に大気を導入する
と、ピストン３１は、スプリング３５の復元力によって
上方に移動する。それに応じて、コネクティングロッド
１５もスプリング１９の復元力によってピストン３１の
円錐面３９を滑って中心方向に寄り、レバー９が時計回
りに回動して可動ピン７が外側に出てチャッキングが開
放される。また、同時に真空チャックも解除される。
してシリンダー３３の下部室４１内に大気を導入する
と、ピストン３１は、スプリング３５の復元力によって
上方に移動する。それに応じて、コネクティングロッド
１５もスプリング１９の復元力によってピストン３１の
円錐面３９を滑って中心方向に寄り、レバー９が時計回
りに回動して可動ピン７が外側に出てチャッキングが開
放される。また、同時に真空チャックも解除される。
【００１６】図３は、本発明の他の実施例に係る基板チ
ャック装置のシリンダー部分の拡大図である。この実施
例の基板チャック装置は、図１の実施例のシリンダーに
付設されているバルブの替りに、シリンダー３３′の大
気圧室（上部室３２）に穴５１が開けられている。そし
て、下部室４１の真空引きのＯＮ、ＯＦＦ操作のみに
て、シリンダー３１の位置を上下させることができる。
ャック装置のシリンダー部分の拡大図である。この実施
例の基板チャック装置は、図１の実施例のシリンダーに
付設されているバルブの替りに、シリンダー３３′の大
気圧室（上部室３２）に穴５１が開けられている。そし
て、下部室４１の真空引きのＯＮ、ＯＦＦ操作のみに
て、シリンダー３１の位置を上下させることができる。
【００１７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の基板チャック装置は、以下の効果を発揮する。 真空ラインのみでメカチャック動作が行えるので、
設備の構造がシンプルになる。また、圧力ガスの排気も
ないため、ダストが舞い上がることも防止できる。 メカチャックのチャック力の補強として、同一真空
系で簡単に真空チャックを併用することができる。この
場合、真空チャックのみでチャッキングを行った場合よ
りも裏面の接触面積を小さくできるため裏面ダスト低減
に対して効果的である。
の基板チャック装置は、以下の効果を発揮する。 真空ラインのみでメカチャック動作が行えるので、
設備の構造がシンプルになる。また、圧力ガスの排気も
ないため、ダストが舞い上がることも防止できる。 メカチャックのチャック力の補強として、同一真空
系で簡単に真空チャックを併用することができる。この
場合、真空チャックのみでチャッキングを行った場合よ
りも裏面の接触面積を小さくできるため裏面ダスト低減
に対して効果的である。
【図１】本発明の１実施例に係る基板チャック装置のチ
ャッキング機構（チャッキング状態）を模式的に示す図
である。（Ａ）は平面図であり、（Ｂ）は要部の側面断
面図であり、（Ｃ）は可動ピンの詳細を示す側面図であ
る。
ャッキング機構（チャッキング状態）を模式的に示す図
である。（Ａ）は平面図であり、（Ｂ）は要部の側面断
面図であり、（Ｃ）は可動ピンの詳細を示す側面図であ
る。
【図２】図１の基板チャック装置のチャッキング開放状
態を示す図である。（Ａ）は平面図であり、（Ｂ）は要
部の側面断面図である。
態を示す図である。（Ａ）は平面図であり、（Ｂ）は要
部の側面断面図である。
【図３】本発明の他の実施例に係る基板チャック装置の
シリンダー部分の拡大図である。
シリンダー部分の拡大図である。
【図４】図１の基板チャック装置が装備されるブラシス
クラバー装置を示す斜視図である。
クラバー装置を示す斜視図である。
【符号の説明】 １…チャック、３…ウェーハ、５…ステージ、７…可動
ピン、９…レバー、１１…回転支点、１３…接続支点、
１５…コネクティングロッド、１６…ピストン接触部、
１７…支柱、１９…スプリング、２１…支点、２３…真
空吸引口、２５…固定ピン、３１…ピストン、３２…上
部室、３３…シリンダー、３５…スプリング、３７…台
座、３９…円錐面、４１…下部室、４３…バルブ、５１
…穴
ピン、９…レバー、１１…回転支点、１３…接続支点、
１５…コネクティングロッド、１６…ピストン接触部、
１７…支柱、１９…スプリング、２１…支点、２３…真
空吸引口、２５…固定ピン、３１…ピストン、３２…上
部室、３３…シリンダー、３５…スプリング、３７…台
座、３９…円錐面、４１…下部室、４３…バルブ、５１
…穴
Claims (5)
- 【請求項１】 基板を固定して保持するための基板チャ
ック装置であって；基板に当接する位置と基板と、離隔
する位置と、をとりうる保持具と、 この保持具を上記両位置間で駆動する機構と、を備え；
該機構が、真空を動力源とするアクチュエータを有する
ことを特徴とする基板チャック装置。 - 【請求項２】 基板を固定して保持するための基板チャ
ック装置であって；基板を載置するステージと、 基板の側縁に当接する位置と、基板と離隔する位置と、
をとりうる保持具と、 この保持具を上記両位置間で駆動する、真空を動力源と
するアクチュエータを有する機構と、 上記ステージと基板間を真空に引いて基板を固定する真
空チャック機構と、 を具備することを特徴とする基板チャック装置。 - 【請求項３】 上記アクチュエータが、一方の面に気体
圧を受け、他方の面に真空を受けて動作するピストンを
有するシリンダーであることを特徴とする請求項１又は
２記載の基板チャック装置。 - 【請求項４】 上記アクチュエータが、一方の面に気体
圧を受け、他方の面に真空を受けて動作するピストンを
有するシリンダーであり、 該シリンダーが、上記ステージの中央下部に設けられて
おり、 該シリンダーの室内と真空ラインとの間を開閉するバル
ブが設けられており、 該シリンダーと上記保持具を連結するロッドが上記ステ
ージの下方に設けられていることを特徴とする請求項２
記載の基板チャック装置。 - 【請求項５】 上記バルブに替えて、上記シリンダーの
大気圧室に穴が開けられており、真空引きのＯＮ、ＯＦ
Ｆ操作のみにて保持具の位置を切り替えることを特徴と
する請求項４記載の基板チャック装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33689296A JPH10178088A (ja) | 1996-12-17 | 1996-12-17 | 基板チャック装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33689296A JPH10178088A (ja) | 1996-12-17 | 1996-12-17 | 基板チャック装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10178088A true JPH10178088A (ja) | 1998-06-30 |
Family
ID=18303618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33689296A Pending JPH10178088A (ja) | 1996-12-17 | 1996-12-17 | 基板チャック装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10178088A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008258484A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Tatsumo Kk | ウェハクランプ装置 |
| JP2013166966A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハ保持構造およびそれを備えた蒸着装置 |
| JP2014045028A (ja) * | 2012-08-24 | 2014-03-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2022028467A (ja) * | 2020-08-03 | 2022-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、及び基板処理装置 |
-
1996
- 1996-12-17 JP JP33689296A patent/JPH10178088A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008258484A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Tatsumo Kk | ウェハクランプ装置 |
| JP2013166966A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハ保持構造およびそれを備えた蒸着装置 |
| JP2014045028A (ja) * | 2012-08-24 | 2014-03-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2022028467A (ja) * | 2020-08-03 | 2022-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、及び基板処理装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100277522B1 (ko) | 기판처리장치 | |
| JP4700243B2 (ja) | 半導体処理のための制御システム及び方法 | |
| TWI278057B (en) | Enclosed container lid opening/closing system and enclosed container lid opening/closing method | |
| KR20010095110A (ko) | 양날개형 슬롯밸브 액츄에이터 및 그 설치방법 | |
| CN110199378B (zh) | 基板处理方法以及程序记录介质 | |
| JPH0828411B2 (ja) | 半導体ウェハ製造装置、半導体ウェハ処理装置及びチャック装置 | |
| CN114121745B (zh) | 一种用于晶圆装载盒门体的摆放系统 | |
| JP3959028B2 (ja) | 加工ツールにおいて基板上の粒子による汚染を低減するための装置および方法 | |
| JPH0828205B2 (ja) | ウエハ搬送装置 | |
| JPH10178088A (ja) | 基板チャック装置 | |
| JP4137244B2 (ja) | 基板洗浄装置における搬送機構 | |
| KR20200009400A (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
| JP3625264B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3745214B2 (ja) | ベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法 | |
| WO2011077937A1 (ja) | 基板乾燥装置及び基板乾燥方法 | |
| JPH10144774A (ja) | 基板保持装置 | |
| TWM603196U (zh) | 自動晶圓定位總成 | |
| JP2000150456A (ja) | 試料の分離装置及び分離方法 | |
| WO2021157553A1 (ja) | ロボット及びそれを備えた基板搬送システム | |
| JP5001354B2 (ja) | 基板処理システム | |
| JP3794808B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2002270486A (ja) | 基板露光装置およびその使用方法 | |
| JP2006135157A (ja) | 基板保持装置及び基板の取り出し方法 | |
| JP2000100920A (ja) | ウエハ把持装置 | |
| JPH10303277A (ja) | 扉開閉装置 |