JPH10180254A - 純水の製造方法及び製造装置 - Google Patents
純水の製造方法及び製造装置Info
- Publication number
- JPH10180254A JPH10180254A JP34375496A JP34375496A JPH10180254A JP H10180254 A JPH10180254 A JP H10180254A JP 34375496 A JP34375496 A JP 34375496A JP 34375496 A JP34375496 A JP 34375496A JP H10180254 A JPH10180254 A JP H10180254A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- treated
- membrane device
- flow rate
- supplied
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水温の変動による透過水量の変化なく、ユー
スポイントで使用される水量に応じて透過水量を連続的
に増減可能にする純水の製造方法及び製造装置を提供す
ること。 【解決手段】 被処理水を加圧下に逆浸透膜装置または
限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行う工程を含む純
水の製造方法において、前記被処理水の圧力を制御して
処理水の流量を増減することを特徴とする純水の製造方
法及び製造装置による。
スポイントで使用される水量に応じて透過水量を連続的
に増減可能にする純水の製造方法及び製造装置を提供す
ること。 【解決手段】 被処理水を加圧下に逆浸透膜装置または
限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行う工程を含む純
水の製造方法において、前記被処理水の圧力を制御して
処理水の流量を増減することを特徴とする純水の製造方
法及び製造装置による。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、純水（本明細書で
は超純水を含む意味で用いる）の製造方法及び純水製造
装置に係り、特に逆浸透膜装置のように被処理水の水温
の低下により透過性能の低下する逆浸透膜装置を用いて
純水を製造する際に、透過性能の変化にかかわらず所定
の透過水量を保ち得るようにした純水の製造方法及び製
造装置、ならびにユースポイントにおける純水の使用量
の変動に応じて濾過膜装置の透過水量を増減し得るよう
にした純水の製造方法及び製造装置に関するものであ
る。
は超純水を含む意味で用いる）の製造方法及び純水製造
装置に係り、特に逆浸透膜装置のように被処理水の水温
の低下により透過性能の低下する逆浸透膜装置を用いて
純水を製造する際に、透過性能の変化にかかわらず所定
の透過水量を保ち得るようにした純水の製造方法及び製
造装置、ならびにユースポイントにおける純水の使用量
の変動に応じて濾過膜装置の透過水量を増減し得るよう
にした純水の製造方法及び製造装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来から純水製造プラントにおいては、
常圧脱気装置、逆浸透膜装置、フィルタ装置、真空脱気
装置、紫外線照射有機物分解装置、イオン交換装置、限
外濾過膜装置などを用いて、被処理水の溶存成分や微粒
子成分を除去して、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ
１ｐｐｂ以下、０．０５μｍ粒径の微粒子数個／ｃｃ程
度までに純度を高めることが行われている。
常圧脱気装置、逆浸透膜装置、フィルタ装置、真空脱気
装置、紫外線照射有機物分解装置、イオン交換装置、限
外濾過膜装置などを用いて、被処理水の溶存成分や微粒
子成分を除去して、比抵抗値１８ＭΩｃｍ以上、ＴＯＣ
１ｐｐｂ以下、０．０５μｍ粒径の微粒子数個／ｃｃ程
度までに純度を高めることが行われている。
【０００３】このような、純水製造プラントで用いられ
る装置のうち、逆浸透膜装置は、被処理水の水温が低下
すると透過水量が低下する性質があり、このため逆浸透
膜装置の前段に熱交換器を設けて冬季水温が低下したと
きには被処理水を加温して所定の透過水量を確保するよ
うにしている。
る装置のうち、逆浸透膜装置は、被処理水の水温が低下
すると透過水量が低下する性質があり、このため逆浸透
膜装置の前段に熱交換器を設けて冬季水温が低下したと
きには被処理水を加温して所定の透過水量を確保するよ
うにしている。
【０００４】しかしながら、このような方法では、熱交
換器で被処理水を加熱するための電力又は消費蒸気のた
めに処理コストが高くなるという問題がある。
換器で被処理水を加熱するための電力又は消費蒸気のた
めに処理コストが高くなるという問題がある。
【０００５】また、多くの純水製造プラントでは、ユー
スポイントからの未使用純水を、ポンプで限外濾過膜装
置の上流側に設置した貯水槽に還流させており、ユース
ポイントで使用される純水量が少ない場合には逆浸透膜
装置に供給するポンプを断続させて消費水量に対応させ
るか、または一次系を循環させている。
スポイントからの未使用純水を、ポンプで限外濾過膜装
置の上流側に設置した貯水槽に還流させており、ユース
ポイントで使用される純水量が少ない場合には逆浸透膜
装置に供給するポンプを断続させて消費水量に対応させ
るか、または一次系を循環させている。
【０００６】しかしながら、このような従来のポンプの
運転方法では、ポンプが断続運転するため稼動電力が過
大になり、また、ポンプの急回転、急停止によりポンプ
自体の寿命が短くなり、さらにポンプからの発塵により
純水が汚染を受ける恐れがあるという問題があった。ま
た、ポンプを停止させる時間が長くなると生菌が繁殖す
るようになるという問題もあった。
運転方法では、ポンプが断続運転するため稼動電力が過
大になり、また、ポンプの急回転、急停止によりポンプ
自体の寿命が短くなり、さらにポンプからの発塵により
純水が汚染を受ける恐れがあるという問題があった。ま
た、ポンプを停止させる時間が長くなると生菌が繁殖す
るようになるという問題もあった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように従来の純水
の製造方法及び純水製造装置では、冬季水温が低下した
ときに、被処理水を加温して透過水量を一定に保つた
め、熱交換器とそれに伴うスチームのために処理コスト
が高くなってしまうという問題があった。
の製造方法及び純水製造装置では、冬季水温が低下した
ときに、被処理水を加温して透過水量を一定に保つた
め、熱交換器とそれに伴うスチームのために処理コスト
が高くなってしまうという問題があった。
【０００８】また、ユースポイントで使用される純水量
に応じてポンプを断続運転するため、稼動電力が過大に
なり（回収率７０％の超純水製造装置において、ランニ
ングコストが４００円／ｍ3 とすると、電力コストは１
００円／ｍ3 であり、ランニングコストの１／４を占め
る。）、ポンプの急回転、急停止によりポンプ自体の寿
命が短くなり、かつ、ポンプからの発塵により純水が汚
染を受ける恐れが生じ、さらに、ポンプを停止させる時
間が長くなると生菌が繁殖するようになるという問題も
あった。
に応じてポンプを断続運転するため、稼動電力が過大に
なり（回収率７０％の超純水製造装置において、ランニ
ングコストが４００円／ｍ3 とすると、電力コストは１
００円／ｍ3 であり、ランニングコストの１／４を占め
る。）、ポンプの急回転、急停止によりポンプ自体の寿
命が短くなり、かつ、ポンプからの発塵により純水が汚
染を受ける恐れが生じ、さらに、ポンプを停止させる時
間が長くなると生菌が繁殖するようになるという問題も
あった。
【０００９】本発明は、かかる従来の難点を解消すべく
なされたもので、第１の目的は、水温の変動による透過
水量の変化のない純水の製造方法及び製造装置を提供す
ることにある。
なされたもので、第１の目的は、水温の変動による透過
水量の変化のない純水の製造方法及び製造装置を提供す
ることにある。
【００１０】また、本発明の第２の目的は、ユースポイ
ントで使用される水量に応じて透過水量を連続的に増減
可能な純水の製造方法及び製造装置を提供することにあ
る。本発明の他の目的は以下の説明から明らかになるで
あろう。
ントで使用される水量に応じて透過水量を連続的に増減
可能な純水の製造方法及び製造装置を提供することにあ
る。本発明の他の目的は以下の説明から明らかになるで
あろう。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本明細書中では、一次系
において逆浸透膜装置を中心としてその前段の水を被処
理水、後段を処理水とし、二次系においては限外濾過膜
装置を中心としてその前段の水を被処理水、後段を処理
水とする。
において逆浸透膜装置を中心としてその前段の水を被処
理水、後段を処理水とし、二次系においては限外濾過膜
装置を中心としてその前段の水を被処理水、後段を処理
水とする。
【００１２】上記目的は、被処理水を加圧下に逆浸透膜
装置または限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行う工
程を含む純水の製造方法において、前記逆浸透膜装置の
下流側で処理水の流量を測定し、該処理水の流量を必要
量に応じた量に増減すべく、被処理水を加圧する圧力を
制御することによって達成される。
装置または限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行う工
程を含む純水の製造方法において、前記逆浸透膜装置の
下流側で処理水の流量を測定し、該処理水の流量を必要
量に応じた量に増減すべく、被処理水を加圧する圧力を
制御することによって達成される。
【００１３】さらに、上記目的は、被処理水を加圧下に
逆浸透膜装置に供給して濾過操作を行って得た一次処理
水を貯水槽に一旦貯留させ、この一次処理水を加圧下に
限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行い、得られた二
次処理水をユースポイントに供給するようにした純水の
製造方法において、（ａ）前記貯水槽の水位を測定し、
該水位が所定の範囲を維持するよう、前記逆浸透膜装置
に供給する被処理水を加圧する圧力を制御すること、
（ｂ）前記ユースポイントの前段の流量を測定し、この
流量に基づいて前記限外濾過膜に供給する被処理水を加
圧する圧力及び前記逆浸透膜装置に供給する被処理水を
加圧する圧力を制御すること、（ｃ）ユースポイントの
前段の流量を測定し、この流量が所定の流量を維持する
よう、前記限外濾過膜に供給する被処理水を加圧する圧
力を制御するとともに、前記貯水槽の水位を測定し、こ
の水位が所定のレベルを維持するよう、前記逆浸透膜装
置に供給する被処理水を加圧する圧力を制御することに
よって達成される。
逆浸透膜装置に供給して濾過操作を行って得た一次処理
水を貯水槽に一旦貯留させ、この一次処理水を加圧下に
限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行い、得られた二
次処理水をユースポイントに供給するようにした純水の
製造方法において、（ａ）前記貯水槽の水位を測定し、
該水位が所定の範囲を維持するよう、前記逆浸透膜装置
に供給する被処理水を加圧する圧力を制御すること、
（ｂ）前記ユースポイントの前段の流量を測定し、この
流量に基づいて前記限外濾過膜に供給する被処理水を加
圧する圧力及び前記逆浸透膜装置に供給する被処理水を
加圧する圧力を制御すること、（ｃ）ユースポイントの
前段の流量を測定し、この流量が所定の流量を維持する
よう、前記限外濾過膜に供給する被処理水を加圧する圧
力を制御するとともに、前記貯水槽の水位を測定し、こ
の水位が所定のレベルを維持するよう、前記逆浸透膜装
置に供給する被処理水を加圧する圧力を制御することに
よって達成される。
【００１４】さらに、本発明の目的は、被処理水を加圧
下に逆浸透膜装置に供給して濾過操作を行って得た一次
処理水を貯水槽に一旦貯留させ、この一次処理水を加圧
下に限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行い、得られ
た二次処理水をユースポイントを経て前記貯水槽に還流
させるようにした純水の製造方法において、（ａ）前記
貯水槽の水位を測定し、該水位が所定の範囲を維持する
よう、前記逆浸透膜装置に供給する被処理水を加圧する
圧力を制御すること、（ｂ）ユースポイントと貯水槽の
間の流量を測定し、還流する処理水が所定の流量を維持
するよう、前記限外濾過膜に供給する被処理水を加圧す
る圧力を制御するとともに、前記貯水槽の水位を測定
し、この水位が所定のレベルを維持するよう、前記逆浸
透膜装置に供給する被処理水を加圧する圧力を制御する
こと、これらの発明における被処理水の加圧手段は、キ
ャンドポンプや渦流ポンプなどの高圧ポンプであり、特
に回転数制御が可能な交流ポンプが本発明には適してい
る。
下に逆浸透膜装置に供給して濾過操作を行って得た一次
処理水を貯水槽に一旦貯留させ、この一次処理水を加圧
下に限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行い、得られ
た二次処理水をユースポイントを経て前記貯水槽に還流
させるようにした純水の製造方法において、（ａ）前記
貯水槽の水位を測定し、該水位が所定の範囲を維持する
よう、前記逆浸透膜装置に供給する被処理水を加圧する
圧力を制御すること、（ｂ）ユースポイントと貯水槽の
間の流量を測定し、還流する処理水が所定の流量を維持
するよう、前記限外濾過膜に供給する被処理水を加圧す
る圧力を制御するとともに、前記貯水槽の水位を測定
し、この水位が所定のレベルを維持するよう、前記逆浸
透膜装置に供給する被処理水を加圧する圧力を制御する
こと、これらの発明における被処理水の加圧手段は、キ
ャンドポンプや渦流ポンプなどの高圧ポンプであり、特
に回転数制御が可能な交流ポンプが本発明には適してい
る。
【００１５】本発明における濾過膜装置は、温度低下に
より透過性能の低下するものであればどのような濾過膜
装置であっても本発明を適用できるが、特に、逆浸透膜
装置がこのような傾向が顕著であり、したがって本発明
に適している。
より透過性能の低下するものであればどのような濾過膜
装置であっても本発明を適用できるが、特に、逆浸透膜
装置がこのような傾向が顕著であり、したがって本発明
に適している。
【００１６】逆浸透膜装置としては、例えば酢酸セルロ
ース、脂肪族ポリアミド系あるいは芳香族ポリアミド系
またはこれらの複合系からなる各種有機高分子膜あるい
はセラミック膜等が使用でき、低圧または中圧逆浸透膜
のいずれも適用可能であるが、特にこれらに限定はされ
ない。また、膜モジュールの形式としては、中空糸型モ
ジュール、管状型モジュール、スパイラル型モジュール
あるいは平膜型モジュールが適用できるが、特にこれら
に限定はされない。このような逆浸透膜装置の例として
は、例えば東レ株式会社製の７２０、７１０あるいは、
日東電工株式会社製のＮＴＲ−７５９ＵＰ、ＥＳ−１０
のような低圧（７ｋｇｆ／ｃｍ2 ）から高圧（６０ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 ）までのものが挙げられる。
ース、脂肪族ポリアミド系あるいは芳香族ポリアミド系
またはこれらの複合系からなる各種有機高分子膜あるい
はセラミック膜等が使用でき、低圧または中圧逆浸透膜
のいずれも適用可能であるが、特にこれらに限定はされ
ない。また、膜モジュールの形式としては、中空糸型モ
ジュール、管状型モジュール、スパイラル型モジュール
あるいは平膜型モジュールが適用できるが、特にこれら
に限定はされない。このような逆浸透膜装置の例として
は、例えば東レ株式会社製の７２０、７１０あるいは、
日東電工株式会社製のＮＴＲ−７５９ＵＰ、ＥＳ−１０
のような低圧（７ｋｇｆ／ｃｍ2 ）から高圧（６０ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 ）までのものが挙げられる。
【００１７】逆浸膜透装置内での沈殿物の析出を確実に
防止して長期にわたる処理能力の維持を可能とするため
に、逆浸透膜装置へ供給する被処理水のｐＨを６〜９、
好ましくは６．５〜８．０にするとよい。逆浸透膜装置
へ供給する被処理水のｐＨを６〜９に調整するには、ア
ニオン交換装置に予め被処理水を通水する方法、水酸化
ナトリウムあるいはアンモニア水等のアルカリを添加す
る方法、あるいはこれらの方法を併用する方法がある
が、特にこれらに限定はされない。逆浸透膜装置は、被
処理水のＴＯＣ濃度に応じて２段以上としてもよい。例
えば、ＴＯＣ濃度が０．５ｐｐｍ〜３ｐｐｍの場合に
は、逆浸透膜装置を２段に設けることが好ましい。
防止して長期にわたる処理能力の維持を可能とするため
に、逆浸透膜装置へ供給する被処理水のｐＨを６〜９、
好ましくは６．５〜８．０にするとよい。逆浸透膜装置
へ供給する被処理水のｐＨを６〜９に調整するには、ア
ニオン交換装置に予め被処理水を通水する方法、水酸化
ナトリウムあるいはアンモニア水等のアルカリを添加す
る方法、あるいはこれらの方法を併用する方法がある
が、特にこれらに限定はされない。逆浸透膜装置は、被
処理水のＴＯＣ濃度に応じて２段以上としてもよい。例
えば、ＴＯＣ濃度が０．５ｐｐｍ〜３ｐｐｍの場合に
は、逆浸透膜装置を２段に設けることが好ましい。
【００１８】本発明に用いられる流量計としては、面積
式流量計、羽車式流量計も使用可能であるが、超音波式
流量計が可動部分がなく水の汚染がないので特に適して
いる。 また、本発明に用いられる水位計としては、電
磁式レベルスイッチやフロート式レベルスイッチも使用
可能であるが、特に隔膜式差圧計が適している。
式流量計、羽車式流量計も使用可能であるが、超音波式
流量計が可動部分がなく水の汚染がないので特に適して
いる。 また、本発明に用いられる水位計としては、電
磁式レベルスイッチやフロート式レベルスイッチも使用
可能であるが、特に隔膜式差圧計が適している。
【００１９】本発明においては、ポンプは複数設置して
もよく、特に、逆浸透膜装置を使用する一次処理系と限
外濾過膜装置を使用する二次処理系とを貯水槽を介して
連結してなる系では、第１のポンプを逆浸透膜装置の上
流側に設置し、第２のポンプを限外濾過膜装置の上流側
に設置し、ユースポイントからの還流を逆浸透膜装置と
限外濾過膜装置の間に設置した貯水槽に供給する構成を
採用することができる。このような構成を採用した場合
には、逆浸透膜装置の下流側に第１の流量計、ユースポ
イントからの還流ラインに第２の流量計、貯水槽に水位
計、例えばレベル計を設置して次のような任意の運転形
態を採ることができる。
もよく、特に、逆浸透膜装置を使用する一次処理系と限
外濾過膜装置を使用する二次処理系とを貯水槽を介して
連結してなる系では、第１のポンプを逆浸透膜装置の上
流側に設置し、第２のポンプを限外濾過膜装置の上流側
に設置し、ユースポイントからの還流を逆浸透膜装置と
限外濾過膜装置の間に設置した貯水槽に供給する構成を
採用することができる。このような構成を採用した場合
には、逆浸透膜装置の下流側に第１の流量計、ユースポ
イントからの還流ラインに第２の流量計、貯水槽に水位
計、例えばレベル計を設置して次のような任意の運転形
態を採ることができる。
【００２０】 第１の流量計により流量を測定し、こ
の流量が一定となるよう第１のポンプの回転数（圧力）
を制御して透過水量を一定にする。
の流量が一定となるよう第１のポンプの回転数（圧力）
を制御して透過水量を一定にする。
【００２１】 第２のポンプの回転数を一定として第
２の流量計又は貯水槽の水位計を測定し第２の流量計又
は水位計が一定範囲となるように第１のポンプの回転数
を制御してユースポイントにおける使用量に応じた透過
水量とする。
２の流量計又は貯水槽の水位計を測定し第２の流量計又
は水位計が一定範囲となるように第１のポンプの回転数
を制御してユースポイントにおける使用量に応じた透過
水量とする。
【００２２】 第２の流量計で還流ラインの流量を測
定しこの流量が一定範囲となるよう第２のポンプの回転
数を制御するとともに、貯水槽の水位計で貯水槽の水位
を測定し、この水位が一定範囲となるよう第１のポンプ
の回転数を制御してユースポイントにおける使用量に対
応させて第１及び第２のポンプの回転数を制御してユー
スポイントで使用された分だけ純水を供給する。
定しこの流量が一定範囲となるよう第２のポンプの回転
数を制御するとともに、貯水槽の水位計で貯水槽の水位
を測定し、この水位が一定範囲となるよう第１のポンプ
の回転数を制御してユースポイントにおける使用量に対
応させて第１及び第２のポンプの回転数を制御してユー
スポイントで使用された分だけ純水を供給する。
【００２３】さらに、ユースポイントでの使用量が多く
しかも消費水量がほぼ一定で安定している場合には、上
記の構成での還流系を設けずに、貯水槽に設置した水位
計の測定した水位信号により第１のポンプの回転数を制
御したり、ユースポイントの前段に設置した流量計の測
定した流量信号により第２のポンプ、又は第２のポンプ
と第１のポンプの回転数を制御する形態をとることがで
きる。
しかも消費水量がほぼ一定で安定している場合には、上
記の構成での還流系を設けずに、貯水槽に設置した水位
計の測定した水位信号により第１のポンプの回転数を制
御したり、ユースポイントの前段に設置した流量計の測
定した流量信号により第２のポンプ、又は第２のポンプ
と第１のポンプの回転数を制御する形態をとることがで
きる。
【００２４】なお、本発明は、このような運転形態に限
定されるものではなく、必要に応じてその他の任意の運
転形態をとることができる。
定されるものではなく、必要に応じてその他の任意の運
転形態をとることができる。
【００２５】また、本発明の純水の製造方法及び製造装
置には、公知の多くの技術を併用することが可能であ
り、例えば純水製造に用いられている常圧脱気装置、真
空脱気装置、紫外線照射装置、イオン交換装置、過酸化
水素、酸・アルカリなどの各種の薬液注入装置等をライ
ンに付加することが可能である。
置には、公知の多くの技術を併用することが可能であ
り、例えば純水製造に用いられている常圧脱気装置、真
空脱気装置、紫外線照射装置、イオン交換装置、過酸化
水素、酸・アルカリなどの各種の薬液注入装置等をライ
ンに付加することが可能である。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について図
面を参照して詳細に説明する。
面を参照して詳細に説明する。
【００２７】
【実施例１】図１は、本発明の第１の実施例の構成を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【００２８】同図において、タンク１には例えば市水の
ような原水が収容されており、この原水は第１の交流ポ
ンプ２により逆浸透膜装置３に圧送されるようになって
いる。逆浸透膜装置３の下流側の配管には、第１の超音
波流量計４が配設されている。第１の超音波流量計４の
信号出力は第１のインバータ制御装置５に供給され、第
１のインバータ制御装置５は予め必要量に応じた流量と
なるよう第１の交流ポンプ２の回転数を連続的に制御す
る。
ような原水が収容されており、この原水は第１の交流ポ
ンプ２により逆浸透膜装置３に圧送されるようになって
いる。逆浸透膜装置３の下流側の配管には、第１の超音
波流量計４が配設されている。第１の超音波流量計４の
信号出力は第１のインバータ制御装置５に供給され、第
１のインバータ制御装置５は予め必要量に応じた流量と
なるよう第１の交流ポンプ２の回転数を連続的に制御す
る。
【００２９】真空脱気装置６は、真空度３５Ｔｏｒｒ以
下において、窒素ガスのような不活性ガスを被処理水の
体積基準にして０．００１〜１１．０、好ましくは０．
０１〜０．０５の体積流量比で送入しながら真空脱気し
て溶存揮発成分を除去する。紫外線照射装置７は、１８
０〜１９０ｎｍの波長を有する紫外線酸化用低圧紫外線
ランプであり、この紫外線の照射により、被処理水中に
溶存する有機物は有機酸あるいは二酸化炭素にまで分解
される。
下において、窒素ガスのような不活性ガスを被処理水の
体積基準にして０．００１〜１１．０、好ましくは０．
０１〜０．０５の体積流量比で送入しながら真空脱気し
て溶存揮発成分を除去する。紫外線照射装置７は、１８
０〜１９０ｎｍの波長を有する紫外線酸化用低圧紫外線
ランプであり、この紫外線の照射により、被処理水中に
溶存する有機物は有機酸あるいは二酸化炭素にまで分解
される。
【００３０】イオン交換装置８は、例えば、アニオン交
換樹脂として強塩基性アニオン交換樹脂デュオライトＡ
−１１３Ｐｌｕｓ（ローム＆ハース杜）と、カチオン交
換樹脂として強酸性カチオン交換樹脂デュオライトＣ−
２０（ローム＆ハース社）とを使用し、これらを予め再
生してＯＨ型とＨ型とに変換した後に混合充填した混床
式イオン交換装置が好適に使用される。
換樹脂として強塩基性アニオン交換樹脂デュオライトＡ
−１１３Ｐｌｕｓ（ローム＆ハース杜）と、カチオン交
換樹脂として強酸性カチオン交換樹脂デュオライトＣ−
２０（ローム＆ハース社）とを使用し、これらを予め再
生してＯＨ型とＨ型とに変換した後に混合充填した混床
式イオン交換装置が好適に使用される。
【００３１】イオン交換装置８の下流には貯水槽９が配
設されており、後述する第２の配管系１０により還流さ
れた純水を一旦貯溜するようになっている。この貯水槽
９にはレベル計１１が設けられて貯水槽９内の純水の量
を測定するようになっている。 第２の配管系１０には
第２の超音波流量計１２が配設され還流される純水の量
を測定するようになっている。
設されており、後述する第２の配管系１０により還流さ
れた純水を一旦貯溜するようになっている。この貯水槽
９にはレベル計１１が設けられて貯水槽９内の純水の量
を測定するようになっている。 第２の配管系１０には
第２の超音波流量計１２が配設され還流される純水の量
を測定するようになっている。
【００３２】貯水槽９の下流は二次純水系となってお
り、貯水槽９の下流には、第２の交流ポンプ１３、およ
び第２のインバータ制御装置１４が配設されている。第
２の配管系１０に設けた第２の超音波流量計１２からの
流量信号は、第２のインバータ制御装置１４に供給さ
れ、第２のインバータ制御装置１４により必要量に応じ
た流量となるよう第２の交流ポンプ１３の回転数を制御
する。
り、貯水槽９の下流には、第２の交流ポンプ１３、およ
び第２のインバータ制御装置１４が配設されている。第
２の配管系１０に設けた第２の超音波流量計１２からの
流量信号は、第２のインバータ制御装置１４に供給さ
れ、第２のインバータ制御装置１４により必要量に応じ
た流量となるよう第２の交流ポンプ１３の回転数を制御
する。
【００３３】第２の交流ポンプ１３の下流には、第２の
紫外線照射装置１５、第２のイオン交換装置１６が配置
され、さらに、その下流には限外濾過膜装置１７が配設
されている。限外濾過膜装置１７としては、ポリアクリ
ルニトリル、ポリアミド、ポリスルフオン等を主体とす
る種々の高分子を限外濾過膜として用いたものが使用可
能である。
紫外線照射装置１５、第２のイオン交換装置１６が配置
され、さらに、その下流には限外濾過膜装置１７が配設
されている。限外濾過膜装置１７としては、ポリアクリ
ルニトリル、ポリアミド、ポリスルフオン等を主体とす
る種々の高分子を限外濾過膜として用いたものが使用可
能である。
【００３４】限外濾過膜装置１７の下流にユースポイン
ト１８が配置され、これらの各装置は第１の配管系１９
により連結されている。
ト１８が配置され、これらの各装置は第１の配管系１９
により連結されている。
【００３５】また、ユースポイント１７の未使用水は第
２の配管系１０により貯水槽９に還流される。
２の配管系１０により貯水槽９に還流される。
【００３６】このように構成された実施例の装置では、
第１の貯水槽１に一旦貯溜された原水は第１の交流ポン
プ２により加圧されて逆浸透膜装置３でイオン成分と微
粒子成分が除去され、次いで真空脱気塔６で揮発成分が
留去された後、紫外線照射装置７により有機物が分解さ
れ、分解により生じた有機酸成分はイオン交換装置８に
より除去されて一旦第２の貯水槽９に貯留される。
第１の貯水槽１に一旦貯溜された原水は第１の交流ポン
プ２により加圧されて逆浸透膜装置３でイオン成分と微
粒子成分が除去され、次いで真空脱気塔６で揮発成分が
留去された後、紫外線照射装置７により有機物が分解さ
れ、分解により生じた有機酸成分はイオン交換装置８に
より除去されて一旦第２の貯水槽９に貯留される。
【００３７】貯水槽９に貯留された純水は、第２の交流
ポンプ１３により紫外線照射装置１５、イオン交換装置
１６、限外濾過膜装置１７を順に経てユースポイント１
８に供給され、未使用純水は第２の配管系１０を経て第
２の貯水槽に還流される。
ポンプ１３により紫外線照射装置１５、イオン交換装置
１６、限外濾過膜装置１７を順に経てユースポイント１
８に供給され、未使用純水は第２の配管系１０を経て第
２の貯水槽に還流される。
【００３８】この実施例においては、次のモードにより
運転を行うことができる。
運転を行うことができる。
【００３９】（１）第１の流量計４の流量信号を第１の
インバータ制御装置５に供給して必要量に応じた流量と
なるよう交流ポンプ２の回転数を制御する。
インバータ制御装置５に供給して必要量に応じた流量と
なるよう交流ポンプ２の回転数を制御する。
【００４０】（２）第２のポンプの回転数を一定として
第２の流量計又は貯水槽の水位計によりユースポイント
で使用された分に対応する流量となるよう交流ポンプ２
の回転数を制御する。
第２の流量計又は貯水槽の水位計によりユースポイント
で使用された分に対応する流量となるよう交流ポンプ２
の回転数を制御する。
【００４１】（３）第２の流量計及び貯水槽の水位計に
よりユースポイントでの使用に対応させて第２のポンプ
の回転数を制御する。その際、ユースポイントで使用さ
れた超純水を水位計で測定し、その信号を受けて第１の
ポンプの回転数を制御する。
よりユースポイントでの使用に対応させて第２のポンプ
の回転数を制御する。その際、ユースポイントで使用さ
れた超純水を水位計で測定し、その信号を受けて第１の
ポンプの回転数を制御する。
【００４２】（１）の運転モードでは、一次純水系内の
流量が一定となるので、水温の変化による一次系の透過
水量の変動がなくなる。
流量が一定となるので、水温の変化による一次系の透過
水量の変動がなくなる。
【００４３】また、（２）の運転モードでは、二次純水
系内の流量が一定の場合に、ユースポイントで使用され
た分の純水をユースポイントから戻る流量、及び貯水槽
の水量を測定して逆浸透膜装置の透過水量をポンプの回
転数を制御することにより対応させるため１次系内での
循環及び間欠運転をしないで済み、これによってポンプ
運転の電気代の削減及び逆浸透膜装置の運転停止による
生菌の増加やポンプ急回転、急停止を防ぐことができ
る。
系内の流量が一定の場合に、ユースポイントで使用され
た分の純水をユースポイントから戻る流量、及び貯水槽
の水量を測定して逆浸透膜装置の透過水量をポンプの回
転数を制御することにより対応させるため１次系内での
循環及び間欠運転をしないで済み、これによってポンプ
運転の電気代の削減及び逆浸透膜装置の運転停止による
生菌の増加やポンプ急回転、急停止を防ぐことができ
る。
【００４４】さらに、（３）の運転モードでは、ユース
ポイントで使用される分に対応して二次系のポンプが運
転される。その際、貯水槽の水量を測定してユースポイ
ントで使用された分に対応して一次純水系の逆浸透膜装
置を運転するため、一次系、２次系ポンプの消費電力を
抑えることが可能である。さらに、一次系のサークルラ
インは必要なく逆浸透膜装置が間欠運転しないため、生
菌の増加やポンプの急回転、急停止がなくポンプ寿命を
長くすることができる。
ポイントで使用される分に対応して二次系のポンプが運
転される。その際、貯水槽の水量を測定してユースポイ
ントで使用された分に対応して一次純水系の逆浸透膜装
置を運転するため、一次系、２次系ポンプの消費電力を
抑えることが可能である。さらに、一次系のサークルラ
インは必要なく逆浸透膜装置が間欠運転しないため、生
菌の増加やポンプの急回転、急停止がなくポンプ寿命を
長くすることができる。
【００４５】なお、（３）のモードでは、例えば、レベ
ル計１１からのレベル信号に上限値、下限値を設定して
おき、インバータ制御装置に上限値が供給される都度設
定透過水量を段階的に低くし、下限値が供給される都度
設定透過水量を高くするようにして、一次系と二次系の
透過水量の同調をはかるようにしてもよい。
ル計１１からのレベル信号に上限値、下限値を設定して
おき、インバータ制御装置に上限値が供給される都度設
定透過水量を段階的に低くし、下限値が供給される都度
設定透過水量を高くするようにして、一次系と二次系の
透過水量の同調をはかるようにしてもよい。
【００４６】ちなみに、逆浸透膜として東レ株式会社製
ＳＵ−７１０を用いたインバータ制御した場合の電力消
費率は、従来の被処理水を加温する場合と比較して、
（１）の場合にはほぼ２／３、（１）と（２）を併用し
た場合には、１／２程度となる。 図２は、水温により
変化する逆浸透膜装置での被処理水の透過水量を維持す
るために、実施例１で示したインバータ制御装置を用い
る代わりに熱交換器Ｈおよび蒸気供給源Ｓを設置した従
来の装置の要部を示した図である。この装置を用いた例
を比較例１とする。なお、図２において、図１と同一の
構成部分には同一符号を付している。図１と図２の装置
を用いて逆浸透膜装置の透過水量が一定になるまでに要
した時間を比較した。被処理水の水温は１７℃である。
比較結果は表１に示した。
ＳＵ−７１０を用いたインバータ制御した場合の電力消
費率は、従来の被処理水を加温する場合と比較して、
（１）の場合にはほぼ２／３、（１）と（２）を併用し
た場合には、１／２程度となる。 図２は、水温により
変化する逆浸透膜装置での被処理水の透過水量を維持す
るために、実施例１で示したインバータ制御装置を用い
る代わりに熱交換器Ｈおよび蒸気供給源Ｓを設置した従
来の装置の要部を示した図である。この装置を用いた例
を比較例１とする。なお、図２において、図１と同一の
構成部分には同一符号を付している。図１と図２の装置
を用いて逆浸透膜装置の透過水量が一定になるまでに要
した時間を比較した。被処理水の水温は１７℃である。
比較結果は表１に示した。
【００４７】
【表１】 表１での測定結果からも分かるように本発明の装置を用
いた場合、逆浸透膜装置の透過水量が一定になるまでの
時間は従来の装置の半分の時間でよいことが分かる。こ
れより、本発明で使用しているインバータ制御装置を用
いた方がより早く一定流量に達するということが言え
る。また、本発明の装置のランニングコストは従来の装
置の７０％となる。
いた場合、逆浸透膜装置の透過水量が一定になるまでの
時間は従来の装置の半分の時間でよいことが分かる。こ
れより、本発明で使用しているインバータ制御装置を用
いた方がより早く一定流量に達するということが言え
る。また、本発明の装置のランニングコストは従来の装
置の７０％となる。
【００４８】
【実施例２】図３は、本発明の第２の実施例の構成を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【００４９】なお、図３において、図１と同一の構成部
分には同一符号を付している。
分には同一符号を付している。
【００５０】第２の実施例の構成は、第２の配管系１０
をなくして第２の流量計１２をユースポイントの手前に
設置した点を除いて、第１の実施例の構成と同一であ
る。
をなくして第２の流量計１２をユースポイントの手前に
設置した点を除いて、第１の実施例の構成と同一であ
る。
【００５１】このように構成された第２の実施例の装置
においては、第１の実施例と同様に、第１の貯水槽１に
一旦貯留された原水が第１の交流ポンプ２により加圧さ
れて逆浸透膜装置３でイオン成分と微粒子成分が除去さ
れ、次いで真空脱気塔６で揮発成分が留去された後、第
１の紫外線酸化装置７で有機物を有機酸やＣＯ2 に分解
され、イオン交換装置８で有機酸成分、イオン成分が除
去されて一旦第２の貯水槽９に貯留される。そして、貯
水槽９に貯留された純水は、第２の交流ポンプ１３によ
り紫外線酸化装置１５、イオン交換装置１６、限外濾過
装置１７、流量計１２を順に経てユースポイント１８に
供給される。
においては、第１の実施例と同様に、第１の貯水槽１に
一旦貯留された原水が第１の交流ポンプ２により加圧さ
れて逆浸透膜装置３でイオン成分と微粒子成分が除去さ
れ、次いで真空脱気塔６で揮発成分が留去された後、第
１の紫外線酸化装置７で有機物を有機酸やＣＯ2 に分解
され、イオン交換装置８で有機酸成分、イオン成分が除
去されて一旦第２の貯水槽９に貯留される。そして、貯
水槽９に貯留された純水は、第２の交流ポンプ１３によ
り紫外線酸化装置１５、イオン交換装置１６、限外濾過
装置１７、流量計１２を順に経てユースポイント１８に
供給される。
【００５２】この実施例においては、次のモードにより
運転を行うことができる。
運転を行うことができる。
【００５３】（１）貯水槽９の水位計１１の水位信号を
第１のインバータ制御装置５に供給して使用量に流量が
追随するように交流ポンプ２の回転数を制御する。
第１のインバータ制御装置５に供給して使用量に流量が
追随するように交流ポンプ２の回転数を制御する。
【００５４】（２）第２の流量計１２の流量信号を第２
のインバータ制御装置１４と第１のインバータ制御装置
５に供給して使用量に応じた流量となるよう交流ポンプ
１３，２の回転数を制御する。
のインバータ制御装置１４と第１のインバータ制御装置
５に供給して使用量に応じた流量となるよう交流ポンプ
１３，２の回転数を制御する。
【００５５】（３）第２の流量計１２の流量信号を第２
のインバータ制御装置１４に供給して使用量に応じた流
量となるよう交流ポンプ１３の回転数を制御する一方、
貯水槽９の水位計１１の水位信号を第１のインバータ制
御装置５に供給して貯水槽９の水位が一定となるように
交流ポンプ２の回転数を制御する。
のインバータ制御装置１４に供給して使用量に応じた流
量となるよう交流ポンプ１３の回転数を制御する一方、
貯水槽９の水位計１１の水位信号を第１のインバータ制
御装置５に供給して貯水槽９の水位が一定となるように
交流ポンプ２の回転数を制御する。
【００５６】この実施例においては、ユースポイントで
の純水の使用量が増加するとユースポイントの前段の圧
力が低下して流量が増大し、逆にユースポイントでの純
水の使用量が減少すると圧力が増加して流量が減少す
る。第２の超音波流量計１２はこのような流量の増減を
検出して制御信号として第２のインバータ制御装置１４
や第１のインバータ制御装置５に供給する。
の純水の使用量が増加するとユースポイントの前段の圧
力が低下して流量が増大し、逆にユースポイントでの純
水の使用量が減少すると圧力が増加して流量が減少す
る。第２の超音波流量計１２はこのような流量の増減を
検出して制御信号として第２のインバータ制御装置１４
や第１のインバータ制御装置５に供給する。
【００５７】図２の実施例においても、水温の変化によ
る透過水量の変動がなくなる、循環及び間欠運転をしな
いで済み、特に、実施例１と比較してポンプ運転の消費
電力の低減をはかることができる。また、逆浸透膜装置
の運転停止による生菌の増加やポンプ急回転、急停止を
防いでポンプ寿命を長くすることができるという効果も
得られる。
る透過水量の変動がなくなる、循環及び間欠運転をしな
いで済み、特に、実施例１と比較してポンプ運転の消費
電力の低減をはかることができる。また、逆浸透膜装置
の運転停止による生菌の増加やポンプ急回転、急停止を
防いでポンプ寿命を長くすることができるという効果も
得られる。
【００５８】
【発明の効果】以上の実施例からも明らかなように、本
発明によれば冬季などに水温が低下しても濾過膜装置の
透過水量を一定に維持することができ、従来使用されて
いた水温を一定にするための熱交換器を省略することが
できる。
発明によれば冬季などに水温が低下しても濾過膜装置の
透過水量を一定に維持することができ、従来使用されて
いた水温を一定にするための熱交換器を省略することが
できる。
【００５９】また、ユースポイントにおける純水の使用
量が大きく変動する場合に、濾過膜装置の透過水量を使
用量に応じて増減することができる。
量が大きく変動する場合に、濾過膜装置の透過水量を使
用量に応じて増減することができる。
【００６０】さらに、濾過膜装置に被処理水を供給する
ポンプとして交流ポンプを使用し、この交流ポンプの回
転数をインバータ制御することにより、圧力の変更を連
続的に行うことができ、ポンプへの負荷が少なくなって
ポンプの寿命が長くなり、発塵も抑えることができる。
ポンプとして交流ポンプを使用し、この交流ポンプの回
転数をインバータ制御することにより、圧力の変更を連
続的に行うことができ、ポンプへの負荷が少なくなって
ポンプの寿命が長くなり、発塵も抑えることができる。
【００６１】また、濾過膜装置の透過水量をユースポイ
ントからの未使用純水の水量と対応させて、サ−クルポ
ンプの稼動率が低下して、消費電力の低減をはかること
もできる。さらに純水装置の連続運転が可能で生菌の繁
殖を防ぐことができるという効果がある。
ントからの未使用純水の水量と対応させて、サ−クルポ
ンプの稼動率が低下して、消費電力の低減をはかること
もできる。さらに純水装置の連続運転が可能で生菌の繁
殖を防ぐことができるという効果がある。
【００６２】さらに、また、循環系を用いない場合に
は、サークルラインのたまり部分がなくなり、超純水の
水質が高まる。このため、より一層の消費電力の低減効
果が得られる。
は、サークルラインのたまり部分がなくなり、超純水の
水質が高まる。このため、より一層の消費電力の低減効
果が得られる。
【００６３】つまり、従来と比較して運転の制御が容易
であり、さらにコストを削減できるという効果が得られ
るものである。
であり、さらにコストを削減できるという効果が得られ
るものである。
【図１】本発明の一実施例の主要部を示す機器構成図。
【図２】比較例１を示す機器構成図。
【図３】本発明の他の実施例の主要部を示す機器構成
図。
図。
１……第１の貯水槽、２……第１の交流ポンプ、３……
逆浸透膜装置、４……第１の超音波流量計、５……第１
のインバータ制御装置、６……真空脱気塔、７……第１
の紫外線照射装置、８……第１のイオン交換装置、９…
…第２の貯水槽、１０……第２の配管系、１１……レベ
ル計、１２……第２の超音波流量計、１３……第２の交
流ポンプ、１４……第２のインバータ制御装置、 １５
……第２の紫外線照射装置、１６……イオン交換装置、
１７……限外濾過膜装置、１８……ユースポイント
逆浸透膜装置、４……第１の超音波流量計、５……第１
のインバータ制御装置、６……真空脱気塔、７……第１
の紫外線照射装置、８……第１のイオン交換装置、９…
…第２の貯水槽、１０……第２の配管系、１１……レベ
ル計、１２……第２の超音波流量計、１３……第２の交
流ポンプ、１４……第２のインバータ制御装置、 １５
……第２の紫外線照射装置、１６……イオン交換装置、
１７……限外濾過膜装置、１８……ユースポイント
フロントページの続き (72)発明者 米川 直道 神奈川県厚木市岡田２丁目９番８号 野村 マイクロ・サイエンス株式会社内 (72)発明者 相川 令子 茨城県つくば市大久保10 日本酸素株式会 社内 (72)発明者 小島 泉里 神奈川県厚木市岡田２丁目９番８号 野村 マイクロ・サイエンス株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】 被処理水を加圧下に逆浸透膜装置または
限外濾過膜装置に供給して濾過操作を行う工程を含む純
水の製造方法において、前記被処理水の圧力を制御して
処理水の流量を増減することを特徴とする純水の製造方
法。 - 【請求項２】 被処理水を加圧下に逆浸透膜装置に供給
して濾過操作を行って得た一次処理水を貯水槽に一旦貯
留させ、この一次処理水を加圧下に限外濾過膜装置に供
給して濾過操作を行い、得られた二次処理水をユースポ
イントに供給するようにした純水の製造方法において、
前記貯水槽の水位を測定し、該水位が所定の範囲を維持
するよう、前記逆浸透膜装置に供給する被処理水を加圧
する圧力を制御することを特徴とする純水の製造方法。 - 【請求項３】 被処理水を加圧下に逆浸透膜装置に供給
して濾過操作を行って得た一次処理水を貯水槽に一旦貯
留させ、この一次処理水を加圧下に限外濾過膜装置に供
給して濾過操作を行い、得られた二次処理水をユースポ
イントに供給するようにした純水の製造方法において、
前記ユースポイントの前段の流量を測定し、この流量に
基づいて前記逆浸透膜装置に供給する被処理水を加圧す
る圧力を制御することを特徴とする純水の製造方法。 - 【請求項４】 被処理水を加圧下に逆浸透膜装置に供
給して濾過操作を行って得た一次処理水を貯水槽に一旦
貯留させ、この一次処理水を加圧下に限外濾過膜装置に
供給して濾過操作を行い、得られた二次処理水をユース
ポイントに供給するようにした純水の製造方法におい
て、ユースポイントの前段の流量を測定し、この流量が
所定の流量を維持するよう、前記限外濾過膜に供給する
被処理水を加圧する圧力を制御するとともに、前記貯水
槽の水位を測定し、この水位が所定のレベルを維持する
よう、前記逆浸透膜装置に供給する被処理水を加圧する
圧力を制御することを特徴とする純水の製造方法。 - 【請求項５】 被処理水を加圧下に逆浸透膜装置に供給
して濾過操作を行って得た一次処理水を貯水槽に一旦貯
留させ、この一次処理水を加圧下に限外濾過膜装置に供
給して濾過操作を行い、得られた二次処理水をユースポ
イントを経て前記貯水槽に還流させるようにした純水の
製造方法において、前記貯水槽の水位を測定し、該水位
が所定の範囲を維持するよう、前記逆浸透膜装置に供給
する被処理水を加圧する圧力を制御することを特徴とす
る純水の製造方法。 - 【請求項６】 被処理水を加圧下に逆浸透膜装置に供給
して濾過操作を行って得た一次処理水を貯水槽に一旦貯
留させ、この一次処理水を加圧下に限外濾過膜装置に供
給して濾過操作を行い、得られた二次処理水をユースポ
イントを経て前記貯水槽に還流させるようにした純水の
製造方法において、ユースポイントと貯水槽の間の流量
を測定し、還流する処理水が所定の流量を維持するよ
う、前記限外濾過膜に供給する被処理水を加圧する圧力
を制御するとともに、前記貯水槽の水位を測定し、この
水位が所定のレベルを維持するよう、前記逆浸透膜装置
に供給する被処理水を加圧する圧力を制御することを特
徴とする純水の製造方法。 - 【請求項７】 被処理水供給系と、被処理水を加圧する
ポンプと、逆浸透膜装置または限外濾過膜装置と、これ
らを順に連結する配管系と、前記逆浸透膜装置または限
外濾過膜装置の下流側の配管内の流量を測定する流量計
と、前記流量計の流量信号により前記ポンプの回転数を
制御する制御装置とを有することを特徴とする純水の製
造装置。 - 【請求項８】 原水供給系と、原水を加圧する第１のポ
ンプと、逆浸透膜装置と、これらを順に連結する第１の
配管系と、前記第１の配管系の出口水を受ける貯水槽
と、前記貯水槽の処理水を被処理水として加圧する第２
のポンプと、限外濾過膜装置と、限外濾過膜装置で処理
された処理水を供給するユースポイントと、これらを順
に連結する第２の配管系と、前記ユースポイントの前段
に配設された流量計と、前記流量計が測定した流量に応
じて前記第２のポンプ、又は前記第２のポンプと第１の
ポンプの回転数を制御する制御装置とを有することを特
徴とする純水の製造装置。 - 【請求項９】 原水供給系と、原水を加圧する第１のポ
ンプと、逆浸透膜装置と、これらを順に連結する第１の
配管系と、前記第１の配管系の出口水を受ける貯水槽
と、前記貯水槽の処理水を被処理水として加圧する第２
のポンプと、限外濾過膜装置と、限外濾過膜装置で処理
された処理水を供給するユースポイントと、これらを順
に連結する第２の配管系と、前記第２の配管系の出口水
を前記貯水槽に導く第３の配管系と、前記貯水槽に配設
された水位計と、前記第３の配管系に設置された流量計
と、前記水位計が測定した貯水槽の水位に応じて前記第
１のポンプの回転数を制御する制御装置と、前記流量計
が測定した流量に応じて前記第２のポンプの回転数を制
御する制御装置とを有することを特徴とする純水の製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34375496A JPH10180254A (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | 純水の製造方法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34375496A JPH10180254A (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | 純水の製造方法及び製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10180254A true JPH10180254A (ja) | 1998-07-07 |
Family
ID=18363987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34375496A Withdrawn JPH10180254A (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | 純水の製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10180254A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002188989A (ja) * | 2000-12-20 | 2002-07-05 | Horiba Ltd | 粒子径分布測定装置 |
| JP2013071032A (ja) * | 2011-09-27 | 2013-04-22 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| JP2014184407A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Miura Co Ltd | 水処理装置 |
| CN105413481A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-03-23 | 王春望 | 一种在工业用水处理中使用的改性聚氨酯平板超滤膜 |
| WO2016098891A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2021003368A (ja) * | 2019-06-26 | 2021-01-14 | 日機装株式会社 | 水処理装置 |
| WO2021161569A1 (ja) * | 2020-02-14 | 2021-08-19 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2022509482A (ja) * | 2018-10-24 | 2022-01-20 | ナノサイズド、スウェーデン、アクチボラグ | 半導体製造のための方法および構成 |
| CN115259503A (zh) * | 2022-08-26 | 2022-11-01 | 湖南龙新净水科技有限公司 | 一种超滤低压反渗透的水处理装置 |
-
1996
- 1996-12-24 JP JP34375496A patent/JPH10180254A/ja not_active Withdrawn
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002188989A (ja) * | 2000-12-20 | 2002-07-05 | Horiba Ltd | 粒子径分布測定装置 |
| JP2013071032A (ja) * | 2011-09-27 | 2013-04-22 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| JP2014184407A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Miura Co Ltd | 水処理装置 |
| TWI648093B (zh) * | 2014-12-19 | 2019-01-21 | 日商栗田工業股份有限公司 | 超純水製造裝置以及超純水製造方法 |
| WO2016098891A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2016117001A (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-30 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| KR20170097036A (ko) * | 2014-12-19 | 2017-08-25 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 초순수 제조 장치 및 초순수 제조 방법 |
| US20170327396A1 (en) * | 2014-12-19 | 2017-11-16 | Kurita Water Industries Ltd. | Ultrapure water production apparatus and ultrapure water production method |
| US10526226B2 (en) | 2014-12-19 | 2020-01-07 | Kurita Water Industries Ltd. | Ultrapure water production apparatus and ultrapure water production method |
| CN105413481A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-03-23 | 王春望 | 一种在工业用水处理中使用的改性聚氨酯平板超滤膜 |
| JP2022509482A (ja) * | 2018-10-24 | 2022-01-20 | ナノサイズド、スウェーデン、アクチボラグ | 半導体製造のための方法および構成 |
| JP2021003368A (ja) * | 2019-06-26 | 2021-01-14 | 日機装株式会社 | 水処理装置 |
| WO2021161569A1 (ja) * | 2020-02-14 | 2021-08-19 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2021126644A (ja) * | 2020-02-14 | 2021-09-02 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2021126624A (ja) * | 2020-02-14 | 2021-09-02 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| CN115259503A (zh) * | 2022-08-26 | 2022-11-01 | 湖南龙新净水科技有限公司 | 一种超滤低压反渗透的水处理装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11655162B2 (en) | Method of removing boron from water to be treated, boron-removing system, ultrapure water production system, and method of measuring concentration of boron | |
| JP5953726B2 (ja) | 超純水製造方法及び装置 | |
| US20070084795A1 (en) | Method and system for treating wastewater | |
| PT1161981E (pt) | Método de separação por osmose inversa em várias etapas | |
| JP3575271B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
| JP4867182B2 (ja) | 純水製造装置 | |
| US5098562A (en) | Apparatus for treating deaerated water | |
| US20180104652A1 (en) | Reverse osmosis membrane cleaning method and reverse osmosis membrane cleaning apparatus | |
| JPH10180254A (ja) | 純水の製造方法及び製造装置 | |
| JPH06277665A (ja) | 高純度水の製造装置 | |
| JP7306074B2 (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
| US20230271138A1 (en) | Apparatus for producing ultrapure water | |
| JP2020014995A (ja) | 正浸透処理方法および正浸透処理装置 | |
| CN111646605A (zh) | 一种二级反渗透和edi组合的除盐系统及水处理系统 | |
| CN102548907A (zh) | 用于提高普通反渗透系统的性能的闭环淡化改进 | |
| CN119866315A (zh) | 纯水制造装置 | |
| JP7405066B2 (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
| JP4208270B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
| CN210656542U (zh) | 一种制纯水装置 | |
| EP1890969A1 (en) | Improved method for desalination | |
| JP2023082971A (ja) | 温超純水製造装置 | |
| JP2002001069A (ja) | 純水製造方法 | |
| JP3645007B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| CN215975396U (zh) | 一种edi系统水质循环调节装置 | |
| JP3899545B2 (ja) | 復水器への補給水供給装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040302 |