JP2002001069A - 純水製造方法 - Google Patents
純水製造方法Info
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- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
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- Y02A20/131—Reverse-osmosis
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＲＯ装置と膜脱気装置とを用いて純水を製造
する方法において、膜脱気装置における脱ＣＯ２効率を
高めて、高純度で安定した水質の純水を製造する。 【解決手段】 被処理水をｐＨ４〜７．５、ＣＯ２濃度
１０ｍｇ／Ｌ以下に調整した後、ＲＯ装置２，３に通水
して多段ＲＯ脱塩処理し、次いで膜脱気装置４に通水し
て脱気処理する純水製造方法。
する方法において、膜脱気装置における脱ＣＯ２効率を
高めて、高純度で安定した水質の純水を製造する。 【解決手段】 被処理水をｐＨ４〜７．５、ＣＯ２濃度
１０ｍｇ／Ｌ以下に調整した後、ＲＯ装置２，３に通水
して多段ＲＯ脱塩処理し、次いで膜脱気装置４に通水し
て脱気処理する純水製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は純水製造方法に係
り、特に、逆浸透膜脱塩装置（以下「ＲＯ装置」と称
す。）による脱塩処理と膜脱気装置による脱気処理とを
採用した純水製造方法において、膜脱気装置における脱
ＣＯ２効率を高めて高純度で安定した水質の純水を製造
する方法に関する。
り、特に、逆浸透膜脱塩装置（以下「ＲＯ装置」と称
す。）による脱塩処理と膜脱気装置による脱気処理とを
採用した純水製造方法において、膜脱気装置における脱
ＣＯ２効率を高めて高純度で安定した水質の純水を製造
する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程等で使用される純水を、
逆浸透膜脱塩処理（以下「ＲＯ処理」と称す。）により
製造する方法として、従来、次のような方法が提案され
ている。 市水等の原水に酸を添加して脱炭酸処理した後、ア
ルカリを添加して２段に直列配置したＲＯ装置に順次通
水して２段ＲＯ処理する方法 原水に酸を添加して膜脱気装置で脱気処理した後、
アルカリを添加して２段に直列配置したＲＯ装置に順次
通水して２段ＲＯ処理する方法 即ち、超純水の比抵抗に最終的に影響するのは主に炭酸
（ＣＯ２）成分（炭酸、炭酸イオン、重炭酸イオン）の
除去度合いであり、炭酸成分を効果的に除去できること
が超純水製造において重要であることから、上記，
の方法では、ＲＯ処理に先立ち、原水に酸を添加して原
水中の炭酸成分をＣＯ２化し、脱炭酸塔や膜脱気装置で
脱炭酸処理を行う。また、いずれの方法でも、アルカリ
を添加して水中の炭酸成分をＨＣＯ３ −化し、ＲＯ装置
で除去している。
逆浸透膜脱塩処理（以下「ＲＯ処理」と称す。）により
製造する方法として、従来、次のような方法が提案され
ている。 市水等の原水に酸を添加して脱炭酸処理した後、ア
ルカリを添加して２段に直列配置したＲＯ装置に順次通
水して２段ＲＯ処理する方法 原水に酸を添加して膜脱気装置で脱気処理した後、
アルカリを添加して２段に直列配置したＲＯ装置に順次
通水して２段ＲＯ処理する方法 即ち、超純水の比抵抗に最終的に影響するのは主に炭酸
（ＣＯ２）成分（炭酸、炭酸イオン、重炭酸イオン）の
除去度合いであり、炭酸成分を効果的に除去できること
が超純水製造において重要であることから、上記，
の方法では、ＲＯ処理に先立ち、原水に酸を添加して原
水中の炭酸成分をＣＯ２化し、脱炭酸塔や膜脱気装置で
脱炭酸処理を行う。また、いずれの方法でも、アルカリ
を添加して水中の炭酸成分をＨＣＯ３ −化し、ＲＯ装置
で除去している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の純水製造方法では、通常の塩類は十分に除去される
が、炭酸成分の除去という観点では、必ずしも十分であ
るとは言えなかった。即ち、の方法では、脱炭酸塔に
より炭酸を除去するが、脱炭酸塔でのＣＯ２除去は不十
分な場合があり、また、の方法では脱ＣＯ２のための
膜脱気装置をＲＯ装置の前段に配置するため、脱気膜が
汚染されて性能低下を引き起こす場合があり、いずれも
ＣＯ２除去が安定しない。
来の純水製造方法では、通常の塩類は十分に除去される
が、炭酸成分の除去という観点では、必ずしも十分であ
るとは言えなかった。即ち、の方法では、脱炭酸塔に
より炭酸を除去するが、脱炭酸塔でのＣＯ２除去は不十
分な場合があり、また、の方法では脱ＣＯ２のための
膜脱気装置をＲＯ装置の前段に配置するため、脱気膜が
汚染されて性能低下を引き起こす場合があり、いずれも
ＣＯ２除去が安定しない。
【０００４】本発明は上記従来の問題点を解決し、ＲＯ
装置と膜脱気装置とを用いて純水を製造する方法におい
て、膜脱気装置における脱ＣＯ２効率を高め、高純度で
安定した水質の純水を製造する方法を提供することを目
的とする。
装置と膜脱気装置とを用いて純水を製造する方法におい
て、膜脱気装置における脱ＣＯ２効率を高め、高純度で
安定した水質の純水を製造する方法を提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の純水製造方法
は、被処理水をｐＨ４〜７．５、ＣＯ２濃度１０ｍｇ／
Ｌ以下に調整した後、２段以上の多段に直列配置された
逆浸透膜脱塩装置に順次通水して脱塩処理し、次いで膜
脱気装置に通水して脱気処理することを特徴とする。
は、被処理水をｐＨ４〜７．５、ＣＯ２濃度１０ｍｇ／
Ｌ以下に調整した後、２段以上の多段に直列配置された
逆浸透膜脱塩装置に順次通水して脱塩処理し、次いで膜
脱気装置に通水して脱気処理することを特徴とする。
【０００６】本発明では、被処理水のＣＯ２濃度が１０
ｍｇ／Ｌ以下となるように予めＣＯ ２を除去するため、
後段の膜脱気装置におけるＣＯ２負荷を軽減して効率的
なＣＯ２除去を行える。即ち、膜脱気装置におけるＣＯ
２除去は、ｐＨ条件によるＨＣＯ３ −⇔ＣＯ２＋Ｈ２Ｏ
の解離平衡に左右されるが、この平衡のズレは、ＣＯ ２
が低濃度である程大きいため、ＣＯ２濃度が１０ｍｇ／
Ｌ以下となるように予めＣＯ２を低減しておくことで、
膜脱気装置において、効率的なＣＯ２除去を行える。
ｍｇ／Ｌ以下となるように予めＣＯ ２を除去するため、
後段の膜脱気装置におけるＣＯ２負荷を軽減して効率的
なＣＯ２除去を行える。即ち、膜脱気装置におけるＣＯ
２除去は、ｐＨ条件によるＨＣＯ３ −⇔ＣＯ２＋Ｈ２Ｏ
の解離平衡に左右されるが、この平衡のズレは、ＣＯ ２
が低濃度である程大きいため、ＣＯ２濃度が１０ｍｇ／
Ｌ以下となるように予めＣＯ２を低減しておくことで、
膜脱気装置において、効率的なＣＯ２除去を行える。
【０００７】本発明において、膜脱気装置の前段の多段
ＲＯ処理のうち、第１段目のＲＯ装置（以下「第１ＲＯ
装置」と称す場合がある。）では、このようにＣＯ２が
低減された比較的低ｐＨの水から塩類、ＴＯＣ成分を除
去すると共に、イオン化されたＣＯ２の一部を除去す
る。また、第２段目のＲＯ装置（以下「第２ＲＯ装置」
と称す場合がある。）或いはそれ以降のＲＯ装置では、
なお残留する微量の塩類を除去して純度を上げる。
ＲＯ処理のうち、第１段目のＲＯ装置（以下「第１ＲＯ
装置」と称す場合がある。）では、このようにＣＯ２が
低減された比較的低ｐＨの水から塩類、ＴＯＣ成分を除
去すると共に、イオン化されたＣＯ２の一部を除去す
る。また、第２段目のＲＯ装置（以下「第２ＲＯ装置」
と称す場合がある。）或いはそれ以降のＲＯ装置では、
なお残留する微量の塩類を除去して純度を上げる。
【０００８】このように、予めＣＯ２濃度を低減し、更
に、２段以上の多段ＲＯ処理で塩類の殆どを除去した水
を膜脱気装置で処理することにより、安定かつ効率的な
ＣＯ ２除去が可能となり、ＣＯ２をほぼ完全に除去する
ことができる。即ち、この膜脱気装置における処理に当
り、被処理水のＣＯ２濃度が１０ｍｇ／Ｌ以下に低減さ
れている上に、膜脱気装置に流入する水のｐＨは概ね膜
脱気に好適なｐＨとなっているため、ＣＯ２を確実に除
去することができる。しかも、この膜脱気装置では溶存
酸素も除去できるため、著しく高純度で比抵抗の大きい
安定した水質の純水を得ることができる。
に、２段以上の多段ＲＯ処理で塩類の殆どを除去した水
を膜脱気装置で処理することにより、安定かつ効率的な
ＣＯ ２除去が可能となり、ＣＯ２をほぼ完全に除去する
ことができる。即ち、この膜脱気装置における処理に当
り、被処理水のＣＯ２濃度が１０ｍｇ／Ｌ以下に低減さ
れている上に、膜脱気装置に流入する水のｐＨは概ね膜
脱気に好適なｐＨとなっているため、ＣＯ２を確実に除
去することができる。しかも、この膜脱気装置では溶存
酸素も除去できるため、著しく高純度で比抵抗の大きい
安定した水質の純水を得ることができる。
【０００９】この膜脱気装置には、多段ＲＯ処理で純度
が高められた水が流入するため、多段ＲＯ処理に先立ち
膜脱気処理する場合のように、膜汚染による脱気膜の性
能低下の問題はない。また、多段ＲＯの透過水のみを処
理するため、系外へ排出されるＲＯ濃縮水量分の処理水
量が少なく、被処理水の全体を膜脱気処理する場合に比
べて膜脱気装置の負荷が低減し、処理性能を安定して維
持することができるようになり、脱気膜の本数の削減、
膜脱気装置の小型化を図ることもできる。
が高められた水が流入するため、多段ＲＯ処理に先立ち
膜脱気処理する場合のように、膜汚染による脱気膜の性
能低下の問題はない。また、多段ＲＯの透過水のみを処
理するため、系外へ排出されるＲＯ濃縮水量分の処理水
量が少なく、被処理水の全体を膜脱気処理する場合に比
べて膜脱気装置の負荷が低減し、処理性能を安定して維
持することができるようになり、脱気膜の本数の削減、
膜脱気装置の小型化を図ることもできる。
【００１０】本発明の方法によれば、原水の水質によっ
ても異なるが、例えば、市水を原水として処理すること
により、概ねＣＯ２濃度６０ｍｇ／Ｌの原水をＣＯ２調
整工程で１０ｍｇ／Ｌ以下、第１ＲＯ装置透過水で３ｍ
ｇ／Ｌ、膜脱気後のＣＯ２濃度５０μｇ／Ｌ以下とし
て、比抵抗約３〜５ＭΩ・ｃｍの高純度水を得ることが
できる。
ても異なるが、例えば、市水を原水として処理すること
により、概ねＣＯ２濃度６０ｍｇ／Ｌの原水をＣＯ２調
整工程で１０ｍｇ／Ｌ以下、第１ＲＯ装置透過水で３ｍ
ｇ／Ｌ、膜脱気後のＣＯ２濃度５０μｇ／Ｌ以下とし
て、比抵抗約３〜５ＭΩ・ｃｍの高純度水を得ることが
できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１２】図１は本発明の純水製造方法の実施の形態
を示す系統図である。
を示す系統図である。
【００１３】この実施の形態では、まず、ｐＨ、ＣＯ２
濃度調整手段１にて、原水をｐＨ４〜７．５に調整する
と共に、ＣＯ２濃度を１０ｍｇ／Ｌ以下に低減する。
濃度調整手段１にて、原水をｐＨ４〜７．５に調整する
と共に、ＣＯ２濃度を１０ｍｇ／Ｌ以下に低減する。
【００１４】本発明で処理対象とする水は、市水、工
水、井水、各種プロセス排水或いはこれらの混合水であ
り、これらの水は、必要に応じてＵＦ（限外濾過）膜分
離装置等で除濁処理される。
水、井水、各種プロセス排水或いはこれらの混合水であ
り、これらの水は、必要に応じてＵＦ（限外濾過）膜分
離装置等で除濁処理される。
【００１５】原水のｐＨ、ＣＯ２濃度調整手段１として
は、特に制限はないが、次のような手段が挙げられる。 必要によりｐＨ調整し、脱炭酸塔で空気と向流接触
してＣＯ２を除去する。 必要によりｐＨ調整し、Ｎａ除去率８０％以上のＲ
Ｏ（低脱塩膜でもよい）膜でＣＯ２を除去する。 必要によりｐＨ調整し、低ＣＯ２含有水を混合して
ＣＯ２濃度を希釈する。ここで、低ＣＯ２含有水（ＣＯ
２を殆ど含まない水）としては、半導体製造工程の回収
水などを用いることができる。即ち、半導体製造工程に
使用された超純水は若干の洗浄薬液を含むが、殆ど純水
の水質に近いため、簡易な処理をして回収水として、超
純水製造の任意の工程に返送される。この回収水はＣＯ
２を殆ど含まないため、この回収水を原水に混合するこ
とによりＣＯ２濃度を低減することができる。
は、特に制限はないが、次のような手段が挙げられる。 必要によりｐＨ調整し、脱炭酸塔で空気と向流接触
してＣＯ２を除去する。 必要によりｐＨ調整し、Ｎａ除去率８０％以上のＲ
Ｏ（低脱塩膜でもよい）膜でＣＯ２を除去する。 必要によりｐＨ調整し、低ＣＯ２含有水を混合して
ＣＯ２濃度を希釈する。ここで、低ＣＯ２含有水（ＣＯ
２を殆ど含まない水）としては、半導体製造工程の回収
水などを用いることができる。即ち、半導体製造工程に
使用された超純水は若干の洗浄薬液を含むが、殆ど純水
の水質に近いため、簡易な処理をして回収水として、超
純水製造の任意の工程に返送される。この回収水はＣＯ
２を殆ど含まないため、この回収水を原水に混合するこ
とによりＣＯ２濃度を低減することができる。
【００１６】なお、ｐＨ調整手段としては、酸添加又は
Ｈ型カチオン交換樹脂充填塔への通水などが挙げられ
る。ｐＨ値は、第１ＲＯ装置２に供給される水のｐＨが
４〜７．５となるように調整される。また、ＣＯ２濃度
は１０ｍｇ／Ｌ以下となるように行う。
Ｈ型カチオン交換樹脂充填塔への通水などが挙げられ
る。ｐＨ値は、第１ＲＯ装置２に供給される水のｐＨが
４〜７．５となるように調整される。また、ＣＯ２濃度
は１０ｍｇ／Ｌ以下となるように行う。
【００１７】本発明では、後段の膜脱気装置４にてＣＯ
２を高度に除去するため、このｐＨ、ＣＯ２濃度調整工
程においては、ＣＯ２濃度１０ｍｇ／Ｌ以下、例えば、
６〜１０ｍｇ／Ｌ程度にＣＯ２を除去できれば良く、極
低濃度にまで除去する必要はない。
２を高度に除去するため、このｐＨ、ＣＯ２濃度調整工
程においては、ＣＯ２濃度１０ｍｇ／Ｌ以下、例えば、
６〜１０ｍｇ／Ｌ程度にＣＯ２を除去できれば良く、極
低濃度にまで除去する必要はない。
【００１８】そのため、ｐＨも、炭酸イオン、重炭酸イ
オンが全て炭酸に変化するほど低ｐＨにする必要はな
く、第１ＲＯ装置２の流入水のｐＨが４〜７．５となる
程度でよい。好ましくはこのｐＨは６〜７程度の弱酸性
とする。
オンが全て炭酸に変化するほど低ｐＨにする必要はな
く、第１ＲＯ装置２の流入水のｐＨが４〜７．５となる
程度でよい。好ましくはこのｐＨは６〜７程度の弱酸性
とする。
【００１９】なお、ＣＯ２が１０ｍｇ／Ｌを超える程残
留すると、後段の膜脱気装置４での負荷が大きくなり、
ＣＯ２除去が不十分になる恐れがあるため、ＣＯ２濃度
は１０ｍｇ／Ｌ以下に調整する。
留すると、後段の膜脱気装置４での負荷が大きくなり、
ＣＯ２除去が不十分になる恐れがあるため、ＣＯ２濃度
は１０ｍｇ／Ｌ以下に調整する。
【００２０】ｐＨ、ＣＯ２濃度調整手段１でｐＨ４〜
７．５、ＣＯ２濃度１０ｍｇ／Ｌ以下に調整された水
は、次いで第１ＲＯ装置２、第２ＲＯ装置３に順次通水
して２段ＲＯ処理する。
７．５、ＣＯ２濃度１０ｍｇ／Ｌ以下に調整された水
は、次いで第１ＲＯ装置２、第２ＲＯ装置３に順次通水
して２段ＲＯ処理する。
【００２１】このうち、第１ＲＯ装置２では、主として
塩類を除去し、同時にＴＯＣ成分を除去する。また、ｐ
Ｈ弱酸性にてイオン化したＣＯ２の一部を除去する。こ
の第１ＲＯ装置２のＲＯ膜としては、材質、処理能力等
に特に制限はなく、ポリアミド系、酢酸セルロース系等
のＲＯ膜を用いることができる。
塩類を除去し、同時にＴＯＣ成分を除去する。また、ｐ
Ｈ弱酸性にてイオン化したＣＯ２の一部を除去する。こ
の第１ＲＯ装置２のＲＯ膜としては、材質、処理能力等
に特に制限はなく、ポリアミド系、酢酸セルロース系等
のＲＯ膜を用いることができる。
【００２２】第２ＲＯ装置３では、第１ＲＯ装置２の透
過水中になお残留する微量の塩類を除去して純度を高め
る。この第２ＲＯ装置３では、塩類、特に漏洩し易いＮ
ａ＋を確実に除去するために、ＲＯ膜としては膜表面ゼ
ータ電位が０以上のプラスの荷電膜を用いるのが好まし
く、これにより、Ｎａ＋等のカチオンの透過を確実に阻
止して高純度の処理水を得ることができる。このような
ＲＯ膜としては日東電工（株）製「ＥＳ１０Ｃ」、東レ
（株）製「ＳＵ−９００」等を用いることができる。
過水中になお残留する微量の塩類を除去して純度を高め
る。この第２ＲＯ装置３では、塩類、特に漏洩し易いＮ
ａ＋を確実に除去するために、ＲＯ膜としては膜表面ゼ
ータ電位が０以上のプラスの荷電膜を用いるのが好まし
く、これにより、Ｎａ＋等のカチオンの透過を確実に阻
止して高純度の処理水を得ることができる。このような
ＲＯ膜としては日東電工（株）製「ＥＳ１０Ｃ」、東レ
（株）製「ＳＵ−９００」等を用いることができる。
【００２３】図１の方法では、第１ＲＯ装置２及び第２
ＲＯ装置３により、２段ＲＯ処理を行っているが、この
ＲＯ処理は２段以上であれば良く、３段以上の多段ＲＯ
処理でも良い。一般的には、装置コストや装置規模を考
慮して２段又は３段ＲＯ処理が行なわれる。３段ＲＯ処
理を行う場合には、最終段のＲＯ膜を上記プラス荷電膜
とするのが好ましい。
ＲＯ装置３により、２段ＲＯ処理を行っているが、この
ＲＯ処理は２段以上であれば良く、３段以上の多段ＲＯ
処理でも良い。一般的には、装置コストや装置規模を考
慮して２段又は３段ＲＯ処理が行なわれる。３段ＲＯ処
理を行う場合には、最終段のＲＯ膜を上記プラス荷電膜
とするのが好ましい。
【００２４】なお、ＲＯ装置は、一般に水回収率を上げ
るために、ＲＯ膜エレメントを内蔵した複数の膜モジュ
ールを連結して構成される。例えば、後述の実施例で用
いたＲＯ装置１４のように、３機の膜モジュール１４Ａ
〜１４Ｃを用いて第１ＲＯ装置を構成し、膜モジュール
１４Ａ，１４Ｂを並列配置してこれらの濃縮水を膜モジ
ュール１４Ｃで処理し、各膜モジュール１４Ａ〜１４Ｃ
の透過水を処理水として取り出すと共に、膜モジュール
１４Ｃの濃縮水を系外へ排出するようにしても良く、ま
た、ＲＯ装置１５のように、２機の膜モジュール１５
Ａ，１５Ｂを設けて第２ＲＯ装置を構成し、膜モジュー
ル１５Ａの濃縮水を膜モジュール１５Ｂで処理し、各膜
モジュール１５Ａ，１５Ｂの透過水を処理水として取り
出すと共に、膜モジュール１５Ｂの濃縮水を系外へ排出
するようにしても良い。もちろん各段のＲＯ装置は１機
の膜モジュールのみから構成されるものであっても良
い。
るために、ＲＯ膜エレメントを内蔵した複数の膜モジュ
ールを連結して構成される。例えば、後述の実施例で用
いたＲＯ装置１４のように、３機の膜モジュール１４Ａ
〜１４Ｃを用いて第１ＲＯ装置を構成し、膜モジュール
１４Ａ，１４Ｂを並列配置してこれらの濃縮水を膜モジ
ュール１４Ｃで処理し、各膜モジュール１４Ａ〜１４Ｃ
の透過水を処理水として取り出すと共に、膜モジュール
１４Ｃの濃縮水を系外へ排出するようにしても良く、ま
た、ＲＯ装置１５のように、２機の膜モジュール１５
Ａ，１５Ｂを設けて第２ＲＯ装置を構成し、膜モジュー
ル１５Ａの濃縮水を膜モジュール１５Ｂで処理し、各膜
モジュール１５Ａ，１５Ｂの透過水を処理水として取り
出すと共に、膜モジュール１５Ｂの濃縮水を系外へ排出
するようにしても良い。もちろん各段のＲＯ装置は１機
の膜モジュールのみから構成されるものであっても良
い。
【００２５】このようにして２段ＲＯ処理された水は、
次いで膜脱気装置４で脱気処理する。この膜脱気装置４
としては、脱気膜面で気液分離を行い、気相側を真空に
して脱気する手段を備えるものであれば良く、特に制限
はない。
次いで膜脱気装置４で脱気処理する。この膜脱気装置４
としては、脱気膜面で気液分離を行い、気相側を真空に
して脱気する手段を備えるものであれば良く、特に制限
はない。
【００２６】この膜脱気装置４においては、ｐＨ、ＣＯ
２濃度調整手段１及び第１、第２ＲＯ装置２，３による
２段ＲＯ処理で塩類が殆ど除去されていると共に、ＣＯ
２濃度が低く、適度なｐＨ値の水を処理して、ＣＯ２を
ほぼ完全に除去することができる。
２濃度調整手段１及び第１、第２ＲＯ装置２，３による
２段ＲＯ処理で塩類が殆ど除去されていると共に、ＣＯ
２濃度が低く、適度なｐＨ値の水を処理して、ＣＯ２を
ほぼ完全に除去することができる。
【００２７】この膜脱気装置４におけるＣＯ２除去をよ
り一層確実に行うために、膜脱気装置４の出口水の比抵
抗を測定し、この値に基づいて第２ＲＯ装置１の入口
（第１ＲＯ装置２の入口でも良い。また、３段以上にＲ
Ｏ装置を設ける場合は、最終段のＲＯ装置より前段であ
れば良い。）でｐＨ調整剤を添加してｐＨ調整を行うの
が好ましい。即ち、膜脱気装置４に注入する水のｐＨ
は、５〜６が好ましく、このｐＨ値が６を超えるとＣＯ
２除去率が低下する。ここで、ｐＨ調整剤としては、特
に制限はなく、ＨＣｌ，Ｈ２ＳＯ４等の鉱酸や、ＮａＯ
Ｈ，ＫＯＨ等のアルカリを用いることができる。添加し
たｐＨ調整剤は最終段のＲＯ装置までの間に除去される
ため、このｐＨ調整剤の添加による比抵抗の低下の問題
はない。
り一層確実に行うために、膜脱気装置４の出口水の比抵
抗を測定し、この値に基づいて第２ＲＯ装置１の入口
（第１ＲＯ装置２の入口でも良い。また、３段以上にＲ
Ｏ装置を設ける場合は、最終段のＲＯ装置より前段であ
れば良い。）でｐＨ調整剤を添加してｐＨ調整を行うの
が好ましい。即ち、膜脱気装置４に注入する水のｐＨ
は、５〜６が好ましく、このｐＨ値が６を超えるとＣＯ
２除去率が低下する。ここで、ｐＨ調整剤としては、特
に制限はなく、ＨＣｌ，Ｈ２ＳＯ４等の鉱酸や、ＮａＯ
Ｈ，ＫＯＨ等のアルカリを用いることができる。添加し
たｐＨ調整剤は最終段のＲＯ装置までの間に除去される
ため、このｐＨ調整剤の添加による比抵抗の低下の問題
はない。
【００２８】また、膜脱気装置４におけるＣＯ２除去効
率の向上のために、膜脱気装置４に流入する水に不活性
ガスを混入させても良い。用いる不活性ガスとしてはＡ
ｒやＮ２が挙げられるが、特にコストの面からＮ２が好
ましい。また、不活性ガスの吹込み量は少量過ぎると不
活性ガス吹き込みによるＣＯ２除去率の向上効果が少な
く、多すぎるとコストアップを招くため、被処理水に対
する流量比で１〜１０％、特に３〜６％とするのが好ま
しい。
率の向上のために、膜脱気装置４に流入する水に不活性
ガスを混入させても良い。用いる不活性ガスとしてはＡ
ｒやＮ２が挙げられるが、特にコストの面からＮ２が好
ましい。また、不活性ガスの吹込み量は少量過ぎると不
活性ガス吹き込みによるＣＯ２除去率の向上効果が少な
く、多すぎるとコストアップを招くため、被処理水に対
する流量比で１〜１０％、特に３〜６％とするのが好ま
しい。
【００２９】このようにして脱気処理された水は、次い
で非再生型又は再生型混床式イオン交換樹脂塔５で処理
され、更に純度が高められた後、サブシステムや使用場
所などの系外へ送水される。このイオン交換樹脂塔５は
必ずしも必要とされず、膜脱気装置４の処理水をそのま
ま最終処理水としても良い。
で非再生型又は再生型混床式イオン交換樹脂塔５で処理
され、更に純度が高められた後、サブシステムや使用場
所などの系外へ送水される。このイオン交換樹脂塔５は
必ずしも必要とされず、膜脱気装置４の処理水をそのま
ま最終処理水としても良い。
【００３０】また、本発明では、水質向上のために、前
段或いは各装置間又は膜脱気装置の後段に、殺菌装置、
酸化装置、イオン交換装置、電気脱塩装置、膜濾過装置
などの任意の処理装置を設けることができる。また、特
に、本発明の方法を、超純水製造工程の一次純水製造に
適用する場合は、その後に通常のサブシステムと称され
る超純水製造システム（一般的にはＵＶ照射、イオン交
換、膜分離処理をこの順、或いは任意の順で設けたも
の。）を設けることができる。
段或いは各装置間又は膜脱気装置の後段に、殺菌装置、
酸化装置、イオン交換装置、電気脱塩装置、膜濾過装置
などの任意の処理装置を設けることができる。また、特
に、本発明の方法を、超純水製造工程の一次純水製造に
適用する場合は、その後に通常のサブシステムと称され
る超純水製造システム（一般的にはＵＶ照射、イオン交
換、膜分離処理をこの順、或いは任意の順で設けたも
の。）を設けることができる。
【００３１】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００３２】実施例１，２、比較例１ 市水（ｐＨ：７．４、ＣＯ２：３８ｍｇ／Ｌ、電気伝導
率：１６０μＳ／ｃｍ）を図２に示す装置で処理した。
まず、中空糸ＵＦ（日東電工（株）製「ＮＴＵ３０５
０」、分画分子量：２０，０００）膜分離装置１１で除
濁処理した後、ＨＣｌを添加して表１に示すｐＨに調整
し、脱炭酸塔１２に通水ＬＶ：３０ｍ／ｈｒで導入して
空気／水量：１５（流量比）の条件で向流接触して脱炭
酸処理し、表１に示すＣＯ２濃度の水を得た。この水を
２段ＲＯ処理した後、膜脱気装置で処理した。
率：１６０μＳ／ｃｍ）を図２に示す装置で処理した。
まず、中空糸ＵＦ（日東電工（株）製「ＮＴＵ３０５
０」、分画分子量：２０，０００）膜分離装置１１で除
濁処理した後、ＨＣｌを添加して表１に示すｐＨに調整
し、脱炭酸塔１２に通水ＬＶ：３０ｍ／ｈｒで導入して
空気／水量：１５（流量比）の条件で向流接触して脱炭
酸処理し、表１に示すＣＯ２濃度の水を得た。この水を
２段ＲＯ処理した後、膜脱気装置で処理した。
【００３３】なお、２段ＲＯのＲＯ装置は、第１ＲＯ装
置１４、第２ＲＯ装置１５共にＲＯ膜エレメント日東電
工（株）製「ＥＳ−２０」（４インチ）を内蔵した膜モ
ジュールを用い、第１ＲＯ装置は図２に示す如く、３本
のＲＯ膜モジュール１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃを連結し
て、流入水量１０００Ｌ／ｈｒ、透過水量７００Ｌ／ｈ
ｒ、系外へ排出する濃縮水量３００Ｌ／ｈｒで処理し
た。また、第２ＲＯ装置１５は２本のＲＯ膜モジュール
１５Ａ，１５Ｂを図２に示す如く連結し、流入水量（第
１ＲＯ装置１４の透過水量）７００Ｌ／ｈｒ、透過水量
４００Ｌ／ｈｒ、濃縮水量３００Ｌ／ｈｒで処理し、第
２ＲＯ装置１５の濃縮水は第１ＲＯ装置１４の入口側の
給水タンク１３に返送して第１ＲＯ装置１４に循環し
た。
置１４、第２ＲＯ装置１５共にＲＯ膜エレメント日東電
工（株）製「ＥＳ−２０」（４インチ）を内蔵した膜モ
ジュールを用い、第１ＲＯ装置は図２に示す如く、３本
のＲＯ膜モジュール１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃを連結し
て、流入水量１０００Ｌ／ｈｒ、透過水量７００Ｌ／ｈ
ｒ、系外へ排出する濃縮水量３００Ｌ／ｈｒで処理し
た。また、第２ＲＯ装置１５は２本のＲＯ膜モジュール
１５Ａ，１５Ｂを図２に示す如く連結し、流入水量（第
１ＲＯ装置１４の透過水量）７００Ｌ／ｈｒ、透過水量
４００Ｌ／ｈｒ、濃縮水量３００Ｌ／ｈｒで処理し、第
２ＲＯ装置１５の濃縮水は第１ＲＯ装置１４の入口側の
給水タンク１３に返送して第１ＲＯ装置１４に循環し
た。
【００３４】膜脱気装置１６としては、ヘキストジャパ
ン社製「Ｌｉｑｕｉ−ｃｅｌｌ」（４インチ用）を各１
本３段に配置したものを用い、真空度３０〜３５Ｔｏｒ
ｒ、スイープ用Ｎ２ガス流量：３０ＮＬ／ｈｒ（各脱気
膜毎）で処理を行った。得られた処理水（膜脱気装置出
口水）の比抵抗を調べ、結果を表１に示した。
ン社製「Ｌｉｑｕｉ−ｃｅｌｌ」（４インチ用）を各１
本３段に配置したものを用い、真空度３０〜３５Ｔｏｒ
ｒ、スイープ用Ｎ２ガス流量：３０ＮＬ／ｈｒ（各脱気
膜毎）で処理を行った。得られた処理水（膜脱気装置出
口水）の比抵抗を調べ、結果を表１に示した。
【００３５】実施例３ 実施例２において、第１ＲＯ装置の透過水にＮａＯＨを
添加してｐＨ６．５〜７に調整したこと以外は同様にし
て処理を行い、得られた処理水の比抵抗を調べ、結果を
表１に示した。
添加してｐＨ６．５〜７に調整したこと以外は同様にし
て処理を行い、得られた処理水の比抵抗を調べ、結果を
表１に示した。
【００３６】実施例４、比較例２ 実施例１において、脱炭酸塔の流出水にＮａＯＨを添加
して、ｐＨ７．３（実施例４）又はｐＨ７．８（比較例
２）に調整したこと以外は同様にして処理を行い、得ら
れた処理水の比抵抗を調べ、結果を表１に示した。
して、ｐＨ７．３（実施例４）又はｐＨ７．８（比較例
２）に調整したこと以外は同様にして処理を行い、得ら
れた処理水の比抵抗を調べ、結果を表１に示した。
【００３７】
【表１】
【００３８】表１より、本発明によれば、比抵抗の大き
い高純度の純水を製造することができることがわかる。
い高純度の純水を製造することができることがわかる。
【００３９】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の純水製造方
法によれば、被処理水を予めｐＨ、ＣＯ２濃度調整した
後、多段ＲＯ処理し、その後膜脱気処理することによ
り、膜脱気装置におけるＣＯ２除去を安定且つ効率的に
行って、高純度の純水を製造することができる。
法によれば、被処理水を予めｐＨ、ＣＯ２濃度調整した
後、多段ＲＯ処理し、その後膜脱気処理することによ
り、膜脱気装置におけるＣＯ２除去を安定且つ効率的に
行って、高純度の純水を製造することができる。
【図１】本発明の純水製造方法の実施の形態を示す系統
図である。
図である。
【図２】実施例で用いた処理装置を示す系統図である。
１ ｐＨ、ＣＯ２濃度調整手段 ２ 第１ＲＯ装置 ３ 第２ＲＯ装置 ４ 膜脱気装置 １１ ＵＦ膜分離装置 １２ 脱炭酸塔 １３ 給水タンク １４ 第１ＲＯ装置 １５ 第２ＲＯ装置 １６ 膜脱気装置
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D006 GA03 GA32 KA12 KA52 KA54 KA55 KA56 KA67 KB11 KD11 KE12R KE15R KE19P MA01 MC18 MC54 PA02 PB02 PB05 PB08 PB26 PB64 PC03 4D037 AA03 AB11 BA23 BB05 BB07 CA03
Claims (1)
- 【請求項１】 被処理水をｐＨ４〜７．５、ＣＯ２濃度
１０ｍｇ／Ｌ以下に調整した後、２段以上の多段に直列
配置された逆浸透膜脱塩装置に順次通水して脱塩処理
し、次いで膜脱気装置に通水して脱気処理することを特
徴とする純水製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000186516A JP2002001069A (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | 純水製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000186516A JP2002001069A (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | 純水製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002001069A true JP2002001069A (ja) | 2002-01-08 |
Family
ID=18686663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000186516A Pending JP2002001069A (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | 純水製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002001069A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014226582A (ja) * | 2013-05-20 | 2014-12-08 | 三浦工業株式会社 | 純水製造装置 |
| JP2014231053A (ja) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 三浦工業株式会社 | 純水製造装置 |
| KR20150118951A (ko) | 2013-02-20 | 2015-10-23 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 다단 역침투막 장치 및 그 운전 방법 |
| WO2016006526A1 (ja) * | 2014-07-10 | 2016-01-14 | オルガノ株式会社 | フッ化物イオン含有排水の処理方法及び処理装置 |
| KR101859135B1 (ko) | 2017-03-21 | 2018-05-17 | 정주환 | 소형화된 초순수의 제조 장치 |
| WO2021250977A1 (ja) * | 2020-06-10 | 2021-12-16 | 栗田工業株式会社 | 純水製造方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63189387A (ja) * | 1987-02-03 | 1988-08-04 | 旭化成株式会社 | 補強材固定治具回転装置 |
| JPH01171689A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-06 | Japan Organo Co Ltd | ２段式逆浸透膜装置 |
| JPH05309372A (ja) * | 1992-05-12 | 1993-11-22 | Japan Organo Co Ltd | 高純度水の製造装置 |
| JPH07962A (ja) * | 1993-06-18 | 1995-01-06 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 純水の製造方法 |
| JPH07124594A (ja) * | 1993-09-13 | 1995-05-16 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 低濃度有機性廃水の処理装置 |
| JPH09234349A (ja) * | 1996-03-01 | 1997-09-09 | Kurita Water Ind Ltd | 膜分離装置 |
| JPH09253638A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-09-30 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 超純水製造装置 |
-
2000
- 2000-06-21 JP JP2000186516A patent/JP2002001069A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63189387A (ja) * | 1987-02-03 | 1988-08-04 | 旭化成株式会社 | 補強材固定治具回転装置 |
| JPH01171689A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-06 | Japan Organo Co Ltd | ２段式逆浸透膜装置 |
| JPH05309372A (ja) * | 1992-05-12 | 1993-11-22 | Japan Organo Co Ltd | 高純度水の製造装置 |
| JPH07962A (ja) * | 1993-06-18 | 1995-01-06 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 純水の製造方法 |
| JPH07124594A (ja) * | 1993-09-13 | 1995-05-16 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 低濃度有機性廃水の処理装置 |
| JPH09234349A (ja) * | 1996-03-01 | 1997-09-09 | Kurita Water Ind Ltd | 膜分離装置 |
| JPH09253638A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-09-30 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 超純水製造装置 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150118951A (ko) | 2013-02-20 | 2015-10-23 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 다단 역침투막 장치 및 그 운전 방법 |
| JP2014226582A (ja) * | 2013-05-20 | 2014-12-08 | 三浦工業株式会社 | 純水製造装置 |
| JP2014231053A (ja) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 三浦工業株式会社 | 純水製造装置 |
| WO2016006526A1 (ja) * | 2014-07-10 | 2016-01-14 | オルガノ株式会社 | フッ化物イオン含有排水の処理方法及び処理装置 |
| JP2016016385A (ja) * | 2014-07-10 | 2016-02-01 | オルガノ株式会社 | フッ化物イオン含有排水の処理方法及び処理装置 |
| KR101859135B1 (ko) | 2017-03-21 | 2018-05-17 | 정주환 | 소형화된 초순수의 제조 장치 |
| WO2021250977A1 (ja) * | 2020-06-10 | 2021-12-16 | 栗田工業株式会社 | 純水製造方法 |
| CN115515906A (zh) * | 2020-06-10 | 2022-12-23 | 栗田工业株式会社 | 纯水制造方法 |
| KR20230023613A (ko) * | 2020-06-10 | 2023-02-17 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 순수 제조 방법 |
| US20230234863A1 (en) * | 2020-06-10 | 2023-07-27 | Kurita Water Industries Ltd. | Pure water production method |
| KR102733156B1 (ko) * | 2020-06-10 | 2024-11-21 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 순수 제조 방법 |
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