JPH10182661A - アルコキシシランの製造法 - Google Patents
アルコキシシランの製造法Info
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- JPH10182661A JPH10182661A JP8355775A JP35577596A JPH10182661A JP H10182661 A JPH10182661 A JP H10182661A JP 8355775 A JP8355775 A JP 8355775A JP 35577596 A JP35577596 A JP 35577596A JP H10182661 A JPH10182661 A JP H10182661A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、金属ケイ素と1価脂肪族アルコール
とを塩化銅系触媒の存在下に低温で効率よく反応させて
アルコキシシランを製造する事を目的としている。 【構成】金属ケイ素と1価脂肪族アルコールとを塩化銅
系触媒の存在下に200℃以下で反応させてアルコキシ
シランを製造する方法において、反応溶媒としてジアル
コキシベンゼンを用いる。
とを塩化銅系触媒の存在下に低温で効率よく反応させて
アルコキシシランを製造する事を目的としている。 【構成】金属ケイ素と1価脂肪族アルコールとを塩化銅
系触媒の存在下に200℃以下で反応させてアルコキシ
シランを製造する方法において、反応溶媒としてジアル
コキシベンゼンを用いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は塩化銅触媒の存在下にケ
イ素とアルコールからアルコキシシラン特にトリアルコ
キシシランを製造する改良法に関する。
イ素とアルコールからアルコキシシラン特にトリアルコ
キシシランを製造する改良法に関する。
【0002】
【従来の技術】アルコキシシランの製造法としては、ク
ロロシランとアルコールとを反応させる方法と金属ケイ
素とアルコールを直接反応させる方法が知られている。
クロロシランを用いる方法は、副生物として塩酸が生成
し、反応装置を腐食させるほか、生成したアルコキシシ
ランの加水分解を促進し、且つ塩酸を含む廃液の処理に
も多大の費用を要する欠点を持っている。金属ケイ素を
用いる方法は液相反応で銅系触媒を用いた場合、アルコ
キシ基が3〜4個導入されたシランの混合物が得られる
が、ケイ素の反応率が低い。改良反応法として反応溶媒
としてアリールメタン化合物やイソパラフィンを溶媒と
して用いる方法が知られているがいずれも200℃以上
の高温で反応させないと高反応率が達成できない。
ロロシランとアルコールとを反応させる方法と金属ケイ
素とアルコールを直接反応させる方法が知られている。
クロロシランを用いる方法は、副生物として塩酸が生成
し、反応装置を腐食させるほか、生成したアルコキシシ
ランの加水分解を促進し、且つ塩酸を含む廃液の処理に
も多大の費用を要する欠点を持っている。金属ケイ素を
用いる方法は液相反応で銅系触媒を用いた場合、アルコ
キシ基が3〜4個導入されたシランの混合物が得られる
が、ケイ素の反応率が低い。改良反応法として反応溶媒
としてアリールメタン化合物やイソパラフィンを溶媒と
して用いる方法が知られているがいずれも200℃以上
の高温で反応させないと高反応率が達成できない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の欠点
を解消し、低温で高転化率でアルコキシシランを製造す
る方法を提供するものである。
を解消し、低温で高転化率でアルコキシシランを製造す
る方法を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、ケイ素と炭素
数1〜4の1価脂肪族アルコールとをハロゲン化銅系触
媒の存在下に液相反応させてアルコキシシランを製造す
る方法において、反応溶媒として一般式;C6H4(O
R)2、(Rは炭素数1〜4のアルキル基)で表される
ジアルコキシベンゼンを用いる事を特徴とするアルコキ
シシランの製造法である。
数1〜4の1価脂肪族アルコールとをハロゲン化銅系触
媒の存在下に液相反応させてアルコキシシランを製造す
る方法において、反応溶媒として一般式;C6H4(O
R)2、(Rは炭素数1〜4のアルキル基)で表される
ジアルコキシベンゼンを用いる事を特徴とするアルコキ
シシランの製造法である。
【0005】本発明において、原料であるケイ素として
は通常純度が90%以上の金属ケイ素を200μ以下、
好ましくは100μ以下の平均粒度に微細化したものが
用いられ、その表面が酸化されないように不活性ガスで
シールされた状態で保存されているものが好ましい。
は通常純度が90%以上の金属ケイ素を200μ以下、
好ましくは100μ以下の平均粒度に微細化したものが
用いられ、その表面が酸化されないように不活性ガスで
シールされた状態で保存されているものが好ましい。
【0006】1価脂肪族アルコールとしては、炭素数が
1〜4個のものが用いられ、具体的にはメタノール、エ
タノール、イソプロパノール、n−ブタノール等があげ
られるが特にメタノール、エタノールが好ましい。アル
コールの使用量は金属ケイ素1モルに対して2〜5倍モ
ルの範囲から選ばれ、3倍モル程度が好ましい。
1〜4個のものが用いられ、具体的にはメタノール、エ
タノール、イソプロパノール、n−ブタノール等があげ
られるが特にメタノール、エタノールが好ましい。アル
コールの使用量は金属ケイ素1モルに対して2〜5倍モ
ルの範囲から選ばれ、3倍モル程度が好ましい。
【0007】ハロゲン化銅系触媒としては、具体的に
は、塩化第1銅、塩化第2銅、臭化第1銅、臭化第2
銅、よう化第1銅、よう化第2銅等があげられる。これ
ら触媒の使用量は金属ケイ素に対し0.1〜50モル
%、好ましくは0.5〜10モル%が用いられる。触媒
の添加法は、予め溶媒に一括して溶解もしくはけん濁さ
せておいても良いが、時として触媒が失括する事がある
ので反応の途中で間欠的に添加する事が好ましい。
は、塩化第1銅、塩化第2銅、臭化第1銅、臭化第2
銅、よう化第1銅、よう化第2銅等があげられる。これ
ら触媒の使用量は金属ケイ素に対し0.1〜50モル
%、好ましくは0.5〜10モル%が用いられる。触媒
の添加法は、予め溶媒に一括して溶解もしくはけん濁さ
せておいても良いが、時として触媒が失括する事がある
ので反応の途中で間欠的に添加する事が好ましい。
【0008】本発明で用いるジアルコキシベンゼンとし
ては、オルトジメトキシベンゼン、パラジメトキシベン
ゼン、オルトジエトキシベンゼン、パラジエトキシベン
ベン等が用いられ、特にパラジメトキシベンゼンが好ま
しい。溶媒の使用量は特に制限はないが金属ケイ素に対
100〜400重量%用いるのが好ましい。
ては、オルトジメトキシベンゼン、パラジメトキシベン
ゼン、オルトジエトキシベンゼン、パラジエトキシベン
ベン等が用いられ、特にパラジメトキシベンゼンが好ま
しい。溶媒の使用量は特に制限はないが金属ケイ素に対
100〜400重量%用いるのが好ましい。
【0009】反応温度は150〜200℃が好ましく、
特に170〜190℃が好ましい。反応は、溶媒中に金
属ケイ素と触媒を溶解もしくはけん濁させ、攪拌下、こ
れにメタノールまたはエタノールなどのアルコールを滴
下添加することで好適に進行する。生成物は主にトリア
ルコキシシラン及びテトラアルコキシシランからなる
が、トリアルコキシシランは未反応アルコールと反応し
てテトラアルコキシシランに転換し易いので、トリアル
コキシシランの生成を望む場合にはアルコリシス反応の
禁止剤を添加したり、10℃以下の低温、特に5℃以下
に保持する事が好ましい。
特に170〜190℃が好ましい。反応は、溶媒中に金
属ケイ素と触媒を溶解もしくはけん濁させ、攪拌下、こ
れにメタノールまたはエタノールなどのアルコールを滴
下添加することで好適に進行する。生成物は主にトリア
ルコキシシラン及びテトラアルコキシシランからなる
が、トリアルコキシシランは未反応アルコールと反応し
てテトラアルコキシシランに転換し易いので、トリアル
コキシシランの生成を望む場合にはアルコリシス反応の
禁止剤を添加したり、10℃以下の低温、特に5℃以下
に保持する事が好ましい。
【0010】
【実施例】以下、具体的に本発明を説明するが、特記し
ない限り部は重量部を示す。 実施例1 ジムロート冷却管を備えた受器と、滴下ロートをY字型
連結管接続したフラスコに金属ケイ素57.0部、塩化
第1銅3.4部、パラジメトキシベンゼン100部を加
え、攪拌子を入れて攪拌しながらオイルバスを用いて1
80℃に加熱した。滴下ロートにメタノールをローラー
ポンプで供給しながら、該滴下ロートからフラスコ内に
195部のメタノールを6時間かけて滴下供給した。生
成物は速やかに気化され、ジムロート冷却管で冷却さ
れ、受器に溜まる。
ない限り部は重量部を示す。 実施例1 ジムロート冷却管を備えた受器と、滴下ロートをY字型
連結管接続したフラスコに金属ケイ素57.0部、塩化
第1銅3.4部、パラジメトキシベンゼン100部を加
え、攪拌子を入れて攪拌しながらオイルバスを用いて1
80℃に加熱した。滴下ロートにメタノールをローラー
ポンプで供給しながら、該滴下ロートからフラスコ内に
195部のメタノールを6時間かけて滴下供給した。生
成物は速やかに気化され、ジムロート冷却管で冷却さ
れ、受器に溜まる。
【0011】受器に溜まった留分を1時間毎に取り出
し、ガスクロマトグラフィー分析を行った。反応終了
後、残存ケイ素量からケイ素の転化率を求めたところ、
32%であり、生成物中のトリメトキシシランの割合は
55%であった。
し、ガスクロマトグラフィー分析を行った。反応終了
後、残存ケイ素量からケイ素の転化率を求めたところ、
32%であり、生成物中のトリメトキシシランの割合は
55%であった。
【0012】実施例2 実施例1と同様にして、ただし、最初に加えた塩化第1
銅の量を6.8部とし、反応開始の時点から5.5時間
経過後に更に6.8部の塩化第1銅を加えて11時間反
応を継続した。メタノールの合計添加量は390部とな
った。この時のケイ素の転化率は73%であった。生成
物中のトリメトキシシランの割合は59%であった。
銅の量を6.8部とし、反応開始の時点から5.5時間
経過後に更に6.8部の塩化第1銅を加えて11時間反
応を継続した。メタノールの合計添加量は390部とな
った。この時のケイ素の転化率は73%であった。生成
物中のトリメトキシシランの割合は59%であった。
【0013】実施例3 実施例2と同様にして、ただし、メタノールの代わりに
エタノールを用い、その合計添加量を560部となっ
た。この時のケイ素の転化率は63%であった。生成物
中のトリエトキシシランの割合は52%であった。
エタノールを用い、その合計添加量を560部となっ
た。この時のケイ素の転化率は63%であった。生成物
中のトリエトキシシランの割合は52%であった。
【0014】比較例 使用溶媒を下記に示すものに変えて、実施例1と同じに
して実験を行った。結果を以下に示す。
して実験を行った。結果を以下に示す。
【0015】 溶媒 反応温度(℃)反応時間 ケイ素転化率 選択率* イソパラフィン 180 11時間 25% 48% ジフェニルメタン 180 11時間 18% 44% *選択率は、生成物中のトリメトキシシランの割合を示す。
【0016】
【発明の効果】本発明は、従来高温でないと金属ケイ素
の反応率が低くトリアルコキシシランの選択率も向上し
なかった反応を、特定の溶媒を選択する事により低温で
反応を効率よく進行させる事が出来る。
の反応率が低くトリアルコキシシランの選択率も向上し
なかった反応を、特定の溶媒を選択する事により低温で
反応を効率よく進行させる事が出来る。
Claims (4)
- 【請求項1】ケイ素と炭素数1〜4の1価脂肪族アルコ
ールとをハロゲン化銅系触媒の存在下に反応させてアル
コキシシランを製造する方法において、反応溶媒として
一般式:C6H4(OR)2、(Rは炭素数1〜4のア
ルキル基)を持つジアルコキシベンゼンを用いる事を特
徴とするアルコキシシランの製造法。 - 【請求項2】ジアルコキシベンゼンが、オルトまたはパ
ラジメトキシベンゼンである事を特徴とする請求項1の
アルコキシシランの製造法。 - 【請求項3】1価脂肪族アルコールがメチルアルコール
であることを特徴とする請求項1のアルコキシシランの
製造法。 - 【請求項4】反応温度が170〜200℃であることを
特徴とする請求項1のアルコキシシランの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8355775A JPH10182661A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | アルコキシシランの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8355775A JPH10182661A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | アルコキシシランの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10182661A true JPH10182661A (ja) | 1998-07-07 |
Family
ID=18445696
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8355775A Pending JPH10182661A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | アルコキシシランの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10182661A (ja) |
-
1996
- 1996-12-25 JP JP8355775A patent/JPH10182661A/ja active Pending
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