JPH10182973A - 疎水性珪酸を含有する流動性シリコンゴム−混合物の製法 - Google Patents

疎水性珪酸を含有する流動性シリコンゴム−混合物の製法

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JPH10182973A
JPH10182973A JP34950797A JP34950797A JPH10182973A JP H10182973 A JPH10182973 A JP H10182973A JP 34950797 A JP34950797 A JP 34950797A JP 34950797 A JP34950797 A JP 34950797A JP H10182973 A JPH10182973 A JP H10182973A
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JP34950797A
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シェーリー ペーター
Ralf Dr Winkler
ヴィンクラー ラルフ
Harald Schickmann
シックマン ハラルト
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 疎水性珪酸を含有する流動性シリコンゴム−
混合物の製法 【解決手段】 特に珪酸含分の高いシリコンゴム−前混
合物の中間工程を経て、疎水性珪酸を含有する流動性シ
リコンゴム−混合物を製造する。 【効果】 本発明により製造された混合物は、いわゆる
RTV2−系中で、主として流し込み成形及び圧縮成形
材料として使用可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に高い珪酸含分
を有するシリコンゴム−前混合物の中間段階を経る、疎
水性珪酸を含有する流動性シリコンゴム−混合物の製法
に関する。本発明により製造された混合物は、いわゆる
RTV2−系であり、流し込み−及び圧縮成形材料とし
て使用可能である。
【0002】
【従来の技術】液体中に固体を分配する方法は周知であ
る。通常は、固体が1以上の急速回転混合機を用いて液
体中に導入され、この際に完全に湿らされる。得られた
湿らされた固体及び液体からなる混合物を、引き続き混
合室中で、液体中での固体のできるだけ均質な分配を得
るために充分長い時間にわたり機械的応力をかける。
【0003】この機械的応力を強めるためには、屡々固
体の全量を差し当たり液体の一部分量のみ中に導入する
ことが行われている(マスターバッチ法、Deguss
aの"Schriftenreihe Pigmente"Nummer 63,1995 参
照)。高い固体含分により達成可能な固体−液体−混合
物の高い粘凋性により、実質的に有効な混練−及び/又
は剪断エネルギーを1混合機により得ることができる。
それというのも混合エネルギーの取り入れは、混合機の
近くの混合物の範囲上に強く作用するからである。固体
及び液体−部分量からなる混合物の機械的応力により、
更なる液体での再希釈を行なう。
【0004】マスターバッチ−法で、液体中に多量の固
体を導入することが問題である。この場合には、開放混
合装置、例えば2軸混練機又はデイソルバー中で、又は
閉鎖混合装置、例えばピン−デイスク−ミル又はプレス
ミキサー中又は連続的ミキサー、例えば2本スクリュウ
押出機中で操作するかどうかは問題でない。多すぎる固
体が添加される場合には、緊密な混合物が生じ、これに
より更なる加工は不可能になり、殊に半活性又は活性の
填料と混合する場合には、粒団が生じる。
【0005】ワッカーヘミーGmbHのパンフレット
(HDK Das Verdickungsmittel 1985)が、有機ポリマ
ー中のレオロジー助剤としての高分散性珪酸の分配を記
載しているが、ここで目的としている完成組成物中の珪
酸含分は比較的低い。
【0006】シリコンゴム−混合物の製造の際には、架
橋されたエラストマーの機械強度の改善のために、多量
の特に活性の填料、例えば高分散性珪酸をシリコンポリ
マー中に導入することが必要である。
【0007】加工助剤の添加により、シリコンポリマー
中の珪酸の導入を促進することは公知である。このため
には、珪酸充填されたシリコンゴム−混合物の製造の際
に、例えばモノマー又はオリゴマーの、珪酸表面に対し
て反応性のシラン、例えばヘキサメチルジシラザン又は
ヒドロキシル末端基を有する短鎖状のポリジメチルシロ
キサンを助剤として使用し、その際、珪酸表面を、同時
に疎水性化する、即ち化学的処理を行う(NOLL"Chemie
und Technologie der Silicone"1968,346頁)。従
来から、ヘキサメチルジシラザンを用いる珪酸の現場
(in-situ)での疎水性化の方法が、室温でされた架橋性
の珪酸充填2成分−シリコンゴムの製造のために使用さ
れている(例えばDE2433697参照)。この公知
の助剤の使用及びいわゆるマスターバッチ法の使用にも
関わらず、混合物中の珪酸含分の増加及びそれに伴う混
合物の応力の強さの上昇は、従来公知の方法では限界が
ある。
【0008】ドイツ特許(DE)第2535334号明
細書は、ポリシロキサン中の高分散性填料の均質分配法
を記載している。この場合には、填料がポリマー中への
混入の間に現場で疎水性化され、次いでこの混合物は機
械的に処理される。約25重量%の珪酸含分が達成され
る。
【0009】ポリマー及び填料からなる押出し可能な材
料が、ドイツ特許(DE)第4442871号明細書中
に記載されている。この場合には、比較的高い剪断作用
の条件下で填料の33〜約65重量%までがポリマーと
一緒にされ、引き続き高い剪断力の保持下に混合されて
いる。この方法では、ポリマー中への填料の混入の間の
既に高い剪断作用の使用が、かつ、それに伴う相応して
作動する混合装置が必要である。このことは、混入の間
に既に、この時点でなお比較的希液性である混合物中に
高い剪断力をかけなければならないので、技術的に実現
が困難である。有効なエネルギー取り入れは、填料含分
の高い混合物中で初めて可能である。
【0010】填料含分の非常に高い前混合物の強い械的
応力の中間工程を経る、疎水性珪酸を含有する流動性シ
リコンゴム−混合物の製造を記載している方法は公知で
はない。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、架橋されて
いない混合物の良好な流動性及び非常に良好な機械特
性、例えば高い伸展性及び硬化されたエラストマーの低
いショア−A−硬度により優れている、疎水性珪酸を含
有している流動性シリコンゴム−混合物を製造すること
を課題としている。
【0012】本発明の課題は、特に線状のポリオルガノ
シロキサン中の珪酸の非常に良好な分配及び疎水性化を
確保する方法で、疎水性珪酸を含有する流動性シリコン
ゴム−混合物を製造する方法である。
【0013】
【課題を解決するための手段】前混合物中の珪酸含分の
増加は、本発明により、疎水性化可能な基を有しない易
揮発性のシロキサンを、先ず固体の混入のためにポリオ
ルガノシロキサン中に加え、引き続き、真空を用い、か
つ/又は高めた温度で、再び除去することにより達成さ
れる。これにより、シリコンポリマー前混合物中の珪酸
含分を、この混合を破壊することなしに、通常の珪酸−
ポリマー混合物中の最大含分を著しく越えて高めること
ができる。高い填料含分のこの前混合物は、本発明によ
り高めた温度で希釈する際に、更なるポリオルガノシロ
キサンで著しく希釈可能である。
【0014】本発明によれば、(a)その有機基の5%
までが架橋可能な基である線状及び/又は分枝状のポリ
オルガノシロキサン少なくとも1種 100重量部及
び(b)加水分解可能な基を有しない易揮発性の低分子
量有機珪素化合物少なくとも1種 5〜
200重量部、好ましくは20〜100重量部よりなる
混合物(A)中に、高分散性珪酸(B)100〜400
重量部、好ましくは200〜300重量部を導入し、次
いで、化合物(b)を除去し、得られた高い填料含分の
前混合物に機械的応力をかけ、次いで、引き続き、10
0℃より高い、好ましくは120〜150℃の温度で、
ポリオルガノシロキサン(a)1〜1000重量部で希
釈し、この際、珪酸(B)の導入の間に、及び/又は高
い填料含分の前混合物中で、及び/又は希釈の間及び/
又は後に、使用珪酸に対して反応性の有機珪素化合物
(c)0.1〜50重量部を用いる少なくとも1回の疎
水性化を行う。
【0015】ポリオルガノシロキサン(a)としては、
有機基の5モル%までの架橋可能な基を有し、好ましく
は50以上のSi−原子及び0.1〜100Pasの粘
度を有する線状及び/又は分枝状のポリオルガノシロキ
サンが使用される。架橋可能な基の例は、縮合架橋系中
のヒドロキシ−及び/又はアルコキシ基、ジメチルビニ
ルシロキシ−及び/又は水素−末端基及び/又は付加架
橋性系中の水素−及び/又はビニル−側鎖基である。他
の非架橋作用の基としては、特にメチル−、フェニル−
及び/又はトリフルオルプロピル基が結合していてよ
い。分枝状のポリオルガノシロキサンとしては、ジ−及
びモノ官能性のシロキシ単位と並んでトリ−及びテトラ
官能性の単位をも有する液状シロキサンが使用される。
この際、トリ−及びテトラ官能性基対モノ官能性基の比
は、通常、このポリマーが液体であるように選択され
る。これは、例えばシリコンゴム−混合物中の特別な流
動性を得るための目的で使用される。種々のポリオルガ
ノシロキサンの混合物も使用できる。
【0016】疎水性化可能な基を有しない易揮発性の低
分子量有機珪素化合物(b)は、SiX−基を有せず
(ここで、Xは加水分解可能な基、例えばヒドロキシル
−、アルコキシ基、塩素、オキシム、窒素又は水素を表
す)、珪酸の表面に対して反応性ではないものである。
ヘキサアルキルジシロキサン、更に5個までのSi−原
子を有する低分子量のジアルキルシロキサン及び/又は
3〜6個の珪素原子を有する環状ジアルキルシロキサン
1種以上を使用するのが有利である。工業的提供可能性
の理由から、使用化合物はアルキル基としてメチル基を
有するのが有利である。
【0017】珪酸としては、場合によっては水を含有し
ていてもよい、公知の市販の高熱分解法及び/又は沈殿
法により得られた親水性及び/又は疎水性の珪酸を使用
することができる。特に、50m/gより大きいBE
T−表面積を有し、その表面が前処理されていてよい親
水性の高熱分解法珪酸が有利である。
【0018】混合物(A)中への珪酸(B)の導入は、
例えば断続的に2軸混練機、プレスミキサー又は他の公
知の混合装置中で行うことができる。勿論、本発明の方
法は、連続的に作動する混合装置中、例えば2本スクリ
ュウ押出機中で実施することもできる。この導入は、室
温で又は高められた温度で、大気圧以下又はそれ以上の
圧力で行うことができる。
【0019】引き続き、化合物(b)を、前混合物から
通常は真空を用いて及び/又は温度上昇により除去す
る。
【0020】引き続き、得られた填料含分の高い混合物
に、有利に回転混合機を用いる珪酸の混入を行ったと同
じ混合装置中で、例えば2軸混練機中で機械的応力をか
ける。この応力の時間は、数分〜数時間かかってよく、
この応力の強さと同様に、所望の混合物均質性及び珪酸
の所望の粒度に依存することができる。この高い珪酸含
分は、この際、公知方法で可能であるよりも著しく強い
エネルギーの前混合物中への取り入れを可能とする。結
果として、ポリオルガノシロキサン中の珪酸の著しく良
好な分配を得させることができた。
【0021】この機械的応力は、混合機の回転数により
制御することができ、この際、できるだけ高い回転数が
望まれる。前混合物中の高い珪酸含分により、ゆっくり
回転する混合機を有する混合装置中でも、所望の混練−
及び/又は剪断エネルギーをもたらすことができる。完
全に充填された(死空間を有しない)混合室中で操作す
る場合には、この際にかけられる填料含分の高い前混合
物の強い機械的応力により、100nmより小さい、例
えば50nmより小さい珪酸の平均粒径を得ることがで
きる。加圧下での応力も可能である。場合により混合工
程の間又は後にこの混合物からなお含有されている易揮
発性の化合物を除くことを可能とするために、加熱可能
である混合装置を使用するのも好適である。
【0022】こうして得られた填料含分の高い前混合物
を、引き続き、100℃、好ましくは120〜150℃
の温度で、少なくとも1種のポリオルガノシロキサン
(a)で希釈する。高い温度でのこの方法は、均質で貯
蔵安定な混合物を保証する。希釈は、全てのこのために
公知の装置中で、特にその中で珪酸の混入及び/又は機
械的応力をも行う混合装置中で行うことができる。使用
ポリオルガノシロキサン(a)のタイプは、混合物の後
の用途に依存し、任意に変動可能である。
【0023】本発明による流動性のシリコンゴム−混合
物中に珪酸が完全に疎水性化されて存在することを確実
にするために、珪酸の表面処理のために好適な反応性化
合物(c)少なくとも1種0.1〜50重量%、好まし
くは1〜10重量%を用いる疎水性化を少なくとも1回
実施することが必要である。この場合に、疎水性化は、
珪酸の混入の間に、かつ/又は填料含分の高い前混合物
中で、及び/又は希釈の間及び/又は後に行うことがで
きる。この場合に、使用珪酸が既に前処理されていたか
どうかは重要ではない。前混合物中の珪酸の高い割合に
より、機械的応力の間のエネルギー取り入れにより、な
お化学的に処理されていなかった珪酸表面を開放するこ
とができる。それ故に、機械的応力の後に疎水性化を実
施するのが好適である。この疎水性化は、全製造工程の
間の1以上の工程で実施することができる。使用珪酸の
表面に対して反応性の有機珪素化合物(c)としては、
有利に1〜2個のSi−原子を有する化合物、例えば、
シラザン、例えばヘキメチルジシラザン又はトリアルキ
ルシラノール、例えばトリメチルシラノールが使用され
る。シラザンの使用の際に、珪酸に付着する水分が充分
でない場合には、水の存在下に操作するのが通常であ
る。シラノールの使用時には、シラザン又はNH−水
−混合物を添加するのが好適である。更に、反応性化合
物として10個までのSi−原子及びアルコキシ−、ア
セトキシ−、塩素及び/又はヒドロキシ基を有する短鎖
状のシロキサンを使用することができる。一般に、慣用
で最終生成物の品質にとって、疎水性化の間に形成され
る易揮発性の化合物を除去することが重要であり、これ
は珪酸の導入の後に、化合物(b)と一緒に、前混合物
から又は後の工程でも行うことができる。
【0024】本発明の方法で得られた混合物は、後の用
途に依存して、ポリオルガノシロキサンを用いて更に希
釈することができるか、かつ/又はシリコンゴム−混合
物として貯蔵できるか又は場合によっては他の慣用の混
合成分、例えば架橋剤、可塑剤、触媒、付着助剤、顔
料、補強作用化合物、例えばMQ−シリコン樹脂及び他
の活性又は不活性の填料の添加の後に、最終的に硬化さ
れたエラストマーに加工することができる。
【0025】本発明により製造された疎水性珪酸を含有
する流動性シリコンゴム−混合物は、慣用の混合物に比
べて、極めて貯蔵安定な、即ちその粘度を数カ月に渡り
保持し、良好な流動性を有する填料含分の高い混合物と
しても製造可能である多大の利点を有する。更に、これ
は、良好な機械的エラストマー特性値の保持下に、慣用
法で製造された混合物よりも実質的に低い粘度を有す
る。本発明により製造された前混合物は、流動性シリコ
ンゴム−混合物中で有効に使用可能である。
【0026】
【実施例】全ての粘度記載は25℃に対する。
【0027】例1 0.5リットル内容の2軸混練機中で、表面積200m
/gを有する前処理されていない高熱分解法珪酸90
gを、粘度5Pasのヒドロキシ末端ポリジメチルシロ
キサン120g、ヘキサメチルジシロキサン15g、ヘ
キサメチルジシラザン24g及び水6gからの混合物中
に導入した。この混合物を130℃で1時間練和した。
引き続き、真空中で160℃に加熱し、この際、ヘキサ
メチルジシロキサン及び生じた易揮発性の化合物を除去
した。こうして得られた填料含分の高いシリコンゴム−
前混合物を130〜160℃の温度で更に1時間練和し
た。引き続き、ヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサン
120g及び粘度0.1pasを有するトリメチルシロ
キシ末端ポリメチルシロキサン60gで、160〜13
0℃の温度で再希釈した。得られた混合物の粘度は34
Pasであった。
【0028】製造された混合物100gをテトラエトキ
シシラン60重量部、メチルトリエトキシシラン35重
量部及びジブチル錫ジラウレート5重量部からなる架橋
剤液体5gを用いて、室温で7日間硬化させた。硬化さ
れたエラストマーは、31ショアAの硬度及び25N/
mmの引き裂き伝ぱん強度を有した。
【0029】例2 第2の練和の後にヘキサメチルジシラザン24g及び水
6gを導入したことで変更して例1を繰り返した。その
後、130℃で1時間練和し、引き続き、160℃で第
2回目の揮発性成分除去を行った。再希釈を例1と同様
に行った。
【0030】希釈された混合物の粘度は、27Pasで
あった。架橋剤液体を用いて硬化された材料は、28シ
ョアAの硬度及び24N/mmの引き裂き伝ぱん強度を
有した。
【0031】例3 再希釈の後にヘキサメチルジシロラザン24g及び水6
gを導入したことで変更して、例1を繰り返した。その
後、130℃で1時間剪断し、引き続き160℃で第2
回目の揮発性成分除去を行った。
【0032】希釈された混合物の粘度は29Pasであ
った。架橋剤液体で硬化された材料は28ショアAの硬
度及び22N/mmの引き裂き伝ぱん強度を有した。
【0033】例4 珪酸を6Pasの粘度のジメチルビニルシロキシル末端
ポリジメチルシロキサン65g、ヘキサメチルジシロキ
サン45gからの混合物中に導入し、この混合物を13
0℃で1時間練和したことで変更して、例1を繰り返し
た。こうして得られた混合物に2回目の練和の後に、ヘ
キサメチルジシラザン24g及び水6gを添加し、13
0℃で1時間練和し、160℃で1時間揮発性成分を除
去した。得られた混合物を粘度6Pasを有するジメチ
ルビニルシロキシル末端ポリジメチルシロキサン145
gで、160〜130℃の温度で再希釈した。得られた
混合物の粘度は150pasであった。
【0034】この混合物90gを、粘度6Pasのジメ
チルビニルシロキシル末端ポリジメチルシロキサン6.
9g、1%Pt−触媒0.3g及び4.0ミリモル/g
のH−Si−含量のジメチルヒドロゲンシロキシル末端
ポリジメチルシロキサン2.8gからなる架橋剤成分を
用いて硬化させた。硬化された材料は、24ショアAの
硬度及び24N/mmの引き裂き伝ぱん強度を有した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハラルト シックマン ドイツ連邦共和国 マイセン オーバーシ ュパーラー シュトラーセ 6

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 疎水性珪酸を含有する流動性シリコンゴ
    ム−混合物を製造するために、(a)その有機基の5%
    までが反応性の架橋可能な基である、線状及び/又は分
    枝状のポリオルガノシロキサン少なくとも1種 10
    0重量部及び(b)加水分解可能な基を有しない易揮発
    性の低分子量有機珪素化合物少なくとも1種
    5〜200重量部より
    なる混合物(A)中に、高分散性珪酸(B)100〜4
    00重量部を導入し、次いで、化合物(b)を除去し、
    得られた高い填料含分の前混合物に強い機械的応力をか
    け、次いで、引き続き、100℃より高い温度でポリオ
    ルガノシロキサン(a)1〜1000重量部で希釈し、
    この際、珪酸(B)の導入の間に及び/又は高い填料含
    分の前混合物中で及び/又は希釈の間及び/又は後に、
    使用した珪酸に対して反応性の有機珪素化合物(c)
    0.1〜50重量部を用いる少なくとも1回の疎水性化
    を行うことを特徴とする、疎水性珪酸を含有する流動性
    シリコンゴム−混合物の製法。
  2. 【請求項2】 ポリオルガノシロキサン(a)は、少な
    くとも1000の分子量を有する、請求項1に記載の方
    法。
  3. 【請求項3】 ポリオルガノシロキサン(a)は、ジメ
    チルヒドロキシシロキシ−、トリメチルシロキシ−及び
    /又はジメチルビニルシロキシ−単位を有する、請求項
    1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 加水分解可能な基を有しない易揮発性の
    低分子量有機珪素化合物(b)は、ヘキサアルキルジシ
    ロキサン及び/又はオクタアルキルトリシロキサンであ
    る、請求項1に記載の方法。
  5. 【請求項5】 加水分解可能な基を有しない易揮発性の
    低分子量有機珪素化合物(b)は、珪素原子数3〜6を
    有する環状ジアルキルシロキサン1種以上である、請求
    項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 高分散性珪酸(B)として、50m
    gより大きいBET−表面積を有する疎水性及び/又は
    親水性の、高熱分解法及び/又は沈殿法珪酸を使用す
    る、請求項1に記載の方法。
  7. 【請求項7】 珪酸に対して反応性の化合物として、ジ
    シラザン又はトリアルキルシラノールを添加する、請求
    項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】 填料含分の高い前混合物を、120〜1
    50℃の範囲の温度で希釈する、請求項1に記載の方
    法。
JP34950797A 1996-12-21 1997-12-18 疎水性珪酸を含有する流動性シリコンゴム−混合物の製法 Pending JPH10182973A (ja)

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DE (1) DE19653994A1 (ja)

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