JPH10188368A - 情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

情報記録媒体及びその製造方法

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JPH10188368A
JPH10188368A JP8348333A JP34833396A JPH10188368A JP H10188368 A JPH10188368 A JP H10188368A JP 8348333 A JP8348333 A JP 8348333A JP 34833396 A JP34833396 A JP 34833396A JP H10188368 A JPH10188368 A JP H10188368A
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JP
Japan
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film
recording layer
recording medium
information recording
layer
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Pending
Application number
JP8348333A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryohei Miyake
了平 三宅
Masaaki Iwasaki
眞明 岩▲崎▼
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Sony Music Solutions Inc
Original Assignee
Sony Disc Technology Inc
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Publication date
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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光半透過膜の経時変化が大きかった。 【解決手段】 多層の記録層を有し、光半透過膜5を備
えることにより、同一面から各記録層の記録信号の読み
出しを行う情報記録媒体において、上記光半透過膜5が
珪素化合物より形成され、この珪素化合物を高酸素雰囲
気下で加熱処理する情報記録媒体1。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多層の記録層およ
び光半透過膜を形成することにより、同一面から各記録
層の記録信号の読み出しを行う情報記録媒体に係り、特
に光半透過膜の膜質を改良することができる情報記録媒
体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、オーディオやビデオ、その他
の各種情報を記録または/および再生を行う情報媒体と
して、図7に示す読み出し専用光ディスクや、図8に示
す書き換え可能光ディスクが知られている。
【0003】図7は、読み出し専用光ディスクの断面構
造を示す概略図である。図7において、読み出し専用光
ディスク21の光照射側面21aは、ポリカーボネート
等の透明基板22によって形成され、この透明基板22
上には、記録データの凹凸ピット23を有する記録層2
4が形成されている。この記録層24上には、アルミニ
ウム蒸着膜等の反射膜25が形成され、この反射膜25
は、紫外線硬化樹脂等の保護膜26によって覆われて保
護されている。
【0004】また図8は、書き換え可能光ディスクの断
面構造を示す概略図である。図8において、書き換え可
能光ディスク31の光照射側面31aは、ポリカーボネ
ート等の透明基板32によって形成され、この透明基板
32上には、高屈折率誘電体のエンハンスト層33およ
び記録層34が順次形成されている。この記録層34上
には、高屈折率誘電体の保護層35を介して、アルミニ
ウム蒸着膜等の反射膜36が形成され、この反射膜36
は、紫外線硬化樹脂等の保護膜37によって覆われて保
護されている。
【0005】このように、これらの光ディスク21,3
1の断面構造において、記録層24,34は、それぞれ
単層であった。
【0006】しかし、利用する情報量の増加に伴って、
光ディスクの単位面積当たりの記録密度を増加させるこ
とが必要となり、デジタルビデオディスク等の次世代光
ディスクにおいては、記録層を多層に形成した高密度光
ディスクの利用が考えられている。
【0007】図9は、高密度光ディスクの断面構造を示
す概略図である。図9において、高密度光ディスク41
は、光照射側に位置される第1の基板42と、非照射側
に位置される第2の基板43とから成っている。第1の
基板42は、ポリカーボネート等の透明基板44上に、
記録データの凹凸ピット45を有する第1の記録層46
を形成し、この第1の記録層46上に、SiN等の光半
透過膜47を形成したものである。一方、第2の基板4
3は、ポリカーボネート等の第2の透明基板48上に、
記録データの凹凸ピット49を有する第2の記録層50
を形成し、この第2の記録層50上に、アルミニウム蒸
着膜等の反射膜51を形成したものである。そして、第
1の基板42および第2の基板43は、光半透過膜47
と反射膜51を相対向させるように、紫外線硬化樹脂等
のスペース層52を介して一体化されている。
【0008】このような高密度光ディスク41を実現す
るには、光半透過膜47が極めて重要な要素となる。す
なわち、この光半透過膜47には、20%乃至40%の
反射率と透過率が必要とされ、読み出しの焦点を第1の
記録層46に合わせると第1の記録層46から記録信号
が読み出される。このとき、第2の記録層50には読み
出しの焦点が合っていないため、記録信号が読み出し時
に混じり合うことはない。一方、読み出しの焦点を第2
の記録層50に合わせると、同様に第2の記録層50の
記録信号のみが読み出される。
【0009】このような光半透過膜47に要求される性
能としては、入射光を有効に利用するために吸収損失が
小さいこと、第1の記録層46と第2の記録層50の間
の戻り光量をほぼ等しくするために反射率や透過率が調
整できること、スペース層52との密着性が良いこと、
耐環境性に優れていることなどがある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、本発明者等
は、上記性能を満足する光半透過膜として、珪素化合物
が最適であること見い出した。しかし、成膜直後の珪素
化合物は表面が非常に活性であるため、成膜装置から大
気中に取り出すと、図10に示すように、大気中の酸
素、窒素および水蒸気などと引き続きゆっくりと反応を
起こして、徐々に光半透過膜の屈折率が小さくなり、経
時変化の大きな膜になるという問題があった。
【0011】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、製造し易く、経時変化の少ない光半透
過膜を有する情報記録媒体及びその製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
れば、多層の記録層を有し、光半透過膜を備えることに
より、同一面から各記録層の記録信号の読み出しを行う
情報記録媒体において、上記光半透過膜が珪素化合物よ
り形成され、この珪素化合物を高酸素雰囲気下で加熱処
理することを特徴とする情報記録媒体により、達成され
る。
【0013】また、上記目的は、本発明によれば、多層
の記録層を有し、光半透過膜を備えることにより、同一
面から各記録層の記録信号の読み出しを行う情報記録媒
体において、上記光半透過膜が珪素化合物より形成さ
れ、この珪素化合物を高酸素雰囲気下で加熱処理するこ
とを特徴とする情報記録媒体の製造方法により、達成さ
れる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施形態は、本発明の好適な形態であるから、技術
的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範
囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記
載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
【0015】図1は、本発明に係る実施の形態である情
報記録媒体の製造方法により作製した情報記録媒体の断
面構造を示す概略図である。図1において、情報記録媒
体1は、例えば円板状の光ディスクとして構成され、そ
の光照射側には、例えばポリカーボネートやポリメチル
メタクリレート等からなる透明基板2が設けられてい
る。この透明基板2は、例えば金型内にポリカーボネー
トやポリメチルメタクリレート等を射出成形することに
より円板状に形成され、その上面にはスタンパにより記
録データの凹凸ピット3を有する第1の記録層4が形成
される。
【0016】第1の記録層4上には、酸素ガスと窒素ガ
スを含む混合ガス雰囲気下で、スパッタリング等の成膜
方法を実施することにより、珪素化合物膜として光半透
明膜5が成膜される。したがって、光半透明膜5には、
所定量の酸素と窒素が含まれている。
【0017】次に、この光半透明膜5の成膜直後に、光
半透明膜5を形成した透明基板2を高酸素雰囲気中に導
入して、光半透明膜5に加熱処理が施される。加熱処理
を施すと、光半透明膜5の酸化が促進され、図2に示す
ように、この光半透明膜5の表面に、化学量論組成の珪
素化合物の安定化層5aが速やかに形成されることにな
る。したがって、光半透明膜5の安定化層5aが酸素、
窒素および水蒸気のブロッキング層として作用し、ある
量の安定化層5aが形成された後は内部の酸化等が起こ
らなくなる。
【0018】ここで、酸素雰囲気の酸素濃度と加熱時間
と加熱温度とは相乗効果を示すので、製造条件から最適
に設定する必要がある。具体的には、酸素濃度は40%
乃至60%程度が好ましく、加熱温度は摂氏40度乃至
摂氏80度が好ましい。加熱温度の上限を摂氏80度と
したのは、透明基板2の耐熱性を考慮したものである。
一方、加熱温度の下限を摂氏40度としたのは、珪素化
合物の活性化を考慮したものである。また、加熱時間
は、透明基板2の耐熱性を考慮して、60秒以下である
ことが好ましい。
【0019】この光半透明膜5上には、紫外線硬化樹脂
や光硬化樹脂等よりなる透明なスペース層6が形成され
る。このスペース層6は、紫外線等が照射されることに
より硬化する。
【0020】第2の記録層8上には、真空蒸着等によ
り、例えばアルミニウムよりなる全反射膜9が成膜され
る。さらに、この全反射膜9上には、紫外線硬化樹脂や
光硬化樹脂等よりなる保護膜10がスピンコート法等に
より形成される。
【0021】このように本実施の形態の製造方法により
作製された情報記録媒体1は、第1の記録層4と第2の
記録層8を有しており、第1の記録層4上に光半透過膜
5を備えることにより、透明基板2側から各記録層4,
8の記録信号の読み出しを行うものである。そして、そ
の光半透過膜5は、珪素化合物よりなり、例えばスパッ
タリング等の成膜方法によって、所定の屈折率と所定の
膜厚に成膜されるものである。
【0022】なお、本実施の形態では、二層の記録層を
有する情報記録媒体1を作製したが、これに限るもので
はなく、三層以上の記録層を有する情報記録媒体として
構成してもよい。
【0023】図3は、酸素と窒素を含む珪素化合物を光
半透過膜とした場合の機能を説明するための概略図であ
る。図3において、光半透過膜5は、ポリカーボネート
等により形成された透明基板2と、紫外線硬化樹脂等に
より形成されたスペース層6との間に介設されている。
例えば、透明基板2側から入射した光は、光半透過膜5
内で多重反射を起こし、干渉する。したがって、図4に
示すように、光半透過膜5を通過する光量と反射する光
量は、この光半透過膜5の膜厚と屈折率によって変化す
る。すなわち、屈折率(n)と膜厚(nm)を変化させ
ることで、反射率と透過率を任意に選択することができ
る。
【0024】また、図5は、酸素量を一定(3%)と
し、窒素量を変化させたときの光半透過膜の屈折率変
化、および窒素量を一定(6%)とし、酸素量を変化さ
せたときの光半透過膜の屈折率変化を示す説明図であ
る。図5によれば、酸素と窒素の総量が増加するにした
がって、屈折率が小さくなっていくことが判る。
【0025】このときの屈折率と膜厚の最適値は、次の
ようにして決められる。屈折率は、透明基板2側からみ
て第1の記録層4と第2の記録層8からの戻り光量がほ
ぼ等しくなるように設定する。また、膜厚は、面内にお
いて均一な戻り光量を得るために、膜厚の変化に対して
反射率と透過率の変化が最も少ない値に設定する。さら
に、酸素と窒素の比率は、スペース層6との密着性が最
適になるように考慮して定められる。
【0026】すなわち、光半透過膜5には、20%乃至
40%の反射率と透過率が必要とされるので、図4に示
す膜厚と反射率と屈折率との関係から20%乃至40%
の反射率に対する膜厚および屈折率を最適値に選択す
る。
【0027】
【実施例】
実施例1 実施例1の製造方法により製造した情報記録媒体は、図
1に示した情報記録媒体と近似する断面構造を有してい
るため、同一の符号は同一部材を示している。透明基板
2の材質には、ポリカーボネートを採用する。まず、金
型内にポリカーボネートを射出成形して、スタンパによ
り凹凸ピット3を有する第1の記録層4の形成された透
明基板2を作製した。
【0028】次に、この透明基板2をスパッタリング装
置のチャンバー内に導入して陽極に設置すると共に、陰
極に珪素ターゲットを設置した。この珪素ターゲット
は、その導電性を高めるため、ボロンがドーピングされ
ている。
【0029】そして、チャンバー内を十分に排気した
後、15sccmのアルゴンガスに3sccmの酸素ガ
スと2sccmの窒素ガスを混入した混合ガスをチャン
バーのガス入口から導入し、RF重畳DC反応性スパッ
タを行って、透明基板2の第1の記録層4上に光半透過
膜5を成膜した。光半透過膜5の成膜は、7nm/秒の
成膜速度で8秒間行い、珪素化合物膜を56nmの厚さ
で成膜した。この珪素化合物膜からなる光半透過膜5
は、屈折率n=3.25を有していた。
【0030】次に、図6に示すように、光半透過膜5を
形成した透明基板2を加熱処理装置11内に導入して、
ホットプレート12上に載置した。そして、排気口13
から加熱処理装置11内を十分に排気した後、ガス供給
口14から加熱処理装置11内へ40%の酸素ガスと6
0%の窒素ガスを導入した後、摂氏60度に加熱したホ
ットプレート12上で10秒間の加熱処理を行った。加
熱処理を施した後の光半透過膜5は、屈折率n=3.0
5を有していた。
【0031】この光半透過膜5上に紫外線硬化樹脂より
なるスペース層6を47ミクロンの厚さで形成する。そ
して、記録層を形成した透明基板上にアルミニウム反射
膜を成膜した単板を、2つの記録層4,8が対向するよ
うに、貼り合わせる。これにより、第1の記録層4と第
2の記録層8とを有する光ディスク1が作成される。
【0032】以上のようにして作製した光ディスク1の
反射率を測定したところ、第1の記録層4の反射率が2
9%であり、第2の記録層8の反射率が32%であっ
た。また、この光ディスク1は、光ピックアップにより
第1の記録層4または第2の記録層8に焦点を合わせる
と、それぞれに記録したデータを良好に読み出すことが
できた。
【0033】実施例2 実施例2の製造方法により製造した情報記録媒体は、図
1に示した情報記録媒体と近似する断面構造を有してい
るため、同一の符号は同一部材を示している。透明基板
2の材質には、ポリカーボネイトを採用する。まず、金
型内にポリカーボネイトを射出成形して、スタンパによ
り凹凸ピット3を有する第1の記録層4の形成された透
明基板2を作製した。
【0034】次に、この透明基板2をスパッタリング装
置のチャンバー内に導入して陽極に設置すると共に、陰
極に珪素ターゲットを設置した。この珪素ターゲット
は、その導電性を高めるため、ボロンがドーピングされ
ている。
【0035】そして、チャンバー内を十分に排気した
後、15sccmのアルゴンガスに3sccmの酸素ガ
スと2sccmの窒素ガスを混入した混合ガスをチャン
バーのガス入口から導入し、RF重畳DC反応性スパッ
タを行って、透明基板2の第1の記録層4上に光半透過
膜5を成膜した。光半透過膜5の成膜は、10nm/秒
の成膜速度で6秒間行い、珪素化合物膜を60nmの厚
さで成膜した。この珪素化合物膜からなる光半透過膜5
は、屈折率n=3.35を有していた。
【0036】次に、図6に示すように、光半透過膜5を
形成した透明基板2を加熱処理装置11内に導入して、
ホットプレート12上に載置した。そして、排気口13
から加熱処理装置11内を十分に排気した後、ガス供給
口14から加熱処理装置11内へ60%の酸素ガスと4
0%の窒素ガスを導入した後、摂氏80度に加熱したホ
ットプレート12上で6秒間の加熱処理を行った。加熱
処理を施した後の光半透過膜5は、屈折率n=3.0を
有していた。
【0037】この光半透過膜5上に紫外線硬化樹脂より
なるスペース層6を47ミクロンの厚さで形成しする。
そして、記録層を形成した透明基板上にアルミニウム反
射膜を成膜した単板を、2つの記録層4,8が対向する
ように、貼り合わせる。これにより、第1の記録層4と
第2の記録層8とを有する光ディスク1が作成される。
【0038】以上のようにして作製した光ディスク1の
反射率を測定したところ、第1の記録層4の反射率が2
6%であり、第2の記録層8の反射率が35%であっ
た。また、この光ディスク1は、光ピックアップにより
第1の記録層4または第2の記録層8に焦点を合わせる
と、それぞれに記録したデータを良好に読み出すことが
できた。
【0039】以上述べたように、本発明の実施の形態及
び実施例によれば、成膜直後の光半透過膜5に加熱処理
を施すことにより、製造し易く、経時変化の少ない光半
透過膜5を有する情報記録媒体1を作製することができ
る。
【0040】
【発明の効果】かくして、本発明によれば、製造し易
く、経時変化の少ない光半透過膜を有する情報記録媒体
及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法により作製した情報記録媒体
の断面構造を示す概略図である。
【図2】本実施形態において、光半透過膜中の安定領域
を示す概略図である。
【図3】本実施形態において、酸素と窒素を含む珪素化
合物を光半透過膜とした場合の機能を説明するための概
念図である。
【図4】本実施形態において、膜厚と反射率と屈折率と
の関係を示す説明図である。
【図5】本実施形態において、酸素,窒素含有量と屈折
率との関係を示す説明図である。
【図6】本実施例において使用する加熱処理装置を示す
概略図である。
【図7】従来の読み出し専用光ディスクの断面構造を示
す概略図である。
【図8】従来の書き換え可能光ディスクの断面構造を示
す概略図である。
【図9】従来の高密度光ディスクの断面構造を示す概略
図である。
【図10】従来の珪素化合物膜の経時変化を示す説明図
である。
【符号の説明】
1・・・情報記録媒体、2・・・透明基板、3・・・凹
凸ピット、4・・・第1の記録層、5・・・光半透明
膜、6・・・スペース層、7・・・凹凸ピット、8・・
・第2の記録層、9・・・全反射膜、10・・・保護膜

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多層の記録層を有し、光半透過膜を備え
    ることにより、同一面から各記録層の記録信号の読み出
    しを行う情報記録媒体において、 上記光半透過膜が珪素化合物より形成され、この珪素化
    合物を高酸素雰囲気下で加熱処理することを特徴とする
    情報記録媒体。
  2. 【請求項2】 前記加熱処理の条件が、40%乃至60
    %の酸素濃度の高酸素雰囲気下において、摂氏40度乃
    至摂氏80度の加熱温度、60秒以下の加熱時間に設定
    されることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒
    体。
  3. 【請求項3】 多層の記録層を有し、光半透過膜を備え
    ることにより、同一面から各記録層の記録信号の読み出
    しを行う情報記録媒体の製造方法において、上記光半透
    過膜が珪素化合物より形成され、この珪素化合物を高酸
    素雰囲気下で加熱処理することを特徴とする情報記録媒
    体の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記加熱処理の条件が、40%乃至60
    %の酸素濃度の高酸素雰囲気下において、摂氏40度乃
    至摂氏80度の加熱温度、60秒以下の加熱時間に設定
    されることを特徴とする請求項3に記載の情報記録媒体
    の製造方法。
JP8348333A 1996-12-26 1996-12-26 情報記録媒体及びその製造方法 Pending JPH10188368A (ja)

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