JPH10188506A - 磁気ヘッドスライダ用保護層 - Google Patents
磁気ヘッドスライダ用保護層Info
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- JPH10188506A JPH10188506A JP10003588A JP358898A JPH10188506A JP H10188506 A JPH10188506 A JP H10188506A JP 10003588 A JP10003588 A JP 10003588A JP 358898 A JP358898 A JP 358898A JP H10188506 A JPH10188506 A JP H10188506A
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- 239000011241 protective layer Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 2
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 9
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 9
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い絶縁性および優れた防食性と機械的耐久
性を有する磁気ヘッドスライダ用保護膜を提供する。 【解決手段】 珪素接着層と、この珪素接着層上に被覆
される少なくとも珪素と酸素あるいは珪素と窒素を含む
上層からなる磁気ヘッドスライダ用保護層とする。また
前記上層は、酸化珪素単層膜あるいは窒化珪素単層膜あ
るいは酸窒化珪素単層膜とする。
性を有する磁気ヘッドスライダ用保護膜を提供する。 【解決手段】 珪素接着層と、この珪素接着層上に被覆
される少なくとも珪素と酸素あるいは珪素と窒素を含む
上層からなる磁気ヘッドスライダ用保護層とする。また
前記上層は、酸化珪素単層膜あるいは窒化珪素単層膜あ
るいは酸窒化珪素単層膜とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハード磁気ディス
ク装置の磁気ヘッドスライダ用保護層に関し、特に磁気
ヘッドスライダの空気支持面および電磁変換素子端面上
に被覆される保護層に関する。
ク装置の磁気ヘッドスライダ用保護層に関し、特に磁気
ヘッドスライダの空気支持面および電磁変換素子端面上
に被覆される保護層に関する。
【0002】
【従来の技術】磁気ヘッドスライダと磁気記録体との接
触により、磁気ヘッドスライダの空気支持面および電磁
変換素子には機械的摩耗が生じる。また、その接触の際
に起こる電磁変換素子と磁気記録体との電気的短絡によ
り、電磁変換素子が電気的に破壊される。また、電磁変
換素子端面は金属であるために、腐食が発生する。従来
技術では、これらの機械的摩耗、電気的破壊、腐食を防
ぐために、各種保護層が磁気ヘッドスライダの空気支持
面および電磁変換素子端面上に被覆されている。特開平
4−364217号公報では、珪素接着層とアモルファ
ス水素添加炭素層からなる保護層が開示されている。し
かし、これは機械的耐摩耗性、電気的保護性すなわち絶
縁性、防食性が不十分であり、特に電気的絶縁性が劣悪
である。また、IBM TDM 1976年6月、第35
1頁(IBM TDM,June,1976,p.351)では、約20から
500nmの膜厚の窒化珪素からなる保護層が開示され
ている。しかし、これは下地体の空気支持面や電磁変換
素子との付着性が弱く、下地体から剥離し易く、機械的
耐摩耗性が不十分である。また、特開平4−30288
0号公報では、SiO2 、ZrO2 −Y2 O3 あるいは
MgO−SiO2 のいずれか一つの系からなる保護層が
開示されている。しかし、これは下地体の空気支持面や
電磁変換素子との付着性が弱く、下地体から剥離し易
く、機械的耐摩耗性が不十分である。また、特開昭63
−091814号公報では、窒化珪素からなる保護層が
開示されている。しかし、これは下地体の空気支持面や
電磁変換素子との付着性が弱く、下地体から剥離し易
く、機械的耐摩耗性が不十分である。
触により、磁気ヘッドスライダの空気支持面および電磁
変換素子には機械的摩耗が生じる。また、その接触の際
に起こる電磁変換素子と磁気記録体との電気的短絡によ
り、電磁変換素子が電気的に破壊される。また、電磁変
換素子端面は金属であるために、腐食が発生する。従来
技術では、これらの機械的摩耗、電気的破壊、腐食を防
ぐために、各種保護層が磁気ヘッドスライダの空気支持
面および電磁変換素子端面上に被覆されている。特開平
4−364217号公報では、珪素接着層とアモルファ
ス水素添加炭素層からなる保護層が開示されている。し
かし、これは機械的耐摩耗性、電気的保護性すなわち絶
縁性、防食性が不十分であり、特に電気的絶縁性が劣悪
である。また、IBM TDM 1976年6月、第35
1頁(IBM TDM,June,1976,p.351)では、約20から
500nmの膜厚の窒化珪素からなる保護層が開示され
ている。しかし、これは下地体の空気支持面や電磁変換
素子との付着性が弱く、下地体から剥離し易く、機械的
耐摩耗性が不十分である。また、特開平4−30288
0号公報では、SiO2 、ZrO2 −Y2 O3 あるいは
MgO−SiO2 のいずれか一つの系からなる保護層が
開示されている。しかし、これは下地体の空気支持面や
電磁変換素子との付着性が弱く、下地体から剥離し易
く、機械的耐摩耗性が不十分である。また、特開昭63
−091814号公報では、窒化珪素からなる保護層が
開示されている。しかし、これは下地体の空気支持面や
電磁変換素子との付着性が弱く、下地体から剥離し易
く、機械的耐摩耗性が不十分である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】これらの公知の保護層
は、いずれも機械的耐摩耗性、電気的絶縁性、防食性が
不十分である。本発明は、このような従来の問題点を解
決して、機械的耐摩耗性、電気的絶縁性及び防食性に優
れた磁気ヘッドスライダ用保護層を提供することを目的
とする。
は、いずれも機械的耐摩耗性、電気的絶縁性、防食性が
不十分である。本発明は、このような従来の問題点を解
決して、機械的耐摩耗性、電気的絶縁性及び防食性に優
れた磁気ヘッドスライダ用保護層を提供することを目的
とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁気ヘッドス
ライダの空気支持面および電磁変換素子端面上にあっ
て、珪素接着層と、該珪素接着層上に被覆される少なく
とも珪素と酸素あるいは少なくとも珪素と窒素を含む上
層とからなることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用保
護層である。また、本発明における上層は、酸化珪素単
層膜、窒化珪素単層膜または酸窒化珪素単層膜からなる
ものであることが望ましい。
ライダの空気支持面および電磁変換素子端面上にあっ
て、珪素接着層と、該珪素接着層上に被覆される少なく
とも珪素と酸素あるいは少なくとも珪素と窒素を含む上
層とからなることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用保
護層である。また、本発明における上層は、酸化珪素単
層膜、窒化珪素単層膜または酸窒化珪素単層膜からなる
ものであることが望ましい。
【0005】本発明において、珪素接着層としては、マ
グネトロンスパッタ法、プラズマCVD法、イオンプレ
ーティング法、真空蒸着法等により膜厚1〜50nmで
珪素を磁気ヘッドスライダの空気支持面及び電磁変換素
子端面上に被覆する。この珪素接着層はアモルファスで
も多結晶でもよい。また、この珪素接着層には少なくと
も水素が含まれてもよい。次に、前記珪素接着層の上に
少なくとも珪素と酸素あるいは少なくとも珪素と窒素を
含む上層をマグネトロンスパッタ法、プラズマCVD
法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等により膜厚
1〜50nmで被覆する。この上層は、酸化珪素単層膜
あるいは窒化珪素単層膜あるいは酸窒化珪素単層膜が好
ましい。
グネトロンスパッタ法、プラズマCVD法、イオンプレ
ーティング法、真空蒸着法等により膜厚1〜50nmで
珪素を磁気ヘッドスライダの空気支持面及び電磁変換素
子端面上に被覆する。この珪素接着層はアモルファスで
も多結晶でもよい。また、この珪素接着層には少なくと
も水素が含まれてもよい。次に、前記珪素接着層の上に
少なくとも珪素と酸素あるいは少なくとも珪素と窒素を
含む上層をマグネトロンスパッタ法、プラズマCVD
法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等により膜厚
1〜50nmで被覆する。この上層は、酸化珪素単層膜
あるいは窒化珪素単層膜あるいは酸窒化珪素単層膜が好
ましい。
【0006】本発明の磁気ヘッドスライダ用保護層は、
機械的耐摩耗性及び電気的絶縁性及び防食性に優れてい
る。それは、珪素接着層と空気支持面との付着力、珪素
接着層と電磁変換素子との付着力、珪素接着層と上層の
珪素化合物との付着力が高いため、磁気記憶体との接触
の際の応力によって保護層が空気支持膜や電磁変換素子
から剥離することがなく、また、上層の珪素化合物は機
械的耐摩耗性及び電気的絶縁性及び防食性に優れている
からである。
機械的耐摩耗性及び電気的絶縁性及び防食性に優れてい
る。それは、珪素接着層と空気支持面との付着力、珪素
接着層と電磁変換素子との付着力、珪素接着層と上層の
珪素化合物との付着力が高いため、磁気記憶体との接触
の際の応力によって保護層が空気支持膜や電磁変換素子
から剥離することがなく、また、上層の珪素化合物は機
械的耐摩耗性及び電気的絶縁性及び防食性に優れている
からである。
【0007】
【発明の実施の形態】次に、本発明を実施例によって説
明する。
明する。
【0008】図1は本発明による磁気ヘッドスライダ用
保護層の一実施例の断面図である。アルミナと炭化チタ
ンの焼結体で鏡面に研磨された空気支持面3と電磁変換
素子4の上に表1に示す珪素接着層2と単層膜の上層1
からなる保護層を被覆した。保護層の全膜厚は保護性の
度合と磁気記憶体の記録密度に基づいて選定される。な
ぜなら、保護層の膜厚が厚いほど、保護性は高くなる反
面、記録密度は低くなるためである。
保護層の一実施例の断面図である。アルミナと炭化チタ
ンの焼結体で鏡面に研磨された空気支持面3と電磁変換
素子4の上に表1に示す珪素接着層2と単層膜の上層1
からなる保護層を被覆した。保護層の全膜厚は保護性の
度合と磁気記憶体の記録密度に基づいて選定される。な
ぜなら、保護層の膜厚が厚いほど、保護性は高くなる反
面、記録密度は低くなるためである。
【0009】
【表1】
【0010】次に、実施例で得られた保護層が被覆され
た磁気ヘッドスライダを用い、摩耗試験として磁気ヘッ
ドスライダと磁気ディスクの起動停止繰り返し試験(C
SS試験)を行ったところ、10万回以上の試験で磁気
ヘッドスライダと磁気ディスクには傷が発生しなかっ
た。また、温度80℃、相対湿度80%における耐食性
試験を1ヵ月行ったところ、電磁変換素子には腐食が発
生せず、磁気ヘッドの信号出力には変化が見られなかっ
た。また、実施例を用いたハード磁気ディスク装置を6
ヵ月連続運転したが、電気的短絡による電磁変換素子の
破壊は皆無であった。
た磁気ヘッドスライダを用い、摩耗試験として磁気ヘッ
ドスライダと磁気ディスクの起動停止繰り返し試験(C
SS試験)を行ったところ、10万回以上の試験で磁気
ヘッドスライダと磁気ディスクには傷が発生しなかっ
た。また、温度80℃、相対湿度80%における耐食性
試験を1ヵ月行ったところ、電磁変換素子には腐食が発
生せず、磁気ヘッドの信号出力には変化が見られなかっ
た。また、実施例を用いたハード磁気ディスク装置を6
ヵ月連続運転したが、電気的短絡による電磁変換素子の
破壊は皆無であった。
【0011】比較例として、特開平4−364217号
公報、IBM TDM,June,1976,p.35
1、特開平4−302880号公報、特開昭63−09
1814号公報の磁気ヘッドスライダについて実施例と
同様の試験を行った。特開平4−364217号公報の
磁気ヘッドスライダを用いた磁気ディスク装置の連続試
運転では、アモルファス水素添加炭素層の機械的耐久性
と電気絶縁性が不十分であるために、磁気ディスクとの
電気的短絡によって電磁変換素子が電気的に破壊され
た。IBM TDM,June,1976,p.351
及び特開平4−302880号公報及び特開昭63−0
91814号公報の磁気ヘッドスライダについては、空
気支持面や電磁変換素子との付着性が不十分であるため
に、CSS試験1000回程度で保護層が剥離し、磁気
ヘッドスライダと磁気ディスクの双方に傷が発生した。
公報、IBM TDM,June,1976,p.35
1、特開平4−302880号公報、特開昭63−09
1814号公報の磁気ヘッドスライダについて実施例と
同様の試験を行った。特開平4−364217号公報の
磁気ヘッドスライダを用いた磁気ディスク装置の連続試
運転では、アモルファス水素添加炭素層の機械的耐久性
と電気絶縁性が不十分であるために、磁気ディスクとの
電気的短絡によって電磁変換素子が電気的に破壊され
た。IBM TDM,June,1976,p.351
及び特開平4−302880号公報及び特開昭63−0
91814号公報の磁気ヘッドスライダについては、空
気支持面や電磁変換素子との付着性が不十分であるため
に、CSS試験1000回程度で保護層が剥離し、磁気
ヘッドスライダと磁気ディスクの双方に傷が発生した。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
スライダ材やMR素子端面と保護膜との付着性は珪素接
着層により良好に保たれ、磁気ディスクとの接触面は機
械的耐久性に優れた窒化珪素や酸化珪素であるため、優
れた機械的耐久性を示す。また、窒化珪素や酸化珪素に
より高い絶縁性も示す。よって、本発明の磁気ヘッドス
ライダ用保護層は、優れた機械的耐摩耗性及び防食性及
び電気絶縁性を有している。
スライダ材やMR素子端面と保護膜との付着性は珪素接
着層により良好に保たれ、磁気ディスクとの接触面は機
械的耐久性に優れた窒化珪素や酸化珪素であるため、優
れた機械的耐久性を示す。また、窒化珪素や酸化珪素に
より高い絶縁性も示す。よって、本発明の磁気ヘッドス
ライダ用保護層は、優れた機械的耐摩耗性及び防食性及
び電気絶縁性を有している。
【図1】本発明による磁気ヘッドスライダ用保護層を示
す断面図である。
す断面図である。
1 上層 2 珪素接着層 3 空気支持面 4 電磁変換素子
Claims (2)
- 【請求項1】磁気ヘッドスライダの空気支持面および電
磁変換素子端面上にあって、珪素接着層と、該珪素接着
層上に被覆される少なくとも珪素と酸素あるいは少なく
とも珪素と窒素を含む上層とからなることを特徴とする
磁気ヘッドスライダ用保護層。 - 【請求項2】上層が、酸化珪素単層膜、窒化珪素単層膜
または酸窒化珪素単層膜からなるものである請求項1記
載の磁気ヘッドスライダ用保護層。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10003588A JPH10188506A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 磁気ヘッドスライダ用保護層 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10003588A JPH10188506A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 磁気ヘッドスライダ用保護層 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5238866A Division JP2785650B2 (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 磁気ヘッドスライダ用保護層 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10188506A true JPH10188506A (ja) | 1998-07-21 |
Family
ID=11561631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10003588A Pending JPH10188506A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 磁気ヘッドスライダ用保護層 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10188506A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7286326B2 (en) | 2004-05-27 | 2007-10-23 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic head with air bearing surface protection film |
-
1998
- 1998-01-12 JP JP10003588A patent/JPH10188506A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7286326B2 (en) | 2004-05-27 | 2007-10-23 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic head with air bearing surface protection film |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000229 |