JPH08180352A - 磁気ヘッドスライダとその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダとその製造方法Info
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- JPH08180352A JPH08180352A JP32072894A JP32072894A JPH08180352A JP H08180352 A JPH08180352 A JP H08180352A JP 32072894 A JP32072894 A JP 32072894A JP 32072894 A JP32072894 A JP 32072894A JP H08180352 A JPH08180352 A JP H08180352A
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 機械的耐久性に優れた、保護膜を有する薄型
の磁気ヘッドスライダを提供する 【構成】 スパッタリング法などの成膜方法により、磁
気ヘッドスライダ４の空気支持面２にＴａから成る薄膜
を５０オングストローム程度成膜し、酸化雰囲気中で熱
処理を施すことにより、ＴａＯx 膜（但しｘ＝１．８〜
２．５）を形成し、磁気ヘッドスライダの保護被膜１と
する。保護被膜１のうち磁気ヘッドスライダとの接触面
はＴａもしくはＴａＯx 膜（但しｘ＜１．８）であって
もよい。
の磁気ヘッドスライダを提供する 【構成】 スパッタリング法などの成膜方法により、磁
気ヘッドスライダ４の空気支持面２にＴａから成る薄膜
を５０オングストローム程度成膜し、酸化雰囲気中で熱
処理を施すことにより、ＴａＯx 膜（但しｘ＝１．８〜
２．５）を形成し、磁気ヘッドスライダの保護被膜１と
する。保護被膜１のうち磁気ヘッドスライダとの接触面
はＴａもしくはＴａＯx 膜（但しｘ＜１．８）であって
もよい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置の磁
気ヘッドスライダに関する
気ヘッドスライダに関する
【従来の技術】一般に、磁気ディスク装置ではコンタク
トスタートストップ（ＣＳＳ）方式が採用されている。
ＣＳＳ方式では、装置の起動停止時に磁気ディスクと磁
気ヘッドが接触摺動状態にあり、長期間に亘り磁気ディ
スクと磁気ヘッドは接触摺動を繰り返す。そのため、Ｃ
ＳＳ時の磁気ディスクおよび磁気ヘッドスライダの耐摩
耗特性、摩擦特性の向上などの機械的耐久性の確保は磁
気ディスク装置における重要な課題のひとつに位置付け
られている。
トスタートストップ（ＣＳＳ）方式が採用されている。
ＣＳＳ方式では、装置の起動停止時に磁気ディスクと磁
気ヘッドが接触摺動状態にあり、長期間に亘り磁気ディ
スクと磁気ヘッドは接触摺動を繰り返す。そのため、Ｃ
ＳＳ時の磁気ディスクおよび磁気ヘッドスライダの耐摩
耗特性、摩擦特性の向上などの機械的耐久性の確保は磁
気ディスク装置における重要な課題のひとつに位置付け
られている。
【０００２】従来、磁気ディスク装置では機械的耐久性
を向上させるために、保護膜の形成や記録膜上への各種
潤滑剤の塗布などの対策が施されている。特に、保護膜
はＣＳＳ時における機械的耐久性の劣化を防止するこ
と、および磁気ディスク装置稼働中の磁気ヘッドスライ
ダとの接触による磁気ディスクの損傷を防止する目的
で、主に記録膜上に設けられている。近年では、高記録
密度化の要求から、磁気ディスク／磁気ヘッドスライダ
間の微小隙間（以下、スペーシングと記す）の狭小化が
急速に進んでおり、保護膜による磁気スペーシングの増
加を少なくするため媒体保護膜の薄膜化は必須である。
しかし、スペーシングの狭小化により、磁気ディスク装
置稼働中に磁気ディスクと磁気ヘッドスライダが接触す
る可能性が増大する。そのため、媒体保護膜としてカー
ボン、セラミックス、酸化シリコンなどの硬質膜が用い
られている。
を向上させるために、保護膜の形成や記録膜上への各種
潤滑剤の塗布などの対策が施されている。特に、保護膜
はＣＳＳ時における機械的耐久性の劣化を防止するこ
と、および磁気ディスク装置稼働中の磁気ヘッドスライ
ダとの接触による磁気ディスクの損傷を防止する目的
で、主に記録膜上に設けられている。近年では、高記録
密度化の要求から、磁気ディスク／磁気ヘッドスライダ
間の微小隙間（以下、スペーシングと記す）の狭小化が
急速に進んでおり、保護膜による磁気スペーシングの増
加を少なくするため媒体保護膜の薄膜化は必須である。
しかし、スペーシングの狭小化により、磁気ディスク装
置稼働中に磁気ディスクと磁気ヘッドスライダが接触す
る可能性が増大する。そのため、媒体保護膜としてカー
ボン、セラミックス、酸化シリコンなどの硬質膜が用い
られている。
【０００３】しかし、媒体保護膜が硬質化されると磁気
ヘッドや磁気ヘッドスライダ摺動面が摩耗する可能性が
高くなる。それらは、ヘッド性能の低下やＣＳＳ特性の
劣化につながるため、磁気ヘッドの保護およびスライダ
摺動面の耐摩耗性の確保が必要になっている。
ヘッドや磁気ヘッドスライダ摺動面が摩耗する可能性が
高くなる。それらは、ヘッド性能の低下やＣＳＳ特性の
劣化につながるため、磁気ヘッドの保護およびスライダ
摺動面の耐摩耗性の確保が必要になっている。
【０００４】磁気ディスク装置の磁気ヘッドスライダ面
上に保護膜を設けることに関しては、媒体保護膜と比較
してあまり例は多くなかったが、最近いくつかの材料が
提案されている。例えば、特開平４−３６４２１７号公
報に保護被膜を有する磁気ヘッドスライダーとして、磁
気ヘッドスライダの空気支持面に接着層としてシリコン
膜を用いたアモルファス水素添加炭素膜を形成すること
が開示されている。これは、スライダ加工プロセス時に
磁気ヘッドを保護するとともに、磁気記録装置の使用中
に磁気ヘッドを摩耗および腐食から保護することを目的
としたものである。
上に保護膜を設けることに関しては、媒体保護膜と比較
してあまり例は多くなかったが、最近いくつかの材料が
提案されている。例えば、特開平４−３６４２１７号公
報に保護被膜を有する磁気ヘッドスライダーとして、磁
気ヘッドスライダの空気支持面に接着層としてシリコン
膜を用いたアモルファス水素添加炭素膜を形成すること
が開示されている。これは、スライダ加工プロセス時に
磁気ヘッドを保護するとともに、磁気記録装置の使用中
に磁気ヘッドを摩耗および腐食から保護することを目的
としたものである。
【０００５】特開平４−３０２８８０号公報に高硬度の
保護膜を有する磁気ヘツドスライダについて開示されて
いる。これはスライダ摺動面にＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 −Ｙ
2 Ｏ3 或いは、ＭｇＯ−ＳｉＯ2 のいずれかの系からな
る保護膜を形成したものである。
保護膜を有する磁気ヘツドスライダについて開示されて
いる。これはスライダ摺動面にＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 −Ｙ
2 Ｏ3 或いは、ＭｇＯ−ＳｉＯ2 のいずれかの系からな
る保護膜を形成したものである。
【０００６】特開昭５８−１５０１２２号公報には耐摩
擦特性、摩耗特性を向上させる目的で、スライダ上に潤
滑作用を有する薄膜を形成することが開示されている。
材料としてはカーボンやＭｏＳ2 などが記載されてい
る。
擦特性、摩耗特性を向上させる目的で、スライダ上に潤
滑作用を有する薄膜を形成することが開示されている。
材料としてはカーボンやＭｏＳ2 などが記載されてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述のように高記録密
度を達成するためには、スペーシングの狭小化が不可欠
であり、媒体保護膜については薄膜化が進んでいる。ス
ライダ保護膜についてもその厚さは直接スペーシングの
ロスにつながるため、薄膜化は必須となる。
度を達成するためには、スペーシングの狭小化が不可欠
であり、媒体保護膜については薄膜化が進んでいる。ス
ライダ保護膜についてもその厚さは直接スペーシングの
ロスにつながるため、薄膜化は必須となる。
【０００８】しかしながら、従来技術に記載されたスラ
イダ保護膜では、薄膜化が困難であるという問題点があ
った。例えば、特開平４−３６４２１７号公報に記載さ
れた保護被膜を有する磁気ヘッドスライダーでは、アモ
ルファス水素添加炭素膜とスライダ材料との密着性が不
十分であるため、密着性を確保するためにシリコンの接
着層を設けなければならない。シリコン接着層の膜厚は
１０〜５０オングストローム（以後、Ａと略す）と記載
されている。また、特開平４−３０２８８０号公報では
保護被膜の厚さは２００〜５００Ａと記載されている。
特開昭５８−１５０１２２号公報では、スライダ上の薄
膜の厚さは２００〜８００Ａと記載されている。低スペ
ーシングが要求される現在では実用的な厚さとは言えな
い。
イダ保護膜では、薄膜化が困難であるという問題点があ
った。例えば、特開平４−３６４２１７号公報に記載さ
れた保護被膜を有する磁気ヘッドスライダーでは、アモ
ルファス水素添加炭素膜とスライダ材料との密着性が不
十分であるため、密着性を確保するためにシリコンの接
着層を設けなければならない。シリコン接着層の膜厚は
１０〜５０オングストローム（以後、Ａと略す）と記載
されている。また、特開平４−３０２８８０号公報では
保護被膜の厚さは２００〜５００Ａと記載されている。
特開昭５８−１５０１２２号公報では、スライダ上の薄
膜の厚さは２００〜８００Ａと記載されている。低スペ
ーシングが要求される現在では実用的な厚さとは言えな
い。
【０００９】このように、従来技術に記載されたスライ
ダ保護膜ではスライダ保護膜の薄膜化が困難であった。
本発明の目的は、機械的耐久性に優れた薄型の磁気ヘッ
ドスライダ保護膜を提供するものである。
ダ保護膜ではスライダ保護膜の薄膜化が困難であった。
本発明の目的は、機械的耐久性に優れた薄型の磁気ヘッ
ドスライダ保護膜を提供するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題点に
鑑みて提案されたもので、この問題点を解決するための
技術的手段は、スパッタリング法などの成膜方法によ
り、磁気ヘッドスライダの空気支持面にＴａから成る薄
膜を成膜し、酸化雰囲気中１００〜３００℃で熱処理を
施すことにより、少なくとも最外層がＴａＯx 膜（ｘ＝
１．８〜２．５）となるような膜を形成し、磁気ヘッド
スライダ保護被膜とすることである。
鑑みて提案されたもので、この問題点を解決するための
技術的手段は、スパッタリング法などの成膜方法によ
り、磁気ヘッドスライダの空気支持面にＴａから成る薄
膜を成膜し、酸化雰囲気中１００〜３００℃で熱処理を
施すことにより、少なくとも最外層がＴａＯx 膜（ｘ＝
１．８〜２．５）となるような膜を形成し、磁気ヘッド
スライダ保護被膜とすることである。
【００１１】この保護被膜は、膜全体がＴａＯx 膜
（１．８≦ｘ≦２．５）であっても良いし、スライダと
の接触面がＴａ膜もしくは酸素含有率の少ないＴａＯx
膜（０＜ｘ＜１．８）であってもよい。いずれにしても
酸化被膜全体として２０Ａあれば十分な耐磨耗性が得ら
れる。また膜厚が厚くなれば耐磨耗性は向上するが低ス
ペーシングの要望を満足するために１００Ａ程度が好適
である。
（１．８≦ｘ≦２．５）であっても良いし、スライダと
の接触面がＴａ膜もしくは酸素含有率の少ないＴａＯx
膜（０＜ｘ＜１．８）であってもよい。いずれにしても
酸化被膜全体として２０Ａあれば十分な耐磨耗性が得ら
れる。また膜厚が厚くなれば耐磨耗性は向上するが低ス
ペーシングの要望を満足するために１００Ａ程度が好適
である。
【００１２】また、酸化雰囲気中の熱処理温度は、１０
０℃より低い温度であるとＴａの酸化が進行せず、３０
０℃以上であると酸化被膜下の磁気ヘッド部分が劣化す
るため適当でない。
０℃より低い温度であるとＴａの酸化が進行せず、３０
０℃以上であると酸化被膜下の磁気ヘッド部分が劣化す
るため適当でない。
【００１３】
【作用】Ｔａ膜やＴａＯx 膜がセラミックス薄膜（Ａｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣ、窒化シリコン、チタン酸カルシウム
等）、強化ガラス、石英ガラス、カーボン、フェライト
等と密着性がよいことは特開平３−２４８３４３号公
報、Ｓ６３−２９２４１７号公報等で知られている。し
かし、これら公報においては磁気ヘッドの保護被膜とし
て最も重要な要素である耐磨耗性については全く考慮さ
れていない。本発明はＴａＯx 膜が薄膜化しても密着性
・耐磨耗性ともに優れていることを鑑みてなされたもの
である。
2 Ｏ3 −ＴｉＣ、窒化シリコン、チタン酸カルシウム
等）、強化ガラス、石英ガラス、カーボン、フェライト
等と密着性がよいことは特開平３−２４８３４３号公
報、Ｓ６３−２９２４１７号公報等で知られている。し
かし、これら公報においては磁気ヘッドの保護被膜とし
て最も重要な要素である耐磨耗性については全く考慮さ
れていない。本発明はＴａＯx 膜が薄膜化しても密着性
・耐磨耗性ともに優れていることを鑑みてなされたもの
である。
【００１４】本発明の技術手段によれば、磁気ヘッドス
ライダの磁気ディスクと対向し、接触する面つまり空気
支持面は高い硬度を有し長期にわたり磁気ヘッドを保護
するとともに、優れた機械的耐久性を示す。保護被膜を
設けることによるスペーシングロスが従来のスライダ保
護被膜と比較して少ないため、磁気ディスク装置のスラ
イダ保護膜として適している。
ライダの磁気ディスクと対向し、接触する面つまり空気
支持面は高い硬度を有し長期にわたり磁気ヘッドを保護
するとともに、優れた機械的耐久性を示す。保護被膜を
設けることによるスペーシングロスが従来のスライダ保
護被膜と比較して少ないため、磁気ディスク装置のスラ
イダ保護膜として適している。
【００１５】
【実施例】以下、本発明について図に示す実施例によっ
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００１６】図１は本発明に係る磁気ヘッドスライダを
示す断面図である。磁気ヘッドスライダ４の少なくとも
空気支持面２上に、スライダ保護被膜１としてＴａＯx
膜（ｘ＝１．８〜２．５）が成膜されている。
示す断面図である。磁気ヘッドスライダ４の少なくとも
空気支持面２上に、スライダ保護被膜１としてＴａＯx
膜（ｘ＝１．８〜２．５）が成膜されている。
【００１７】本発明の実施例を、図２に示す形状の磁気
ヘッドスライダ４に本発明によるスライダ保護被膜を適
用した一例をもとに説明する。
ヘッドスライダ４に本発明によるスライダ保護被膜を適
用した一例をもとに説明する。
【００１８】まず、本発明によるスライダ保護被膜の作
成方法について示す。スライダ保護被膜の成膜はスパッ
タリング法、蒸着法などにより成膜したＴａ膜を酸化雰
囲気中で熱処理を施すことにより形成される。例えば、
Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体を基板に用いて高周波マグネ
トロンスパッタリング法により成膜する場合、スパッタ
ガスは水素ガスを５％含むアルゴンガス、ガス圧は約
１．６Ｐａ、投入電力３００Ｗの条件で成膜し、大気中
約１００〜３００の温度で熱処理を行う。熱処理時間は
熱処理温度により異なるが２〜１６時間の範囲で変化さ
せる。図３に熱処理温度２００で成膜したＴａ膜の時間
に対する酸化量をＴａＯｘ膜の深さで示す。酸化時間８
時間でＴａ膜は５０Ａ程度酸化される。その後スライダ
形状に加工を施すことにより図１に示した、磁気ヘッド
スライダ４の少なくとも空気支持面２上にＴａからなる
スライダ保護膜１を有する磁気ヘッドスライダが得られ
る。この方法により作成されるＴａ酸化膜の組成は、Ｔ
ａＯx 、ｘ＝１．８〜２．５であり、Ａｌ2 Ｏ3 −Ｔｉ
Ｃ焼結体基板と良好な密着性が保たれる。
成方法について示す。スライダ保護被膜の成膜はスパッ
タリング法、蒸着法などにより成膜したＴａ膜を酸化雰
囲気中で熱処理を施すことにより形成される。例えば、
Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体を基板に用いて高周波マグネ
トロンスパッタリング法により成膜する場合、スパッタ
ガスは水素ガスを５％含むアルゴンガス、ガス圧は約
１．６Ｐａ、投入電力３００Ｗの条件で成膜し、大気中
約１００〜３００の温度で熱処理を行う。熱処理時間は
熱処理温度により異なるが２〜１６時間の範囲で変化さ
せる。図３に熱処理温度２００で成膜したＴａ膜の時間
に対する酸化量をＴａＯｘ膜の深さで示す。酸化時間８
時間でＴａ膜は５０Ａ程度酸化される。その後スライダ
形状に加工を施すことにより図１に示した、磁気ヘッド
スライダ４の少なくとも空気支持面２上にＴａからなる
スライダ保護膜１を有する磁気ヘッドスライダが得られ
る。この方法により作成されるＴａ酸化膜の組成は、Ｔ
ａＯx 、ｘ＝１．８〜２．５であり、Ａｌ2 Ｏ3 −Ｔｉ
Ｃ焼結体基板と良好な密着性が保たれる。
【００１９】次に、本発明により作成したスライダ保護
膜の硬度および機械的耐久性の実験につき図４および図
５を用いて説明する。図４にＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体
基板上に作成したＴａＯx 膜の硬度を保護膜を設けない
基板の硬度と比較して示す。ＴａＯx 膜の厚さは５０Ａ
である。図４に示したようにＴａＯx 膜の硬度は、ｘ＝
１．８〜２．５の範囲においてＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結
体基板の硬度と比較して高硬度であり、最大３０ＧＰａ
硬度が大きい。このように、ＴａＯx 膜がスライダ保護
被膜として設けることにより磁気ヘッドスライダのディ
スクと摺動する面は高い硬度を有するように形成でき
る。そのため、磁気ヘッド５は長期にわたる接触摺動か
ら保護される。
膜の硬度および機械的耐久性の実験につき図４および図
５を用いて説明する。図４にＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体
基板上に作成したＴａＯx 膜の硬度を保護膜を設けない
基板の硬度と比較して示す。ＴａＯx 膜の厚さは５０Ａ
である。図４に示したようにＴａＯx 膜の硬度は、ｘ＝
１．８〜２．５の範囲においてＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結
体基板の硬度と比較して高硬度であり、最大３０ＧＰａ
硬度が大きい。このように、ＴａＯx 膜がスライダ保護
被膜として設けることにより磁気ヘッドスライダのディ
スクと摺動する面は高い硬度を有するように形成でき
る。そのため、磁気ヘッド５は長期にわたる接触摺動か
ら保護される。
【００２０】前記基板を磁気ヘッドスライダの形状に加
工したスライダを用い、つまり第１図に示した磁気ヘッ
ドスライダを用いて、５万回のＣＳＳ試験を実施した結
果を図５に示す。図に示すように良好なＣＳＳ耐久性を
示した。また、媒体の損傷、スライダ保護膜の損傷およ
び剥離は確認されなかった。このように、本発明による
スライダ保護被膜をせいぜい５０Ａ程度設けることによ
り、磁気ヘッドスライダの空気支持面の耐摩耗性を高め
ることができ、良好な機械的耐久性が確保できる。
工したスライダを用い、つまり第１図に示した磁気ヘッ
ドスライダを用いて、５万回のＣＳＳ試験を実施した結
果を図５に示す。図に示すように良好なＣＳＳ耐久性を
示した。また、媒体の損傷、スライダ保護膜の損傷およ
び剥離は確認されなかった。このように、本発明による
スライダ保護被膜をせいぜい５０Ａ程度設けることによ
り、磁気ヘッドスライダの空気支持面の耐摩耗性を高め
ることができ、良好な機械的耐久性が確保できる。
【００２１】次に、本発明の他の実施例として、表１に
示した熱酸化時間の異なる試料について、ＣＳＳ回数２
万回のＣＳＳ耐久性試験を実施した結果により説明す
る。各試料において保護被膜は、Ｔａ膜の厚さを１００
Ａとし、異なる熱酸化時間により作成された。各酸化時
間に対するＴａＯx （ｘ＝１．８〜２．５）膜の厚さは
表に示すように、２０〜５０Ａである。保護被膜はスラ
イダ基板に近いほど酸素含有量が少ない状態にあり、基
板との接触面での保護被膜の組成はＴａＯx （０≦ｘ＜
１．８）である。第１表に示すように、いずれの場合も
摩擦係数の増加が少なく、良好なＣＳＳ耐久性を示し
た。また、いずれの場合も、媒体保護膜損傷、スライダ
保護被膜損傷および剥離等は認められなかった。少なく
ともスライダ空気支持面の最外面にＴａＯx （ｘ＝１．
８〜２．５）が形成されることにより、十分な耐久性を
確保することができる。
示した熱酸化時間の異なる試料について、ＣＳＳ回数２
万回のＣＳＳ耐久性試験を実施した結果により説明す
る。各試料において保護被膜は、Ｔａ膜の厚さを１００
Ａとし、異なる熱酸化時間により作成された。各酸化時
間に対するＴａＯx （ｘ＝１．８〜２．５）膜の厚さは
表に示すように、２０〜５０Ａである。保護被膜はスラ
イダ基板に近いほど酸素含有量が少ない状態にあり、基
板との接触面での保護被膜の組成はＴａＯx （０≦ｘ＜
１．８）である。第１表に示すように、いずれの場合も
摩擦係数の増加が少なく、良好なＣＳＳ耐久性を示し
た。また、いずれの場合も、媒体保護膜損傷、スライダ
保護被膜損傷および剥離等は認められなかった。少なく
ともスライダ空気支持面の最外面にＴａＯx （ｘ＝１．
８〜２．５）が形成されることにより、十分な耐久性を
確保することができる。
【００２２】
【表１】
【００２３】なお、本発明の実施例としてＡｌ2 Ｏ3 −
ＴｉＣの焼結体をスライダ材料とした場合について記述
したが、本発明はこれに限定されるものではなく、窒化
シリコン、カーボン、フェライト、チタン酸カルシウム
などの他の材質から成るスライダについても密着性の面
で問題はなく、本実施例と同様の効果が得られる。ま
た、本発明の効果は図１に示した形状のスライダに限定
されず、磁気ディスクとの接触摺動面を有する磁気ヘッ
ドスライダについてその形状によることなく同様の効果
が得られることは明かである。
ＴｉＣの焼結体をスライダ材料とした場合について記述
したが、本発明はこれに限定されるものではなく、窒化
シリコン、カーボン、フェライト、チタン酸カルシウム
などの他の材質から成るスライダについても密着性の面
で問題はなく、本実施例と同様の効果が得られる。ま
た、本発明の効果は図１に示した形状のスライダに限定
されず、磁気ディスクとの接触摺動面を有する磁気ヘッ
ドスライダについてその形状によることなく同様の効果
が得られることは明かである。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ス
ライダ保護被膜を設けることによるスペーシングロスを
抑え、機械的耐久性に優れた磁気ヘッドスライダを得る
ことができ、磁気ディスク装置の機械的信頼性を向上す
ることができる。
ライダ保護被膜を設けることによるスペーシングロスを
抑え、機械的耐久性に優れた磁気ヘッドスライダを得る
ことができ、磁気ディスク装置の機械的信頼性を向上す
ることができる。
【図１】本発明に係る磁気ヘッドスライダの一実施例を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】本発明を適用した磁気ヘッドスライダの斜視図
である。
である。
【図３】本発明による保護被膜の成膜条件を示す線図で
ある。
ある。
【図４】本発明による保護被膜の実験結果の一例を示す
線図である。
線図である。
【図５】本発明の一実施例を示す線図である。
１ 保護被膜 ２ 空気支持面 ３ 傾斜面 ４ 磁気ヘッドスライダ ５ 磁気ヘッド
Claims (3)
- 【請求項１】空気支持面上に保護被膜を有する磁気ヘッ
ドスライダであって、前記保護被膜の少なくとも最外面
がＴａＯx （但しｘ＝１．８〜２．５）なる組成である
ことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項２】保護被膜の膜厚が２０〜１００オングスト
ロームであることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッ
ドスライダ。 - 【請求項３】磁気ヘッドスライダの空気支持面上にＴａ
膜を成膜した後、酸化雰囲気中１００〜３００℃で熱処
理することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32072894A JPH08180352A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | 磁気ヘッドスライダとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32072894A JPH08180352A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | 磁気ヘッドスライダとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08180352A true JPH08180352A (ja) | 1996-07-12 |
Family
ID=18124661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32072894A Pending JPH08180352A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | 磁気ヘッドスライダとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08180352A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2747082A3 (en) * | 2012-12-21 | 2014-12-03 | Seagate Technology LLC | Magnetic devices with variable overcoats |
| US10049689B2 (en) | 2015-08-27 | 2018-08-14 | Seagate Technology Llc | Methods of forming magnetic devices with variable overcoats |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6323215A (ja) * | 1986-07-16 | 1988-01-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPH04302880A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-26 | Minebea Co Ltd | 浮動型磁気ヘッドスライダ |
| JPH04308085A (ja) * | 1991-04-04 | 1992-10-30 | Sharp Corp | スパッタリング装置 |
-
1994
- 1994-12-22 JP JP32072894A patent/JPH08180352A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6323215A (ja) * | 1986-07-16 | 1988-01-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPH04302880A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-26 | Minebea Co Ltd | 浮動型磁気ヘッドスライダ |
| JPH04308085A (ja) * | 1991-04-04 | 1992-10-30 | Sharp Corp | スパッタリング装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2747082A3 (en) * | 2012-12-21 | 2014-12-03 | Seagate Technology LLC | Magnetic devices with variable overcoats |
| US9792935B2 (en) | 2012-12-21 | 2017-10-17 | Seagate Technology Llc | Magnetic devices with variable overcoats |
| US10049689B2 (en) | 2015-08-27 | 2018-08-14 | Seagate Technology Llc | Methods of forming magnetic devices with variable overcoats |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980113 |