JPH10189408A

JPH10189408A - 露光装置及び露光方法

Info

Publication number: JPH10189408A
Application number: JP8356773A
Authority: JP
Inventors: Norihiko Hara; 典彦原; Toshihiro Katsume; 智弘勝目
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1996-12-27
Filing date: 1996-12-27
Publication date: 1998-07-21

Abstract

(57)【要約】【課題】簡素な構成にも関わらず、効果的に基板の周
縁部露光を行うことのできる露光装置を提供する。【解決手段】パターン露光用の照明光が、複数の遮光
板２０１ａ、２０１ｂを通過することにより整形されて
角形基板６２に到達するので、別個に周縁露光装置を設
けることなく、前記角形基板６２上の周縁部のみを露光
することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば液晶表示
パネル等を製造するための角形基板を露光する露光装置
に関し、特に角形基板の周縁部を露光用照明光で照射し
て、その部分の感光層を事前に感光させる機能を備えた
露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報可視化の流れにのり、電卓、
ワープロ、パソコン、携帯テレビ等の表示素子として、
液晶表示パネルが多用されるようになってきている。液
晶表示パネルは、ガラス基板上に透明薄膜電極をフォト
リソグラフィの手法で所望の形状にパターニングして形
成される。このリソグラフィのための装置として、マス
ク上に形成された原画パターンを投影露光系を介してガ
ラス基板上のフォトレジスト層に露光するステッパやミ
ラープロジェクション方式のアライナが使われている。
被露光基板としてのガラス基板は年々大型化し、最近で
は５００ｍｍ×５００ｍｍ程度のサイズのものまで用意
されている。

【０００３】ステッパやアライナは、そのガラス基板の
ほぼ全面に同一のマスクパターンを複数回露光するが、
通常、ガラス基板の周縁部は数ミリ程度の余白を形成す
るように各マスクパターンの露光位置が決められる。こ
のためリソグラフィ工程でポジ型のレジストを使うと、
現像処理のあとではガラス基板の周縁部（余白部）には
未露光によるレジストが残存することになる。ところ
が、この残存レジストは、その塗布時にガラス基板の端
部にも回り込んで（だれて）付着することがある。する
と以降のプロセスにおいて、ガラス基板の端部が何らか
のストッパと接触したようなとき、その端部のレジスト
が剥離して発塵するという恐れが生じる。また、ガラス
基板の端部以外のレジスト塗布面上の周縁部に残ったレ
ジストがプロセス中に悪影響を及ぼすこともあり、プロ
セスの都合上、周縁部のレジストを除去しておきたいと
いう要求もある。

【０００４】このような問題点は、半導体ウエハすなわ
ち半導体基板を扱うリソグラフィ工程では以前から注目
されており、現像処理の前に基板の周縁部のみを一定の
幅でレジスト除去のため露光（周縁露光）するという試
みが多数提案されている。基板の場合には、その外形が
円形であることから、基板をほぼ偏心なく回転させつ
つ、基板周縁部に露光用照明光を１〜５ｍｍ程度の幅で
照射することによって事前露光を行っている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】一方、角形基板の周縁
部を露光する従来技術としては、たとえばマスクに描か
れたパターン外の帯状部を角形基板の周縁部に焼き付け
る方法や、特開平４−２８３７２６号に開示されている
ように、パターン露光装置とは別に周縁部露光用の露光
装置（機構）を設け、別個に周縁部露光を行う方法等が
ある。

【０００６】しかしながら、かかる従来技術による周縁
部露光において、前者の技術によるならば、マスクパタ
ーン個々に帯状部が異なるため、それを用いるとすると
感光基板周縁部の露光のためのパターン幅が異なってし
まい、必要なパターン幅を自由に選択できないという問
題点がある。一方、後者の技術によるならば、パターン
露光用のステージとは別に直進移動ユニットやスポット
照射系等を備えた周縁部露光専用の装置が必要となり、
露光装置全体の大型化や製造コストの増大を招くという
問題点がある。

【０００７】本願発明は、簡素な構成にも関わらず、効
果的に基板の周縁部露光を行うことのできる露光装置を
提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく、
本願発明の露光装置は、パターンが形成されたマスク
（６０）に対して照明光（ＩＬ）を照射し、マスク（６
０）のパターンの像を投影光学系（ＰＬ）を介して角形
基板（６２）上の感光層に露光する露光装置において、
複数の遮光板（２０１ａ、２０１ｂ；３０１ａ、３０１
ｂ、３０１ｃ；４０１ａ、４０１ｂ）により形成された
遮光部と、前記照明光（ＩＬ）の透過形状を整形するた
めに前記遮光板（２０１ａ、２０１ｂ；３０１ａ、３０
１ｂ、３０１ｃ；４０１ａ、４０１ｂ）を駆動する遮光
板駆動部（２０２ａ、２０２ｂ；３０２ａ、３０２ｂ、
３０２ｃ；４０２ａ、４０２ｂ、４０４ａ、４０４ｂ）
と、前記角形基板（６２）を支持し、前記投影光学系
（ＰＬ）の光軸に対して直交する方向に移動可能なステ
ージ（１２）と、前記遮光部を透過した照明光（ＩＬ）
が前記角形基板（６２）の周縁部を露光するように前記
ステージ（１２）を駆動するステージ駆動部（２０）と
を有することを特徴とする。

【０００９】かかる本願発明の露光装置によれば、前記
照明光（ＩＬ）が、前記遮光部を透過することにより整
形されて前記基板（６２）の周縁部に到達するので、別
個に周縁露光装置を設けることなく、前記角形基板（６
２）上の周縁部のみを露光することができる。

【００１０】更に上記目的を達成すべく、本願発明の露
光方法は、パターンが形成されたマスク（６０）に対し
て照明光（ＩＬ）を照射し、前記マスク（６０）のパタ
ーンの像を投影光学系（ＰＬ）を介して角形基板（６
２）上の感光層に露光する露光装置を用いた露光方法に
おいて、前記照明光（ＩＬ）の透過形状を整形するため
に、前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する方
向に２枚の遮光板（２０１ａ、２０１ｂ）を駆動する第
１駆動ステップと、前記第１駆動ステップにより整形さ
れた透過照明光（ＩＬ）が、前記角形基板（６２）の一
周縁部を照射するように、前記角形基板（６２）を前記
投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する方向に移動
させる移動ステップと、前記移動ステップにより移動し
た前記角形基板（６２）の一周縁部を前記照明光（Ｉ
Ｌ）により露光する露光ステップと、前記整形された透
過照明光（ＩＬ）が、前記露光ステップより露光された
一周縁部と隣り合う別の一周縁部を照射するように、前
記角形基板（６２）を前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に
対して直交する面内で回転させる第２駆動ステップとを
有することを特徴とする。

【００１１】かかる本願発明の露光方法によれば、前記
照明光（ＩＬ）を、前記２枚の遮光板（２０１ａ、２０
１ｂ）を通過させて整形しその後前記基板（６２）の周
縁部に到達するようにするので、別個に周縁露光装置を
用いることなく、前記角形基板（６２）上の周縁部のみ
を露光することができる。また、角形基板（６２）を回
転させることにより、露光された周縁部に隣り合う周縁
部にも整形された照明光が到達するようになる。

【００１２】更に上記目的を達成すべく、本願発明の露
光方法は、パターンが形成されたマスク（６０）に対し
て照明光（ＩＬ）を照射し、前記マスク（６０）のパタ
ーンの像を投影光学系（ＰＬ）を介して角形基板（６
２）上の感光層に露光する露光装置を用いた露光方法に
おいて、前記照明光（ＩＬ）の透過形状を整形するため
に、前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する方
向に３枚の遮光板（３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃ）を
駆動する第１駆動ステップと、前記第１駆動ステップに
より整形された透過照明光（ＩＬ）が、前記角形基板
（６２）の二周縁部を同時に照射するように、前記角形
基板（６２）を前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して
直交する方向に移動させる移動ステップと、前記移動ス
テップにより移動した前記角形基板（６２）の二周縁部
を前記照明光（ＩＬ）により露光する露光ステップと、
前記整形された透過照明光（ＩＬ）が、前記露光ステッ
プより露光された二周縁部とそれぞれ隣り合う別の二周
縁部を同時に照射するように、前記角形基板（６２）を
前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する面内で
回転させる第２駆動ステップとを有することを特徴とす
る。

【００１３】かかる本願発明の露光方法によれば、前記
照明光（ＩＬ）を、前記３枚の遮光板（３０１ａ、３０
１ｂ、３０１ｃ）を通過させて整形し、それにより２束
の照明光（ＩＬ）が前記基板（６２）の周縁部に到達す
るようにするので、一度に前記角形基板（６２）上の２
つの周縁部を露光することができ、効率を上げることが
できる。

【００１４】更に上記目的を達成すべく、本願発明の露
光方法は、パターンが形成されたマスク（６０）に対し
て照明光（ＩＬ）を照射し、前記マスク（６０）のパタ
ーンの像を投影光学系（ＰＬ）を介して角形基板（６
２）上の感光層に露光する露光装置を用いた露光方法に
おいて、前記照明光（ＩＬ）の透過形状を、前記角形基
板（６２）の一周縁部に沿った形となるように整形する
ために、前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交す
る方向に２枚の遮光板（４０１ａ、４０１ｂ）を駆動す
る第１駆動ステップと、前記第１駆動ステップにより整
形された透過照明光（ＩＬ）が、前記角形基板（６２）
の一周縁部を照射するように、前記角形基板（６２）を
前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する方向に
相対移動させる第１移動ステップと、前記移動ステップ
により移動した前記角形基板（６２）の一周縁部を前記
照明光（ＩＬ）により露光する露光ステップと、前記照
明光（ＩＬ）の透過形状を、前記角形基板（６２）の一
周縁部に隣り合う別の一周縁部に沿った形となるように
整形するために、前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対し
て直交する方向に２枚の遮光板を駆動する第２駆動ステ
ップと、前記第２駆動ステップにより整形された透過照
明光（ＩＬ）が、前記露光ステップより露光された一周
縁部と隣り合う別の一周縁部を照射するように、前記角
形基板（６２）を前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対し
て直交する方向に駆動する第２移動ステップとを有する
ことを特徴とする。

【００１５】かかる本願発明の露光方法によれば、まず
前記照明光（ＩＬ）を、前記２枚の遮光板（４０１ａ、
４０１ｂ）を通過させて前記角形基板（６２）の一周縁
部に沿った形に整形しその周縁部に到達するようにし、
その後前記２枚の遮光板（４０１ａ、４０１ｂ）を通過
する照明光（ＩＬ）が前記角形基板（６２）の露光され
た周縁部と隣り合う周縁部に到達するように、前記２枚
の遮光板（４０１ａ、４０１ｂ）を前記投影光学系（Ｐ
Ｌ）の光軸に直交する方向に駆動できるので、別個に周
縁露光装置を用いることなく、かつ基板（６２）を回転
させることなく、前記角形基板（６２）上の全周縁部を
露光することができる。

【００１６】更に上記目的を達成すべく、本願発明の露
光方法は、パターンが形成されたマスク（６０）に対し
て照明光（ＩＬ）を照射し、前記マスク（６０）のパタ
ーンの像を投影光学系（ＰＬ）を介して角形基板（６
２）上の感光層に露光する露光装置を用いた露光方法に
おいて、前記照明光（ＩＬ）の透過形状を整形するため
に、前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する方
向に２枚の遮光板（２０１ａ、２０１ｂ）を駆動する第
１駆動ステップと、前記第１駆動ステップにより整形さ
れた透過照明光（ＩＬ）が、前記角形基板（６２）の一
周縁部を照射するように、前記角形基板（６２）を前記
投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する方向に移動
させる移動ステップと、前記移動ステップにより移動し
た前記角形基板（６２）の一周縁部を前記照明光（Ｉ
Ｌ）により露光する露光ステップと、前記整形された透
過照明光（ＩＬ）が、前記露光ステップより露光された
一周縁部と隣り合う別の一周縁部を照射するように、前
記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する面内で前
記遮光板（２０１ａ、２０１ｂ）を回転させる第２駆動
ステップとを有することを特徴とする。

【００１７】かかる本願発明の露光方法によれば、前記
照明光（ＩＬ）を、前記２枚の遮光板（２０１ａ、２０
１ｂ）を通過させて前記角形基板（６２）の一周縁部に
沿った形に整形しその周縁部に到達するようにし、その
後前記２枚の遮光板（２０１ａ、２０１ｂ）を通過する
照明光（ＩＬ）が前記角形基板（６２）の露光された周
縁部と隣り合う周縁部に到達するように、前記２枚の遮
光板を前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に直交する面内で
回転できるので、別個に周縁露光装置を用いることな
く、かつ前記角形基板（６２）を回転させることなく、
前記角形基板（６２）上の全周縁部を露光することがで
きる。

【００１８】更に上記目的を達成すべく、本願発明の露
光装置は、パターンが形成されたマスク（６０）に対し
て照明光（ＩＬ）を照射し、マスク（６０）のパターン
の像を投影光学系（ＰＬ）を介して角形基板（６２）上
の感光層に露光する露光装置において、複数の遮光板
（２０１ａ、２０１ｂ；３０１ａ、３０１ｂ、３０１
ｃ；４０１ａ、４０１ｂ）により形成された遮光部と、
前記照明光（ＩＬ）の透過形状を整形するために前記遮
光板（２０１ａ、２０１ｂ；３０１ａ、３０１ｂ、３０
１ｃ；４０１ａ、４０１ｂ）を駆動する遮光板駆動部
（２０２ａ、２０２ｂ；３０２ａ、３０２ｂ、３０２
ｃ；４０２ａ、４０２ｂ、４０４ａ、４０４ｂ）と、前
記角形基板（６２）を支持し、前記投影光学系（ＰＬ）
の光軸に対して直交する方向に移動可能なステージ（１
２）と、前記遮光部を透過した照明光（ＩＬ）が前記角
形基板（６２）の一周縁部を露光するように前記ステー
ジ（１２）を駆動するステージ駆動部（２０）と、前記
遮光部を透過した照明光（ＩＬ）が前記角形基板（６
２）の別の周縁部を露光するように前記遮光板を回転す
る遮光板回転部とを有することを特徴とする。

【００１９】かかる本願発明の露光装置によれば、前記
照明光（ＩＬ）を、前記遮光部を透過させて前記角形基
板（６２）の一周縁部に沿った形に整形しその周縁部に
到達するようにし、その後前記遮光部を透過する照明光
（ＩＬ）が前記角形基板（６２）の露光された周縁部と
隣り合う周縁部に到達するように、前記複数の遮光板
（２０１ａ、２０１ｂ；３０１ａ、３０１ｂ、３０１
ｃ；４０１ａ、４０１ｂ）を前記投影光学系（ＰＬ）の
光軸に直交する面内で回転できるので、別個に周縁露光
装置を設けることなく、かつ前記角形基板（６２）を回
転させることなく、前記角形基板（６２）上の全周縁部
を露光することができる。

【００２０】更に上記目的を達成すべく、本願発明の露
光方法は、パターンが形成されたマスク（６０）に対し
て照明光（ＩＬ）を照射し、前記マスク（６０）のパタ
ーンの像を投影光学系（ＰＬ）を介して角形基板（６
２）上の感光層に露光する露光装置を用いた露光方法に
おいて、前記照明光（ＩＬ）の透過形状を整形するため
に、前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する方
向に２枚の遮光板（２０１ａ、２０２ｂ）を駆動する第
１駆動ステップと、前記第１駆動ステップにより整形さ
れた透過照明光（ＩＬ）が、前記角形基板（６２）の第
１周縁部を照射するように、前記角形基板（６２）を前
記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する方向に移
動させる第１移動ステップと、前記移動ステップにより
移動した前記角形基板（６２）の第１周縁部を前記照明
光（ＩＬ）により露光する露光ステップと、前記整形さ
れた透過照明光（ＩＬ）が、前記露光ステップより露光
された第１周縁部と対向する位置にある第２周縁部を照
射するように、前記角形基板（６２）を前記投影光学系
（ＰＬ）の光軸に対して直交する方向に移動する第２移
動ステップと、前記移動ステップにより移動した前記角
形基板（６２）の第２周縁部を前記照明光（ＩＬ）によ
り露光する露光ステップと、前記整形された透過照明光
（ＩＬ）が、前記露光ステップより露光された第２周縁
部と隣り合う第３周縁部を照射するように、前記角形基
板（６２）若しくは前記遮光板（２０１ａ、２０１ｂ）
を前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に直交する面内で回転
し、かつ移動する第３移動ステップと、前記第３移動ス
テップにより移動した前記角形基板（６２）の第３周縁
部を前記照明光（ＩＬ）により露光する露光ステップ
と、前記整形された透過照明光（ＩＬ）が、前記露光ス
テップより露光された第３周縁部と対向する位置にある
第４周縁部を照射するように、前記角形基板（６２）を
前記投影光学系（ＰＬ）の光軸に対して直交する方向に
移動する第３移動ステップと、前記移動ステップにより
移動した前記角形基板（６２）の第４周縁部を前記照明
光（ＩＬ）により露光する露光ステップと、を有するこ
とを特徴とする。

【００２１】かかる本願発明の露光方法によれば、前記
２枚の遮光板（２０１ａ、２０１ｂ）を通過させて整形
した前記照明光（ＩＬ）を、前記角形基板（６２）の４
つの周縁部に当てる順序を最適にすることにより、前記
角形基板（６２）上の全周縁部を露光するに必要な時間
を少なくすることができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１の実施形態
に係わる露光装置の概略構成を示す図である。この露光
装置は、図１における紙面直交面内（ＸＹ平面内）を２
次元的に移動する基板ステージ１２と、投影光学系とし
ての投影レンズＰＬの上方に配置されたマスク（レチク
ル）６０のパターンの像を、角形感光基板としての基板
６２上に投影する投影レンズＰＬと、露光光ＩＬを射出
する露光用の光源１４と、露光光ＩＬをマスク６０上に
照射する照明光学系と、基板の周縁部を露光するための
遮光板２０１ａ、２０１ｂ；３０１ａ、３０１ｂ、３０
１ｃ；４０１ａ、４０１ｂと、これらの遮光板を駆動す
る駆動手段（遮光板駆動部）としてのアクチュエータ２
０２ａ、２０２ｂ；３０２ａ、３０２ｂ、３０２ｃ；４
０２ａ、４０２ｂ、４０４ａ、４０４ｂと、これらを制
御する主制御系２２と、基板アライメント及びベースラ
インチェックを行うための基板アライメント系１００
と、マスクアライメント及びベースラインチェックを行
うためのＴＴＲアライメント系１０１等を設けている。
投影レンズＰＬは、その光軸ＡＸが基板ステージ１２の
移動方向に直交するように配置されている。

【００２３】基板ステージ１２には図示しないモータを
含んで構成されるステージ駆動部２０が併設されてい
る。この基板ステージ１２の移動は、光波干渉計２７が
移動鏡２６の移動を計測することにより検出される。な
お、図示しないが光波干渉計２７は、ステージのＸ、Ｙ
座標軸上の移動を計測するために、Ｘ、Ｙ座標軸上に２
つ設けられている。主制御系２２は、この光波干渉計２
６の出力に基づいてステージ駆動部２０を駆動制御す
る。これにより、基板ステージ１２はＸ、Ｙ座標軸上を
２次元移動できる構成となっている。この基板ステージ
１２上には基板ホルダ２４が設けられており、基板ホル
ダ２４上に基板６２が真空吸着により保持されている。
また、基板ステージ上にダミー露光領域２５及び基準マ
ークＦＭが設けられている。

【００２４】投影レンズＰＬは、本実施の形態において
両側テレセントリックな投影レンズを使用する。この投
影レンズＰＬは、実際には光軸ＡＸ方向（Ｚ軸方向）に
沿って配置されて複数のレンズエレメント（いずれも図
示を省略する。）を含んで構成されている。

【００２５】マスク６０は、投影レンズＰＬの光軸ＡＸ
と直交する面内でＸ、Ｙ、θ方向に微動するマスクステ
ージ２８上に保持されている。尚、このマスク６０のパ
ターン面は、投影レンズＰＬに関して基板６２の表面と
共役となっている。

【００２６】光源１４は、基板上に塗布された感光剤と
してのレジストを感光するため、例えば、超高圧水銀ラ
ンプ、エキシマレーザ（ＫｒＦ、Ａｒｆ）、ＹＡＧレー
ザ等で構成され、ｇ線、ｉ線、エキシマ光（波長２４８
ｎｍ：ＫｒＦ、１９３ｎｍ：ＡｒＦ）、ＹＡＧレー
ザの高調波（波長２００ｎｍ以下）等の露光光ＩＬを発
生する。本実施の形態では、光源１４をｉ線として説明
する。

【００２７】露光光ＩＬをマスク６０上に照明する照射
光学系は、光源１４から出射された露光光ＩＬを反射し
て水平に折り曲げるミラー３０と、このミラー３０によ
り反射された露光光ＩＬの進行方向に向かって順次配置
されたオプチカルインテグレータ（フライアイレンズ）
等を含むフライアイ光学系３２，リレー光学系３４と、
マスク６０の上方にほぼ４５度で斜設されたダイクロイ
ックミラー３６と、このダイクロックミラー３６とマス
ク６０との間に配置されたメインコンデンサーレンズ３
８とを含んで構成されている。光源１４とミラー３０と
の間に、露光光ＩＬの光路を開閉するシャッター４０が
設けられており、このシャッター４０は、シャッター駆
動部４２を介してシャッター制御回路４４によって駆動
されるようになっている。フライアイ光学系３２の射出
面（マスク６０に対するフーリエ変換面）には、照明系
絞り４６が配置されている。フライアイレンズ光学系３
２の射出面は投影レンズＰＬの瞳面と共役に配置されて
いる。

【００２８】又、リレー光学系３４の中には、マスク６
０上の露光光ＩＬの照射面積を可変にするため、ブライ
ンド５２が設けられている。このブラインド５２は、マ
スク６０のパターン面と共役に配置されている。なお、
ブラインド５２はブラインド駆動部５４により駆動さ
れ、このブラインド駆動部５４とブラインド５２によっ
て、マスク６０上の照射面積が設定される。

【００２９】矩形状の遮光板２０１ａ、２０１ｂは、マ
スク６０と投影レンズＰＬとの間に配置され、マスク６
０を透過した露光光ＩＬを遮光する。このとき、後述す
るように被露光基板である角形基板の周縁部の一辺（一
周縁部）を露光するように、アクチュエータ２０２ａ、
２０２ｂは、遮光板２０１ａ、２０１ｂを駆動し、露光
光ＩＬの透過形状を整形する。なお、図２には遮光板２
０１ａ、２０１ｂ及びアクチュエータ２０２ａ、２０２
ｂを上から見た様子が示されており、遮光板２０１ａ、
２０１ｂは、アクチュエータ２０２ａ、２０２ｂにより
同図中の矢印方向に移動可能になっている。

【００３０】基板アライメント系１００及びＴＴＲアラ
イメント系１０１は、アライメント及びベースラインチ
ェックに用いられている。なお、本実施の形態では、図
１に示すようにＴＴＲタイプのアライメント方式を例に
挙げて説明する。ＴＴＲアライメント系１０１は、マス
ク６０の上方に設けられ、ベースラインチェックの際に
マスク６０の回路パターン領域の周縁のマスクマークＲ
Ｍと基板ステージ１２上に設けられた基準マークＦＭと
を同時に検出するための検出用光学系である。基板アラ
イメント系１００は、投影レンズＰＬの周縁に設けた、
いわゆるオフアクシス系を形成している。この基板アラ
イメント系１００系は、基準マークＦＭ及びアライメン
トマーク１１１をベースラインチェック及び基板のアラ
イメントの際に検出するための検出用光学系である。な
お、基板アライメント系１００及びＴＴＲアライメント
系１０１は、図１中で紙面と垂直な方向にも設けられて
おり、マスク６０と基板６２を２次元的にアライメント
あるいはベースラインチェックを行うことができる。

【００３１】ところで、ＴＴＲアライメント系１０１
は、ラインガイド１２０から供給される光束によってマ
スクマークＲＭ及び基準マークＦＭを検出する。このラ
イトガイド１２０は、露光光ＩＬと同一波長の照明光を
供給し、マスクマークＲＭ及び基準マークＦＭに照射す
る。例えば、光源１４から露光光ＩＬをライトガイド１
２０を介してマスク６０及び基準マークＦＭを照射す
る。また、基板アライメント系１００は、ライトガイド
１２１によって供給される光束によって基準マークＦＭ
及びアライメントマーク１１１を検出する。なお、ライ
トガイド１２１は、露光光ＩＬと同一の波長を供給する
必要はなく、ハロゲンランプなどの光源から照明光を供
給する。

【００３２】また、投影レンズＰＬの周縁（投影視野
外）に設けられた基板アライメント系１００は、内部に
基板６２上のアライメントマーク１１１又は基準マーク
ＦＭを検出するために、基準となる指標マークＴＭがガ
ラス板に設けられ、投影像面（基板表面、又は基準マー
クＦＭの面）とほぼ共役に配置されている。基板アライ
メント系１００の光軸は、投影面像側では投影レンズＰ
Ｌの光軸ＡＸと平行である。

【００３３】次に上記構成を有する露光装置が、角形基
板に対して周縁露光を行う動作について、図３を用いて
説明する。図３は、本願発明にかかる露光装置におけ
る、角形基板の周縁露光を示すフローチャートである。
マスク６０がマスクステージに載置されている状態で
も、遮光板間を通過する光を遮らない位置にマスクを退
避させることにより、周縁露光は可能となるが、マスク
ステージからマスクを排除して周縁露光を行うこともも
ちろん可能である。

【００３４】シャッター４０を閉じた状態で、まずステ
ップＳ１０１において、アクチュエータ２０２ａ、２０
２ｂにより遮光板２０１ａ、２０１ｂを駆動して、遮光
板間を通過する光が角形基板の周縁を露光するのに適切
な幅を有するよう、遮光板２０１ａ、２０１ｂの位置を
調整する。この遮光板の間隔が広すぎれば、パターン露
光時に悪影響が及び、一方狭すぎればレジスト除去が不
十分となる。この間隔の設定は、主制御系２２が遮光板
を駆動した際にエンコーダカウント値を計測することに
よって行う。

【００３５】続くステップＳ１０２において、図１に示
す基板６２を載せた基板ステージ１２を移動し、基板の
一周縁部に遮光板間を通過する露光光ＩＬが到達するよ
うにする。上述したようにして、指標マークＴＭに対し
て基準マークＦＭがアライメントされたときの基板ステ
ージ１２の位置を光波干渉計２７により検出できれば、
計算により基板の一縁近傍に露光光ＩＬが到達する位置
までの距離がわかり、それにより基板ステージを適切に
移動することが可能となる。なお、基板の形状は長方形
であるものとする。

【００３６】ステップＳ１０３において、シャッター４
０を開放し、光源１４からの露光光ＩＬを用いて基板の
一周縁部を露光する。このとき、ステップＳ１０１にお
いて遮光板２０１ａ、２０１ｂにより整形され、基板の
一周縁部に到達した露光光ＩＬの露光フィールドは一周
縁部の面積に満たないため、遮光板２０１ａ、２０１ｂ
と基板とを相対的に露光フィールドの長手方向に移動
（走査）させる。アクチュエータ２０２ａ、２０２ｂは
遮光板２０１ａ、２０１ｂを駆動し、ステージ駆動部２
０が基板ステージ１２を駆動する。なお、露光光ＩＬの
露光フィールドが一周縁部の面積以上の時は、一括露光
しても良い。その後シャッター４０を閉じた後、ステッ
プＳ１０４で基板ステージ１２を投影光学系ＰＬの光軸
に対して直交する方向に平行移動させ、露光された基板
の一周縁部と対向する位置にある一周縁部に遮光板間を
通過する露光光ＩＬが到達するようにする。更に、ステ
ップＳ１０５において、再びシャッター４０を開放し、
光源１４からの露光光ＩＬを用いて、ステップＳ１０３
で露光された基板の一周縁部と対向する位置にある一周
縁部をステップＳ１０３と同様にして露光する。その後
シャッター４０を閉じた後、ステップＳ１０６で基板ス
テージ１２を光軸周りに９０度回転させる。

【００３７】ここで、周縁部を露光しようとする基板は
長方形状をしているので、基板ステージ１２を単に９０
度回転しただけでは、露光が終了した周縁部に隣接する
周縁部に対して、遮光板２０１ａ、２０１ｂ間を通過し
た露光光ＩＬが到達しない。そこで、ステップＳ１０７
において、基板ステージ１２を光軸に対して直交する方
向に移動させ、ステップＳ１０５で露光された基板の一
周縁部と隣り合う位置にある一周縁部に遮光板間を通過
する露光光ＩＬを到達させる。ところで、遮光板２０１
ａ、２０１ｂと基板との位置関係は、相対的にある程度
の精度をもって機械的に取り付けられた形で決定されて
いる。そして主制御系２２は、予め記憶している遮光板
と基板との相対位置関係と基板との大きさとから、遮光
板を通過する露光光ＩＬを一周縁部に到達させるべく基
板ステージ１２若しくは遮光板２０１ａ、２０１ｂを駆
動する。更に、ステップＳ１０８において、再びシャッ
ター４０を開放し、光源１４からの露光光ＩＬを用い
て、ステップＳ１０５で露光された基板の一周縁部と隣
接する位置にある一周縁部を露光する。

【００３８】その後シャッター４０を閉じた後、ステッ
プＳ１０９で基板ステージ１２を光軸に対して直交する
方向に平行移動させ、ステップＳ１０８で露光された基
板の一周縁部と対向する位置にある一周縁部に遮光板間
を通過する露光光ＩＬが到達するようにする。更に、ス
テップＳ１１０において、再びシャッター４０を開放
し、光源１４からの露光光ＩＬを用いて、ステップＳ１
０８で露光された基板の一周縁部と対向する位置にある
一周縁部を露光する。その後シャッター４０を閉じて、
角形基板の周縁露光を終了する。

【００３９】次に、角形基板の周縁露光の別な実施の形
態を図４を用いて説明する。図４は、本願発明にかかる
基板の周縁露光の別な実施の形態を示すフローチャート
である。図４の実施の形態は、正方形の基板の周縁露光
に適している。

【００４０】シャッター４０を閉じた状態で、まずステ
ップＳ２０１において、アクチュエータ２０２ａ、２０
２ｂにより遮光板２０１ａ、２０１ｂを投影レンズＰＬ
の光軸に直交する方向に駆動して、遮光板間を通過する
光が角形基板の周縁を露光するに適切な幅を有するよ
う、遮光板２０１ａ、２０１ｂの位置を調整する。

【００４１】続くステップＳ２０２において、基板を載
せた基板ステージ１２を移動し、基板の一周縁部に遮光
板間を通過する露光光ＩＬが到達するようにする。ステ
ップＳ２０３において、シャッター４０を開放し、光源
１４からの露光光ＩＬを用いて基板の一周縁部を露光す
る。なお、本実施の形態においては、一括露光により周
縁露光を行う。正方形の基板を用いているため、その基
板若しくは遮光板の回転動作のみで露光することがで
き、スループットを向上させることができるからであ
る。その後シャッター４０を閉じた後、ステップＳ２０
４で基板ステージ１２を、基板の中心を通る光軸に平行
な軸線周りに例えば右回りに９０度回転させる。なお、
基板の中心が光軸と一致していれば、基板ステージを光
軸周りに回転させれば足りるため、周縁露光処理が容易
である。かかるステージの回転により、露光された基板
の一周縁部と隣り合う位置にある一周縁部に遮光板間を
通過する露光光ＩＬが到達するようにする。

【００４２】基板における全ての周縁部が露光されるま
で、ステップＳ２０３及びＳ２０４を繰り返し、ステッ
プＳ２０５において、全ての周縁部が露光されたと判断
されたときに、かかる基板の周縁露光が終了する。

【００４３】なお、周縁露光後にマスクパターンを投影
露光するときは、遮光板２０１ａ、２０１ｂをそれぞれ
光軸から適宜後退させて、遮光板が露光光ＩＬを遮るこ
とがないようにする。本実施の形態によれば、周縁部露
光に当たっては、余分な露光系を別途設ける必要がな
く、またステッピングすることなく一度に露光を達成す
るため、高いスループットが期待できる。

【００４４】アクチュエータ２０１ａ、２０１ｂは高速
駆動可能なため、遮光板２０１ａ、２０１ｂを移動する
に当たって露光動作に支障がないようになっている。こ
れに対し、たとえばマスクブラインド５２はきわめて移
動速度が遅いため、遮光板２０１ａ、２０１ｂの代わり
に用いて周縁露光するには不適当である。

【００４５】上述した実施の形態においては、本願発明
が適用される露光装置は縮小投影系であったが、等倍系
はもちろん拡大系であっても適用可能である。なお、拡
大系においては、遮光板間を通過する露光光ＩＬのスリ
ット形状は拡大されて、基板に到達する。従って、遮光
板の長さは、基板の一辺長よりも短くて足りる。

【００４６】図５は、本願発明の別な実施の形態にかか
る露光装置の遮光板３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃを上
方から見た図である。図２に記載の実施の形態によれ
ば、遮光板は２枚設けられていたが、図５においては、
３枚の遮光板が設けられている。３枚の遮光板を用いれ
ば、遮光板間を通過する露光光ＩＬは２束となり、よっ
て遮光板の寸法を適宜選択することにより、一度に基板
の対向する二周縁部を露光することができる。

【００４７】図６は、図５に示す本願発明にかかる露光
装置における、角形基板の周縁露光を示すフローチャー
トである。図６において、シャッター４０を閉じた状態
で、まずステップＳ３０１において、アクチュエータ３
０２ａ、３０２ｂ、３０２ｃにより遮光板３０１ａ、３
０１ｂ、３０１ｃを投影レンズＰＬの光軸に直交する方
向に駆動して、遮光板間を通過する二束の光が角形基板
の対向する二周縁部を露光するに適切な幅を有するよ
う、遮光板の位置を調整する。

【００４８】続くステップＳ３０２において、基板を載
せた基板ステージ１２を移動し、基板の二周縁部に遮光
板間を通過する露光光ＩＬが到達するようにする。

【００４９】ステップＳ３０３において、シャッター４
０を開放し、光源１４からの露光光ＩＬを用いて基板の
一周縁部を露光する。このとき、ステップＳ３０１にお
いて遮光板３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃにより整形さ
れ、基板の一周縁部に到達した露光光ＩＬの露光フィー
ルドは一周縁部の面積に満たないため、遮光板３０１
ａ、３０１ｂ、３０１ｃと基板とを相対的に露光フィー
ルドの長手方向に移動（走査）させる。アクチュエータ
３０２ａ、３０２ｂ、３０２ｃは遮光板３０１ａ、３０
１ｂ、３０１ｃを駆動し、ステージ駆動部２０が基板ス
テージ１２を駆動する。なお、露光光ＩＬの露光フィー
ルドが一周縁部の面積以上の時は、一括露光しても良
い。その後シャッター４０を閉じた後、ステップＳ３０
４で基板ステージ１２を光軸周りに９０度回転させ、ス
テップＳ３０３で露光された基板の二周縁部とそれぞれ
隣り合う位置にある二周縁部に遮光板間を通過する露光
光ＩＬが到達するようにする。

【００５０】更に、ステップＳ３０５において、再びシ
ャッター４０を開放し、光源１４からの露光光ＩＬを用
いて、ステップＳ３０３で露光された基板の二周縁部と
隣接する位置にある二周縁部を一度に露光する。このと
きも、ステップＳ３０３と同様に遮光板３０１ａ、３０
１ｂ、３０１ｃと基板とを相対的に露光フィールドの長
手方向に移動（走査）させ露光を行う。その後シャッタ
ー４０を閉じて、角形基板の周縁露光を終了する。

【００５１】ところで、一般的に基板ステージは重いた
め、基板ステージ自体を回転することは困難な場合もあ
る。以下の実施の形態によれば、基板ステージを回転さ
せなくても、角形基板の周縁露光が達成できる。図７、
８は、本願発明の別な実施の形態にかかる露光装置の遮
光板４０１ａ、４０１ｂを上方から見た図である。遮光
板４０１ａ、４０１ｂは、アクチュエータ４０２ａ、４
０２ｂにより、光軸に直交するＸ軸方向にそれぞれ駆動
制御される。一方、アクチュエータ４０２ａ、４０２ｂ
はそれぞれステージ４０３ａ、４０３ｂに載せられてお
り、このステージ４０３ａ、４０３ｂは、それぞれアク
チュエータ４０４ａ、４０４ｂにより、光軸に直交しか
つＸ軸に直交するＹ軸方向に駆動制御される。すなわ
ち、遮光板４０１ａ、４０１ｂは光軸に直交する面内で
移動自在となっている。

【００５２】図７、８から理解されるように、遮光板４
０１ａ、４０１ｂはそれぞれＬ字形状を有しており、互
いに対して倒置するような形で重合されている。従っ
て、遮光板４０１ａと４０１ｂとの間には、長方形状の
露光光透過部Ａが形成されている。かかる遮光板はＬ字
形状をなしているので、各アクチュエータにより適宜駆
動されることによって、露光光透過部ＡをＹ軸方向に延
びる長辺を有する長方形状とすることもでき（図７）、
一方Ｘ軸方向に延びる長辺を有する長方形状とすること
もできる（図８）。

【００５３】図９を参照して、より具体的に角形基板の
周縁露光について説明する。図９は、本願発明にかかる
露光装置における、角形基板の周縁露光を示すフローチ
ャートである。シャッター４０を閉じた状態で、まずス
テップＳ４０１において、アクチュエータ４０２ａ、４
０２ｂ及び４０４ａ、４０４ｂにより遮光板４０１ａ、
４０１ｂを駆動して、露光光透過部Ａを図７に示すよう
な形状とし、かつ露光光透過部Ａを通過する光が角形基
板の周縁を露光するに適切な幅を有するよう、遮光板４
０１ａ、４０１ｂの位置を調整する。

【００５４】続くステップＳ４０２において、基板を載
せた基板ステージ１２を移動し、基板の一周縁部に遮光
板間を通過する露光光ＩＬが到達するようにする。ステ
ップＳ４０３において、シャッター４０を開放し、光源
１４からの露光光ＩＬを用いて基板の一周縁部を露光す
る。このとき、ステップＳ４０１において遮光板４０１
ａ、４０１ｂにより整形され、基板の一周縁部に到達し
た露光光ＩＬの露光フィールドは一周縁部の面積に満た
ないため、遮光板４０１ａ、４０１ｂと基板とを相対的
に露光フィールドの長手方向に移動（走査）させる。ア
クチュエータ４０２ａ、４０２ｂ又は４０４ａ、４０４
ｂは遮光板４０１ａ、４０１ｂを駆動し、ステージ駆動
部２０が基板ステージ１２を駆動する。なお、露光光Ｉ
Ｌの露光フィールドが一周縁部の面積以上の時は、一括
露光しても良い。その後シャッター４０を閉じた後、ス
テップＳ４０４で基板ステージ１２を光軸に対して直交
する方向に平行移動させ、露光された基板の一周縁部と
対向する位置にある一周縁部に遮光板間を通過する露光
光ＩＬが到達するようにする。

【００５５】更に、ステップＳ４０５において、再びシ
ャッター４０を開放し、光源１４からの露光光ＩＬを用
いて、ステップＳ１０３で露光された基板の一周縁部と
対向する位置にある一周縁部を露光する。このときも、
ステップＳ４０３と同様に遮光板４０１ａ、４０１ｂと
基板とを相対的に露光フィールドの長手方向に移動（走
査）させ露光を行う。その後シャッター４０を閉じる。

【００５６】ここで、図３に示す実施の形態では、基板
ステージ１２を９０度回転していたが、本実施の形態に
おいては、基板ステージ１２を回転させない。そのかわ
り、ステップＳ４０６において、アクチュエータ４０２
ａ、４０２ｂ及び４０４ａ、４０４ｂにより遮光板４０
１ａ、４０１ｂを駆動して、露光光透過部Ａを図８に示
すような形状とし、かつ露光光透過部Ａを通過する光が
角形基板の周縁を露光するに適切な幅を有するよう、遮
光板４０１ａ、４０１ｂの位置を再調整する。

【００５７】続くステップＳ４０７で、基板ステージ１
２を光軸に対して直交する方向に平行移動させ、露光さ
れた基板の一周縁部と隣り合う位置にある一周縁部に遮
光板間を通過する露光光ＩＬが到達するようにする。更
に、ステップＳ４０８において、再びシャッター４０を
開放し、光源１４からの露光光ＩＬを用いて、ステップ
Ｓ１０５で露光された基板の一周縁部と隣り合う位置に
ある一周縁部を露光する。このときも、ステップＳ４０
３と同様に遮光板４０１ａ、４０１ｂと基板とを相対的
に露光フィールドの長手方向に移動（走査）させ露光を
行う。

【００５８】その後シャッター４０を閉じた後、ステッ
プＳ４０９で基板ステージ１２を光軸に対して直交する
方向に平行移動させ、露光された基板の一周縁部と対向
する位置にある一周縁部に遮光板間を通過する露光光Ｉ
Ｌが到達するようにする。更に、ステップＳ４１０にお
いて、再びシャッター４０を開放し、光源１４からの露
光光ＩＬを用いて、ステップＳ１０８で露光された基板
の一周縁部と対向する位置にある一周縁部を露光する。
このときも、ステップＳ４０３と同様に遮光板４０１
ａ、４０１ｂと基板とを相対的に露光フィールドの長手
方向に移動（走査）させ露光を行う。その後シャッター
４０を閉じて、角形基板の周縁露光を終了する。本実施
の形態によれば、基板ステージ１２を回転させることな
く角形基板の周縁露光が達成され、それにより装置の簡
素化や処理速度の向上が図れる。

【００５９】更に、別の実施の形態として、基板ステー
ジ１２を回転させるのではなく、遮光板を、露光光ＩＬ
が遮光板の間を通過する形状を維持したまま、光軸と平
行な軸線周りに回転させることにより、角形基板の周縁
露光を達成することもできる。かかる遮光板を回転させ
る構成としては、露光光透過部の形状が、例えば図７，
８に示すように互いに異なる２組の遮光板をターレット
に載せて、露光すべき角形基板の周縁部に応じて切り換
える方式や、透明なステージに遮光板とアクチュエータ
を載せて、ステージごと回転する方式がある。この実施
の形態の場合には、図３に示すフローチャートの内、ス
テップＳ１０６においてステージを回転させる代わり
に、遮光板を回転させることにより達成できる。本実施
の形態によれば、上述の実施の形態と同様に、基板ステ
ージを回転させることなく角形基板の周縁露光が達成さ
れ、それにより装置の簡素化や処理速度の向上が図れ
る。この際露光装置に拡大系を用いれば、倍率分回転動
作の制御速度を上げることができ、また位置決め精度も
向上するというメリットもある。

【００６０】なお、上述した実施の形態においては、遮
光板２０１ａ、２０１ｂ；３０１ａ３０１ｂ、３０１ｃ
及びアクチュエータ２０２ａ、２０２ｂ；３０２ａ、３
０２ｂ、３０２ｃが、例えば基板のＸ軸方向の周縁部を
露光するものである。従って、基板のＹ軸方向の周縁を
同時に露光できるよう、同様な遮光板及びアクチュエー
タを、互いに直交するように設けることにより、より短
時間で達成することができる。

【００６１】以上、本願発明を実施の形態を参照して説
明してきたが、本願発明は上記実施の形態に限定して解
釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であるこ
とはもちろんである。

【００６２】

【発明の効果】本願発明の露光装置によれば、照明光
が、遮光部を透過することにより整形されて角形基板の
周縁部に到達するので、別個に独立に周縁露光装置を設
けることなく、前記角形基板上の周縁部のみを露光する
ことができる。

【００６３】更に本願発明の露光方法によれば、照明光
を、２枚の遮光板を通過させて整形しその後前記基板の
周縁部に到達するようにするので、別個に周縁露光装置
を用いることなく、前記角形基板上の周縁部のみを露光
することができる。また、角形基板を回転させることに
より、露光された周縁部に隣り合う周縁部にも整形され
た露光光が到達するようになるため、遮光板を回転させ
る構成を設ける必要もなく、基板の全周縁部の露光が容
易に行える。

【００６４】更に本願発明の露光方法によれば、照明光
を、３枚の遮光板を通過させて整形し、それにより２束
の照明光が角形基板の周縁部に到達するようにするの
で、一度に前記角形基板上の２つの周縁部を露光するこ
とができる。

【００６５】更に本願発明の露光方法によれば、照明光
を、２枚の遮光板を通過させて角形基板の一周縁部に沿
った形に整形しその周縁部に到達するようにし、その後
前記２枚の遮光板を通過する照明光が前記角形基板の露
光された周縁部と隣り合う周縁部に到達するように、前
記２枚の遮光板を前記投影光学系の光軸に直交する方向
に駆動できるので、別個に周縁露光装置を用いることな
く、かつ基板を回転させることなく、前記角形基板上の
全周縁部を露光することができる。

【００６６】更に本願発明の露光方法によれば、照明光
を、２枚の遮光板を通過させて角形基板の一周縁部に沿
った形に整形しその周縁部に到達するようにし、その後
前記２枚の遮光板を通過する照明光が前記角形基板の露
光された周縁部と隣り合う周縁部に到達するように、前
記２枚の遮光板を前記投影光学系の光軸に直交する面内
で回転できるので、別個に周縁露光装置を用いることな
く、かつ基板を回転させることなく、前記角形基板上の
全周縁部を露光することができる。

【００６７】更に本願発明の露光装置によれば、照明光
を、２枚の遮光板を通過させて角形基板の一周縁部に沿
った形に整形しその周縁部に到達するようにし、その後
前記２枚の遮光板を通過する照明光が前記角形基板の露
光された周縁部と隣り合う周縁部に到達するように、前
記２枚の遮光板を前記投影光学系の光軸に直交する面内
で回転できるので、別個に周縁露光装置を設けることな
く、かつ基板を回転させることなく、前記角形基板上の
全周縁部を露光することができる。

【００６８】更に本願発明の露光方法によれば、２枚の
遮光板を通過させて整形した照明光を、角形基板の４つ
の周縁部に当てる順序を最適にすることにより、前記角
形基板上の全周縁部を露光するに必要な時間を少なくす
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明の一実施形態にかかる露光装置として
露光装置の概略構成を示す図である。

【図２】本願発明の一実施の形態にかかる露光装置の遮
光板２０１ａ、２０１ｂを上方から見た図である。

【図３】本願発明の一実施の形態にかかる露光装置によ
る角形基板の周縁露光を示すフローチャートである。

【図４】本願発明の別な実施の形態にかかる露光装置に
よる角形基板の周縁露光を示すフローチャートである。

【図５】本願発明の更に別な実施の形態にかかる露光装
置の遮光板３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃを上方から見
た図である。

【図６】図５の露光装置による角形基板の周縁露光を示
すフローチャートである。

【図７】本願発明の更に別な実施の形態にかかる露光装
置の遮光板４０１ａ、４０１ｂを上方から見た図であ
る。

【図８】図７の遮光板４０１ａ、４０１ｂの相対位置を
変えて上方から見た図である。

【図９】図７、８の露光装置による角形基板の周縁露光
を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１２基板ステージ６０マスク６２レチクル２０１ａ、２０１ｂ、３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃ４０１ａ、４０１ｂ遮光板２０２ａ、２０２ｂ、３０２ａ、３０２ｂ、３０２ｃ４０２ａ、４０４ａ；４０２ａ、４０４ｂアクチュ
エータＰＬ投影光学系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】パターンが形成されたマスクに対して照
明光を照射し、マスクのパターンの像を投影光学系を介
して角形基板上の感光層に露光する露光装置において、複数の遮光板により形成された遮光部と、前記照明光の透過形状を整形するために前記遮光板を駆
動する遮光板駆動部と、前記角形基板を支持し、前記投影光学系の光軸に対して
直交する方向に移動可能なステージと、前記遮光部を透過した照明光が前記角形基板の周縁部を
露光するように前記ステージを駆動するステージ駆動部
とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】前記遮光部は、２枚の遮光板を備え、前記遮光板駆動部は、前記２枚の遮光板を駆動すること
により前記遮光部における前記照明光の透過形状を整形
することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】前記遮光板は、Ｌ字形の遮光板であるこ
とを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】前記遮光部は、３枚の遮光部を備え、前記遮光板駆動部は、前記３枚の遮光板を駆動すること
により前記遮光部における照明光の透過形状を整形し、前記ステージ駆動部は、前記遮光部を透過した照明光が
感光層の周縁部の２辺を一度に露光するように前記ステ
ージを駆動することを特徴とする請求項１記載の露光装
置。
【請求項５】パターンが形成されたマスクに対して照
明光を照射し、前記マスクのパターンの像を投影光学系
を介して角形基板上の感光層に露光する露光装置を用い
た露光方法において、前記照明光の透過形状を整形するために、前記投影光学
系の光軸に対して直交する方向に２枚の遮光板を駆動す
る第１駆動ステップと、前記第１駆動ステップにより整形された透過照明光が、
前記角形基板の一周縁部を照射するように、前記角形基
板を前記投影光学系の光軸に対して直交する方向に移動
させる移動ステップと、前記移動ステップにより移動した前記角形基板の一周縁
部を前記照明光により露光する露光ステップと、前記整形された透過照明光が、前記露光ステップより露
光された一周縁部と隣り合う別の一周縁部を照射するよ
うに、前記角形基板を前記投影光学系の光軸に対して直
交する面内で回転させる第２駆動ステップと、を有する
ことを特徴とする露光方法。
【請求項６】前記第２駆動ステップは、更に、前記角
形基板を前記投影光学系の光軸に対して直交する方向に
駆動するステップを有することを特徴とする請求項５に
記載の露光方法。
【請求項７】パターンが形成されたマスクに対して照
明光を照射し、前記マスクのパターンの像を投影光学系
を介して角形基板上の感光層に露光する露光装置を用い
た露光方法において、前記照明光の透過形状を整形するために、前記投影光学
系の光軸に対して直交する方向に３枚の遮光板を駆動す
る第１駆動ステップと、前記第１駆動ステップにより整形された透過照明光が、
前記角形基板の二周縁部を同時に照射するように、前記
角形基板を前記投影光学系の光軸に対して直交する方向
に移動させる移動ステップと、前記移動ステップにより移動した前記角形基板の二周縁
部を前記照明光により露光する露光ステップと、前記整形された透過照明光が、前記露光ステップより露
光された二周縁部とそれぞれ隣り合う別の二周縁部を同
時に照射するように、前記角形基板を前記投影光学系の
光軸に対して直交する面内で回転させる第２駆動ステッ
プと、を有することを特徴とする露光方法。
【請求項８】パターンが形成されたマスクに対して照
明光を照射し、前記マスクのパターンの像を投影光学系
を介して角形基板上の感光層に露光する露光装置を用い
た露光方法において、前記照明光の透過形状を、前記角形基板の一周縁部に沿
った形となるように整形するために、前記投影光学系の
光軸に対して直交する方向に２枚の遮光板を駆動する第
１駆動ステップと、前記第１駆動ステップにより整形された透過照明光が、
前記角形基板の一周縁部を照射するように、前記角形基
板を前記投影光学系の光軸に対して直交する方向に相対
移動させる第１移動ステップと、前記移動ステップにより移動した前記角形基板の一周縁
部を前記照明光により露光する露光ステップと、前記照明光の透過形状を、前記角形基板の一周縁部に隣
り合う別の一周縁部に沿った形となるように整形するた
めに、前記投影光学系の光軸に対して直交する方向に２
枚の遮光板を駆動する第２駆動ステップと、前記第２駆動ステップにより整形された透過照明光が、
前記露光ステップより露光された一周縁部と隣り合う別
の一周縁部を照射するように、前記角形基板を前記投影
光学系の光軸に対して直交する方向に駆動する第２移動
ステップと、を有することを特徴とする露光方法。
【請求項９】パターンが形成されたマスクに対して照
明光を照射し、前記マスクのパターンの像を投影光学系
を介して角形基板上の感光層に露光する露光装置を用い
た露光方法において、前記照明光の透過形状を整形するために、前記投影光学
系の光軸に対して直交する方向に２枚の遮光板を駆動す
る第１駆動ステップと、前記第１駆動ステップにより整形された透過照明光が、
前記角形基板の一周縁部を照射するように、前記角形基
板を前記投影光学系の光軸に対して直交する方向に移動
させる移動ステップと、前記移動ステップにより移動した前記角形基板の一周縁
部を前記照明光により露光する露光ステップと、前記整形された透過照明光が、前記露光ステップより露
光された一周縁部と隣り合う別の一周縁部を照射するよ
うに、前記前記投影光学系の光軸に対して直交する面内
で前記遮光板を回転させる第２駆動ステップと、を有す
ることを特徴とする露光方法。
【請求項１０】前記第２駆動ステップは、更に前記遮
光板を前記投影光学系の光軸に対して直交する方向に駆
動するステップを有し、前記回転駆動は、前記透過照明光の透過形状を維持して
回転するステップであることを特徴とする請求項９に記
載の露光方法。
【請求項１１】パターンが形成されたマスクに対して
照明光を照射し、マスクのパターンの像を投影光学系を
介して角形基板上の感光層に露光する露光装置におい
て、複数の遮光板により形成された遮光部と、前記照明光の透過形状を整形するために前記遮光板を駆
動する遮光板駆動部と、前記角形基板を支持し、前記投影光学系の光軸に対して
直交する方向に移動可能なステージと、前記遮光部を透過した照明光が前記角形基板の一周縁部
を露光するように前記ステージを駆動するステージ駆動
部と、前記遮光部を透過した照明光が前記角形基板の別の周縁
部を露光するように前記遮光板を回転する遮光板回転部
と、を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】パターンが形成されたマスクに対して
照明光を照射し、前記マスクのパターンの像を投影光学
系を介して角形基板上の感光層に露光する露光装置を用
いた露光方法において、前記照明光の透過形状を整形するために、前記投影光学
系の光軸に対して直交する方向に２枚の遮光板を駆動す
る第１駆動ステップと、前記第１駆動ステップにより整形された透過照明光が、
前記角形基板の第１周縁部を照射するように、前記角形
基板を前記投影光学系の光軸に対して直交する方向に移
動させる第１移動ステップと、前記移動ステップにより移動した前記角形基板の第１周
縁部を前記照明光により露光する露光ステップと、前記整形された透過照明光が、前記露光ステップより露
光された第１周縁部と対向する位置にある第２周縁部を
照射するように、前記角形基板を前記投影光学系の光軸
に対して直交する方向に移動する第２移動ステップと、前記移動ステップにより移動した前記角形基板の第２周
縁部を前記照明光により露光する露光ステップと、前記整形された透過照明光が、前記露光ステップより露
光された第２周縁部と隣り合う第３周縁部を照射するよ
うに、前記角形基板若しくは前記遮光板を前記投影光学
系の光軸に直交する面内で回転し、かつ移動する第３移
動ステップと、前記第３移動ステップにより移動した前記角形基板の第
３周縁部を前記照明光により露光する露光ステップと、前記整形された透過照明光が、前記露光ステップより露
光された第３周縁部と対向する位置にある第４周縁部を
照射するように、前記角形基板を前記投影光学系の光軸
に対して直交する方向に移動する第３移動ステップと、前記移動ステップにより移動した前記角形基板の第４周
縁部を前記照明光により露光する露光ステップと、を有
することを特徴とする露光方法。
【請求項１３】前記露光ステップは、前記透過照明光
が前記角形基板の一周縁部を走査するように前記角形基
板を前記遮光板に対して相対的に移動させるステップを
有することを特徴とする請求項５，７，８，９及び１２
のいずれか１項に記載の露光方法。