JPH10192797A - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
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- JPH10192797A JPH10192797A JP503897A JP503897A JPH10192797A JP H10192797 A JPH10192797 A JP H10192797A JP 503897 A JP503897 A JP 503897A JP 503897 A JP503897 A JP 503897A JP H10192797 A JPH10192797 A JP H10192797A
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Landscapes
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ハイドロフルオロカーボンまたはハイドロフ
ルオロエーテル(HFC/E）に難溶性の有機溶剤を用いた場
合でも、金属部品等への油やフラックス等の汚れに対
し、クロロフルオロカーボンと同様、不燃性、低毒性で
優れた洗浄効果が得られる新規なHFC/E 系溶剤を用いた
洗浄方法の提供。 【解決手段】 洗浄槽２、シャワー洗浄装置３、すすぎ
槽４を有する洗浄装置１（図1)を用い、沸点30〜150 ℃
のHFC/E 液体と、該液体に難溶性で、沸点が該HFC/E の
沸点より50℃以上高い有機化合物、例えば炭化水素液体
を洗浄槽に２層分離させて充填し、被洗浄物を主として
有機化合物液体を含む上層液体により洗浄した後、これ
を主としてHFC/E 液体を含む下層液体によりシャワー洗
浄して、被洗浄物表面に付着した上層の液体を洗い流
し、次いでHFC/E 液体ですすぎ、更にこれをHFC/E 液体
の飽和蒸気により蒸気洗浄することからなる洗浄方法。
ルオロエーテル(HFC/E）に難溶性の有機溶剤を用いた場
合でも、金属部品等への油やフラックス等の汚れに対
し、クロロフルオロカーボンと同様、不燃性、低毒性で
優れた洗浄効果が得られる新規なHFC/E 系溶剤を用いた
洗浄方法の提供。 【解決手段】 洗浄槽２、シャワー洗浄装置３、すすぎ
槽４を有する洗浄装置１（図1)を用い、沸点30〜150 ℃
のHFC/E 液体と、該液体に難溶性で、沸点が該HFC/E の
沸点より50℃以上高い有機化合物、例えば炭化水素液体
を洗浄槽に２層分離させて充填し、被洗浄物を主として
有機化合物液体を含む上層液体により洗浄した後、これ
を主としてHFC/E 液体を含む下層液体によりシャワー洗
浄して、被洗浄物表面に付着した上層の液体を洗い流
し、次いでHFC/E 液体ですすぎ、更にこれをHFC/E 液体
の飽和蒸気により蒸気洗浄することからなる洗浄方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械工業、光
学機械工業や電子工業等において金属部品・プラスチッ
ク部品・ガラス部品等に付着した油汚れ等、特にフラッ
クスを効率的に除去する洗浄方法であり、さらには高度
に弗素化された、ハイドロフルオロカーボン液体及びこ
れに難溶性の有機化合物洗浄液を用いる洗浄方法に関す
るものである。
学機械工業や電子工業等において金属部品・プラスチッ
ク部品・ガラス部品等に付着した油汚れ等、特にフラッ
クスを効率的に除去する洗浄方法であり、さらには高度
に弗素化された、ハイドロフルオロカーボン液体及びこ
れに難溶性の有機化合物洗浄液を用いる洗浄方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、上記金属部品等の洗浄方法におい
ては、洗浄液として１，１，２−トリクロロ−１，２，
２−トリフルオロエタン（以下、ＣＦＣ−１１３とい
う。）にアルコール類または水及び界面活性剤を添加し
たものが多く常用されてきた。しかし、近年オゾン問題
によりＣＦＣ−１１３のようなクロロフルオロカーボン
（以下、ＣＦＣという）の使用は規制されている。
ては、洗浄液として１，１，２−トリクロロ−１，２，
２−トリフルオロエタン（以下、ＣＦＣ−１１３とい
う。）にアルコール類または水及び界面活性剤を添加し
たものが多く常用されてきた。しかし、近年オゾン問題
によりＣＦＣ−１１３のようなクロロフルオロカーボン
（以下、ＣＦＣという）の使用は規制されている。
【０００３】ＣＦＣ−１１３の代替品として、炭化水素
のすべての水素原子が弗素原子で置換されたパーフルオ
ロカーボン（以下、ＦＣという。）液体や、炭化水素の
水素原子の一部が弗素原子のみで置換され、塩素原子を
含まないハイドロフルオロカーボン（以下、ＨＦＣとい
う。）液体を洗浄液として用いることができ、これらＦ
ＣあるいはＨＦＣ洗浄液は、ＣＦＣ−１１３等のＣＦＣ
液体と同様、低毒性、不燃性、低腐食性であり、しかも
塩素を含まないのでオゾン層を破壊する恐れがないが、
汚れ成分の溶解力（以下、洗浄力という。）が劣るた
め、先ず被洗浄物を洗浄力に優れた炭化水素系液体、例
えば石油系洗浄液、テルペン系洗浄液、又はアルコール
系洗浄液等で洗浄した後、被洗浄物に付着した洗浄液を
ＦＣ液体或いはＨＦＣ液体ですすぎ洗浄を行なう方法、
或いはＦＣ液体もしくはＨＦＣ液体とＨＣ系液体との混
合物で洗浄した後、ＦＣ液体或いはＨＦＣ液体ですすぎ
洗浄を行なう方法が提唱されている。
のすべての水素原子が弗素原子で置換されたパーフルオ
ロカーボン（以下、ＦＣという。）液体や、炭化水素の
水素原子の一部が弗素原子のみで置換され、塩素原子を
含まないハイドロフルオロカーボン（以下、ＨＦＣとい
う。）液体を洗浄液として用いることができ、これらＦ
ＣあるいはＨＦＣ洗浄液は、ＣＦＣ−１１３等のＣＦＣ
液体と同様、低毒性、不燃性、低腐食性であり、しかも
塩素を含まないのでオゾン層を破壊する恐れがないが、
汚れ成分の溶解力（以下、洗浄力という。）が劣るた
め、先ず被洗浄物を洗浄力に優れた炭化水素系液体、例
えば石油系洗浄液、テルペン系洗浄液、又はアルコール
系洗浄液等で洗浄した後、被洗浄物に付着した洗浄液を
ＦＣ液体或いはＨＦＣ液体ですすぎ洗浄を行なう方法、
或いはＦＣ液体もしくはＨＦＣ液体とＨＣ系液体との混
合物で洗浄した後、ＦＣ液体或いはＨＦＣ液体ですすぎ
洗浄を行なう方法が提唱されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、洗浄に
使用される石油系洗浄液、テルペン系洗浄液、又は高級
アルコール系洗浄液等は洗浄力は優れているものの、Ｆ
Ｃ液体もしくはＨＦＣ液体に難溶性であるため、単に洗
浄液による洗浄と、ＦＣ液体もしくはＨＦＣ液体による
すすぎ洗浄だけではすすぎ不良のため、洗浄液が被洗浄
物表面に付着したまま除去されず、洗浄の目的を達する
ことができなかった。
使用される石油系洗浄液、テルペン系洗浄液、又は高級
アルコール系洗浄液等は洗浄力は優れているものの、Ｆ
Ｃ液体もしくはＨＦＣ液体に難溶性であるため、単に洗
浄液による洗浄と、ＦＣ液体もしくはＨＦＣ液体による
すすぎ洗浄だけではすすぎ不良のため、洗浄液が被洗浄
物表面に付着したまま除去されず、洗浄の目的を達する
ことができなかった。
【０００５】本発明の発明者らはこの問題を解決する一
つの方法として、先に、被洗浄物品を、沸点が３０〜１
５０℃の範囲のＨＦＣ液体と、該ＨＦＣ液体の沸点より
も５０℃以上高い沸点を有し、且つ該ＨＦＣと相溶性の
あるグリコールエーテルやエステルのような有機化合物
との混合物の温浴を用いて汚れを除去し、次いで該ＨＦ
Ｃ単体にて被洗浄部品に付着した有機化合物をすすいで
除去して物品を洗浄する方法を提案した（特願平９−３
８５２号）。
つの方法として、先に、被洗浄物品を、沸点が３０〜１
５０℃の範囲のＨＦＣ液体と、該ＨＦＣ液体の沸点より
も５０℃以上高い沸点を有し、且つ該ＨＦＣと相溶性の
あるグリコールエーテルやエステルのような有機化合物
との混合物の温浴を用いて汚れを除去し、次いで該ＨＦ
Ｃ単体にて被洗浄部品に付着した有機化合物をすすいで
除去して物品を洗浄する方法を提案した（特願平９−３
８５２号）。
【０００６】この方法は比較的簡単な装置により、洗浄
とすすぎを行うことにより、被洗浄物品の汚れが除去で
きる優れた方法であるが、この方法はＨＦＣと相溶性の
ある高沸点の特定の有機化合物を使用するという点で洗
浄剤の選択に制約があり、除去すべき汚れの種類によっ
ては、炭化水素のようにＨＦＣとの相溶性は劣るが洗浄
力の優れた溶剤を使用しなければならない場合があり、
このようなＨＦＣ液体に難溶性の洗浄剤が使用できる洗
浄方法の開発が望まれている。
とすすぎを行うことにより、被洗浄物品の汚れが除去で
きる優れた方法であるが、この方法はＨＦＣと相溶性の
ある高沸点の特定の有機化合物を使用するという点で洗
浄剤の選択に制約があり、除去すべき汚れの種類によっ
ては、炭化水素のようにＨＦＣとの相溶性は劣るが洗浄
力の優れた溶剤を使用しなければならない場合があり、
このようなＨＦＣ液体に難溶性の洗浄剤が使用できる洗
浄方法の開発が望まれている。
【０００７】ＨＦＣ液体に難溶性の洗浄剤を使用した場
合、ＨＦＣ液体と洗浄剤は２層に分れるが、発明者らは
逆にこの現象を利用して、従来の方法におけるすすぎ工
程に改良を加え、上層における洗浄剤による洗浄と、下
層液によるシャワー洗浄を行うことにより、ＨＦＣ液体
に難溶性の洗浄剤を使用した場合でも、被洗浄物品の汚
れを効率よく除去できる方法を見いだした。
合、ＨＦＣ液体と洗浄剤は２層に分れるが、発明者らは
逆にこの現象を利用して、従来の方法におけるすすぎ工
程に改良を加え、上層における洗浄剤による洗浄と、下
層液によるシャワー洗浄を行うことにより、ＨＦＣ液体
に難溶性の洗浄剤を使用した場合でも、被洗浄物品の汚
れを効率よく除去できる方法を見いだした。
【０００８】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、洗浄
槽、すすぎ槽、シャワー洗浄装置及び蒸気供給部を有す
る洗浄装置を用い、沸点が３０〜１５０℃のハイドロフ
ルオロカーボン（ＨＦＣ）またはハイドロフルオロエー
テル（ＨＦＥ）、もしくはそれらの混合物液体と、該液
体に難溶性であり、且つ沸点が該液体の沸点より５０℃
以上高い有機化合物液体を洗浄槽に充填し、主として有
機化合物液体を含む上層と、主としてＨＦＣまたはＨＦ
Ｅ液体を含む下層とに２層分離せしめ、被洗浄物を洗浄
槽の上層に浸漬して有機化合物液体により洗浄した後、
洗浄槽の上部空間に取り出し、これを下層の液体により
シャワー洗浄して、被洗浄物表面に付着した上層の液体
を洗い流し、次いでＨＦＣまたはＨＦＥ液体が充填され
たすすぎ槽内で、被洗浄物をすすぎ洗いし、更にこれ
を、ＨＦＣまたはＨＦＥ液体の飽和蒸気により蒸気洗浄
することを特徴とする洗浄方法である。
槽、すすぎ槽、シャワー洗浄装置及び蒸気供給部を有す
る洗浄装置を用い、沸点が３０〜１５０℃のハイドロフ
ルオロカーボン（ＨＦＣ）またはハイドロフルオロエー
テル（ＨＦＥ）、もしくはそれらの混合物液体と、該液
体に難溶性であり、且つ沸点が該液体の沸点より５０℃
以上高い有機化合物液体を洗浄槽に充填し、主として有
機化合物液体を含む上層と、主としてＨＦＣまたはＨＦ
Ｅ液体を含む下層とに２層分離せしめ、被洗浄物を洗浄
槽の上層に浸漬して有機化合物液体により洗浄した後、
洗浄槽の上部空間に取り出し、これを下層の液体により
シャワー洗浄して、被洗浄物表面に付着した上層の液体
を洗い流し、次いでＨＦＣまたはＨＦＥ液体が充填され
たすすぎ槽内で、被洗浄物をすすぎ洗いし、更にこれ
を、ＨＦＣまたはＨＦＥ液体の飽和蒸気により蒸気洗浄
することを特徴とする洗浄方法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】ここでハイドロフルオロカーボン
（ＨＦＣ）とは、炭化水素の水素原子の一部が弗素原子
のみで置換され、塩素原子を含まない弗素化炭素化合物
であり、ハイドロフルオロエーテル（以下、ＨＦＥとい
う。）とはエーテル類の水素原子の一部が弗素原子のみ
で置換され、塩素原子を含まない弗素化エーテルであ
る。
（ＨＦＣ）とは、炭化水素の水素原子の一部が弗素原子
のみで置換され、塩素原子を含まない弗素化炭素化合物
であり、ハイドロフルオロエーテル（以下、ＨＦＥとい
う。）とはエーテル類の水素原子の一部が弗素原子のみ
で置換され、塩素原子を含まない弗素化エーテルであ
る。
【００１０】本発明で用いられるＨＦＣまたはＨＦＥ液
体の沸点は、３０〜１５０℃である。（以下ＨＦＣ、Ｈ
ＦＥの両者を総称して「ＨＦＣ／Ｅ」という。）ＨＦＣ
／Ｅ液体の沸点が３０℃未満では、蒸発ロスが大きく、
水の結露の問題もある。また、ＨＦＣ／Ｅ液体の沸点が
１５０℃を越えると、その蒸発速度が遅くなり、被洗浄
物の乾燥時間がかかるという問題がある。
体の沸点は、３０〜１５０℃である。（以下ＨＦＣ、Ｈ
ＦＥの両者を総称して「ＨＦＣ／Ｅ」という。）ＨＦＣ
／Ｅ液体の沸点が３０℃未満では、蒸発ロスが大きく、
水の結露の問題もある。また、ＨＦＣ／Ｅ液体の沸点が
１５０℃を越えると、その蒸発速度が遅くなり、被洗浄
物の乾燥時間がかかるという問題がある。
【００１１】ＨＦＣ／Ｅ液体は鎖状化合物でも環状化合
物でも良く、またＨＦＣやＨＦＥ液体単独でも、あるい
はこれらの混合物であっても良い。またＨＦＣ／Ｅ液体
は、安定剤としてニトロアルカン類、ベンゾトリアゾー
ル等を添加して用いても良い。
物でも良く、またＨＦＣやＨＦＥ液体単独でも、あるい
はこれらの混合物であっても良い。またＨＦＣ／Ｅ液体
は、安定剤としてニトロアルカン類、ベンゾトリアゾー
ル等を添加して用いても良い。
【００１２】このようなＨＦＣ／Ｅのうち、具体的には
ＨＦＣ液体として、１，１，１，２，３，４，４，５，
５，５−デカフルオロペンタン（以下、ＨＦＣ４３−１
０ｍｅｅという。沸点５５℃）、１，１，２，２，３，
３，４，４−オクタフルオロブタン（以下、ＨＦＣ３３
８ｐｃｃという。沸点４４℃）等を例示することが出来
る。
ＨＦＣ液体として、１，１，１，２，３，４，４，５，
５，５−デカフルオロペンタン（以下、ＨＦＣ４３−１
０ｍｅｅという。沸点５５℃）、１，１，２，２，３，
３，４，４−オクタフルオロブタン（以下、ＨＦＣ３３
８ｐｃｃという。沸点４４℃）等を例示することが出来
る。
【００１３】またＨＦＥ液体としては、１，２，２，２
−テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプロピルエー
テル（沸点４０℃）、１，１，１，２，３，３−ヘキサ
フルオロ−２−ヘプタフルオロプロピロキシ−３−
（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−プロパ
ン（沸点１０４℃）、メチルノナフルオロブチルエーテ
ル、エチルノナフルオロブチルエーテル、ヘキサフルオ
ロイソプロピル−１，１，２，３，３，３−ヘキサフル
オロプロピルエーテル等を例示することが出来る。
−テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプロピルエー
テル（沸点４０℃）、１，１，１，２，３，３−ヘキサ
フルオロ−２−ヘプタフルオロプロピロキシ−３−
（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−プロパ
ン（沸点１０４℃）、メチルノナフルオロブチルエーテ
ル、エチルノナフルオロブチルエーテル、ヘキサフルオ
ロイソプロピル−１，１，２，３，３，３−ヘキサフル
オロプロピルエーテル等を例示することが出来る。
【００１４】本発明に用いられる有機化合物液体はＨＦ
Ｃ／Ｅ液体に難溶性であり、且つその沸点がＨＦＣ／Ｅ
液体の沸点よりも５０℃以上のものであり、好ましくは
１００℃以上高いものが望ましい。具体的には有機化合
物液体の沸点は８０℃以上、特に１５０℃以上であるこ
とが望ましい。有機化合物液体の沸点がＨＦＣ／Ｅ液体
の沸点に近いと気化し易くなり、引火性が増大するため
好ましくない。
Ｃ／Ｅ液体に難溶性であり、且つその沸点がＨＦＣ／Ｅ
液体の沸点よりも５０℃以上のものであり、好ましくは
１００℃以上高いものが望ましい。具体的には有機化合
物液体の沸点は８０℃以上、特に１５０℃以上であるこ
とが望ましい。有機化合物液体の沸点がＨＦＣ／Ｅ液体
の沸点に近いと気化し易くなり、引火性が増大するため
好ましくない。
【００１５】ＨＦＣ／Ｅ液体に難溶性の有機化合物液体
とは、室温においてＨＦＣ／Ｅ液体への溶解量がＨＦＣ
／Ｅ液体の重量に対し１０重量％以下であるものをい
う。従って、有機化合物液体を飽和溶解度以上に含むＨ
ＦＣ／Ｅ液体と有機化合物液体との混合液は、主として
有機化合物液体を含む上層と、主としてＨＦＣ／Ｅ液体
を含む下層とに２層分離する。
とは、室温においてＨＦＣ／Ｅ液体への溶解量がＨＦＣ
／Ｅ液体の重量に対し１０重量％以下であるものをい
う。従って、有機化合物液体を飽和溶解度以上に含むＨ
ＦＣ／Ｅ液体と有機化合物液体との混合液は、主として
有機化合物液体を含む上層と、主としてＨＦＣ／Ｅ液体
を含む下層とに２層分離する。
【００１６】この様な有機化合物液体としては、脂肪族
炭化水素化合物、炭素環式炭化水素化合物または高級ア
ルコール類が挙げられ、より具体的には炭素数８以上の
パラフィン系液体、高溶解性石油ナフサ、ケロセン、テ
ルピン類、パイン油などを例示することが出来る。
炭化水素化合物、炭素環式炭化水素化合物または高級ア
ルコール類が挙げられ、より具体的には炭素数８以上の
パラフィン系液体、高溶解性石油ナフサ、ケロセン、テ
ルピン類、パイン油などを例示することが出来る。
【００１７】上記ＨＦＣ／Ｅ液体と有機化合物液体との
混合液は沸騰に際して、より低沸点であるＨＦＣ／Ｅ液
体が優先的に気化するため、ＨＦＣ／Ｅ液体の沸点以上
の温度にならないので、有機化合物液体は殆ど気化せ
ず、従って引火性を低減することができる。
混合液は沸騰に際して、より低沸点であるＨＦＣ／Ｅ液
体が優先的に気化するため、ＨＦＣ／Ｅ液体の沸点以上
の温度にならないので、有機化合物液体は殆ど気化せ
ず、従って引火性を低減することができる。
【００１８】ＨＦＣ／Ｅ液体と有機化合物液体との混合
比率は両成分の種類、両成分の沸点差や、被洗浄物の汚
れの程度等にもよるが、ＨＦＣ／Ｅ液体／有機化合物液
体（重量比）＝５０／５０〜９５／５の範囲で混合する
のが好ましい。ＨＦＣ／Ｅ液体に対し有機化合物液体の
量が少ないと洗浄力が低下し、また多すぎると前記洗浄
槽における２層分離が起こらないので、上層液で洗浄し
た際に被洗浄物表面に付着した有機化合物溶剤を、ＨＦ
Ｃ／Ｅ液体を含む下層液により洗浄するという本発明の
特徴を生かすことができない。
比率は両成分の種類、両成分の沸点差や、被洗浄物の汚
れの程度等にもよるが、ＨＦＣ／Ｅ液体／有機化合物液
体（重量比）＝５０／５０〜９５／５の範囲で混合する
のが好ましい。ＨＦＣ／Ｅ液体に対し有機化合物液体の
量が少ないと洗浄力が低下し、また多すぎると前記洗浄
槽における２層分離が起こらないので、上層液で洗浄し
た際に被洗浄物表面に付着した有機化合物溶剤を、ＨＦ
Ｃ／Ｅ液体を含む下層液により洗浄するという本発明の
特徴を生かすことができない。
【００１９】本発明は上記ＨＦＣ／Ｅ液体と有機化合物
液体を用い、浸漬洗浄、シャワー洗浄、すすぎ及び蒸気
洗浄の各工程を組み合わせて行われる。以下本発明の洗
浄方法を図１により具体的に説明する。
液体を用い、浸漬洗浄、シャワー洗浄、すすぎ及び蒸気
洗浄の各工程を組み合わせて行われる。以下本発明の洗
浄方法を図１により具体的に説明する。
【００２０】図１において、洗浄装置１には洗浄槽２、
シャワー洗浄装置３、すすぎ槽４及びＨＦＣ／Ｅ沸騰槽
（蒸気供給部）５が設置されている。まず被洗浄物を洗
浄装置１の上部開口部より装置内に導入し、ＨＦＣ／Ｅ
液体と有機化合物液体との両成分が収容されている洗浄
槽２に浸漬する。
シャワー洗浄装置３、すすぎ槽４及びＨＦＣ／Ｅ沸騰槽
（蒸気供給部）５が設置されている。まず被洗浄物を洗
浄装置１の上部開口部より装置内に導入し、ＨＦＣ／Ｅ
液体と有機化合物液体との両成分が収容されている洗浄
槽２に浸漬する。
【００２１】洗浄槽２はヒーター２１で加熱されてお
り、上記両成分は主として有機化合物液体を含む上層２
３と、主としてＨＦＣ／Ｅ液体を含む下層２４とに２層
分離しており、ＨＦＣ／Ｅ液体は沸騰状態になってい
る。
り、上記両成分は主として有機化合物液体を含む上層２
３と、主としてＨＦＣ／Ｅ液体を含む下層２４とに２層
分離しており、ＨＦＣ／Ｅ液体は沸騰状態になってい
る。
【００２２】被洗浄物は上層２３に浸漬され洗浄が行わ
れ、被洗浄物表面の汚れが除去される。このようにして
洗浄された被洗浄物表面は主として有機化合物液体を含
む上層液で濡れているため、被洗浄物を洗浄槽２より取
りだした後、その上部空間２２において、シャワー洗浄
装置３により主としてＨＦＣ／Ｅ液体を含む下層液によ
りシャワー洗浄される。即ち下層液をポンプ３１より取
り出し、ノズル３２から噴射し、被洗浄物表面の上層液
を下層液と置換する。
れ、被洗浄物表面の汚れが除去される。このようにして
洗浄された被洗浄物表面は主として有機化合物液体を含
む上層液で濡れているため、被洗浄物を洗浄槽２より取
りだした後、その上部空間２２において、シャワー洗浄
装置３により主としてＨＦＣ／Ｅ液体を含む下層液によ
りシャワー洗浄される。即ち下層液をポンプ３１より取
り出し、ノズル３２から噴射し、被洗浄物表面の上層液
を下層液と置換する。
【００２３】洗浄槽２内の温度は、ヒーター２１による
加熱によりＨＦＣ／Ｅ液体の沸点に達しており、ＨＦＣ
／Ｅ液体が蒸発気化していく。この蒸発による洗浄槽２
内の液組成の変化を防ぐため、洗浄槽の上部内壁に冷却
器２５を設けこれら蒸気を凝縮気化し洗浄槽２内に戻す
か、或いはＨＦＣ／Ｅ沸騰槽５よりＨＦＣ／Ｅ液体を洗
浄槽２に供給する等の手段により洗浄槽内のＨＦＣ／Ｅ
液体の減少を防ぎ、一方洗浄槽２よりオーバーフローす
る主として有機化合物液体からなる上層液を貯槽２Ａに
溜め、これを洗浄槽内に還流することにより、有機化合
物液体の減少を防止する等の手段が取られる。
加熱によりＨＦＣ／Ｅ液体の沸点に達しており、ＨＦＣ
／Ｅ液体が蒸発気化していく。この蒸発による洗浄槽２
内の液組成の変化を防ぐため、洗浄槽の上部内壁に冷却
器２５を設けこれら蒸気を凝縮気化し洗浄槽２内に戻す
か、或いはＨＦＣ／Ｅ沸騰槽５よりＨＦＣ／Ｅ液体を洗
浄槽２に供給する等の手段により洗浄槽内のＨＦＣ／Ｅ
液体の減少を防ぎ、一方洗浄槽２よりオーバーフローす
る主として有機化合物液体からなる上層液を貯槽２Ａに
溜め、これを洗浄槽内に還流することにより、有機化合
物液体の減少を防止する等の手段が取られる。
【００２４】シャワー洗浄が終了した被洗浄物は、次い
でＨＦＣ／Ｅ液体が収容されたすすぎ槽４に浸漬され
る。上記被洗浄物の表面はシャワー液は有機化合物液体
を含む下層液によって濡れているが、すすぎ槽中への浸
漬により、下層液中の有機化合物液体は容易にＨＦＣ／
Ｅ液体によって希釈され、ＨＦＣ／Ｅ液体と置換されて
いく。すすぎ槽内での置換効果を高めるため、すすぎ槽
４に超音波発振機４１または撹拌機（図示せず）などを
取り付けても良い。すすぎ槽の温度はＨＦＣ／Ｅ液体の
沸点よりも低い温度で保たれており、被洗浄物はここで
冷却される。
でＨＦＣ／Ｅ液体が収容されたすすぎ槽４に浸漬され
る。上記被洗浄物の表面はシャワー液は有機化合物液体
を含む下層液によって濡れているが、すすぎ槽中への浸
漬により、下層液中の有機化合物液体は容易にＨＦＣ／
Ｅ液体によって希釈され、ＨＦＣ／Ｅ液体と置換されて
いく。すすぎ槽内での置換効果を高めるため、すすぎ槽
４に超音波発振機４１または撹拌機（図示せず）などを
取り付けても良い。すすぎ槽の温度はＨＦＣ／Ｅ液体の
沸点よりも低い温度で保たれており、被洗浄物はここで
冷却される。
【００２５】すすぎが終了した被洗浄物は、冷却器６下
部の各槽の上部に形成されたＨＦＣ／Ｅ液体の飽和蒸気
域７に導入され、被洗浄物表面で凝縮気化するＨＦＣ／
Ｅ蒸気により最終すすぎが行われ、洗浄装置１の上部開
口部より取り出される。
部の各槽の上部に形成されたＨＦＣ／Ｅ液体の飽和蒸気
域７に導入され、被洗浄物表面で凝縮気化するＨＦＣ／
Ｅ蒸気により最終すすぎが行われ、洗浄装置１の上部開
口部より取り出される。
【００２６】すすぎが終了した被洗浄物表面は、ＨＦＣ
／Ｅ液体によって濡れているが、これは容易に気化蒸発
し、汚れまたはシミのない乾燥した被洗浄物が得られ
る。
／Ｅ液体によって濡れているが、これは容易に気化蒸発
し、汚れまたはシミのない乾燥した被洗浄物が得られ
る。
【００２７】なお、冷却器６で凝縮液化したＨＦＣ／Ｅ
液体は、すすぎ槽４に戻され、すすぎ槽が常にきれいな
ＨＦＣ／Ｅ液体で満たされているようにすると共に、洗
浄槽２より被洗浄物に同伴してすすぎ槽に持ち込まれた
有機化合物液体はオーバーフローによりＨＦＣ／Ｅ沸騰
槽５に導入される。
液体は、すすぎ槽４に戻され、すすぎ槽が常にきれいな
ＨＦＣ／Ｅ液体で満たされているようにすると共に、洗
浄槽２より被洗浄物に同伴してすすぎ槽に持ち込まれた
有機化合物液体はオーバーフローによりＨＦＣ／Ｅ沸騰
槽５に導入される。
【００２８】更に、沸騰槽５よりオーバーフローしたＨ
ＦＣ／Ｅ液体は洗浄槽２に戻される。沸騰槽中のＨＦＣ
／Ｅはヒーター５１により加熱され、気化したＨＦＣ／
Ｅ蒸気は冷却器６により冷却され、飽和蒸気域７を形成
する一方、凝縮されたＨＦＣ／Ｅ液体は堰６１を介して
すすぎ槽４に戻される。
ＦＣ／Ｅ液体は洗浄槽２に戻される。沸騰槽中のＨＦＣ
／Ｅはヒーター５１により加熱され、気化したＨＦＣ／
Ｅ蒸気は冷却器６により冷却され、飽和蒸気域７を形成
する一方、凝縮されたＨＦＣ／Ｅ液体は堰６１を介して
すすぎ槽４に戻される。
【００２９】本発明ではこのように、洗浄槽の下層成分
であるＨＦＣ／Ｅ液体をシャワー洗浄に用いて下層との
間で循環使用し、ＨＦＣ／Ｅ液体及び有機化合物液体は
凝縮還流及びオーバーフローにより、それぞれ処理槽に
戻され、洗浄液のロスをなくすとともに、系内全体の液
バランスを保持するようになっている。
であるＨＦＣ／Ｅ液体をシャワー洗浄に用いて下層との
間で循環使用し、ＨＦＣ／Ｅ液体及び有機化合物液体は
凝縮還流及びオーバーフローにより、それぞれ処理槽に
戻され、洗浄液のロスをなくすとともに、系内全体の液
バランスを保持するようになっている。
【００３０】なお、飽和蒸気域７は最終すすぎ工程が行
われる領域であり、蒸気中には有機化合物液体はできる
だけ少ないことが望ましい。図２はそのような目的で改
良された洗浄装置の１例であり、洗浄槽２から発生した
少量のＨＣ蒸気を含むＨＦＣ／Ｅ蒸気が飽和蒸気域に入
らないように、凝縮器８を設け沸騰槽４より発生したＨ
ＦＣ／Ｅ蒸気と共に凝縮器８に導く手段が設けられてい
る。（図中、蒸気層における太い矢印はＨＣ蒸気を、細
い矢印はＨＦＣ／Ｅ蒸気を示す。）その他の構造は図１
と同じである。
われる領域であり、蒸気中には有機化合物液体はできる
だけ少ないことが望ましい。図２はそのような目的で改
良された洗浄装置の１例であり、洗浄槽２から発生した
少量のＨＣ蒸気を含むＨＦＣ／Ｅ蒸気が飽和蒸気域に入
らないように、凝縮器８を設け沸騰槽４より発生したＨ
ＦＣ／Ｅ蒸気と共に凝縮器８に導く手段が設けられてい
る。（図中、蒸気層における太い矢印はＨＣ蒸気を、細
い矢印はＨＦＣ／Ｅ蒸気を示す。）その他の構造は図１
と同じである。
【００３１】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 ［実施例１］ＨＦＣ液体としてＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ
（沸点５５℃）を使用し、有機化合物液体としてノルマ
ルドデカンとノルマルウンデカンからなる混合物（ＮＳ
クリーン２００；日鉱石化社製；初留点１８９℃）を用
い、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅを３ｋｇ、ノルマルドデカ
ンとノルマルウンデカンからなる混合物を２ｋｇを図１
に示される装置の洗浄槽に充填し２層分離せしめ、すす
ぎ槽及び蒸気供給部にはＨＦＣ４３−１０ｍｅｅを充填
した。
る。 ［実施例１］ＨＦＣ液体としてＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ
（沸点５５℃）を使用し、有機化合物液体としてノルマ
ルドデカンとノルマルウンデカンからなる混合物（ＮＳ
クリーン２００；日鉱石化社製；初留点１８９℃）を用
い、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅを３ｋｇ、ノルマルドデカ
ンとノルマルウンデカンからなる混合物を２ｋｇを図１
に示される装置の洗浄槽に充填し２層分離せしめ、すす
ぎ槽及び蒸気供給部にはＨＦＣ４３−１０ｍｅｅを充填
した。
【００３２】２層分離している洗浄槽、及び蒸気供給部
を加熱し、洗浄槽におけるＨＦＣ４３−１０ｍｅｅが沸
騰状態になった後、更に３時間沸騰状態で放置した。沸
騰槽の上層と下層の液組成は、ガスクロマトグラフィー
による分析の結果、表１のとおりであった。
を加熱し、洗浄槽におけるＨＦＣ４３−１０ｍｅｅが沸
騰状態になった後、更に３時間沸騰状態で放置した。沸
騰槽の上層と下層の液組成は、ガスクロマトグラフィー
による分析の結果、表１のとおりであった。
【００３３】
【表１】
【００３４】ボールリング（直径１０ｍｍ、長さ１０ｍ
ｍ）をギヤー油（ゲルコマルチ５；昭和シェル製）に浸
した後、ボールリングに付着したギヤー油の量を測定
し、これを被洗浄物とし、このボールリングを、下記の
洗浄サイクルにより浸漬、シャワー洗浄及び蒸気接触さ
せて洗浄を行った。 （１）洗浄槽上層液 浸漬 １分 （２）洗浄槽下層液シャワー シャワー洗浄 １０秒 （３）すすぎ槽 浸漬 １分 （４）ＨＦＣ飽和蒸気域 蒸気洗浄 １分 洗浄終了後、ボールリングを取り出し洗浄後の被洗浄物
の油付着量を測定し、洗浄率を求めた。結果を表２に示
す。
ｍ）をギヤー油（ゲルコマルチ５；昭和シェル製）に浸
した後、ボールリングに付着したギヤー油の量を測定
し、これを被洗浄物とし、このボールリングを、下記の
洗浄サイクルにより浸漬、シャワー洗浄及び蒸気接触さ
せて洗浄を行った。 （１）洗浄槽上層液 浸漬 １分 （２）洗浄槽下層液シャワー シャワー洗浄 １０秒 （３）すすぎ槽 浸漬 １分 （４）ＨＦＣ飽和蒸気域 蒸気洗浄 １分 洗浄終了後、ボールリングを取り出し洗浄後の被洗浄物
の油付着量を測定し、洗浄率を求めた。結果を表２に示
す。
【００３５】［実施例２］ボールリングの代わりに袋ナ
ット（外径４．５ｍｍ、長さ９ｍｍ、内径３ｍｍ）を被
洗浄物として用い、実施例２と同様の洗浄を行った。結
果を表２に示す。
ット（外径４．５ｍｍ、長さ９ｍｍ、内径３ｍｍ）を被
洗浄物として用い、実施例２と同様の洗浄を行った。結
果を表２に示す。
【００３６】［比較例１］被洗浄物を、洗浄槽下層液に
よるシャワー洗浄を行わず、下記の洗浄サイクルにより
浸漬及び蒸気接触させて洗浄を行った他は、実施例１と
同様にして洗浄率を測定した。結果を表２に示す。 （１）洗浄槽上層液 浸漬 １分 （２）すすぎ槽 浸漬 １分 （３）ＨＦＣ飽和蒸気域 蒸気洗浄 １分
よるシャワー洗浄を行わず、下記の洗浄サイクルにより
浸漬及び蒸気接触させて洗浄を行った他は、実施例１と
同様にして洗浄率を測定した。結果を表２に示す。 （１）洗浄槽上層液 浸漬 １分 （２）すすぎ槽 浸漬 １分 （３）ＨＦＣ飽和蒸気域 蒸気洗浄 １分
【００３７】［比較例２］ボールリングの代わりに実施
例２で用いたと同じ袋ナット（外径４．５ｍｍ、長さ９
ｍｍ、内径３ｍｍ）を用いて、比較例１と同様の洗浄を
行った。洗浄終了後、袋ナットを取り出し洗浄率を測定
した。結果を表２に示す。
例２で用いたと同じ袋ナット（外径４．５ｍｍ、長さ９
ｍｍ、内径３ｍｍ）を用いて、比較例１と同様の洗浄を
行った。洗浄終了後、袋ナットを取り出し洗浄率を測定
した。結果を表２に示す。
【００３８】
【表２】 洗浄結果 ◎：洗浄率 ９９％以上 ○：洗浄率 ９５％以上−９９％未満 △：洗浄率 ９０％以上−９５％未満 ×：洗浄率 ９０％未満
【００３９】
【発明の効果】本発明の洗浄方法は、特定の洗浄とすす
ぎ工程を組み合わせることにより、ハイドロフルオロカ
ーボンまたはハイドロフルオロエーテル液体に難溶性の
洗浄剤を使用した場合でも、油フラックス等の汚れに対
し被洗浄物品の汚れやシミを効率よく除去でき、非引火
性であるが洗浄力の乏しいハイドロフルオロカーボンま
たはハイドロフルオロエーテルを用いて、ＣＦＣ−１１
３と同等の洗浄効果を得ることが可能であり、洗浄力の
優れた各種有機溶剤が広く使用できるので工業的に有利
である。
ぎ工程を組み合わせることにより、ハイドロフルオロカ
ーボンまたはハイドロフルオロエーテル液体に難溶性の
洗浄剤を使用した場合でも、油フラックス等の汚れに対
し被洗浄物品の汚れやシミを効率よく除去でき、非引火
性であるが洗浄力の乏しいハイドロフルオロカーボンま
たはハイドロフルオロエーテルを用いて、ＣＦＣ−１１
３と同等の洗浄効果を得ることが可能であり、洗浄力の
優れた各種有機溶剤が広く使用できるので工業的に有利
である。
【図１】本発明の洗浄装置の基本的構成を示す図であ
る。
る。
【図２】本発明の洗浄装置の異なる実施態様を示す図で
ある。
ある。
１ 洗浄装置 ２ 洗浄槽 ２Ａ 貯槽 ２１ ヒーター ２２ 洗浄槽２の上部空間 ２３ 上層液 ２４ 下層液 ２５ 冷却器 ３ シャワー洗浄装置 ３１ ポンプ ３２ ノズル ４ すすぎ槽 ４１ 超音波発信機 ５ ＨＦＣ／Ｅ沸騰槽 ５１ ヒーター ６ 冷却器 ６１ 堰 ７ 飽和蒸気域 ８ 凝縮器 ８１ 冷却器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１Ｖ ３５１ ３５１Ｖ
Claims (4)
- 【請求項１】 洗浄槽、すすぎ槽、シャワー洗浄装置及
び蒸気供給部を有する洗浄装置を用い、沸点が３０〜１
５０℃のハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）またはハ
イドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）、もしくはそれらの
混合物液体と、該液体に難溶性であり、且つ沸点が該液
体の沸点より５０℃以上高い有機化合物液体を洗浄槽に
充填し、主として有機化合物液体を含む上層と、主とし
てＨＦＣまたはＨＦＥ液体を含む下層とに２層分離せし
め、被洗浄物を洗浄槽の上層に浸漬して有機化合物液体
により洗浄した後、洗浄槽の上部空間に取り出し、これ
を下層の液体によりシャワー洗浄して、被洗浄物表面に
付着した上層の液体を洗い流し、次いでＨＦＣまたはＨ
ＦＥ液体が充填されたすすぎ槽内で、被洗浄物をすすぎ
洗いし、更にこれを、ＨＦＣまたはＨＦＥ液体の飽和蒸
気により蒸気洗浄することを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項２】 ハイドロフルオロカーボンが、１，１，
１，２，３，４，４，５，５，５−デカフルオロペンタ
ン及び／または１，１，２，２，３，３，４，４−オク
タフルオロブタンである請求項１記載の洗浄方法。 - 【請求項３】 ハイドロフルオロエーテルが、１，２，
２，２−テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプロピ
ルエーテル及び／または１，１，１，２，３，３−ヘキ
サフルオロ−２−ヘプタフルオロプロピロキシ−３−
（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−プロパ
ンである請求項１記載の洗浄方法。 - 【請求項４】 有機化合物液体が脂肪族炭化水素化合
物、炭素環式炭化水素化合物または高級アルコールから
選ばれた少なくとも１種、またはこれらの２種以上の混
合物である請求項１〜３のいずれかに記載の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00503897A JP3916717B2 (ja) | 1997-01-14 | 1997-01-14 | 洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00503897A JP3916717B2 (ja) | 1997-01-14 | 1997-01-14 | 洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10192797A true JPH10192797A (ja) | 1998-07-28 |
| JP3916717B2 JP3916717B2 (ja) | 2007-05-23 |
Family
ID=11600286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00503897A Expired - Fee Related JP3916717B2 (ja) | 1997-01-14 | 1997-01-14 | 洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3916717B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001092456A1 (en) * | 2000-06-01 | 2001-12-06 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus |
| JP2003033730A (ja) * | 2001-07-24 | 2003-02-04 | Asahi Kasei Corp | 循環式洗浄方法および洗浄装置 |
| JP2006508521A (ja) * | 2002-02-15 | 2006-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 溶剤浴と超臨界ｃｏ２を用いたレジストの乾燥 |
| JP2008238110A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Denso Corp | 被処理物の洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置 |
| KR100922664B1 (ko) * | 2006-09-26 | 2009-10-19 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판처리장치 |
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| JP2011152517A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Du Pont Mitsui Fluorochem Co Ltd | フッ素化炭化水素溶剤の乾燥方法 |
| JP4771439B1 (ja) * | 2010-12-07 | 2011-09-14 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の蒸気洗浄装置 |
| JP2015129328A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | 大陽日酸株式会社 | サブゼロ処理方法及び装置 |
| US9636716B2 (en) | 2012-04-25 | 2017-05-02 | Ihi Corporation | Vacuum cleaning device |
| KR20180092956A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-20 | 가부시키가이샤 토쿠야마 메텔 | 세정제 조성물, 헹굼제 조성물 및 세정방법 |
-
1997
- 1997-01-14 JP JP00503897A patent/JP3916717B2/ja not_active Expired - Fee Related
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