JPH10193152A - Laser processing equipment - Google Patents

Laser processing equipment

Info

Publication number
JPH10193152A
JPH10193152A JP9001420A JP142097A JPH10193152A JP H10193152 A JPH10193152 A JP H10193152A JP 9001420 A JP9001420 A JP 9001420A JP 142097 A JP142097 A JP 142097A JP H10193152 A JPH10193152 A JP H10193152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
signal
light
detection
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9001420A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinya Okumura
信也 奥村
Naoki Mitsuyanagi
直毅 三柳
Takashi Shirai
隆 白井
Yoshiaki Shimomura
義昭 下村
Shigeyuki Sakurai
茂行 桜井
Takeshi Nishigaki
剛 西垣
Yasushi Minomoto
泰 美野本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Construction Machinery Co Ltd filed Critical Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Priority to JP9001420A priority Critical patent/JPH10193152A/en
Publication of JPH10193152A publication Critical patent/JPH10193152A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】加工位置のバラツキや、レーザ加工に伴って被
加工物表面や側面に付着する溶融飛散物に基づいて、誤
ったレーザ加工が施されることを防止できるようにす
る。 【解決手段】XYテーブル21に取り付けたエンコーダ
21aからの移動量信号Mのパルス数に応じたタイミン
グでレーザ光の発振を制御する。また、検出用光源12
2からの検出光を利用して被加工物の有無を検出し、対
応する検出信号P1を発生させる。そして、比較・タイ
ミング回路242で、移動量信号Mの所定のパルス数に
対応する時間に誤差を加味した範囲内に、上記P1の立
ち上がり間隔が収まっているかを判断し、その結果に応
じて次のダムバーのレーザ切断用トリガ発生の基になる
移動量信号Mのカウント開始タイミングを制御する。
(57) [Problem] To prevent erroneous laser processing from being performed on the basis of variations in processing positions and melted and scattered substances adhering to the surface or side surface of a workpiece due to laser processing. I do. A laser beam oscillation is controlled at a timing corresponding to the number of pulses of a movement amount signal M from an encoder 21a attached to an XY table 21. The light source 12 for detection
The presence / absence of a workpiece is detected by using the detection light from 2 and a corresponding detection signal P1 is generated. Then, the comparison / timing circuit 242 determines whether or not the rising interval of the P1 falls within a range in which an error is added to the time corresponding to the predetermined number of pulses of the movement amount signal M, and the following is determined according to the result. Control of the count start timing of the movement amount signal M, which is the basis for generating the laser cutting trigger of the dam bar.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、所望の加工位置を
高速で加工することができるレーザ加工装置に係わり、
特に、半導体装置のダムバーの切断除去等に好適なレー
ザ加工装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus capable of processing a desired processing position at a high speed.
In particular, the present invention relates to a laser processing apparatus suitable for cutting and removing a dam bar of a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】パルス状のレーザ光を利用した加工とし
ては、切断、穴あけ、溶接等の加工方法が機械、電子、
半導体装置などの多方面の分野の製造過程で利用されて
いる。そのうち、半導体装置のダムバーの切断除去等に
好適なレーザ加工装置またはレーザ加工方法に関する従
来技術として、特開平5−277765号公報及び特開
平6−142968号公報に記載のものがある。
2. Description of the Related Art Processing using pulsed laser light includes processing methods such as cutting, drilling, and welding.
It is used in manufacturing processes in various fields such as semiconductor devices. Among them, as a prior art relating to a laser processing apparatus or a laser processing method suitable for cutting and removing a dam bar of a semiconductor device, there are those described in JP-A-5-277765 and JP-A-6-142968.

【0003】特開平5−277765号公報に記載の従
来技術(以下、第1の従来技術という)では、加工テー
ブルの移動量を計測し、この加工テーブルの移動量とパ
ルス状のレーザ光の発振とを、レーザ光発振に要する時
間を考慮して同期させ、それにより目標とする加工位置
(この場合は半導体装置のダムバー)にレーザ光を照射
して加工を行なう。ここでは、除去すべきダムバー位置
を予めメインコントローラなどにプログラムとして登録
しておく。
In the prior art described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-277765 (hereinafter referred to as a first prior art), the amount of movement of a processing table is measured, and the amount of movement of the processing table and the oscillation of pulsed laser light are measured. Are synchronized in consideration of the time required for laser light oscillation, and thereby a target processing position (in this case, a dam bar of a semiconductor device) is irradiated with laser light to perform processing. Here, the position of the dam bar to be removed is registered in advance in the main controller or the like as a program.

【0004】また、特開平6−142968号公報に記
載の従来技術(以下、第2の従来技術という)は、加工
光学系の光軸とほぼ同軸上に配置した検出光学系(光検
出手段)において被加工物における材料の有無、即ちダ
ムバー近傍のリードの配列状態を光の明暗の切り替わり
をもとに光学的に検出し、その検出信号を矩形化し、さ
らにその矩形化した信号に一定の遅延時間を与え、遅延
時間を与えた信号に基づいてパルスレーザ光の発振を制
御するものである。つまり、この方式で半導体装置のダ
ムバーの切断を行う場合には、リードの配列状態を直接
視覚的に検出し、そのデータを利用してパルスレーザ光
の照射を即座に行う。これによって、レーザ光の光軸
(以下、レーザ光軸という)を被加工物に対して移動さ
せるだけで、順次ダムバーが切断され、確実かつ高速に
加工が行える。
The prior art described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-142968 (hereinafter referred to as a second prior art) is a detection optical system (light detecting means) arranged substantially coaxially with the optical axis of a processing optical system. In the above, the presence or absence of material in the workpiece, that is, the arrangement of the leads near the dam bar is optically detected based on the switching between light and dark, the detection signal is rectangularized, and the rectangular signal is further delayed by a predetermined delay. This is to control the oscillation of the pulse laser light based on the signal given the time and the delay time. That is, when the dam bar of the semiconductor device is cut by this method, the arrangement state of the leads is directly visually detected, and the irradiation of the pulse laser light is immediately performed using the data. Accordingly, the dam bars are sequentially cut only by moving the optical axis of the laser beam (hereinafter, referred to as the laser optical axis) with respect to the workpiece, and the processing can be performed reliably and at high speed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】第1の従来技術によれ
ば、レーザ光発振に要する時間を考慮して、加工テーブ
ルの移動量とパルス状のレーザ光の発振とを同期させる
ため、目標とする加工位置に高速かつ確実にレーザ光を
照射することができる。半導体装置においては、一般的
にピン(リード部)は等ピッチであるが、リードフレー
ムの製造誤差、樹脂でモールドする時の温度履歴による
歪み、ハンドリングによる外力その他の原因によって変
形することが多く、ダムバーの切断除去時には必ずしも
等ピッチになっていない場合がよくある。実際には隣接
するリードのピッチのばらつきは数μm程度であるが、
パッケージの各辺にはリードが数十本程度配列されてい
るためにトータルでのリードの位置ずれ量は数百μmに
もなってくる。第1の従来技術では、除去すべきダムバ
ー位置を予め登録しておくことになっているが、このよ
うな方式では上記のようなリードが等ピッチになってい
ないことには対応できず、さらに製造誤差や変形等が累
積して誤差が増大するような最悪の場合には、残してお
くべきリードフレームの一部分にダメージを与える可能
性さえある。
According to the first prior art, in order to synchronize the amount of movement of the processing table with the oscillation of the pulsed laser light in consideration of the time required for the laser light oscillation, a target The laser beam can be irradiated at a high speed and reliably to the processing position to be processed. In semiconductor devices, pins (leads) are generally at equal pitches, but are often deformed due to lead frame manufacturing errors, distortion due to temperature history when molding with resin, external force due to handling, and other causes. When cutting and removing the dam bar, the pitch is often not always equal. Actually, the pitch variation between adjacent leads is about several μm,
Since several tens of leads are arranged on each side of the package, the total displacement of the leads is several hundred μm. In the first prior art, the position of the dam bar to be removed is registered in advance, but such a method cannot cope with the fact that the leads are not at the same pitch as described above. In the worst case where manufacturing errors and deformations accumulate and the errors increase, there is even a possibility of damaging a part of the lead frame to be left.

【0006】これに対し第2の従来技術によれば、加工
位置が等間隔であるのみならず等間隔でない場合にも所
望の加工位置を高速で加工することが出来るため、前述
のようにピンが等ピッチでなく不規則な配列になってい
る場合にもある程度対応できる。しかしながら、レーザ
加工時にはリード表面及びその側面にレーザ加工出生じ
る溶融飛散物(スパッタ)が付着するため、第2の従来
技術をダムバーの除去に応用する場合、リード部表面に
付着した溶融飛散物によって検出光の反射光が散乱さ
れ、リード部からの反射光量が減少し、あたかも検出位
置がリード部のエッジを通過した(リード部の存在しな
いスリット部に突入した)と誤認してしまい、その誤認
した検出光を基に加工用のパルスレーザ光を誤照射して
しまう可能性がある。つまり、溶融付着物に起因して変
化した検出信号のレベルが、矩形波信号発生(二値化)
のためのしきい値レベルよりも大きい場合には問題ない
が、しきい値レベルよりも小さくなる場合には、出力さ
れる矩形波信号はリード部のエッジ部だけでなくリード
部表面および側面に付着した溶融飛散物にも同期して発
生してしまう(誤検出してしまう)ため、この誤検出し
た矩形波信号によってもパルスレーザ光が発振(誤発
振)されてしまう。この誤発振によって所定のレーザ加
工位置以外の誤った位置にも誤照射が行われてレーザ加
工が施されてしまうという不具合が生じる。さらに、リ
ード部側面に付着した溶融飛散物によって検出光が反射
され、リード部でない位置を基準としてレーザ光を誤照
射してしまうという可能性もある。
On the other hand, according to the second prior art, a desired processing position can be processed at high speed not only when the processing positions are at equal intervals but also when they are not at equal intervals. Can be handled to some extent even if the pitches are not equal pitch but are irregularly arranged. However, during the laser processing, the molten scattered matter (spatter) generated by the laser processing adheres to the lead surface and the side surface thereof. The reflected light of the detection light is scattered, the amount of light reflected from the lead decreases, and it is erroneously recognized that the detection position has passed through the edge of the lead (entered a slit where no lead exists). There is a possibility that pulse laser light for processing is erroneously irradiated based on the detected light thus detected. In other words, the level of the detection signal that has changed due to the molten deposit is generated as a square wave signal (binarization).
There is no problem if the threshold level is higher than the threshold level, but if the threshold level is lower than the threshold level, the output rectangular wave signal is not only on the edge of the lead, but also on the surface and side of the lead. Since it is also generated (erroneously detected) in synchronism with the adhered molten and scattered matter, the pulse laser light is also oscillated (erroneously oscillated) by the erroneously detected rectangular wave signal. This erroneous oscillation causes a problem that erroneous irradiation is performed on an erroneous position other than the predetermined laser processing position and laser processing is performed. Further, there is a possibility that the detection light is reflected by the molten scattered matter attached to the side surface of the lead portion, and a laser beam is erroneously irradiated with reference to a position other than the lead portion.

【0007】本発明の目的は、加工位置が等間隔である
場合のみならず等間隔でない場合にも被加工物が存在す
る所望の加工位置を高速で加工することが出来ると共
に、加工すべき位置(例えばリードピッチ)のバラツキ
や、レーザ加工に伴って被加工物表面や側面に付着する
溶融飛散物に基づいて、誤ったレーザ加工が施されるこ
とを防止できるレーザ加工装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a high-speed processing of a desired processing position where a workpiece exists, not only when the processing positions are at equal intervals but also when the processing positions are not at equal intervals. By providing a laser processing apparatus capable of preventing erroneous laser processing from being performed on the basis of variations in (for example, lead pitch) and melted and scattered substances adhering to the surface or side surface of a workpiece due to laser processing. is there.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によれば、パルス状のレーザ光を発振するレ
ーザ発振器と、上記レーザ光を被加工物の加工位置まで
誘導する加工光学系と、前記被加工物を移動させる搬送
手段と、その搬送手段の移動量を検出してその移動量に
応じた移動信号を発生する移動量検出手段と、その移動
信号を計数しその計数値に応じてトリガ信号を発生する
トリガ信号発生手段と、前記トリガ信号に基づいたタイ
ミングで前記被加工物の所定の加工位置にレーザ光が照
射されるよう上記レーザ光の発振を制御する制御手段と
を備え、前記レーザ光によって被加工物を加工するレー
ザ加工装置において、検出光を前記加工位置近傍に照射
する検出光発生手段と、上記検出光の反射光を基に前記
被加工物の有無を検出して対応する検出信号を発生する
検出手段と、予め設定した誤差幅を前記トリガ信号の波
形周期に加算した範囲内に上記検出信号の波形周期が収
まっているかどうかを比較する波形周期比較手段と、そ
の波形周期比較手段での比較結果に応じて前記移動信号
の計数開始タイミングを制御するトリガ信号タイミング
制御手段とを有することを特徴とするレーザ加工装置が
提供される。
According to the present invention, there is provided a laser oscillator for oscillating a pulsed laser beam, and a processing optic for guiding the laser beam to a processing position of a workpiece. System, transport means for moving the workpiece, travel distance detecting means for detecting the travel distance of the transport means and generating a travel signal according to the travel distance, and counting the travel signal and counting the count value Trigger signal generating means for generating a trigger signal in response to the control signal, and control means for controlling the oscillation of the laser light so that a predetermined processing position of the workpiece is irradiated with the laser light at a timing based on the trigger signal. In a laser processing apparatus that processes a workpiece by the laser light, a detection light generating unit that irradiates a detection light to the vicinity of the processing position, and determines whether the workpiece is present based on reflected light of the detection light. Detecting means for generating a corresponding detection signal and generating a corresponding detection signal; and a waveform cycle comparing means for comparing whether the waveform cycle of the detection signal falls within a range obtained by adding a preset error width to the waveform cycle of the trigger signal. And a trigger signal timing control means for controlling the counting start timing of the movement signal in accordance with the result of the comparison by the waveform cycle comparing means.

【0009】上記のように構成した本発明では、基本的
には、前記移動量検出手段で発生させた移動信号を計数
し、その計数値に応じてトリガ信号発生手段よりトリガ
信号を発生させ、制御手段において上記トリガ信号に基
づいたタイミングでレーザ光の発振を制御し、被加工物
の所定の加工位置にレーザ光が照射されるようにする。
例えば半導体装置のダムバーを切断する場合には、リー
ドピッチと搬送手段の送り速度により決まる周期と、ト
リガ信号の周期とは同一になるように設定しておくこと
になる。しかし実際には、リードピッチには前述のよう
にバラツキが生じ、或いは溶融飛散物が付着するため、
本発明ではそれに起因して変動するトリガ信号の周期
を、以下のようにして変更できるようにする。
In the present invention configured as described above, basically, the movement signal generated by the movement amount detecting means is counted, and a trigger signal is generated by the trigger signal generating means in accordance with the counted value. The control means controls the oscillation of the laser light at a timing based on the trigger signal so that a predetermined processing position of the workpiece is irradiated with the laser light.
For example, when cutting a dam bar of a semiconductor device, the cycle determined by the lead pitch and the feed speed of the transfer means and the cycle of the trigger signal should be set to be the same. However, in practice, variations occur in the lead pitch as described above, or molten scattered matter adheres,
According to the present invention, the period of the trigger signal that fluctuates due to the change can be changed as follows.

【0010】まず、検出光発生手段より検出光を加工位
置近傍に照射し、検出手段において上記検出光の反射光
を基に加工位置近傍における被加工物の有無を検出して
対応する検出信号を発生させる。そして、波形周期比較
手段で、予め設定した誤差幅を上記トリガ信号の波形周
期に加算した範囲内に、上記検出信号の波形周期が収ま
っているかどうかを比較し、その比較結果に応じ、トリ
ガ信号タイミング制御手段において前記移動信号の計数
開始タイミングを制御する。つまり、上記の範囲内に検
出信号の波形周期が収まっていれば、リード表面や側面
に溶融飛散物等の付着は無いと判断させ、上記検出信号
の周期に応じて移動信号の計数開始タイミングを補正
し、従ってトリガ信号の発振タイミングを補正し、その
トリガ信号に基づいたタイミングで被加工物の所定の加
工位置にレーザ光を照射させる。
First, detection light is radiated from the detection light generation means to the vicinity of the processing position, and the detection means detects the presence or absence of a workpiece near the processing position based on the reflected light of the detection light, and generates a corresponding detection signal. generate. Then, the waveform cycle comparing means compares whether or not the waveform cycle of the detection signal falls within a range obtained by adding a preset error width to the waveform cycle of the trigger signal. Timing control means controls the count start timing of the movement signal. In other words, if the waveform period of the detection signal falls within the above range, it is determined that there is no adhesion of the molten scattered matter on the lead surface or side surface, and the counting start timing of the movement signal is determined according to the period of the detection signal. Then, the oscillation timing of the trigger signal is corrected, and a predetermined processing position of the workpiece is irradiated with laser light at a timing based on the trigger signal.

【0011】このように、搬送手段の移動量に基づく毎
回のトリガ信号の発振タイミングを、検出信号を基準に
して補正することにより、リードピッチ等の加工すべき
位置にバラツキがあったとしても適正な位置にレーザ光
を照射することができ、しかもそのバラツキ誤差を累積
させることも回避される。
As described above, by correcting the oscillation timing of the trigger signal based on the amount of movement of the transporting means on the basis of the detection signal, even if there is a variation in the position to be processed such as the lead pitch, it is appropriate. It is possible to irradiate a laser beam to a proper position, and it is also possible to avoid accumulating the variation error.

【0012】また波形周期比較手段において、予め設定
した誤差幅を前述のトリガ信号の波形周期に加算した範
囲内に、上記検出信号の波形周期が収まっていない場合
には、リード表面や側面に溶融飛散物等の付着物が存在
すると判断させる。この場合には検出信号自体が不正で
あるため、検出信号を基準にした補正は行わず、搬送手
段の移動量に基づく前述のトリガ信号に基づいたタイミ
ングで被加工物の所定の加工位置にレーザ光を照射させ
る。これにより、リード等の被加工物表面や側面に溶融
飛散物等が付着していた場合には、その溶融飛散物に起
因する誤った検出信号に従ってトリガ信号の発振タイミ
ングが制御されるという不具合が防止され、レーザ光が
誤照射されることが防止される。
If the waveform period of the detection signal does not fall within a range obtained by adding a preset error width to the waveform period of the trigger signal, the waveform period comparing means may melt the lead surface or side surface. It is determined that there is an attached matter such as a flying matter. In this case, since the detection signal itself is incorrect, the correction based on the detection signal is not performed, and the laser is moved to a predetermined processing position of the workpiece at the timing based on the trigger signal based on the movement amount of the transporting means. Irradiate light. As a result, when melted splatters adhere to the surface or side surface of a workpiece such as a lead, there is a problem that the oscillation timing of a trigger signal is controlled in accordance with an erroneous detection signal caused by the melted splatters. The laser beam is prevented from being erroneously irradiated.

【0013】従って本発明によれば、加工位置が等間隔
である場合のみならず等間隔でない場合にも被加工物が
存在する所望の加工位置を高速で加工することが可能で
あるだけでなく、加工すべき位置のバラツキに基づいて
誤ったレーザ加工が施されること、例えばリードピッチ
のバラツキが累積されて残すべきリードまで切断してし
まうことや、レーザ加工に伴って被加工物表面や側面に
付着する溶融飛散物に基づいて誤ったレーザ加工が施さ
れること、例えば残すべきリード部にレーザ光が照射さ
れてしまうことなどを防止できる。
Therefore, according to the present invention, not only when the processing positions are at equal intervals but also when the processing positions are not at equal intervals, it is possible not only to process the desired processing position where the workpiece exists but also at high speed. Incorrect laser processing is performed based on the variation in the position to be processed, for example, the lead pitch variation is accumulated and the lead to be cut is cut off, or the workpiece surface or It is possible to prevent erroneous laser processing from being performed based on the melted and scattered substances adhering to the side surface, for example, irradiating a lead portion to be left with laser light.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の一実施形態について、図
1から図8を参照しながら説明する。但し、以下では、
主に等間隔にピンを有するICパッケージのダムバー除
去について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. However, in the following,
The removal of the dam bar of an IC package having pins at equal intervals will be mainly described.

【0015】図1に示すように、本実施形態のレーザ加
工装置には、レーザヘッド11と加工ヘッド12とレー
ザ電源13とから構成されるレーザ発振器10、ワーク
(ICパッケージ)1を搭載し水平面内(XY平面内)
に移動させる搬送手段としてのXYテーブル21、レー
ザヘッド11及び加工ヘッド12を上下方向(Z軸方
向)に移動させるZテーブル22、メインコントローラ
23とトリガユニット24を有するコントロールユニッ
ト25が備えられている。メインコントローラ23は、
XYテーブル21の水平面内の移動動作とZテーブル2
2の上下方向の移動動作とレーザ発振器10の発振動作
とを自動または手動で制御する。
As shown in FIG. 1, a laser processing apparatus according to the present embodiment is provided with a laser oscillator 10 composed of a laser head 11, a processing head 12, and a laser power supply 13, and a work (IC package) 1, which is mounted on a horizontal plane. Inside (within XY plane)
And a control unit 25 having a main controller 23 and a trigger unit 24. The XY table 21 is a transport unit for moving the laser head 11 and the processing head 12 in the vertical direction (Z-axis direction). . The main controller 23
Movement of XY table 21 in horizontal plane and Z table 2
2 to automatically or manually control the vertical movement operation and the oscillation operation of the laser oscillator 10.

【0016】レーザ電源13は、安定化電源130、コ
ンデンサ部131、スイッチ部132、及びレーザコン
トローラ26から構成される。このレーザ電源13には
交流電源133より交流電流が供給され、この交流電流
が安定化電源130においてレーザコントローラ26か
ら指令された電圧値に従って直流に変えられ、コンデン
サ部131に供給される。コンデンサ部131に上記電
圧値で供給された電荷はスイッチ部132に供給され、
レーザコントローラ26から入力されるパルスレーザ光
のパルス幅及びパルス周波数を指令するトリガ信号に従
ってスイッチ部132が動作し、上記電荷がレーザヘッ
ド11に備えられたレーザ励起用のフラッシュランプ1
11に供給される。このパルス状の電荷によりフラッシ
ュランプ111が発光し、これにより発振媒体が励起さ
れてパルスレーザ光がパルス状に発振する。
The laser power supply 13 comprises a stabilized power supply 130, a capacitor section 131, a switch section 132, and a laser controller 26. An alternating current is supplied to the laser power supply 13 from an alternating current power supply 133, and the alternating current is converted to a direct current by the stabilized power supply 130 in accordance with a voltage value commanded by the laser controller 26, and supplied to the capacitor unit 131. The charge supplied to the capacitor unit 131 at the above voltage value is supplied to the switch unit 132,
The switch unit 132 operates in accordance with a trigger signal for instructing the pulse width and pulse frequency of the pulsed laser light input from the laser controller 26, and the electric charge is stored in the laser excitation flash lamp 1 provided in the laser head 11.
11 is supplied. The flash lamp 111 emits light due to the pulsed electric charge, thereby exciting the oscillation medium and pulsating the pulsed laser light.

【0017】また、図1に示すレーザヘッド11にはビ
ームシャッター112が内臓されている。このビームシ
ャッター112は、開閉することによってレーザ発振器
10より放出されるパルスレーザ光をON/OFFし、
ワーク1へのパルスレーザ光の照射を制御する。即ちワ
ーク1を加工する場合には上記ビームシャッター112
を開き、加工しない場合には上記ビームシャッター11
2を閉じる。このビームシャッター112の動作時間は
100〜300msec程度である。また、ビームシャ
ッタ112のON/OFFの制御は、レーザコントロー
ラ26から行うが、メインコントローラ23からレーザ
コントローラ26を介して行うことも可能である。
The laser head 11 shown in FIG. 1 has a built-in beam shutter 112. The beam shutter 112 turns ON / OFF the pulse laser light emitted from the laser oscillator 10 by opening and closing,
The irradiation of the pulse laser beam to the work 1 is controlled. That is, when processing the work 1, the beam shutter 112 is used.
To open the beam shutter 11
Close 2. The operation time of the beam shutter 112 is about 100 to 300 msec. Further, the ON / OFF control of the beam shutter 112 is performed by the laser controller 26, but can be performed by the main controller 23 via the laser controller 26.

【0018】加工ヘッド12には後述する検出光発生装
置126(図4参照)と検出手段としてのフォトセンサ
125が備えられ、フォトセンサ125からの検出信号
はトリガユニット24に入力され、トリガユニット24
はメインコントローラ23からの指令により、レーザ電
源13内のレーザコントローラ26(後述する)にトリ
ガ信号Pを出力する。一方、XYテーブル21には移動
量検出手段としてのロータリエンコーダ(以下、単にエ
ンコーダという)21aが取り付けられており、このエ
ンコーダ21aからXYテーブル21の移動量に応じた
移動量信号(パルス信号)Mがトリガユニット24の比
較・タイミング回路242(図2参照)に入力される。
但し、移動量信号MはXYテーブル21の移動量に応じ
た信号であり、その移動速度の影響は受けない。
The processing head 12 is provided with a detection light generator 126 (see FIG. 4), which will be described later, and a photosensor 125 as detection means. A detection signal from the photosensor 125 is input to the trigger unit 24,
Outputs a trigger signal P to a laser controller 26 (described later) in the laser power supply 13 in response to a command from the main controller 23. On the other hand, a rotary encoder (hereinafter, simply referred to as an encoder) 21a as a moving amount detecting means is attached to the XY table 21, and a moving amount signal (pulse signal) M corresponding to the moving amount of the XY table 21 from the encoder 21a. Is input to the comparison / timing circuit 242 of the trigger unit 24 (see FIG. 2).
However, the movement amount signal M is a signal corresponding to the movement amount of the XY table 21, and is not affected by the movement speed.

【0019】また、図2に示すように、トリガユニット
24には、オぺアンプで構成された二値化手段としての
コンパレータ241、波形周期比較手段としての比較・
タイミング制御回路242、ディレイ回路243が備え
られている。
As shown in FIG. 2, the trigger unit 24 includes a comparator 241 constituted by an operational amplifier as a binarizing means, and a comparator / comparison as a waveform period comparing means.
A timing control circuit 242 and a delay circuit 243 are provided.

【0020】さらに、図3に示すように、レーザコント
ローラ26には、入出力部260、中央演算部261、
トリガ回路262が備えられている。トリガ回路262
は、トリガユニット24からのトリガ信号Pの立ち上が
りに同期してメインコントローラ23から中央演算部2
61に指示されたパルス幅のトリガ信号Tを生成し、こ
のトリガ信号Tがスイッチ部132に入力される。ま
た、コンデンサ部131に供給される電荷の電圧値は、
入出力部260より中央演算部261に入力され、中央
演算部261から安定化電源130に指示される。これ
以後は、前述したような過程に従ってレーザ光が発振す
る。
Further, as shown in FIG. 3, the laser controller 26 includes an input / output unit 260, a central processing unit 261,
A trigger circuit 262 is provided. Trigger circuit 262
Is transmitted from the main controller 23 to the central processing unit 2 in synchronization with the rise of the trigger signal P from the trigger unit 24.
A trigger signal T having a pulse width designated by 61 is generated, and this trigger signal T is input to the switch unit 132. The voltage value of the electric charge supplied to the capacitor unit 131 is
The data is input from the input / output unit 260 to the central processing unit 261, and the central processing unit 261 instructs the stabilized power supply 130. Thereafter, the laser light oscillates according to the above-described process.

【0021】さらに、図4に示すように、加工ヘッド1
2内部には、パルスレーザ光の波長に対し高い反射率特
性を持つベンディングミラー120、及びパルスレーザ
光を集光させる集光レンズ121が備えられており、こ
れらは従来のレーザ加工装置の構成と同様である。本実
施形態では上記構成に加え、検出用光源122、ダイク
ロイックミラー123、結像用レンズ124、ターゲッ
ト125a及びフォトセンサ125が付加される。この
うち、フォトセンサ125はターゲット125aに開け
られた開口部に取り付けられている。また上記のうち、
検出用光源122、ダイクロイックミラー123及び結
像用レンズ124が検出光発生装置126を構成する。
Further, as shown in FIG.
2, a bending mirror 120 having a high reflectance characteristic with respect to the wavelength of the pulse laser light, and a condensing lens 121 for condensing the pulse laser light are provided. The same is true. In the present embodiment, in addition to the above configuration, a detection light source 122, a dichroic mirror 123, an imaging lens 124, a target 125a, and a photosensor 125 are added. Among them, the photo sensor 125 is attached to an opening formed in the target 125a. Of the above,
The detection light source 122, the dichroic mirror 123, and the imaging lens 124 constitute a detection light generator 126.

【0022】上記加工ヘッド12の基本的な機能を以下
に説明する。まず、レーザヘッド11から出力されたパ
ルス状のレーザ光のビームは、ベンディングミラー12
0で方向が変えられ、集光レンズ121で集光されてワ
ーク1上に照射される。また、検出用光源122で発光
した光は、ダイクロイックミラー123で方向が変えら
れ、ベンディングミラー120を透過し、集光レンズ1
21で集光されてワーク1上のレーザ加工部近傍の検出
光となる。ワーク1表面で反射した反射光は、ベンディ
ングミラー120及びダイクロイックミラー123を透
過して、結像用レンズ124で集光され、ターゲット1
25aに当たる。ターゲット125aに当たった反射光
のうちの一部が開口部からフォトセンサー125に入力
される。
The basic functions of the processing head 12 will be described below. First, a beam of pulsed laser light output from the laser head 11 is
At 0, the direction is changed, and the light is condensed by the condenser lens 121 and irradiated onto the work 1. The light emitted from the light source 122 for detection is changed in direction by the dichroic mirror 123, passes through the bending mirror 120, and
The light is condensed at 21 and becomes detection light near the laser processing portion on the work 1. The light reflected on the surface of the work 1 passes through the bending mirror 120 and the dichroic mirror 123, is collected by the imaging lens 124, and
This corresponds to 25a. Part of the reflected light hitting the target 125a is input to the photo sensor 125 through the opening.

【0023】この時、集光レンズ121と結像用レンズ
124との組合わせにより、ワーク1表面上の像がフォ
トセンサー125の位置で結像するようにしておくと、
ワーク1上の像が結像用レンズ124で絞られターゲッ
ト125aの位置で、例えば図5に示すように結像され
る。
At this time, if the image on the surface of the work 1 is formed at the position of the photo sensor 125 by combining the condenser lens 121 and the imaging lens 124,
An image on the work 1 is stopped down by the imaging lens 124 and formed at the position of the target 125a, for example, as shown in FIG.

【0024】図5においては、相隣り合うリードを結合
するダムバー2およびその近傍が結像しており、リード
が存在しない部分(以下、スリット部という)3,4の
うち樹脂モールド6側のスリット部4のみがICパッケ
ージのモールド時にレジンで満たされている。但し、画
像の中心線上にダムバー2の中心線があり、X軸および
Y軸を図のように定め、検出および加工はX軸方向に走
査しながら行うものとする。また、この画像の一部の光
がフォトセンサ125で検出されるが、図中斜線部で示
す位置に開口部125bがあり、この開口部125bに
フォトセンサ125が設置されている。開口部125b
の位置は、画像の中心線に対し樹脂モールド6とは反対
側に少しずらせた位置で、かつ画像の中心に対しX軸の
正の方向に距離Lだけずらせた位置とする。
In FIG. 5, the dam bar 2 connecting adjacent leads and the vicinity thereof are imaged, and the slits on the resin mold 6 side among the portions 3 and 4 where no leads exist (hereinafter referred to as slit portions) are shown. Only the part 4 is filled with the resin at the time of molding the IC package. However, the center line of the dam bar 2 is located on the center line of the image, the X axis and the Y axis are determined as shown in the figure, and detection and processing are performed while scanning in the X axis direction. Further, a part of the light of this image is detected by the photo sensor 125, and an opening 125b is provided at a position indicated by a hatched portion in the figure, and the photo sensor 125 is installed in the opening 125b. Opening 125b
Is a position slightly displaced from the center line of the image to the opposite side of the resin mold 6 and a position displaced from the center of the image by a distance L in the positive direction of the X-axis.

【0025】上記のような状態で、X軸の正方向に開口
部125bを移動させる(即ちX軸の負方向にワーク1
を移動させる)ことにより、フォトセンサ125はリー
ド部5の有無、つまりリード5の存在する部分とスリッ
ト部3とを明暗によって検出することができる。
In the above state, the opening 125b is moved in the positive direction of the X axis (that is, the work 1 is moved in the negative direction of the X axis).
Is moved), the photo sensor 125 can detect the presence or absence of the lead portion 5, that is, the portion where the lead 5 exists and the slit portion 3 based on brightness.

【0026】以上の構成を有するレーザ加工装置の動作
を説明する。まず、図6(a)のような形状のワーク1
(ダムバー2a,2b,2c,2d,…を含むICパッ
ケージのリードフレーム)をXYテーブル21によっ
て、例えばX軸の負方向に一定速度vで移動させると、
ターゲット125a上に結像しているワーク1からの反
射光による画像はX軸の正方向に移動する。ところが、
フォトセンサ125はターゲット125aの開口部12
5bに固定されているので、フォトセンサ125からの
出力である検出信号の変化は、図7に示すようにリード
部5で高い出力となり、スリット部3で低い出力とな
る。但し、ここでの検出信号は、光が強い場合に高い出
力、光が弱い場合に低い出力になるものとする。また、
ワーク1のリード部5及びスリット部3が等ピッチで並
んでいれば、XYテーブル21が一定速度で移動するこ
とにより検出信号は一定周期の波形として出力され、一
方ワーク1のリード部とスリット部が等ピッチに並んで
いない場合には、検出信号はピッチの変化に比例した時
間変化を持つ波形として検出される。
The operation of the laser processing apparatus having the above configuration will be described. First, a work 1 having a shape as shown in FIG.
(The lead frame of the IC package including the dam bars 2a, 2b, 2c, 2d,...) Is moved by the XY table 21 at a constant speed v in the negative direction of the X axis, for example.
An image formed on the target 125a by reflected light from the work 1 moves in the positive direction of the X axis. However,
The photo sensor 125 is connected to the opening 12 of the target 125a.
5b, the change in the detection signal, which is the output from the photosensor 125, is high at the lead 5 and low at the slit 3, as shown in FIG. However, the detection signal here is assumed to have a high output when the light is strong and a low output when the light is weak. Also,
If the lead portion 5 and the slit portion 3 of the work 1 are arranged at a constant pitch, the detection signal is output as a waveform of a fixed period by moving the XY table 21 at a constant speed. Are not arranged at the same pitch, the detection signal is detected as a waveform having a time change proportional to the change in pitch.

【0027】次に、上記のようにして検出された検出信
号の波形はトリガユニット24のコンパレータ241に
入力され、二値化される。即ち、フォトセンサ125か
らコンパレータ241に入力された検出信号が図7中破
線Sで示す所定のスレッシュホールドをもとに二値化さ
れて矩形波信号P1となり比較タイミング制御回路24
2に入力される。
Next, the waveform of the detection signal detected as described above is input to the comparator 241 of the trigger unit 24 and binarized. That is, the detection signal input from the photo sensor 125 to the comparator 241 is binarized based on a predetermined threshold indicated by a broken line S in FIG.
2 is input.

【0028】次に、比較タイミング制御回路242及び
その後の処理について、図6(a)のダムバー2a〜2
dの切断除去を中心に図8により説明する。まず、第1
のダムバー2aの切断については、コンパレータ241
からの出力P1の最初の波形立ち上がりR1のタイミン
グで信号P2を発生させ、ディレイ回路243でメイコ
ントローラ23から指令された遅れ時間tDを与え、ト
リガ信号Pとしてレーザコントローラ26に入力し、前
述したようなプロセスでパルス状のレーザ光を発振させ
る。つまり、R1から所定の遅れ時間tD後にパルス状
のレーザ光発振が行われ、最初のダムバー2aの切断が
行われることになる。また、コンパレータ241からの
出力P1の第2の立ち上がりR2までの時間CSP1を
比較・タイミング制御回路242内で測定開始する。さ
らに、コンパレータ241からの出力P1の最初の立ち
上がりR1直後におけるエンコーダ21aからの移動量
信号Mのパルスよりカウントを開始し、予め設定したリ
ードピッチ(設計値に基づく)の距離に相当するパルス
数TEPをカウントした時点で次の信号P2を発生さ
せ、ディレイ回路243で遅れ時間tDを与え、トリガ
信号Pとしてレーザコントローラ26に入力し、前述し
たようなプロセスでパルス状のレーザ光を発振させる。
これにより第2のダムバー2bの切断が行われる。ま
た、コンパレータ241からの出力P1の第3の立ち上
がりR3までの時間CSP2を比較・タイミング制御回
路242内で測定開始する。
Next, the comparison timing control circuit 242 and the subsequent processing will be described with reference to the dam bars 2a to 2a shown in FIG.
A description will be given with reference to FIG. First, the first
For the disconnection of the dam bar 2a, the comparator 241
A signal P2 is generated at the timing of the first rising edge R1 of the output P1 from the controller, a delay time tD commanded by the May controller 23 is given by the delay circuit 243, and the delay time tD is input to the laser controller 26 as the trigger signal P, as described above. Pulsed laser light is oscillated by a simple process. That is, after a predetermined delay time tD from R1, pulsed laser light oscillation is performed, and the first dam bar 2a is cut. Further, the comparison / timing control circuit 242 starts measuring the time CSP1 until the second rising R2 of the output P1 from the comparator 241. Further, the counting is started from the pulse of the movement amount signal M from the encoder 21a immediately after the first rising R1 of the output P1 from the comparator 241, and the pulse number TEP corresponding to the distance of the preset lead pitch (based on the design value) is set. Is counted, the next signal P2 is generated, a delay time tD is given by the delay circuit 243, and the signal is input to the laser controller 26 as the trigger signal P, and the pulsed laser light is oscillated by the process described above.
Thereby, the second dam bar 2b is cut. Further, the comparison / timing control circuit 242 starts measuring the time CSP2 until the third rising R3 of the output P1 from the comparator 241.

【0029】ここで、予め設定したリードピッチ(設計
値に基づく)の距離をカウントするのに掛かった時間を
EPP1とし、その時間EPP1にリードピッチのずれ
に起因する時間誤差eを加・減算し、その範囲内(EP
P1±e)にCSP1が収まっているかどうかを比較・
タイミング制御回路242で判断する。その結果、上記
範囲内にCSP1が収まっていれば、リード部5の表面
や側面に溶融飛散物等の付着は無いと判断して、P1の
第2の立ち上がりR2直後より移動量信号Mのパルス数
カウントを開始する。
Here, the time required to count the distance of a preset lead pitch (based on a design value) is defined as EPP1, and a time error e caused by a shift in the lead pitch is added to or subtracted from the time EPP1. , Within its range (EP
Compare whether CSP1 is within P1 ± e)
The determination is made by the timing control circuit 242. As a result, if the CSP1 is within the above range, it is determined that there is no adhesion of the melted scattered matter on the surface or the side surface of the lead portion 5, and the pulse of the movement amount signal M immediately after the second rising R2 of P1. Start counting.

【0030】そして、移動量信号Mのパルス数が、予め
設定したリードピッチ(設計値に基づく)の距離に相当
するパルス数TEPをカウントした時点で次の信号P2
を発生させ、ディレイ回路243で遅れ時間tDを与
え、トリガ信号Pとしてレーザコントローラ26に入力
し、前述したようなプロセスでパルス状のレーザ光を発
振させる。これにより第3のダムバー2cの切断が行わ
れる。また、前述と同様にコンパレータ241からの出
力P1の第4の立ち上がりR4までの時間CSP3を比
較・タイミング制御回路242内で測定開始する。
When the number of pulses of the movement amount signal M has counted the number of pulses TEP corresponding to the distance of the preset lead pitch (based on the design value), the next signal P2
Is generated, a delay time tD is given by the delay circuit 243, and the delay time tD is input to the laser controller 26 as the trigger signal P, and a pulsed laser beam is oscillated by the process described above. Thereby, the third dam bar 2c is cut. In the same manner as described above, measurement of the time CSP3 until the fourth rise R4 of the output P1 from the comparator 241 is started in the comparison / timing control circuit 242.

【0031】ところが、第3のダムバー2c近傍のリー
ド表面に図6(a)に示すような溶融飛散物100a
(図中斜線で示す)が付着していた場合には、図8に示
すように、コンパレータ241からの出力P1が変化
し、第3の立ち上がりR3がR3*になってしまい、C
SP2が設計値よりも長くなってしまうことになる。こ
れは、検出用光源122からワーク1に照射される光
は、比較的フラットな表面では多く反射するが、図6
(a)に示す溶融飛散物100aがリード部5に付着し
ている場所では乱反射したり集光レンズ121の口径か
ら外れた所に反射光が進んでしまい、フォトセンサ12
5に入る光量が減ってしまうためである。この場合、予
め設定したリードピッチ(設計値に基づく)の距離をカ
ウントするのに掛かった時間EPP2に前述の時間誤差
eを加味した範囲内(EPP2±e)に、CSP2が収
まらないことになる。このように上記範囲内にCSP2
が収まっていないと比較・タイミング制御回路242で
判断された場合には、P1の第3の立ち上がりR3は不
正であるためこのR3は用いず、第3のダムバー2c切
断のために用いた移動量信号Mのパルス数TEPのカウ
ントアップと同時に次の移動量信号Mのパルス数カウン
トを開始する。
However, on the lead surface near the third dam bar 2c, a molten scattered material 100a as shown in FIG.
In the case where (shown by oblique lines in the figure) has adhered, as shown in FIG. 8, the output P1 from the comparator 241 changes, and the third rising edge R3 becomes R3 *, and C3
SP2 will be longer than the design value. This is because the light emitted from the detection light source 122 to the work 1 is largely reflected on the relatively flat surface.
In the place where the molten scattered matter 100a shown in (a) is attached to the lead portion 5, the reflected light is irregularly reflected or the reflected light proceeds to a place outside the aperture of the condenser lens 121, and the photo sensor 12
This is because the amount of light entering 5 decreases. In this case, the CSP2 does not fall within the range (EPP2 ± e) in which the time error e is added to the time EPP2 required to count the distance of the preset lead pitch (based on the design value). . Thus, CSP2 within the above range
When the comparison / timing control circuit 242 determines that is not within the range, the third rising R3 of P1 is incorrect, so this R3 is not used, and the moving amount used for cutting the third dam bar 2c is not used. At the same time when the pulse number TEP of the signal M is counted up, the pulse number counting of the next movement amount signal M is started.

【0032】そして、上記移動量信号Mのパルス数が、
予め設定したリードピッチ(設計値に基づく)の距離に
相当するパルス数TEPをカウントした時点で次の信号
P2を発生させ、ディレイ回路243で遅れ時間tDを
与え、トリガ信号Pとしてレーザコントローラ26に入
力し、前述したようなプロセスでパルス状のレーザ光を
発振させる。これにより第4のダムバー2dの切断が行
われる。また、コンパレータ241からの出力P1の次
の立ち上がりR4までの時間CSP4を比較・タイミン
グ制御回路242内で測定開始する。
Then, the pulse number of the movement amount signal M is
When the number of pulses TEP corresponding to the distance of the preset lead pitch (based on the design value) is counted, the next signal P2 is generated, a delay time tD is given by the delay circuit 243, and the trigger signal P is given to the laser controller 26. The laser beam is input and pulsed laser light is oscillated by the process described above. Thereby, the fourth dam bar 2d is cut. Further, measurement of the time CSP4 until the next rise R4 of the output P1 from the comparator 241 is started in the comparison / timing control circuit 242.

【0033】但し、上記第4のダムバー2d周辺に図6
(a)のように溶融飛散物が付着していない場合には、
図8に示すコンパレータ241からの出力P1(R4)
はR3*のように変化しない。そのために、第3の立ち
上がりR3*から第4の立ち上がりR4までのCSP3
が短くなってしまうことになる。この場合には、CSP
3ではなく、例えば次のような式 CSP3*=(CSP2+CSP3)/2 … (1) で算出されるCSP3*が、EPP3±eの範囲(予め
設定したリードピッチをカウントするのに掛かった時間
EPP3に時間誤差eを加味した範囲)に収まっている
かどうかを比較・タイミング制御回路242で判断す
る。この判断に基づいてこれまでと同様に移動量信号M
のパルス数カウントを開始する。以下、順次同様の手順
を経て5番目以降のダムバーを切断していく。なお、式
(1)で過去2つのP1の立ち上がり間隔を平均するこ
ととしているが、過去3個以上の平均をとるようにして
もよい。
However, FIG. 6 shows the vicinity of the fourth dam bar 2d.
In the case where the molten scattered matter is not attached as in (a),
The output P1 (R4) from the comparator 241 shown in FIG.
Does not change like R3 *. Therefore, the CSP3 from the third rising R3 * to the fourth rising R4
Will be shorter. In this case, the CSP
3, the CSP3 * calculated by the following formula, for example, CSP3 * = (CSP2 + CSP3) / 2... The comparison / timing control circuit 242 determines whether the time is within the range in which the time error e is taken into account. Based on this determination, the movement amount signal M
Start counting the number of pulses. Hereinafter, the dam bar after the fifth is sequentially cut through the same procedure. Although the rising intervals of the past two P1s are averaged in Expression (1), an average of the past three or more P1s may be taken.

【0034】以上のような本実施形態によれば、比較・
タイミング回路242において、予め設定したリードピ
ッチ(設計値に基づく)の距離をカウントするのに掛か
った時間に誤差を加味した範囲(EPP1±eなど)内
に、コンパレータ241からの出力P1の立ち上がり間
隔(CSP1,CSP2,…)が収まっているかどうか
を比較、判断し、その結果に応じて、ダムバー2a,2
b,…のレーザ切断のトリガとなる移動量信号Mのカウ
ント(パルス数TEP)開始タイミングを制御するの
で、リードピッチにバラツキがあったとしても適正な位
置にレーザ光を照射することができ、しかもそのバラツ
キ誤差を累積させることも回避され、さらに、リード部
5の表面や側面に溶融飛散物100a等が付着していた
場合にも、それに起因してレーザ光が誤照射されること
が防止される。
According to the present embodiment as described above,
In the timing circuit 242, the rising interval of the output P1 from the comparator 241 is within a range (EPP1 ± e, etc.) in which an error is added to the time taken to count the distance of the preset lead pitch (based on the design value). (CSP1, CSP2,...) Are compared and determined, and according to the result, the dam bars 2a, 2
Since the count (pulse number TEP) start timing of the movement amount signal M that triggers the laser cutting of b,... is controlled, it is possible to irradiate the laser beam to an appropriate position even if the lead pitch varies. In addition, accumulation of the variation error is avoided, and furthermore, even when the melted scattered matter 100a or the like adheres to the surface or side surface of the lead portion 5, the laser beam is prevented from being erroneously irradiated due to the adhesion. Is done.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明によれば、波形周期比較手段にお
いて、予め設定した誤差幅をトリガ信号の波形周期に加
算した範囲内に、検出信号の波形周期が収まっているか
どうかを比較、判断し、その結果に応じて移動信号の計
数開始タイミングを制御するので、加工すべき位置(例
えばリードピッチ)にバラツキがあったとしても適正な
位置にレーザ光を照射することができ、しかもそのバラ
ツキ誤差を累積させることも回避され、さらに、被加工
物(例えばリード部)の表面や側面に溶融飛散物等が付
着していた場合にも、それに起因してレーザ光が誤照射
されることが防止される。
According to the present invention, the waveform cycle comparing means compares and determines whether or not the waveform cycle of the detection signal falls within a range obtained by adding a preset error width to the waveform cycle of the trigger signal. Since the counting start timing of the movement signal is controlled in accordance with the result, even if the position to be processed (for example, the lead pitch) varies, it is possible to irradiate the laser beam to an appropriate position, and furthermore, the variation error Is prevented from accumulating, and even if the melted or scattered material adheres to the surface or side surface of the work piece (for example, the lead portion), the laser light is prevented from being erroneously irradiated due to this. Is done.

【0036】従って本発明によれば、加工位置が等間隔
である場合のみならず等間隔でない場合にも被加工物が
存在する所望の加工位置を高速で加工することが可能で
あるだけでなく、加工すべき位置のバラツキに基づいて
誤ったレーザ加工が施されること、例えばリードピッチ
のバラツキが累積されて残すべきリードまで切断してし
まうことや、レーザ加工に伴って被加工物表面や側面に
付着する溶融飛散物に基づいて誤ったレーザ加工が施さ
れること、例えば残すべきリード部にレーザ光が照射さ
れてしまうことなどを防止できる。
Therefore, according to the present invention, not only when the processing positions are at equal intervals but also when the processing positions are not at equal intervals, it is possible not only to process the desired processing position where the workpiece exists but also at high speed. Incorrect laser processing is performed based on the variation in the position to be processed, for example, the lead pitch variation is accumulated and the lead to be cut is cut off, or the workpiece surface or It is possible to prevent erroneous laser processing from being performed based on the melted and scattered substances adhering to the side surface, for example, irradiating a lead portion to be left with laser light.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態によるレーザ加工装置の概
略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のレーザ加工装置におけるトリガユニット
の構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of a trigger unit in the laser processing apparatus of FIG. 1;

【図3】図1のレーザ加工装置におけるレーザコントロ
ーラの構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a laser controller in the laser processing apparatus of FIG. 1;

【図4】図1のレーザ加工装置における加工ヘッド内部
の構成の概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram of a configuration inside a processing head in the laser processing apparatus of FIG. 1;

【図5】図4のターゲットの位置で結像した画像の一例
を表す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of an image formed at a position of a target in FIG. 4;

【図6】図4のフォトセンサからの検出信号を説明する
ための図であって、(a)はICパッケージのリードフ
レーム形状を示す図、(b)はフォトセンサからの出力
である検出信号を二値化した後の図である。
6A and 6B are diagrams for explaining a detection signal from the photo sensor of FIG. 4, wherein FIG. 6A is a diagram showing a lead frame shape of an IC package, and FIG. 6B is a detection signal as an output from the photo sensor; FIG. 6 is a diagram after binarizing.

【図7】検出信号がコンパレータで二値化され、比較・
タイミング制御回路に出力される状況を示す図である。
FIG. 7: The detection signal is binarized by a comparator,
FIG. 4 is a diagram illustrating a situation output to a timing control circuit.

【図8】比較タイミング制御回路及びその後の処理につ
いて説明する図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating a comparison timing control circuit and subsequent processing.

【符号の説明】 1 ワーク(ICパッケージ) 2 ダムバー 2a 第1のダムバー 2b 第2のダムバー 2c 第3のダムバー 2d 第4のダムバー 3,4 スリット部 5 リード部 6 樹脂モールド 10 レーザ発振器 11 レーザヘッド 12 加工ヘッド 13 レーザ電源 21 XYテーブル 21a (ロータリ)エンコーダ 22 Zテーブル 23 メインコントローラ 24 トリガユニット 25 コントロールユニット 26 レーザコントローラ 120 ベンディングミラー 121 集光レンズ 122 検出用光源 123 ダイクロイックミラー 124 結像用レンズ 125 フォトセンサ 125a ターゲット 125b 開口部 126 検出光発生装置 130 安定化電源 131 コンデンサ部 132 スイッチ部 133 交流電源 241 コンパレータ(二値化手段) 242 比較・タイミング制御回路 243 ディレイ回路[Description of Signs] 1 Work (IC package) 2 Dam bar 2a First dam bar 2b Second dam bar 2c Third dam bar 2d Fourth dam bar 3,4 Slit part 5 Lead part 6 Resin mold 10 Laser oscillator 11 Laser head Reference Signs List 12 processing head 13 laser power supply 21 XY table 21a (rotary) encoder 22 Z table 23 main controller 24 trigger unit 25 control unit 26 laser controller 120 bending mirror 121 condensing lens 122 light source for detection 123 dichroic mirror 124 imaging lens 125 photo Sensor 125a Target 125b Opening 126 Detected light generator 130 Stabilized power supply 131 Capacitor section 132 Switch section 133 AC power supply 241 Comparator ( Digitizing means) 242 compares timing control circuit 243 delay circuits

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下村 義昭 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 桜井 茂行 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 西垣 剛 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 美野本 泰 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機エ ンジニアリング株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Yoshiaki Shimomura 650, Kandamachi, Tsuchiura-shi, Ibaraki Pref.Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. (72) Inventor Shigeyuki Sakurai 650, Kandamachi, Tsuchiura-shi, Ibaraki Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Inside the Tsuchiura Plant of Shikisha Company (72) Inventor Tsuyoshi Nishigaki 650 Kandamachi, Tsuchiura City, Ibaraki Prefecture Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Inside the Tsuchiura Plant of Shikisha Company (72) Yasushi Minomoto 650 Kamikachicho, Tsuchiura City, Ibaraki Prefecture Ring Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パルス状のレーザ光を発振するレーザ発
振器と、前記レーザ光を被加工物の加工位置まで誘導す
る加工光学系と、前記被加工物を移動させる搬送手段
と、前記搬送手段の移動量を検出してその移動量に応じ
た移動信号を発生する移動量検出手段と、前記移動信号
を計数しその計数値に応じてトリガ信号を発生するトリ
ガ信号発生手段と、前記トリガ信号に基づいたタイミン
グで前記被加工物の所定の加工位置にレーザ光が照射さ
れるよう前記レーザ光の発振を抑制する制御手段とを備
え、前記レーザ光によって前記被加工物を加工するレー
ザ加工装置において、 検出光を前記加工位置近傍に照射する検出光発生手段
と、 前記検出光の反射光を基に前記被加工物の有無を検出し
て対応する検出信号を発生する検出手段と、 予め設定した誤差幅を前記トリガ信号の波形周期に加算
した範囲内に、前記検出信号の波形周期が収まっている
かどうかを比較する波形周期比較手段と、 前記波形周期比較手段での比較結果に応じて前記移動信
号の計数開始タイミングを制御するトリガ信号タイミン
グ制御手段とを有することを特徴とするレーザ加工装
置。
A laser oscillator that oscillates pulsed laser light; a processing optical system that guides the laser light to a processing position of the workpiece; a transport unit that moves the workpiece; Moving amount detecting means for detecting a moving amount and generating a moving signal according to the moving amount; trigger signal generating means for counting the moving signal and generating a trigger signal according to the counted value; Control means for suppressing oscillation of the laser light so that a predetermined processing position of the workpiece is irradiated with the laser light at a timing based on the laser light, wherein the laser processing apparatus processes the workpiece with the laser light. Detection light generating means for irradiating detection light near the processing position; detection means for detecting presence or absence of the workpiece based on reflected light of the detection light and generating a corresponding detection signal; A waveform cycle comparing means for comparing whether or not the waveform cycle of the detection signal falls within a range obtained by adding the determined error width to the waveform cycle of the trigger signal, and according to a comparison result by the waveform cycle comparing means. And a trigger signal timing control means for controlling a timing to start counting the movement signal.
JP9001420A 1997-01-08 1997-01-08 Laser processing equipment Pending JPH10193152A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9001420A JPH10193152A (en) 1997-01-08 1997-01-08 Laser processing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9001420A JPH10193152A (en) 1997-01-08 1997-01-08 Laser processing equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10193152A true JPH10193152A (en) 1998-07-28

Family

ID=11500980

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9001420A Pending JPH10193152A (en) 1997-01-08 1997-01-08 Laser processing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10193152A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101918727B1 (en) Laser processing apparatus and the method for laser processing by using it
JP2963588B2 (en) Pulse laser processing machine and pulse laser processing method
KR0177005B1 (en) Laser processing apparatus, laber processing method and pam bar processing method
JP3113804B2 (en) Laser processing apparatus, laser processing method, and dam bar processing method
JP2001300755A (en) Laser processing method and apparatus
JPH09201684A (en) Laser processing equipment
JPS59207246A (en) Laser-marking device
JP3179999B2 (en) Pulse laser processing apparatus, pulse laser processing method, and dam bar processing method
JP3106054B2 (en) Laser processing apparatus and laser processing method
JP2991623B2 (en) Laser processing apparatus and dam bar processing method
JPH09205169A (en) Laser processing equipment and dam bar processing equipment
JPH09201685A (en) Laser processing equipment
JPH0810972A (en) Pulse laser processing equipment
JPH10144843A (en) Dam bar repair cutting method and device
JPH10200028A (en) Dam bar processing equipment
JP2818092B2 (en) Dam bar processing equipment for semiconductor devices
JPH10249558A (en) Laser processing apparatus and laser processing method
JPH11221689A (en) Laser processing equipment
JP2004034121A (en) Laser beam machining device and machining method
JPH08294786A (en) Pulse laser processing apparatus, pulse laser processing method, and dam bar processing method
JPH10216975A (en) Dam bar processing method and device
JP2003245785A (en) Beam machining method and device
JP3647120B2 (en) Scanning exposure apparatus and method, and device manufacturing method
JPH08195461A (en) Dam bar processing method and dam bar processing device
JPH09219482A (en) Positioning device for semiconductor device and dam bar cutting device