JPH10194775A - 近赤外線カットフィルタガラス - Google Patents

近赤外線カットフィルタガラス

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JPH10194775A
JPH10194775A JP1345297A JP1345297A JPH10194775A JP H10194775 A JPH10194775 A JP H10194775A JP 1345297 A JP1345297 A JP 1345297A JP 1345297 A JP1345297 A JP 1345297A JP H10194775 A JPH10194775 A JP H10194775A
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JP
Japan
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glass
filter
filter glass
polishing
near infrared
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Pending
Application number
JP1345297A
Other languages
English (en)
Inventor
Norihiro Matsui
典広 松井
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AGC Techno Glass Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Glass Co Ltd filed Critical Toshiba Glass Co Ltd
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Publication of JPH10194775A publication Critical patent/JPH10194775A/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00Compositions for glass with special properties
    • C03C4/08Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
    • C03C4/082Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths for infrared absorbing glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/23Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron
    • C03C3/247Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron containing fluorine and phosphorus

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 化学的耐久性に優れ、かつガラスの硬度が高
く研磨加工時に欠陥が発生しにくい近赤外線カットフィ
ルタガラスを提供すること。 【解決手段】 質量百分率で、P2 5 8〜35%,A
lF3 36〜40%,LiF+NaF+KF 5〜30
%,MgF2 +CaF2 0〜25%,SrF2 +BaF
2 5〜50%,ZnF2 +PbF2 0〜20%(ただ
し、弗化物総合計量の60%までを酸化物に置換可能)
を含み、このガラス100質量部に対しCuO0.5〜
5質量部を含有させた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーVTRカメ
ラの色補正フィルタ等に使用され、400〜600nm
の可視域を効率よく透過し、700nm付近におけるシ
ャープカット特性に優れた近赤外線カットフィルタガラ
スに関する。
【0002】
【従来の技術】カラーVTRカメラに使用されているC
CDなどの撮像素子は可視域から1100nm付近の近
赤外域にわたる分光感度を有している。したがって、そ
のままでは良好な色再現性を得ることができないので、
赤外域を吸収するフィルタを用いて通常の視感度に補正
することが必要である。
【0003】従来、この種のフィルタには近赤外線を選
択的に吸収するように燐酸塩系ガラスにCuOを添加し
たガラスが使用されていた。このガラスは多量のP2
5 と必須成分としてCuOを含有しており、酸化性の溶
融雰囲気中で多数の酸素イオンに配位されたCu2+イオ
ンを形成させることによって青緑色を呈し、近赤外線カ
ット特性を有するものである。
【0004】また、最近では燐酸塩系ガラスの耐候性の
低さを改善するために基礎ガラスとして弗燐酸塩系ガラ
スを用い、これにCuOを添加したガラス、たとえば特
開平1-219037号公報、特開平3-173041号公報に記載のガ
ラスなどが開発されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記燐酸塩系ガラス
は、近赤外線カット効果を促進するためにCuOの含有
量を増加させると、一般に400〜500nmの波長域
における分光透過率が低下して緑色化の傾向を示し、か
つ600〜700nmの波長域でのシャープカット性が
悪化するという問題点がある。特にこの様なフィルタガ
ラスは、薄板状で使用されることから、高いCuO含有
量を要求されるが、前記問題点により所望の分光透過特
性を有するものが得難い。また基礎ガラスである燐酸塩
系ガラスは、耐候性が不十分なため、ガラス研磨面にウ
ェザリングを生じるので光学フィルタとしての長期使用
には難点がある。
【0006】また、上記弗燐酸塩系ガラスは、耐候性に
優れるものの失透しやすく、耐候性を向上させるために
2 5 含有量を低く抑えると、熱膨脹係数が大きくな
り熱衝撃に弱いという欠点がある。溶融後固化したガラ
スをフィルタとして用いるには、研削、研磨等の工程を
経るが、上記特開平1-219037号公報記載の弗燐酸塩系ガ
ラスは、50〜100℃の温度差でヒートショックによ
るクラックを生じるため、成形加工工程での歩留が低
い。これに対し上記特開平3-173041号公報記載のガラス
では、耐候性を損なわない範囲でP2 5 含有量を高め
にしてガラスの熱膨脹係数を低めに抑え、耐ヒートショ
ック性が改善された。
【0007】しかしながら、このようなガラスフィルタ
の主たる用途であるカラーVTRカメラでは、半導体技
術の急速な発展に伴いCCDなどの固体撮像素子の小型
高密度化が進み、同時に高画質志向が強まってきてい
る。固体撮像素子の小型高密度化は、高解像度化の要請
に応えるべく画素数を増加させるとともに光学系の小型
化に対応して素子サイズを1/2インチ系から1/3イ
ンチ系、さらに1/4インチ系へと縮小させることによ
って進められてきた。この結果、1画素あたりの面積は
極めて微小なものとなり、固体撮像素子の前面に置かれ
るガラスフィルタにおいても従来問題にならなかった微
小欠陥が問題視されるようになってきた。このような背
景から、上記弗燐酸塩系ガラスはいずれも燐酸塩系ガラ
スに比較してガラスの硬度が低いため、光学研磨を行う
と、研磨面に微小な傷が残ったり端部に微小な欠けを生
じたりする割合が高いという問題点が指摘されるように
なってきた。また研磨加工中に生じた微小な欠損片がガ
ラス基板に付着していると、後の工程や運搬時に研磨面
を傷付ける原因ともなり、欠損片が付着した基板自体も
不良品となり、著しい歩留の低下をまねいた。特に装置
内に内蔵される固体撮像素子用のフィルタは、上記のよ
うに固体撮像素子の小型化とともにそのサイズが小さく
なり、厚さも2〜1mm程度まで研磨しなければならな
いため、研磨技術あるいはガラス基板の取扱方法のみで
の対策には限界があった。
【0008】本発明は、このような事情を考慮してなさ
れたもので、所望の分光透過特性を保持しながら化学的
耐久性に優れ、かつガラスの硬度が高く研磨加工時に上
記微小欠陥が発生しにくい近赤外線カットフィルタガラ
スを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、P2 5 の含有量を低減するとともにAl
3 含有量を高めることによって、ガラスの化学的耐久
性と研磨加工性を向上させたものである。
【0010】すなわち本発明は、質量百分率で、P2
5 8〜35%,AlF3 36〜40%,LiF+NaF
+KF 5〜30%,MgF2 +CaF2 0〜25%,
SrF2 +BaF2 5〜50%,ZnF2 +PbF2
〜20%,(ただし、弗化物総合計量の60%までを酸
化物に置換可能)を含み、このガラス100質量部に対
しCuO0.5〜5質量部を含有させたことを特徴とす
る近赤外線カットフィルタガラスである。
【0011】次に本発明のガラス組成を上記範囲に限定
した理由について説明する。
【0012】P2 5 はガラスの網目構造を形成する主
成分であるが、8%未満ではガラス化が困難であり、3
5%を越えると失透化傾向が強まり、また化学的耐久性
が悪化する。好ましくは20〜33%の範囲である。
【0013】AlF3 はガラスの化学的耐久性と研磨加
工性を向上させるための成分であるが、36%未満では
その効果が従来品と比べて改善されず、40%を越える
と溶融温度が高くなり、Cu2+イオンによるガラスの着
色に悪影響を及ぼす。
【0014】LiF,NaF,KFは溶融温度を下げる
ために有効な成分であるが、これらの合量が5%未満で
はその効果が得られず、30%を越えると化学的耐久性
が著しく悪化する。好ましくは6〜17%の範囲であ
る。
【0015】MgF2 ,CaF2 は化学的耐久性を低下
させることなくガラスを安定化させる成分であるが、そ
の合量が25%を越えると溶融温度が高くなるとともに
失透傾向が強まる。より好ましくは5〜10%の範囲で
ある。
【0016】SrF2 ,BaF2 もMgF2 ,CaF2
と同様の作用を持つが、合量で5%未満または50%を
越えるとガラスが不安定となって失透しやすくなる。よ
り好ましくは10〜28%の範囲である。
【0017】ZnF2 ,PbF2 はガラスを安定化させ
化学的耐久性を向上させる作用があるが、20%を越え
て含有すると失透傾向が強くなる。より好ましくは5%
以下の範囲である。
【0018】以上の成分のうち弗化物の総合計量の60
%までを酸化物に置換することが可能であるが、60%
を越えて置換すると所望の透過率特性が得られず、化学
的耐久性の改善も得られなくなるので好ましくない。
【0019】CuOは近赤外線カットのための必須成分
であるが、0.5%未満ではその効果がなく、5%を越
えると可視域での透過率をも低下させ、またガラスが不
安定となる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。上記組成範囲となるように原料を秤量・調
合する。これを白金るつぼに収容し蓋をして850〜1
100℃の温度で溶融し、撹拌・清澄の後金型内に鋳込
み、徐冷後切断研磨して肉厚1.6mmの平板状のフィ
ルタガラスを得る。
【0021】得られたフィルタガラスについて、分光透
過率、ビッカース硬度を測定し、またフィルタガラスを
温度60℃、相対湿度95%の雰囲気中に保持し、ガラ
ス表面に変質が現れるまでの時間を測定する耐候性試験
を行った。
【0022】本発明のフィルタガラスは、400nmに
おいて81%以上、500nmで86%以上の透過率を
もち、かつ700nmにおいては2%程度まで透過率を
低下させる急峻な近赤外線カット特性を有する。また、
ビッカース硬度で500kg/mm2 以上であり、切
断、研磨などの加工に対しても傷、欠けが発生しにくい
ものである。上記耐候性試験についても1000時間を
越えるまで表面変質を確認できない良好な耐候性を示
す。
【0023】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。表
1のNo.1〜8に本発明の実施例ガラスを、No.9
〜12に比較例ガラスをを示す。これらのガラスは、そ
れぞれ表中の組成となるように原料を所定量混合し、上
記した方法にしたがって肉厚1.6mmの平板状のフィ
ルタガラスを作成した。これらのフィルタガラスの40
0,500,700nmにおける透過率、ビッカース硬
度および上記耐候性試験の結果を表中に示すとともにN
o.7およびNo.9の透過率曲線を図1にそれぞれ曲
線1,曲線2として示した。なお、フィルタガラスの作
製にあたっては、金型に鋳込み徐冷したガラスブロック
から厚さ2〜2.5mmにスライスし、11×11mm
の大きさにカットしたものをそれぞれ350枚ずつ研磨
装置の定盤にセットし、研磨剤として酸化セリウムを使
用して荷重100g/cm2 、回転数約50rpmで研
磨した。これを洗浄、乾燥した後、5μm程度の微小な
ものも含む傷、欠けの発生状況を調べた。
【0024】表1および図1から明らかなように、比較
例No.9,10の燐酸塩系ガラスは、ビッカース硬度
が高く研磨加工性に優れているが、耐候性試験の結果、
250時間前後でガラス表面に変質が見られた。一方、
比較例No.11,12の弗燐酸塩系ガラスは、耐候性
試験において1000時間経過後も変質は認められなか
ったが、ビッカース硬度が相対的に低く研磨加工時に欠
陥が発生した。作成した試料のうち1/4程度に傷、欠
けの発生が見られた。これに対し、本実施例のガラス
は、上記耐候性試験で1000時間以上変質せず、ビッ
カース硬度も500kg/mm2 以上であり、切断、研
磨などの加工に対しても傷、欠けの発生は低率であっ
た。傷、欠けの発生が見られたのは作成した試料のうち
の5〜15%に止まった。
【0025】
【表1】
【0026】
【表1】
【0027】
【発明の効果】以上のように本発明のガラスは、弗燐酸
塩系ガラスのもつ優れた耐候性と近赤外線シャープカッ
ト特性を維持したまま機械的加工に対する加工品質を向
上できる。この結果、従来の弗燐酸塩系フィルタガラス
で生じていた微小傷や欠損片による二次的不良をも減少
させることができ、撮像機器の高解像度化要請に対応し
た高品質のフィルタを歩留まりよく提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例ガラスと比較例ガラスの分光透
過率を示す曲線図である。
【符号の説明】
1 本発明の実施例No.7のガラスの分光透過率曲線 2 比較例No.9のガラスの分光透過率曲線
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成9年5月19日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 質量百分率で、P2 5 8〜35%,A
    lF3 36〜40%,LiF+NaF+KF 5〜30
    %,MgF2 +CaF2 0〜25%,SrF2 +BaF
    2 5〜50%,ZnF+PbF0〜20%,(ただし、
    弗化物総合計量の60%までを酸化物に置換可能)を含
    み、このガラス100質量部に対しCuO0.5〜5質
    量部を含有させたことを特徴とする近赤外線カットフィ
    ルタガラス。
JP1345297A 1997-01-09 1997-01-09 近赤外線カットフィルタガラス Pending JPH10194775A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007101585A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Hoya Corp レンズおよびその製造方法
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JP2015522499A (ja) * 2012-04-11 2015-08-06 成都光明光▲電▼股▲分▼有限公司 近赤外光吸収ガラス、近赤外光吸収素子、及び近赤外光吸収光学フィルタ
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