JPH10195690A - 基材へのめっき方法 - Google Patents
基材へのめっき方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】
【課題】凹部を有してなる基材において、凹部の内部に
もめっきを施すことのできる基材へのめっき方法を提供
する。 【解決手段】めっき液を、ジェットノズル15から勢い
よく噴射せしめ、アルミニウム製の基材1表面に当て
る。また、めっき液によって電気的に接続された同ノズ
ル15及び基材1間に電圧をかけることにより、ジェッ
トノズル15がアノード、基材1がカソードとしての役
割を果たし、基材1の表面に金属めっき液中の金属イオ
ン成分が金属マトリックスとなって析出し、めっき層が
形成される。基材1は比較的幅狭な溝部4を有している
が、めっき液は、ジェットノズル15の開口部から少な
くとも溝部4の底面に向けて吹き付けられる。このた
め、めっき液を溝部4の内部に接触させ、めっき層を析
出させることが可能となる。
もめっきを施すことのできる基材へのめっき方法を提供
する。 【解決手段】めっき液を、ジェットノズル15から勢い
よく噴射せしめ、アルミニウム製の基材1表面に当て
る。また、めっき液によって電気的に接続された同ノズ
ル15及び基材1間に電圧をかけることにより、ジェッ
トノズル15がアノード、基材1がカソードとしての役
割を果たし、基材1の表面に金属めっき液中の金属イオ
ン成分が金属マトリックスとなって析出し、めっき層が
形成される。基材1は比較的幅狭な溝部4を有している
が、めっき液は、ジェットノズル15の開口部から少な
くとも溝部4の底面に向けて吹き付けられる。このた
め、めっき液を溝部4の内部に接触させ、めっき層を析
出させることが可能となる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材へのめっき方
法に係り、特に、凹部を有してなる基材へのめっき方法
に関するものである。
法に係り、特に、凹部を有してなる基材へのめっき方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、鉄や、アルミニウム等の基材
にめっきの施された製品が種々製造されている。当該製
品としては、例えば自動車用バンパー、バックミラー、
反射板、電気・電子部品、精密機械用部品、航空機の構
成部品、エンジン用ピストン、ブスバー、電線等が挙げ
られる。
にめっきの施された製品が種々製造されている。当該製
品としては、例えば自動車用バンパー、バックミラー、
反射板、電気・電子部品、精密機械用部品、航空機の構
成部品、エンジン用ピストン、ブスバー、電線等が挙げ
られる。
【0003】一般に、金属基材(例えばアルミニウム基
材)にめっきを施す場合には、以下のような工程を経
る。まず、基材とめっき層との間の密着性を確保するた
め、その表面に形成された酸化膜や汚れを除去するため
の前処理工程が必要である。かかる前処理の手法とし
て、従来では、例えば亜鉛置換法なる技術が採用されて
いる。この亜鉛置換法においては、まず脱脂工程におい
て、基材の表面が脱脂され、次いで、エッチング溶液に
より、アルミニウム基材の表面がエッチングされ、硝
酸、ふっ化水素酸、硫酸等により酸処理が行われる。上
記酸処理を工程を経た基材は、次なる亜鉛置換(又は亜
鉛合金置換)工程へと供される。この置換工程において
は、水酸化ナトリウムと酸化亜鉛とを基本成分とする亜
鉛置換液中で、アルミニウム基材が処理される。する
と、アルミニウム表面の薄い酸化皮膜が除去され、新し
く露出した活性な表面に亜鉛が置換析出する。そして、
この亜鉛皮膜を硝酸で剥離し、もう一度亜鉛置換処理を
繰り返すと、一層均一な表面が得られる。
材)にめっきを施す場合には、以下のような工程を経
る。まず、基材とめっき層との間の密着性を確保するた
め、その表面に形成された酸化膜や汚れを除去するため
の前処理工程が必要である。かかる前処理の手法とし
て、従来では、例えば亜鉛置換法なる技術が採用されて
いる。この亜鉛置換法においては、まず脱脂工程におい
て、基材の表面が脱脂され、次いで、エッチング溶液に
より、アルミニウム基材の表面がエッチングされ、硝
酸、ふっ化水素酸、硫酸等により酸処理が行われる。上
記酸処理を工程を経た基材は、次なる亜鉛置換(又は亜
鉛合金置換)工程へと供される。この置換工程において
は、水酸化ナトリウムと酸化亜鉛とを基本成分とする亜
鉛置換液中で、アルミニウム基材が処理される。する
と、アルミニウム表面の薄い酸化皮膜が除去され、新し
く露出した活性な表面に亜鉛が置換析出する。そして、
この亜鉛皮膜を硝酸で剥離し、もう一度亜鉛置換処理を
繰り返すと、一層均一な表面が得られる。
【0004】このような複雑な前処理工程を経た後、基
材は、公知の電気めっき工程へと供される。つまり、所
定のめっき溶液中に基材が浸漬されるとともに、その状
態で、電極間に電圧が印加される。これにより、基材の
表面に、電気めっき層が形成される。
材は、公知の電気めっき工程へと供される。つまり、所
定のめっき溶液中に基材が浸漬されるとともに、その状
態で、電極間に電圧が印加される。これにより、基材の
表面に、電気めっき層が形成される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、次に記すような問題があった。すなわち、
図5に示すように、基材51が比較的幅狭な溝部52を
有している場合には、該溝部52内、特に溝部52の底
部にはめっき溶液が浸入しにくい。このため、溝部52
内に電気めっき層53が形成されないおそれがあった。
その結果、所望とするめっき製品が得られないおそれが
あった。
来技術では、次に記すような問題があった。すなわち、
図5に示すように、基材51が比較的幅狭な溝部52を
有している場合には、該溝部52内、特に溝部52の底
部にはめっき溶液が浸入しにくい。このため、溝部52
内に電気めっき層53が形成されないおそれがあった。
その結果、所望とするめっき製品が得られないおそれが
あった。
【0006】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、凹部を有してなる基材
へのめっき方法において、凹部の内部にもめっきを施す
ことのできる基材へのめっき方法を提供することにあ
る。
れたものであって、その目的は、凹部を有してなる基材
へのめっき方法において、凹部の内部にもめっきを施す
ことのできる基材へのめっき方法を提供することにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明では、凹部を有する基材に金
属めっきを施す方法であって、金属めっき液を、ノズル
の開口部から少なくとも前記凹部の底面に向けて吹き付
けて前記基材の表面に流速をもたせて接触させ、前記金
属めっき液で電気的に接続された前記ノズル及び基材間
に電圧をかけることにより、前記凹部を含む前記基材の
表面にめっき層を形成するようにしたことをその要旨と
している。
め、請求項1に記載の発明では、凹部を有する基材に金
属めっきを施す方法であって、金属めっき液を、ノズル
の開口部から少なくとも前記凹部の底面に向けて吹き付
けて前記基材の表面に流速をもたせて接触させ、前記金
属めっき液で電気的に接続された前記ノズル及び基材間
に電圧をかけることにより、前記凹部を含む前記基材の
表面にめっき層を形成するようにしたことをその要旨と
している。
【0008】また、請求項2に記載の発明では、請求項
1に記載の基材へのめっき方法において、前記ノズルは
導電体であることをその要旨としている。さらに、請求
項3に記載の発明では、請求項1又は2に記載の基材へ
のめっき方法において、前記金属めっき液中に不溶性粒
子を分散させることにより、前記金属めっき液の吹き付
けに際し、少なくとも前記基材の表面に前記不溶性粒子
からの応力を与えるようにしたことをその要旨としてい
る。
1に記載の基材へのめっき方法において、前記ノズルは
導電体であることをその要旨としている。さらに、請求
項3に記載の発明では、請求項1又は2に記載の基材へ
のめっき方法において、前記金属めっき液中に不溶性粒
子を分散させることにより、前記金属めっき液の吹き付
けに際し、少なくとも前記基材の表面に前記不溶性粒子
からの応力を与えるようにしたことをその要旨としてい
る。
【0009】併せて、請求項4に記載の発明では、請求
項1から3のいずれかに記載の基材へのめっき方法にお
いて、前記基材の表面に接触させる際の前記金属めっき
液の流速を、4m/s以上とし、かつ、前記基材が変形
しない速度としたことをその要旨としている。
項1から3のいずれかに記載の基材へのめっき方法にお
いて、前記基材の表面に接触させる際の前記金属めっき
液の流速を、4m/s以上とし、かつ、前記基材が変形
しない速度としたことをその要旨としている。
【0010】加えて、請求項5に記載の発明では、請求
項1から4のいずれかに記載の基材へのめっき方法にお
いて、前記ノズルの開口部を前記凹部内に挿入させた状
態で前記金属めっき液を吹き付けるようにしたことをそ
の要旨としている。
項1から4のいずれかに記載の基材へのめっき方法にお
いて、前記ノズルの開口部を前記凹部内に挿入させた状
態で前記金属めっき液を吹き付けるようにしたことをそ
の要旨としている。
【0011】ここで、上記基材は、少なくともめっきが
施される表面が導電性を有しており、かつ、電極に接続
されているものである必要があり、基材としては、例え
ば金属基材が挙げられる。
施される表面が導電性を有しており、かつ、電極に接続
されているものである必要があり、基材としては、例え
ば金属基材が挙げられる。
【0012】また、上記金属めっき液としては、各種金
属イオンを含有するめっき液であればいかなるものでも
よく、例えばニッケルめっき液、銅めっき液、亜鉛めっ
き液、錫っき液及びこれらの組合せ等が挙げられる。
属イオンを含有するめっき液であればいかなるものでも
よく、例えばニッケルめっき液、銅めっき液、亜鉛めっ
き液、錫っき液及びこれらの組合せ等が挙げられる。
【0013】さらに、金属めっき液中に分散される不溶
性粒子としては、例えばアルミナ、ジルコニア、シリ
カ、チタニア、セリア等の酸化物及びこれらの2種以上
の組合せからなる複合酸化物、炭化珪素、炭化チタン等
の炭化物、窒化珪素、窒化硼素等の窒化物、フッ素樹脂
粉末、ポリアミド粉末、ポリエチレン粉末等の有機高分
子粉末等が挙げられる。しかし、不溶性粒子を構成する
素材としては、これらのものに限定されるものではな
く、金属めっき液に不溶であり、分散されうるものであ
り、かつ、所定の硬度を有するものあればいかなるもの
も採用しうる。
性粒子としては、例えばアルミナ、ジルコニア、シリ
カ、チタニア、セリア等の酸化物及びこれらの2種以上
の組合せからなる複合酸化物、炭化珪素、炭化チタン等
の炭化物、窒化珪素、窒化硼素等の窒化物、フッ素樹脂
粉末、ポリアミド粉末、ポリエチレン粉末等の有機高分
子粉末等が挙げられる。しかし、不溶性粒子を構成する
素材としては、これらのものに限定されるものではな
く、金属めっき液に不溶であり、分散されうるものであ
り、かつ、所定の硬度を有するものあればいかなるもの
も採用しうる。
【0014】併せて、不溶性粒子の粒径の範囲について
も何ら限定されるものではないが、0.1μm〜100
0μm程度のものが好適に使用されうる。加えて、金属
めっき液中に分散される不溶性粒子の濃度(分散量)も
適宜選定されうるが、1g/L〜1000g/L程度が
好ましく、より好ましくは10〜500g/Lである。
も何ら限定されるものではないが、0.1μm〜100
0μm程度のものが好適に使用されうる。加えて、金属
めっき液中に分散される不溶性粒子の濃度(分散量)も
適宜選定されうるが、1g/L〜1000g/L程度が
好ましく、より好ましくは10〜500g/Lである。
【0015】また、本発明(請求項1に記載の発明)に
おいては、金属めっき液を流速をもたせて基材表面に接
触せしめる必要がある。このように、金属めっき液を流
速をもたせて接触させることにより、ノズルから吹き付
けられている金属めっき液によってノズル及び基材間が
電気的に接続されることとなる。そして、両者間に電圧
がかけられることにより、基材の表面に金属めっき液中
の金属イオン成分が金属となって析出し、めっき層が形
成される。
おいては、金属めっき液を流速をもたせて基材表面に接
触せしめる必要がある。このように、金属めっき液を流
速をもたせて接触させることにより、ノズルから吹き付
けられている金属めっき液によってノズル及び基材間が
電気的に接続されることとなる。そして、両者間に電圧
がかけられることにより、基材の表面に金属めっき液中
の金属イオン成分が金属となって析出し、めっき層が形
成される。
【0016】このため、金属めっき液を流速をもたせて
基材表面に接触せしめるという工程のみで、基材に強固
なめっき層を形成することが可能となる。特に、本発明
では、基材は凹部を有しているのであるが、金属めっき
液は、ノズルの開口部から少なくとも凹部の底面に向け
て吹き付けられて前記基材の表面に流速をもたせて接触
させられる。このため、凹部が比較的幅狭であったとし
ても、金属めっき液を凹部の内部に接触させ、めっき層
を析出させることが可能となる。
基材表面に接触せしめるという工程のみで、基材に強固
なめっき層を形成することが可能となる。特に、本発明
では、基材は凹部を有しているのであるが、金属めっき
液は、ノズルの開口部から少なくとも凹部の底面に向け
て吹き付けられて前記基材の表面に流速をもたせて接触
させられる。このため、凹部が比較的幅狭であったとし
ても、金属めっき液を凹部の内部に接触させ、めっき層
を析出させることが可能となる。
【0017】また、請求項2に記載の発明では、請求項
1に記載の発明の作用に加えて、次の作用が奏される。
すなわち、金属めっき液がノズルの開口部から凹部の底
面に向けて吹き付けられた場合に、凹部の立壁部におけ
る金属めっき液の流速は遅くなってしまう。これに対
し、本発明では、前記ノズルは導電体であるため、立壁
部においても比較的めっき層は析出されやすくなる。
1に記載の発明の作用に加えて、次の作用が奏される。
すなわち、金属めっき液がノズルの開口部から凹部の底
面に向けて吹き付けられた場合に、凹部の立壁部におけ
る金属めっき液の流速は遅くなってしまう。これに対
し、本発明では、前記ノズルは導電体であるため、立壁
部においても比較的めっき層は析出されやすくなる。
【0018】さらに、請求項3に記載の発明では、請求
項1,2に記載の発明の作用に加えて、金属めっき液中
に不溶性粒子が分散させられている。このため、金属め
っき液の吹き付けに際し、少なくとも基材の表面に不溶
性粒子からの応力が与えられる。この応力により、基材
の表面に存在しうる酸化皮膜が削られやすくなる。従っ
て、より一層強固なめっき層の形成が可能となるととも
に、前処理工程の簡素化が図られる。
項1,2に記載の発明の作用に加えて、金属めっき液中
に不溶性粒子が分散させられている。このため、金属め
っき液の吹き付けに際し、少なくとも基材の表面に不溶
性粒子からの応力が与えられる。この応力により、基材
の表面に存在しうる酸化皮膜が削られやすくなる。従っ
て、より一層強固なめっき層の形成が可能となるととも
に、前処理工程の簡素化が図られる。
【0019】また、場合によっては、不溶性粒子のめっ
き層中への共析が可能となる。この場合には、不溶性粒
子の共析分散されためっき層により、めっき層自身が非
常に強固なものとなり、耐摩擦性の向上が図られうる。
き層中への共析が可能となる。この場合には、不溶性粒
子の共析分散されためっき層により、めっき層自身が非
常に強固なものとなり、耐摩擦性の向上が図られうる。
【0020】さらに、請求項4に記載の発明によれば、
請求項1〜3に記載の発明の作用に加えて、基材の表面
に接触させる際の金属めっき液の流速が、4m/s以上
とされ、かつ、基材が変形しない速度とされる。従っ
て、上記請求項1,2に記載の作用がより確実に奏され
ることとなる。なお、前記流速は、6m/s以上である
ことがより望ましく、さらに望ましくは10m/s以上
であり、一層望ましくは12m/s以上である。但し、
上記流速は、基材が変形しない程度のものである必要が
ある。
請求項1〜3に記載の発明の作用に加えて、基材の表面
に接触させる際の金属めっき液の流速が、4m/s以上
とされ、かつ、基材が変形しない速度とされる。従っ
て、上記請求項1,2に記載の作用がより確実に奏され
ることとなる。なお、前記流速は、6m/s以上である
ことがより望ましく、さらに望ましくは10m/s以上
であり、一層望ましくは12m/s以上である。但し、
上記流速は、基材が変形しない程度のものである必要が
ある。
【0021】加えて、請求項5に記載の発明によれば、
請求項1〜4に記載の発明の作用に加えて、ノズルの開
口部が、凹部内に挿入させられた状態で前記金属めっき
液が吹き付けられる。このため、吹き付けられた金属め
っき液は、確実に凹部の底部に到達し、その後凹部の壁
面を伝って流れる。従って、凹部内の各面とノズルと
が、金属めっき液で電気的に接続されることとなる。そ
のため、凹部内の各面にめっき層が確実に形成されう
る。
請求項1〜4に記載の発明の作用に加えて、ノズルの開
口部が、凹部内に挿入させられた状態で前記金属めっき
液が吹き付けられる。このため、吹き付けられた金属め
っき液は、確実に凹部の底部に到達し、その後凹部の壁
面を伝って流れる。従って、凹部内の各面とノズルと
が、金属めっき液で電気的に接続されることとなる。そ
のため、凹部内の各面にめっき層が確実に形成されう
る。
【0022】
(第1の実施の形態)以下、本発明を具体化した第1の
実施の形態を図1〜図3に基づいて説明する。図3は本
実施の形態において基材1表面に形成されためっき層2
を示す模式的な断面図である。同図に示すように、アル
ミニウム製の金属基材(以下、単に「基材」という)1
の表面にはめっき層2が形成されている。当該めっき層
2は、ニッケルにより構成されている。
実施の形態を図1〜図3に基づいて説明する。図3は本
実施の形態において基材1表面に形成されためっき層2
を示す模式的な断面図である。同図に示すように、アル
ミニウム製の金属基材(以下、単に「基材」という)1
の表面にはめっき層2が形成されている。当該めっき層
2は、ニッケルにより構成されている。
【0023】また、上記基材1は、一対のリブ3及び該
リブ3間に形成された凹部としての溝部4を有してい
る。本実施の形態においては、リブ3の外壁及び溝部4
の各壁面においても上述のめっき層2が形成されてい
る。
リブ3間に形成された凹部としての溝部4を有してい
る。本実施の形態においては、リブ3の外壁及び溝部4
の各壁面においても上述のめっき層2が形成されてい
る。
【0024】次に、上記のようにアルミニウム製の基材
1上にめっき層2を形成するためのめっき装置について
説明する。図2に示すように、本実施の形態のめっき装
置は、内部に攪拌機11及びヒータ12を有してなるタ
ンク13を備えている。そして、このタンク13内に
は、後述する組成よりなるめっき溶液が貯留されてい
る。また、このタンク13の上方には、基材1を載置す
るための載置台14が配設されている。さらに、載置台
14の上方には、導電性を有する(金属製の)ジェット
ノズル15が配設されている。また、ジェットノズル1
5には電源16の陽極が接続され、載置台14には電源
16の負極が接続されている。
1上にめっき層2を形成するためのめっき装置について
説明する。図2に示すように、本実施の形態のめっき装
置は、内部に攪拌機11及びヒータ12を有してなるタ
ンク13を備えている。そして、このタンク13内に
は、後述する組成よりなるめっき溶液が貯留されてい
る。また、このタンク13の上方には、基材1を載置す
るための載置台14が配設されている。さらに、載置台
14の上方には、導電性を有する(金属製の)ジェット
ノズル15が配設されている。また、ジェットノズル1
5には電源16の陽極が接続され、載置台14には電源
16の負極が接続されている。
【0025】さらに、本実施の形態では、前記タンク1
3とジェットノズル15とを連結する連通路17が設け
られており、この連通路17の途中にはポンプ18が設
けられている。そして、このポンプ18が駆動されるこ
とにより、タンク13内にて加温され、均一に攪拌され
ためっき液が、連通路17を通ってジェットノズル15
の方へと導かれる。さらに、そのジェットノズル15か
らは、噴流(シャワー)状のめっき液が、載置台14に
載置された基材1表面に当たるようになっている。な
お、前記載置台14及びジェットノズル15は、箱状の
ジェットセル19内に収容されており、噴出されためっ
き液が外部に飛散しないようになっている。
3とジェットノズル15とを連結する連通路17が設け
られており、この連通路17の途中にはポンプ18が設
けられている。そして、このポンプ18が駆動されるこ
とにより、タンク13内にて加温され、均一に攪拌され
ためっき液が、連通路17を通ってジェットノズル15
の方へと導かれる。さらに、そのジェットノズル15か
らは、噴流(シャワー)状のめっき液が、載置台14に
載置された基材1表面に当たるようになっている。な
お、前記載置台14及びジェットノズル15は、箱状の
ジェットセル19内に収容されており、噴出されためっ
き液が外部に飛散しないようになっている。
【0026】併せて、前記ポンプ18下流における連通
路17の途中には、メインバルブ21が設けられてお
り、このバルブ21の開度を調整することにより、ジェ
ットノズル15からのめっき液の噴出量を調整すること
ができるようになっている。また、ポンプ18の上流側
及び下流側を連通するバイパス通路22が設けられてお
り、その途中にはサブバルブ23が設けられている。こ
のバルブ23の開度を調整することにより、ポンプ18
の上流側から還流されるバイパス量が調整され、上記同
様ジェットノズル15からのめっき液の噴出量を調整す
ることができるようになっている。
路17の途中には、メインバルブ21が設けられてお
り、このバルブ21の開度を調整することにより、ジェ
ットノズル15からのめっき液の噴出量を調整すること
ができるようになっている。また、ポンプ18の上流側
及び下流側を連通するバイパス通路22が設けられてお
り、その途中にはサブバルブ23が設けられている。こ
のバルブ23の開度を調整することにより、ポンプ18
の上流側から還流されるバイパス量が調整され、上記同
様ジェットノズル15からのめっき液の噴出量を調整す
ることができるようになっている。
【0027】なお、本実施の形態における上記めっき液
は、スルファミン酸ニッケル[Ni(NH2SO4)・4H2O](4
30kg/m3)、塩化ニッケル[NiCl2 ・6H2O ](15kg
/m3)、ホウ酸[H3 BO3 ](45kg/m3)、サッカ
リン[C7 H5 NO3 S](5kg/m3)よりなってい
る。さらに、めっきの条件として、めっき液の温度はヒ
ータ12により328Kに、pHは2.0に、電流密度
は40×102 A/m2に、めっき液の接触時間は48
0秒にそれぞれ設定されている。但し、これらの数値は
あくまでも例示である。
は、スルファミン酸ニッケル[Ni(NH2SO4)・4H2O](4
30kg/m3)、塩化ニッケル[NiCl2 ・6H2O ](15kg
/m3)、ホウ酸[H3 BO3 ](45kg/m3)、サッカ
リン[C7 H5 NO3 S](5kg/m3)よりなってい
る。さらに、めっきの条件として、めっき液の温度はヒ
ータ12により328Kに、pHは2.0に、電流密度
は40×102 A/m2に、めっき液の接触時間は48
0秒にそれぞれ設定されている。但し、これらの数値は
あくまでも例示である。
【0028】次に、上記のようにして構成されてなるめ
っき装置を用いて、前記めっき層2を形成する際のめっ
き方法について説明する。まず、載置台14上に基材1
を載置する。そして、電源16をオン状態としてポンプ
18を作動させる。但し、この際、サブバルブ23及び
メインバルブ21の開状態を適宜調整する。また、基材
1の少なくとも上面全面にめっき層2を形成するために
は、載置台14及びジェットノズル15の少なくとも一
方を適宜移動させる(複数のジェットノズル15を用い
てもよい)。
っき装置を用いて、前記めっき層2を形成する際のめっ
き方法について説明する。まず、載置台14上に基材1
を載置する。そして、電源16をオン状態としてポンプ
18を作動させる。但し、この際、サブバルブ23及び
メインバルブ21の開状態を適宜調整する。また、基材
1の少なくとも上面全面にめっき層2を形成するために
は、載置台14及びジェットノズル15の少なくとも一
方を適宜移動させる(複数のジェットノズル15を用い
てもよい)。
【0029】すると、めっき液は、ポンプ18から連通
路17を通ってジェットノズル15から勢いよく噴射さ
れ、基材1表面に当たる。このように、めっき液を比較
的速い流速をもたせて基材1の表面に接触させるのであ
る。また、このとき、図1に示すように、溝部4に対応
する部分にめっきを施す場合には、ジェットノズル15
の開口部を溝部4の内部にまで挿入させた状態で、溝部
4の底部に向けてめっき液を噴射する。
路17を通ってジェットノズル15から勢いよく噴射さ
れ、基材1表面に当たる。このように、めっき液を比較
的速い流速をもたせて基材1の表面に接触させるのであ
る。また、このとき、図1に示すように、溝部4に対応
する部分にめっきを施す場合には、ジェットノズル15
の開口部を溝部4の内部にまで挿入させた状態で、溝部
4の底部に向けてめっき液を噴射する。
【0030】さらにまた、これとともに、ジェットノズ
ル15から吹き付けられているめっき液によって、同ノ
ズル15及び基材1間が電気的に接続されることとな
り、ジェットノズル15がアノードとしての役割を果た
し、基材1がカソードとしての役割を果たす。このよう
に両者1,15間に電圧がかけられることにより基材1
の表面に金属めっき液中の金属イオン成分(ニッケル)
が金属マトリックスとなって析出し、めっき層2が形成
される。
ル15から吹き付けられているめっき液によって、同ノ
ズル15及び基材1間が電気的に接続されることとな
り、ジェットノズル15がアノードとしての役割を果た
し、基材1がカソードとしての役割を果たす。このよう
に両者1,15間に電圧がかけられることにより基材1
の表面に金属めっき液中の金属イオン成分(ニッケル)
が金属マトリックスとなって析出し、めっき層2が形成
される。
【0031】次に、本実施の形態の作用及び効果につい
て説明する。 (イ)本実施の形態によれば、金属めっき液を流速をも
たせて基材1の表面に接触せしめるという工程のみで、
基材1に強固なめっき層2を形成することが可能とな
る。
て説明する。 (イ)本実施の形態によれば、金属めっき液を流速をも
たせて基材1の表面に接触せしめるという工程のみで、
基材1に強固なめっき層2を形成することが可能とな
る。
【0032】(ロ)また、本実施の形態によれば、めっ
き液の流速が、4m/s以上とされる。従って、上記作
用効果がより確実に奏されることとなる。 (ハ)さらに、従来の基材を浸漬させることにより行っ
ていためっき方法とは異なり、本実施の形態では噴射さ
れているめっき液に基材を接触せしめるという工程を経
ることでめっきを施すことができる。このため、設備の
簡素化及びコストの低減を図ることができる。
き液の流速が、4m/s以上とされる。従って、上記作
用効果がより確実に奏されることとなる。 (ハ)さらに、従来の基材を浸漬させることにより行っ
ていためっき方法とは異なり、本実施の形態では噴射さ
れているめっき液に基材を接触せしめるという工程を経
ることでめっきを施すことができる。このため、設備の
簡素化及びコストの低減を図ることができる。
【0033】(ニ)併せて、本実施の形態では、基材1
は溝部4を有しているのであるが、金属めっき液は、ジ
ェットノズル15の開口部から少なくとも溝部4の底面
に向けて吹き付けられる。このため、基材を浸漬させて
いた従来技術とは異なり、溝部4が比較的幅狭であった
としても、金属めっき液を溝部4の内部に接触させ、め
っき層2を析出させることが可能となる。
は溝部4を有しているのであるが、金属めっき液は、ジ
ェットノズル15の開口部から少なくとも溝部4の底面
に向けて吹き付けられる。このため、基材を浸漬させて
いた従来技術とは異なり、溝部4が比較的幅狭であった
としても、金属めっき液を溝部4の内部に接触させ、め
っき層2を析出させることが可能となる。
【0034】(ホ)加えて、本実施の形態によれば、ジ
ェットノズル15の開口部が、溝部4内に挿入させられ
た状態でめっき液が吹き付けられる。このため、吹き付
けられためっき液は、確実に溝部4の底部に到達し、そ
の後溝部4の立壁面を伝って上方へ流れる。従って、溝
部4内の各面とジェットノズル15とが、めっき液で電
気的に接続されることとなる。そのため、溝部4内の全
ての面にめっき層2を確実に形成することができる。
ェットノズル15の開口部が、溝部4内に挿入させられ
た状態でめっき液が吹き付けられる。このため、吹き付
けられためっき液は、確実に溝部4の底部に到達し、そ
の後溝部4の立壁面を伝って上方へ流れる。従って、溝
部4内の各面とジェットノズル15とが、めっき液で電
気的に接続されることとなる。そのため、溝部4内の全
ての面にめっき層2を確実に形成することができる。
【0035】特に、溝部4の立壁面におけるめっき液の
流速は、底部におけるそれと比較して遅いものとなりが
ちであるが、本実施の形態では、ジェットノズル15が
金属製であるため、該部分においてもめっき層2を確実
に形成することが可能となる。
流速は、底部におけるそれと比較して遅いものとなりが
ちであるが、本実施の形態では、ジェットノズル15が
金属製であるため、該部分においてもめっき層2を確実
に形成することが可能となる。
【0036】(第2の実施の形態)次に、本発明を具体
化した第2の実施の形態について説明する。但し、本実
施の形態の構成等においては上述した第1の実施の形態
と同等であるため、同一の部材等については同一の符号
を付してその説明を省略する。そして、以下には、第1
の実施の形態との相違点を中心として説明することとす
る。
化した第2の実施の形態について説明する。但し、本実
施の形態の構成等においては上述した第1の実施の形態
と同等であるため、同一の部材等については同一の符号
を付してその説明を省略する。そして、以下には、第1
の実施の形態との相違点を中心として説明することとす
る。
【0037】本実施の形態においては、上記めっき液中
に平均粒径が「300μm」の炭化珪素(SiC)製の
不溶性粒子が10g/Lの割合で配合されている点で、
第1の実施の形態とは異なっている。
に平均粒径が「300μm」の炭化珪素(SiC)製の
不溶性粒子が10g/Lの割合で配合されている点で、
第1の実施の形態とは異なっている。
【0038】次に、上記第1の実施の形態と同様のめっ
き装置を用いて、前記めっき層2を形成する際のめっき
方法の作用及び効果について説明する。 (イ)基本的には、本実施の形態においても、金属めっ
き液を流速をもたせて基材1の表面に接触せしめるとい
う工程のみで、基材1に強固なめっき層2を形成するこ
とが可能となる。特に、本実施の形態でも、金属めっき
液が流速をもって基材1の表面に接触するので、上記第
1の実施の形態と同様の作用効果を奏する。
き装置を用いて、前記めっき層2を形成する際のめっき
方法の作用及び効果について説明する。 (イ)基本的には、本実施の形態においても、金属めっ
き液を流速をもたせて基材1の表面に接触せしめるとい
う工程のみで、基材1に強固なめっき層2を形成するこ
とが可能となる。特に、本実施の形態でも、金属めっき
液が流速をもって基材1の表面に接触するので、上記第
1の実施の形態と同様の作用効果を奏する。
【0039】(ロ)また、特に、本実施の形態では、上
記作用効果に加えて、金属めっき液中に不溶性粒子が分
散させられている。このため、金属めっき液の吹き付け
に際し、少なくとも基材1の表面に不溶性粒子からの応
力が与えられる。この応力により、上記作用効果がより
確実なものとなる。
記作用効果に加えて、金属めっき液中に不溶性粒子が分
散させられている。このため、金属めっき液の吹き付け
に際し、少なくとも基材1の表面に不溶性粒子からの応
力が与えられる。この応力により、上記作用効果がより
確実なものとなる。
【0040】(ハ)さらに、本実施の形態では、基材1
がアルミニウムにより構成されていることから、その表
面には酸化皮膜が形成されやすい。しかし、本実施の形
態によれば、酸化皮膜が不溶性粒子によって削られる。
そのため、酸化皮膜を除去するという前処理工程を省略
することが可能となる。
がアルミニウムにより構成されていることから、その表
面には酸化皮膜が形成されやすい。しかし、本実施の形
態によれば、酸化皮膜が不溶性粒子によって削られる。
そのため、酸化皮膜を除去するという前処理工程を省略
することが可能となる。
【0041】尚、実施の形態は上記に限定されるもので
はなく、次のように変更してもよい。 (1)前記各実施の形態では、一対のリブ3を有し、か
つ、リブ3間に溝部4の設けられた基材1に本発明を適
用したが、図4に示すように、リブを有しない単なる溝
部5の設けられた基材に本発明を適用してもよい。ま
た、溝部4,5の代わりに穴部等を凹部としてもよい。
はなく、次のように変更してもよい。 (1)前記各実施の形態では、一対のリブ3を有し、か
つ、リブ3間に溝部4の設けられた基材1に本発明を適
用したが、図4に示すように、リブを有しない単なる溝
部5の設けられた基材に本発明を適用してもよい。ま
た、溝部4,5の代わりに穴部等を凹部としてもよい。
【0042】(2)前記実施の形態では、溝部4,5内
にジェットノズル15を挿入する構成としたが、必ずし
も溝部4,5内にジェットノズル15を挿入しなくても
よい。つまり、ノズルは、金属めっき液をノズルの開口
部から少なくとも前記凹部の底面に向けて吹き付けるも
のであればよい。
にジェットノズル15を挿入する構成としたが、必ずし
も溝部4,5内にジェットノズル15を挿入しなくても
よい。つまり、ノズルは、金属めっき液をノズルの開口
部から少なくとも前記凹部の底面に向けて吹き付けるも
のであればよい。
【0043】(3)前記各実施の形態では、めっき層2
を金属マトリックスのみによって構成するようにした
が、特に第2の実施の形態の如く、めっき液中に不溶性
粒子を配合させたような場合には、流速を比較的遅くす
ることにより、めっき層2中に不溶性粒子を共析させる
こともできる。かかる場合には、不溶性粒子の共析によ
り、めっき層2の硬度、耐摩擦性を高めることができる
等、付随的な効果をも期待することができる。
を金属マトリックスのみによって構成するようにした
が、特に第2の実施の形態の如く、めっき液中に不溶性
粒子を配合させたような場合には、流速を比較的遅くす
ることにより、めっき層2中に不溶性粒子を共析させる
こともできる。かかる場合には、不溶性粒子の共析によ
り、めっき層2の硬度、耐摩擦性を高めることができる
等、付随的な効果をも期待することができる。
【0044】(4)前記各実施の形態では、めっき液を
ジェットノズル15から噴出させる構成としたが、例え
ば滝状に当てる等、めっき液を流速をもたせて当てるよ
うにする構成であればいかなる方法を採用してもよい。
ジェットノズル15から噴出させる構成としたが、例え
ば滝状に当てる等、めっき液を流速をもたせて当てるよ
うにする構成であればいかなる方法を採用してもよい。
【0045】(5)前記各実施の形態では、金属マトリ
ックス3として、ニッケル系の金属を採用したが、その
他の金属を採用してもよい。 (6)前記各実施の形態では、基材としてアルミニウム
製の基材1に適用したが、金属基材であれば、鉄等いか
なるものにも適用しうる。また、基材は、少なくともめ
っきが施される表面が導電性を有しており、かつ、電極
に接続されているものであればよい。
ックス3として、ニッケル系の金属を採用したが、その
他の金属を採用してもよい。 (6)前記各実施の形態では、基材としてアルミニウム
製の基材1に適用したが、金属基材であれば、鉄等いか
なるものにも適用しうる。また、基材は、少なくともめ
っきが施される表面が導電性を有しており、かつ、電極
に接続されているものであればよい。
【0046】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の基材への
めっき方法によれば、凹部を有してなる基材へのめっき
方法において、凹部の内部にも確実にめっきを施すこと
ができるという優れた効果を奏する。
めっき方法によれば、凹部を有してなる基材へのめっき
方法において、凹部の内部にも確実にめっきを施すこと
ができるという優れた効果を奏する。
【図1】第1の実施の形態において基材表面にめっき層
を形成する際の状態を示す模式的な断面図である。
を形成する際の状態を示す模式的な断面図である。
【図2】第1の実施の形態のめっき装置を示す模式図で
ある。
ある。
【図3】第1の実施の形態の基材及びめっき層を示す断
面図である。
面図である。
【図4】別の実施の形態の基材等を示す断面図である。
【図5】従来技術における基材及びめっき層を示す断面
図である。
図である。
1…基材、2…めっき層、4,5…凹部としての溝部、
15…ジェットノズル。
15…ジェットノズル。
Claims (5)
- 【請求項1】 凹部(4,5)を有する基材(1)に金
属めっきを施す方法であって、 金属めっき液を、ノズル(15)の開口部から少なくと
も前記凹部(4,5)の底面に向けて吹き付けて前記基
材(1)の表面に流速をもたせて接触させ、前記金属め
っき液で電気的に接続された前記ノズル(15)及び基
材(1)間に電圧をかけることにより、前記凹部(4,
5)を含む前記基材(1)の表面にめっき層(2)を形
成するようにしたことを特徴とする基材へのめっき方
法。 - 【請求項2】 前記ノズル(15)は導電体であること
を特徴とする請求項1に記載の基材へのめっき方法。 - 【請求項3】 前記金属めっき液中に不溶性粒子(4)
を分散させることにより、前記金属めっき液の吹き付け
に際し、少なくとも前記基材(1)の表面に前記不溶性
粒子(4)からの応力を与えるようにしたことを特徴と
する請求項1又は2に記載の基材へのめっき方法。 - 【請求項4】 前記基材(1)の表面に接触させる際の
前記金属めっき液の流速を、4m/s以上とし、かつ、
前記基材(1)が変形しない速度としたことを特徴とす
る請求項1から3のいずれかに記載の基材へのめっき方
法。 - 【請求項5】 前記ノズル(15)の開口部を前記凹部
(4,5)内に挿入させた状態で前記金属めっき液を吹
き付けるようにしたことを特徴とする請求項1から4の
いずれかに記載の基材へのめっき方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9002408A JPH10195690A (ja) | 1997-01-09 | 1997-01-09 | 基材へのめっき方法 |
| DE19702366A DE19702366C2 (de) | 1996-01-24 | 1997-01-23 | Beschichtungsverfahren |
| US08/788,977 US5865976A (en) | 1994-10-07 | 1997-01-24 | Plating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9002408A JPH10195690A (ja) | 1997-01-09 | 1997-01-09 | 基材へのめっき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10195690A true JPH10195690A (ja) | 1998-07-28 |
Family
ID=11528429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9002408A Pending JPH10195690A (ja) | 1994-10-07 | 1997-01-09 | 基材へのめっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10195690A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018113366A (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 国立大学法人大阪大学 | 触媒表面基準エッチング方法及びその装置 |
-
1997
- 1997-01-09 JP JP9002408A patent/JPH10195690A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018113366A (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 国立大学法人大阪大学 | 触媒表面基準エッチング方法及びその装置 |
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