JPH10197452A - 現像装置の校正方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、デイスク状記録媒体の種類にかかわ
らず、最適な形状でなるピツト及び又はグルーブをより
一層精度良く形成し得る現像装置の校正方法を実現しよ
うとするものである。 【解決手段】基板の一面に形成されたフオトレジストか
らなるレジスト層のモニタ領域と同じ位置に、記録信号
と同一又は類似の信号に基づいて所望状態の凹凸パター
ンが形成されてなる校正基板の凹凸パターンにレーザ光
を照射して、当該凹凸パターンから得られるレーザ光の
回折光の光量を検出した後、当該検出結果に基づいて、
現像装置におけるレジストマスタ板の現像状態の検出精
度を校正するようにしたことにより、レジストマスタ板
に基づいて得られるデイスク状記録媒体の種類にかかわ
らず、最適な形状でなるピツト及び又はグルーブをより
一層精度良く形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【目次】以下の順序で本発明を説明する。

【０００２】発明の属する技術分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題（図７及び図８） 課題を解決するための手段 発明の実施の形態（図１〜図６） 発明の効果

【０００３】

【発明の属する技術分野】本発明は、現像装置の校正方
法に関し、例えば光デイスク等でなるデイスク状記録媒
体の成形時の金型となる光デイスク原盤（いわゆるスタ
ンパ）の作製工程のうち現像処理工程における現像装置
に適用して好適なものである。

【０００４】

【従来の技術】従来、光デイスク及び光磁気デイスク等
でなるデイスク状記録媒体の製造工程においては、記録
信号に応じた所望の凹凸パターン（例えばピツト及び又
はグルーブ等）が表面に形成されたスタンパを作製する
工程と、当該スタンパの表面に形成された所望の凹凸パ
ターンをデイスク基盤上に転写することによつて当該デ
イスク基盤をデイスク状記録媒体として製品化するまで
の工程とに大別される。このうちスタンパを作製する工
程においては、まず極めて平滑に研磨されたガラス板の
一面を洗浄及び乾燥した後、当該一面上に感光材料でな
るフオトレジストを塗布することによりレジスト層を形
成（以下、このようなガラス板をレジストマスタガラス
板と呼ぶ）する。次いでこのレジスト層に所望の記録信
号に基づく光ビーム（例えばレーザ光等）を露光した
後、これを現像することによりガラス板の一面上にレジ
スト層に記録した信号に応じた凹凸パターンが形成され
る。実際上、このような現像処理工程は、露光処理工程
が終了したレジストマスタガラス板のレジスト層に、例
えばメタケイ酸ナトリウム等のアルカリ水溶液でなる現
像液を供給し、当該レジスト層の露光された部分を当該
現像液によつて溶解することにより行われる。

【０００５】続いて当該凹凸パターンの表面上にスパツ
タリング、蒸着又は無電解メツキ等の手法により銀又は
ニツケル等でなる導電化膜層を形成する。この後、電鋳
によりこの導電化膜層上に所定の厚みを有するニツケル
等でなるメツキ層を形成する。さらにこの後、導電化膜
層及びメツキ層を一体にガラス板から引き剥がした後、
これを所定形状に打ち抜く。これにより記録信号に応じ
た凹凸パターンが一面に形成されてなるスタンパを得る
ことができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このように
光ビームを用いてレジストマスタガラス板のレジスト層
に記録信号を露光記録した後、これを現像することによ
り当該記録信号に応じた凹凸パターンを形成する方法に
よれば、この凹凸パターンでなるピツト及び又はグルー
ブに相当する部分（以下、この部分をピツト及び又はグ
ルーブ相当部と呼ぶ）は約１ミクロン単位での露光精度
が要求され、当該要求に応じて忠実にレジスト層に現像
されることが必要となる。

【０００７】すなわち現像処理工程によつてレジスト層
に形成されるピツト及び又はグルーブ相当部の深さ及び
幅は、照射される光ビームのトラツク方向に垂直な断面
の寸法として表されることから、光デイスクシステムに
おけるレーザ光による情報検出の精度に密接に関連す
る。従つて、現像処理工程は、このピツト及び又はグル
ーブ相当部の深さ及び幅（以下、この深さ及び幅を断面
寸法と呼ぶ）が所定範囲内の値となるように管理される
ことが必要となる。

【０００８】このため、平坦面上の凹凸による光の回折
現像を利用して、現像中にモニタ用のレーザ光をガラス
板のレジスト層に照射しつつピツト及び又はグルーブ相
当部によつて回折されたレーザ光成分を検出し、回折光
の強度が所定値に達したとき現像処理を停止させること
によつてピツト及び又はグルーブ相当部の断面寸法を制
御する方法が提案されている。

【０００９】かかる方法を具現化するにあたつて、例え
ば光デイスク又は光磁気（ＭＯ：Magnet Optical）デイ
スク等でなるデイスク状記録媒体のスタンパを作製する
際に用いられる現像装置について説明する。

【００１０】この現像装置としては、図７に示すような
構成のものが提案されている。

【００１１】現像装置１において、レジストマスタガラ
ス板２を回転自在に保持する回転駆動部３は、ベースプ
レート４に固定されたスピンド８５を有し、このスピン
ドル５の端軸５Ａがベースプレート４の下側においてベ
ルト６を介してサーボモータ７の出力軸７Ａと係合され
ている。

【００１２】またベースプレート４の上側においてスピ
ンドル５の端軸５Ｂには、ターンテーブル８が取り付け
られ、このターンテーブル８上に載置されたレジストマ
スタガラス板２を吸着保持するようになされている。か
くしてサーボモータ７の回転駆動に応じてベルト６、ス
ピンドル５及びターンテーブル８が連動することによ
り、レジストマスタガラス板２が矢印ａで示す方向又は
これとは逆方向に回転され得る。

【００１３】またベースプレート４の上面には、スピン
ドル５の周囲に所定形状でなるチヤンバ９が設けられる
共に、当該チヤンバ９の隣接位置にアーム支持台１０が
植立して固定されている。このアーム支持台１０の上端
部にはアーム支持部１０Ａが矢印ｂで示す方向又はこれ
とは逆方向に回転自在に支持されており、当該アーム支
持部１０Ａにはノズルアーム１１の一端及びパイプ１２
の一端が互いに連通するように取り付けられている。

【００１４】このパイプ１２の他端には電磁弁（三方向
弁）１３の出力口が連結され、当該電磁弁１３の２入力
口には現像液ＤＥ及び純水ＰＷが外部接続されている。
さらにこの電磁弁１３は、制御部１４の制御に基づい
て、出力口が開閉動作されると共に２入力口が選択的に
開閉動作されるようになされている。これにより現像液
ＤＥ又は純水ＰＷのいずれか一方が選択的に出力口を介
してパイプ１２内に供給される。

【００１５】一方、ノズルアーム１１の他端にはノズル
１５が取り付けられ、このノズル１５の先端からはパイ
プ１２及びノズルアーム１１を介して供給される現像液
ＤＥ又は純水ＰＷが散布されるようになされている。

【００１６】かくしてアーム支持部１０Ａの回転駆動に
よつてノズル１５がレジストマスタガラス板２の上方に
配置された後、パイプ１２、ノズルアーム１１及びノズ
ル１５を介して現像液ＤＥ又は純水ＰＷがレジストマス
タガラス板２のレジスト層２Ａ上に散布される。この
後、散布された現像液ＤＥ又は純水ＰＷはレジストマス
タガラス板２上を流下した後、チヤンバ９内で回収され
る。

【００１７】ところで、レジストマスタガラス板２のレ
ジスト層２Ａには、予めマスタコードカツター等によつ
て、所望の記録信号に応じて露光処理されたピツト及び
又はグルーブ相当部の潜像に見合う領域（以下、これを
記録データ領域と呼ぶ）が形成されている。さらに当該
記録データ領域とは別の所定領域でなり、かつ当該記録
信号と同一又は類似でなる信号に応じて露光処理された
ピツト及び又はグルーブ相当部の潜像に見合う領域（以
下、これを現像モニタ領域と呼ぶ）が形成されている。

【００１８】このようにレジストマスタガラス板２のレ
ジスト層２Ａに記録データ領域のみならず、現像モニタ
領域をも形成するようにしたのは、例えば再生専用光デ
イスク（ＣＤ）、プリフオーマツトとしての離散的情報
パターン及び又はトラツキング用の案内溝（グルーブ）
が予め形成された書き込み可能な光デイスク（ＭＤ）、
又は１倍、２倍及び４倍密度等で書き込まれた光磁気デ
イスク（ＭＯ）、さらにはデイジタルビデオデイスク
（ＤＶＤ）等の多種多様なデイスク状記録媒体に対応し
得るようにするためである。

【００１９】すなわち、このような種々のデイスク状記
録媒体はそれぞれ種類に応じて記録データ領域が異なる
ことから、現像処理工程においてこれら種々のスタンパ
の前処理段階としての各レジストマスタガラス板に対す
るレーザ光の照射位置を全て同一の半径位置に設定すべ
く、記録データ領域とは別の領域に現像モニタ領域を形
成したのである。

【００２０】またレジストマスタガラス板２の上方の所
定位置には、コヒーレント長の短い半導体レーザ（波長
685〔nm〕）でなるレーザ光源１６が設けられ、当該レ
ーザ光源１６からレーザ光Ｌ１がレジストマスタガラス
板２のレジスト層２Ａに形成された現像モニタ領域に照
射されるようになされている。

【００２１】因みに、レーザ光源１６は、レジストマス
タガラス板の表面の大きさ、すなわち当該レジストマス
タガラス板から得られるスタンパを金型として成形して
なるデイスク状記録媒体の種類にかかわらず、現像モニ
タ領域が常に一定の半径位置となるように固設されてい
る。

【００２２】一方、レジストマスタガラス板２に対する
レーザ光源１６の反対側における当該レーザ光源１６か
ら発射されたレーザ光Ｌ１の光路上及び当該光路外の所
定位置には、それぞれ第１及び第２のデイテクタ１７及
び１８が設けられている。

【００２３】すなわち現像モニタ領域に未だピツト及び
又はグルーブ相当部が形成されていない場合には、レー
ザ光源１６から発射されたレーザ光Ｌ１の一部が現像モ
ニタ領域で回折されることなくそのまま０次回折光Ｌ１
Ａとしてレジストマスタガラス板２を透過した後、第１
のデイテクタ１７に入射される。

【００２４】一方、現像モニタ領域にピツト及び又はグ
ルーブ相当部が形成されつつある場合には、レーザ光源
１６から発射されたレーザ光Ｌ１の一部が現像モニタ領
域で所定方向に回折されることから、この回折されたレ
ーザ光Ｌ１のうちの１次回折光Ｌ１Ｂが、レジストマス
タガラス板２を透過した後、第２のデイテクタ１８に入
射される。

【００２５】この場合、まず第２のデイテクタ１８は、
入射された１次回折光Ｌ１Ｂの光量を検出した後、当該
検出結果でなる電気信号Ｓ１を比較部１９に送出する。
この比較部１９には、電気信号Ｓ１と外部から所定の信
号レベルでなる現像停止レベル信号Ｓ２とが入力され、
当該電気信号Ｓ１の信号レベルと現像停止レベル信号Ｓ
２の信号レベルとを比較することにより、当該比較結果
でなる比較信号Ｓ３を制御部１４に送出する。

【００２６】制御部１４は、比較信号Ｓ３に基づいて、
電気信号Ｓ１の信号レベルが現像停止レベル信号Ｓ２の
信号レベルに達したときに現像停止信号Ｓ４を電磁弁１
３に送出する。このときレジストマスタガラス板２のレ
ジスト層２Ａ上には現像液ＤＥが散布されているため、
電磁弁１３は現像液ＤＥの入力口が開動作されると共に
純水ＰＷの入力口が閉動作された状態にある。

【００２７】この状態において、電磁弁１３に現像停止
信号Ｓ４が入力されると、当該電磁弁１３は現像液ＤＥ
の入力口が閉動作にされると共に純水ＰＷの入力口が開
動作された状態に切り替えられる。この結果、レジスト
マスタガラス板２のレジスト層２Ａ上には純水ＰＷが散
布されることにより、当該レジスト層２Ａ上に散布され
た現像液ＤＥが純水ＰＷによつて洗い流され、かくして
現像の進行が停止されることとなる。

【００２８】これに対して、第１のデイテクタ１７は、
入射された０次回折光Ｌ１Ａの光量を検出した後、当該
検出結果でなる電気信号Ｓ５を光量制御部２０内の比較
部２１に送出する。この光量制御部２０において、比較
部１９には、電気信号Ｓ５と外部から所定の信号レベル
でなる基準信号Ｓ６とが入力され、当該電気信号Ｓ５の
信号レベルと基準信号Ｓ６の信号レベルとを比較するこ
とにより、当該比較結果でなる比較信号Ｓ７を制御部２
２に送出する。

【００２９】制御部１４は、比較信号Ｓ７に基づいて、
電気信号Ｓ５の信号レベルと基準信号Ｓ６の信号レベル
との差分を解消して同一の信号レベルとなるようにレー
ザドライバ２３に制御信号Ｓ８を送出する。

【００３０】レーザドライバ２３は制御信号Ｓ８に基づ
いてレーザ光源１６を駆動制御することにより、当該レ
ーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の光量を常に
安定した状態に保つようになされている。この結果、レ
ーザ光源１６からレジストマスタガラス板２のレジスト
層２Ａに形成された現像モニタ領域に至るまでのレーザ
光Ｌ１の光路上に、浮遊する塵埃や霧状の現像液のゆら
ぎ等の外乱要素が存在する場合でも、１次回折光Ｌ１Ｂ
の光量を乱れのない安定した状態に保つことができ、か
くして第２のデイテクタ１８において１次回折光Ｌ１Ｂ
の光量の検出精度が劣化することを防止することができ
る。

【００３１】因みに、図８に示すようにレジストマスタ
ガラス板２のレジスト層２Ａには記録データ領域Ａ₁ 及
び現像モニタ領域Ａ₂ が形成されている。この結果、記
録データ領域Ａ₁ のピツトが所定の断面寸法になり、現
像モニタ領域Ａ₂ のピツトも所定の断面寸法になり、レ
ジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａには図８に示
すような干渉のパターンが現れる。

【００３２】かくしてこのようにピツト及び又はグルー
ブ相当部が所望の断面寸法となるときに現像を停止させ
る動作を、記録データ領域Ａ₁ ではなく現像モニタ領域
Ａ₂で回折された１次回折光Ｌ１Ｂの光量を検出するこ
とによつて行うことにより、レジストマスタガラス板の
表面の大きさにかかわらず、常に現像を停止させる動作
を行うことができる。この結果、レジストマスタガラス
板の表面の大きさに応じてレーザ光源１６と第１及び第
２のデイテクタ１７及び１８の配置を移動させる煩雑さ
を回避することができる。

【００３３】なお、このようにしてレジスト層２Ａに形
成されたピツト及び又はグルーブ相当部を有するレジス
トマスタガラス板２の複製をニツケル等でなる導電化膜
層を形成した後、電鋳によつてメツキすることによりス
タンパを作製する。このスタンパを金型として用いて、
ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）又はＰＣ（ポリ
カーボネイト）等でなる透明樹脂に成形を行うことによ
り、ピツト及び又はグルーブが転写された透明基盤を形
成する。これらピツト及び又はグルーブを含む表面には
光を反射する金属膜又は光磁気膜等が設けられ、さらに
保護膜が信号ピツトや反射膜を保護するために設けら
れ、かくしてＣＤ、ＬＤ又はＭＯ等のデイスク状記録媒
体が製造される。

【００３４】ところが、第２のデイテクタ１８の検出窓
が塵や埃等で汚れている場合や、レーザ光源１６から発
射されるレーザ光Ｌ１の出力が低下した場合には、レジ
ストマスタガラス板２のピツト又はグルーブ相当部で回
折された１次回折光Ｌ１Ｂの光量が、第２のデイテクタ
１８において正確に検出されないおそれがあつた。

【００３５】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、デイスク状記録媒体の種類にかかわらず、最適な形
状でなるピツト及び又はグルーブをより一層精度良く形
成し得る現像装置の校正方法を提案しようとするもので
ある。

【００３６】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、基板の一面に形成されたフオトレ
ジストからなるレジスト層のデータ記録領域が記録信号
に基づいて露光されると共に、当該レジスト層のデータ
記録領域とは別のモニタ領域が記録信号と同一又は類似
の信号に基づいて露光されてなるレジストマスタ板を、
レジスト層のモニタ領域にレーザ光を照射して得られる
回折光の光量変化に基づいて現像状態を検出しながら現
像する現像装置の校正方法において、レジストマスタ板
に代えて、基板の一面に形成されたフオトレジストから
なるレジスト層のモニタ領域と同じ位置に、記録信号と
同一又は類似の信号に基づいて所望状態の凹凸パターン
が形成されてなる校正基板の凹凸パターンにレーザ光を
照射して、当該凹凸パターンから得られるレーザ光の回
折光の光量を検出した後、当該検出結果に基づいて、現
像装置におけるレジストマスタ板の現像状態の検出精度
を校正するようにする。

【００３７】複数のレジストマスタ板を順次現像処理す
る過程において、当該レジストマスタ板のレジスト層に
レーザ光を照射して得られる回折光の光量の検出結果が
否定的である場合でも、校正基板を用いて、当該校正基
板のレジスト層に形成された凹凸パターンから得られる
レーザ光の回折光の光量を検出することにより、当該検
出結果に基づいてレジストマスタ板の現像状態の検出精
度を校正することができる。この結果、レジストマスタ
板の製造ミスを回避することができ、かくしてレジスト
マスタ板の歩留りを向上させることができる。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。

【００３９】図７との対応部分に同一符号を付して示す
図１において、現像装置３０は、従来の現像装置１の構
成に加えて、第２のデイテクタ１８の出力が比較部１９
のみならず制御部３２にも入力されると共に、比較部１
９の出力側にモニタ３１が設けられている。この現像装
置３０では、現像対象となるレジストマスタガラス板２
を現像処理する前段階として、ターンテーブル８上に、
所定の断面寸法を有するピツト及び又はグルーブが形成
されたレジストマスタガラス板（以下、これを校正基板
と呼ぶ）３３が載置される。

【００４０】この校正基板３３は、図２に示すように、
レジストマスタガラス板２とほぼ同じ大きさでなり、表
面のレジスト層３３Ａには、レジストマスタガラス板２
のレジスト層２Ａに形成された現像モニタ領域と同じ位
置に、所望の記録信号と同一又は類似でなる信号に応じ
た所定の断面寸法を有するピツト及び又はグルーブでな
る凹凸パターン（以下、これを校正用記録パターンと呼
ぶ）Ａ_CAL が予め形成されている。

【００４１】まず、レーザ光源１６からモニタ用のレー
ザ光Ｌ１を校正基板３３上に形成された校正用記録パタ
ーンＡ_CAL に照射すると、当該校正用記録パターンＡ
_CAL で回折されたレーザ光Ｌ１のうち１次回折光Ｌ１Ｂ
が第２のデイテクタ１８に入射される。続いて第２のデ
イテクタ１８は、入射された１次回折光Ｌ１Ｂの光量を
検出した後、当該検出結果でなる電気信号Ｓ１０を比較
部１９の一入力端及び制御部３２に送出する。

【００４２】この比較部１９の他入力端には、所定の信
号レベルでなる基準信号Ｓ１１が入力され、かくして比
較部１９は電気信号Ｓ１０の信号レベルと基準信号Ｓ１
１の信号レベルとを比較した後、当該比較結果でなる比
較信号Ｓ１２をモニタ３１及び制御部３２に送出する。

【００４３】なお、基準信号Ｓ１１は、校正基板３３上
に形成された校正用記録パターンＡ_CAL で回折された１
次回折光Ｌ１Ｂを第２のデイテクタ１８において光電変
換して得られる電気信号のうち、基準として最適な信号
レベルを有するものである。すなわち基準としての校正
基板３３は、第２のデイテクタ１８の検出窓が塵や埃等
で汚れておらず、かつレーザ光源１６から発射されるレ
ーザ光Ｌ１の出力が低下していない状態で現像処理され
たものである。

【００４４】制御部３２にはメモリ（図示せず）が内蔵
され、比較信号Ｓ１２に基づいて、電気信号Ｓ１０と基
準信号Ｓ１１とが一致したときのみ電気信号Ｓ１０をメ
モリ内に格納する。このときモニタ３１には、比較信号
Ｓ１２に基づく信号波形が画面表示され、オペレータが
この画面表示を目視確認することにより、比較部１９に
おける比較結果が肯定的であるか否かを目視確認し得る
ようになされている。この結果、比較部１９における比
較結果が否定的である場合には、オペレータは第２のデ
イテクタ１８の検出窓が塵や埃等で汚れているか、或い
はレーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の出力が
低下していると判断することができる。この場合、オペ
レータは、まず第２のデイテクタ１８の検出窓をきれい
に拭く等して当該検出窓の塵や埃等を取り除いた後、再
度、この校正基板３３上に形成された校正用記録パター
ンＡ_CAL から得られる１次回折光Ｌ１Ｂを第２のデイテ
クタ１８において検出する。

【００４５】このときの検出結果としての電気信号Ｓ１
０が基準信号Ｓ１１に対して一致することなく比較部１
９における比較結果が否定的である場合には、オペレー
タはレーザ光源１６を調整することにより、当該レーザ
光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の出力を高くす
る。このようにして比較部１９における比較結果が肯定
的となるまで、オペレータは、第２のデイテクタ１８の
検出窓の拭き取りや、レーザ光源１６の出力の調整を行
う。

【００４６】次に図３に示すように、現像装置３０にお
いて、校正基板３３に代えてターンテーブル８上に現像
対象としてのレジストマスタガラス板２を載置する。

【００４７】このレジストマスタガラス板２のレジスト
層２Ａ上に現像液ＤＥを散布しながら、レーザ光源１６
からモニタ用のレーザ光Ｌ１をレジストマスタガラス板
２上に形成された現像モニタ領域Ａ₂ に照射すると、当
該現像モニタ領域Ａ₂ で回折されたレーザ光Ｌ１のうち
１次回折光Ｌ１Ｂが第２のデイテクタ１８に入射され
る。続いて第２のデイテクタ１８は、入射された１次回
折光Ｌ１Ｂの光量を検出した後、当該検出結果でなる電
気信号Ｓ１を比較部１９の一入力端及び制御部３２に送
出する。

【００４８】ここで制御部３２は、メモリから読み出し
た電気信号Ｓ１０を現像停止レベル信号Ｓ２０に変換し
た後、これを比較部１９の他入力端に送出する。

【００４９】この場合、制御部３２は、電気信号Ｓ１が
比較部１９の一入力端に入力されるタイミングよりも所
定時間遅延して現像停止レベル信号Ｓ２０を比較部１９
の他入力端に入力させるようにする。この遅延分の時間
は、実際の現像停止時間を考慮したものである。

【００５０】比較部１９は、電気信号Ｓ１の信号レベル
と現像停止レベル信号Ｓ２０の信号レベルとを比較した
後、当該比較結果でなる比較信号Ｓ２１を制御部３２及
びモニタ３１に送出する。制御部３２は、比較信号Ｓ２
１に基づいて、電気信号Ｓ１の信号レベルが現像停止レ
ベル信号Ｓ２１の信号レベルに達したときに現像停止信
号Ｓ２２を電磁弁１３に送出する。

【００５１】このときレジストマスタガラス板２のレジ
スト層２Ａ上には現像液ＤＥが散布されているため、電
磁弁１３は現像液ＤＥの入力口が開動作されると共に純
水ＰＷの入力口が閉動作された状態にある。この状態に
おいて、電磁弁１３に現像停止信号Ｓ２２が入力される
と、当該電磁弁１３は現像液ＤＥの入力口が閉動作にさ
れると共に純水ＰＷの入力口が開動作された状態に切り
替えられる。この結果、レジストマスタガラス板２のレ
ジスト層２Ａ上には純水ＰＷが散布されることにより、
当該レジスト層２Ａ上に散布された現像液ＤＥが純水Ｐ
Ｗによつて洗い流され、かくして現像の進行が停止され
る。

【００５２】以上の構成において、校正基板３３のレジ
スト層３３Ａに、レジストマスタガラス板２のレジスト
層２Ａに形成された現像モニタ領域Ａ₂ と同じ位置に校
正用記録パターンＡ_CAL を予め形成しておく。

【００５３】現像対象となるレジストマスタガラス板２
を現像処理する前段階として、この校正基板３３を現像
装置３０のターンテーブル８に載置して回転させなが
ら、レーザ光源１６からレーザ光Ｌ１を校正基板３３上
に形成された校正用記録パターンＡ_CAL に照射する。

【００５４】このとき、校正基板３２上に形成された校
正用記録パターンＡ_CAL から得られる１次回折光Ｌ１Ｂ
に基づく電気信号Ｓ１０を基準信号Ｓ１１と比較して、
当該比較結果をモニタ３１に画面表示することにより、
オペレータはこの画面表示を目視確認して第２のデイテ
クタ１８の検出窓が塵や埃等で汚れているか、或いはレ
ーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の出力が低下
しているか否かを判断する。この判断結果が否定的であ
れば、オペレータは第２のデイテクタ１８の検出窓の拭
き取りや、レーザ光源１６の出力の調整を行う。

【００５５】この後、レジストマスタガラス板２を現像
装置３０のターンテーブル８に載置して回転させながら
ノズル１５から純水ＰＷを散布してレジスト層２Ａを水
洗した後、ノズルアーム１１を回転させてノズル１５を
レジスト層２Ａ上の所定位置に停止させると共に、レー
ザ光源１６からレーザ光Ｌ１をレジスト層２Ａに形成さ
れた現像モニタ領域に照射する。

【００５６】続いてターンテーブル８の回転に応じてレ
ジストマスタガラス板２を回転させながら、ノズル１５
から現像液ＤＥをレジスト層２Ａ上に散布する。この状
態において、現像モニタ領域Ａ₂ に形成された潜像でな
るピツト及び又はグルーブ相当部が所望の断面寸法とな
る（実際には、現像停止時間を考慮して所望の断面寸法
よりも若干大きくなる）と、これと同時に第２のデイテ
クタ１８から出力される電気信号Ｓ１の信号レベルが現
像停止レベル信号Ｓ２０の信号レベルに達することとな
る。このとき電磁弁１３が制御部３２によつて切替え制
御され、現像液ＤＥに代わつてノズル１５からは純水Ｐ
Ｗがレジスト層２Ａ上に散布されることにより、現像液
ＤＥを洗い流して現像を停止させる。

【００５７】かくして複数のレジストマスタガラス板２
を順次現像処理する過程において、当該レジストマスタ
ガラス板２のレジスト層２Ａにレーザ光を照射して得ら
れる回折光の光量の検出結果が否定的である場合（すな
わち第２のデイテクタ１８の検出窓が塵や埃等で汚れた
場合や、レーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の
出力が低下した場合）でも、校正基板３３を用いて、当
該校正基板３３のレジスト層３３Ａに形成された校正用
記録パターンＡ_CAL から得られるレーザ光の回折光Ｌ１
Ｂの光量を検出することにより、当該検出結果に基づい
てレジストマスタ板２の現像状態の検出精度を校正する
ことができる。この結果、レジストマスタ板２の製造ミ
スを回避することができ、かくしてレジストマスタ板２
の歩留りを向上させることができる。

【００５８】以上の構成によれば、レジスト層２Ａに記
録データ領域Ａ₁ のみならず、当該記録データ領域Ａ₁
とは別の所定領域に現像モニタ領域Ａ₂ も形成されたレ
ジストマスタガラス板２を現像処理する前段階におい
て、レジスト層３３Ａに現像モニタ領域Ａ₂ と同じ位置
関係を有する校正用記録パターンＡ_CAL が形成された校
正基板３３を用いて、レジストマスタガラス板２の現像
状態の検出精度を校正するようにしたことにより、レジ
ストマスタガラス板２の歩留りを向上させることがで
き、かくしてレジストマスタガラス板２に基づいて得ら
れるデイスク状記録媒体の種類にかかわらず、最適な形
状でなるピツト及び又はグルーブをより一層精度良く形
成することができる。

【００５９】なお上述の実施例においては、校正基板３
３には、マスタコードカツタ等によつて予めレジスト層
３３Ａに所望の記録信号と同一又は類似でなる信号に応
じて露光処理及び現像処理されたピツト及び又はグルー
ブを校正用記録パターンＡ_CAL として形成するようにし
た場合について述べたが、本発明はこれに限らず、校正
用記録パターンＡ_CAL を形成するための露光処理工程に
おいて、所望の記録信号と同一又は類似でなる信号に基
づく露光の光量（以下、これを記録光量と呼ぶ）を変化
させるようにしても良い。

【００６０】すなわち図４の図表に示すように、露光処
理工程において校正用記録パターンＡ_CAL の記録光量を
それぞれ中心から90〔°〕毎に 1.0〔mJ/m〕、 1.2〔mJ
/m〕、 1.5〔mJ/m〕及び 1.8〔mJ/m〕と変化させて露光
する。

【００６１】この場合、第２のデイテクタ１８から得ら
れる電気信号Ｓ１０の信号レベルは、各記録光量の大き
さに比例して増加する傾向にある。この図表によれば、
現像時間を30秒とした場合、校正用記録パターンＡ_CAL
の記録光量が 1.0〔mJ/m〕、1.2〔mJ/m〕、 1.5〔mJ/
m〕及び 1.8〔mJ/m〕のとき、これらに対応する電気信
号Ｓ１０の信号レベルＶ₁ 、Ｖ₂ 、Ｖ₃ 及びＶ₄ は、そ
れぞれ 2.4〔Ｖ〕、 4.2〔Ｖ〕、 6.2〔Ｖ〕及び 6.8
〔Ｖ〕となることが読み取れる。これにより校正用記録
パターンＡ_CAL の各記録光量における電気信号Ｓ１０の
信号レベルが露光時間に依存していることがわかる。

【００６２】このように露光記録された校正基板４０の
レジスト層４０Ａには、図５に示すような校正用記録パ
ターンＡ_CAL （Ａ_CAL1、Ａ_CAL2、Ａ_CAL3及びＡ_CAL4）が
回転方向に沿つて４分割されて形成される。この結果、
校正用記録パターンＡ_CAL の記録光量を変化させること
により、当該記録光量の変化に応じて電気信号Ｓ１０の
信号レベルを変化させることができる。

【００６３】なお図６に、オシロスコープにおいてグラ
フ表示される電気信号Ｓ１０の信号波形を示す。このグ
ラフによれば、校正基板４０をターンテーブル８（図
１）上に載置して回転（１回転にかかる時間：時点ｔ₀
〜時点ｔ₄ ）させながらレーザ光Ｌ１を照射すると、校
正用記録パターンＡ_CAL の記録光量はＶ₁ （時点ｔ₀ 〜
時点ｔ₁ ）、Ｖ₂ （時点ｔ₁ 〜時点ｔ₂ ）、Ｖ₃ （時点
ｔ₂ 〜時点ｔ₃ ）及びＶ₄ （時点ｔ₃ 〜時点ｔ₄ ）と順
次変化を繰り返すことがわかる。

【００６４】かくして１枚の校正基板４０から４種類の
電気信号Ｓ１０の信号レベルが得られることにより、１
枚の校正基板４０を用いて、４種類のレジストマスタ基
板についての現像状態の検出精度を校正することができ
る。

【００６５】なお、校正基板のレジスト層に形成する校
正用記録パターンＡ_CAL は、回転方向に沿つて４分割以
外にも、２分割及び３分割さらには５分割以上にしても
良い。

【００６６】さらに上述の実施例においては、現像対象
となるレジストマスタガラス板から得られるデイスク状
記録媒体を特に限定することなく、通常の記録密度でな
るＣＤ等のデイスク状記録媒体に対応するレジストマス
タガラス板に現像装置３０を適用した場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、例えば２倍密度又は４倍
密度で記録されたＭＯやＤＶＤ等の高密度記録されたデ
イスク状記録媒体に対応するレジストマスタガラス板に
現像装置３０を適用するようにしても良い。

【００６７】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、基板の一
面に形成されたフオトレジストからなるレジスト層のモ
ニタ領域と同じ位置に、記録信号と同一又は類似の信号
に基づいて所望状態の凹凸パターンが形成されてなる校
正基板の凹凸パターンにレーザ光を照射して、当該凹凸
パターンから得られるレーザ光の回折光の光量を検出し
た後、当該検出結果に基づいて、現像装置におけるレジ
ストマスタ板の現像状態の検出精度を校正するようにし
たことにより、レジストマスタ板に基づいて得られるデ
イスク状記録媒体の種類にかかわらず、最適な形状でな
るピツト及び又はグルーブをより一層精度良く形成する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における現像装置の全体構成の一実施例
を示す部分的略線図である。

【図２】校正基板における校正用記録パターンの形成状
態を示す略線図である。

【図３】本発明における現像装置の全体構成の一実施例
を示す部分的略線図である。

【図４】校正用記録パターンの記録光量と第２のデイテ
クタの出力との関係を示す図表である。

【図５】他の実施例による校正基板の形成状態を示す平
面図である。

【図６】校正用記録パターンの記録光量の特性を示すグ
ラフである。

【図７】従来の現像装置の全体構成を示す部分的略線図
である。

【図８】レジストマスタガラス板における現像モニタ領
域の形成状態を示す略線図である。

【符号の説明】

１、３０……現像装置、２……レジストマスタガラス
板、２Ａ……レジスト層、１４、３２……制御部、１６
……レーザ光源、１８……第２のデイテクタ、１９……
比較部、３１……モニタ、３３、４０……校正基板、３
３Ａ、４０Ａ……レジスト層、Ａ₁ ……記録データ領
域、Ａ₂ ……現像モニタ領域、Ａ_CAL ……校正用記録パ
ターン。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板の一面に形成されたフオトレジストか
   らなるレジスト層のデータ記録領域が記録信号に基づい
   て露光されると共に、当該レジスト層の上記データ記録
   領域とは別のモニタ領域が上記記録信号と同一又は類似
   の信号に基づいて露光されてなるレジストマスタ板を、
   上記レジスト層の上記モニタ領域にレーザ光を照射して
   得られる回折光の光量変化に基づいて現像状態を検出し
   ながら現像する現像装置の校正方法において、 上記レジストマスタ板に代えて、基板の一面に形成され
   たフオトレジストからなるレジスト層の上記モニタ領域
   と同じ位置に、上記記録信号と同一又は類似の信号に基
   づいて所望状態の凹凸パターンが形成されてなる校正基
   板の上記凹凸パターンに上記レーザ光を照射し、 上記凹凸パターンから得られる上記レーザ光の回折光の
   光量を検出し、 上記検出結果に基づいて、上記現像装置における上記レ
   ジストマスタ板の現像状態の検出精度を校正することを
   特徴とする現像装置の校正方法。
2. 【請求項２】上記校正基板の上記凹凸パターンは、上記
   レジスト層の所定の半径位置に設けられたことを特徴と
   する請求項１に記載の現像装置の校正方法。
3. 【請求項３】上記校正基板の上記凹凸パターンは、上記
   記録信号と同一又は類似の信号に基づく露光の光量分布
   が回転方向に沿つて異なるように上記レジスト層に形成
   されてなることを特徴とする請求項１に記載の現像装置
   の校正方法。