JPH10197893A - 液晶ディスプレイの欠陥画素の補正方法及び装置 - Google Patents
液晶ディスプレイの欠陥画素の補正方法及び装置Info
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- JPH10197893A JPH10197893A JP227197A JP227197A JPH10197893A JP H10197893 A JPH10197893 A JP H10197893A JP 227197 A JP227197 A JP 227197A JP 227197 A JP227197 A JP 227197A JP H10197893 A JPH10197893 A JP H10197893A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 LCDの輝点欠陥画素等の欠陥画素にレーザ
ー光を照射して欠陥の補正を行う方法及び装置におい
て、装置の小型化及び低コスト化と、補正作業の所要時
間の短縮化と、レーザー光の照射位置の高精度な制御と
を可能にする。 【解決手段】 レーザー光を、第1のミラー4及び第2
のミラー5でそれぞれ反射させてLCDパネル12の欠
陥画素に照射させた後、ミラー4を変位させることによ
り欠陥画素におけるレーザー光の照射位置を横方向上で
変化させること、及び、ミラー5を変位させることによ
り欠陥画素におけるレーザー光の照射位置を縦方向上で
変化させること、のうち少なくとも一方を行う。その
後、再びレーザー光をミラー4及び5で反射させて欠陥
画素に照射させる。
ー光を照射して欠陥の補正を行う方法及び装置におい
て、装置の小型化及び低コスト化と、補正作業の所要時
間の短縮化と、レーザー光の照射位置の高精度な制御と
を可能にする。 【解決手段】 レーザー光を、第1のミラー4及び第2
のミラー5でそれぞれ反射させてLCDパネル12の欠
陥画素に照射させた後、ミラー4を変位させることによ
り欠陥画素におけるレーザー光の照射位置を横方向上で
変化させること、及び、ミラー5を変位させることによ
り欠陥画素におけるレーザー光の照射位置を縦方向上で
変化させること、のうち少なくとも一方を行う。その
後、再びレーザー光をミラー4及び5で反射させて欠陥
画素に照射させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
の製品歩留り向上のために、欠陥画素にレーザー光を照
射することによりその欠陥の補正を行う方法及び装置に
関し、特に、機構の簡素化及び補正作業の所要時間の短
縮化等を図ったものに関する。
の製品歩留り向上のために、欠陥画素にレーザー光を照
射することによりその欠陥の補正を行う方法及び装置に
関し、特に、機構の簡素化及び補正作業の所要時間の短
縮化等を図ったものに関する。
【0002】
【従来の技術】液晶ディスプレイ(LCD)パネルは数
十万〜数百万の画素が集積化されたものであり、その中
に欠陥画素が存在することが画面上で視認されてしまう
と、製品歩留りを低下させてしまう。この欠陥画素の内
容を、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(TF
T)を用いたアクティブマトリックス駆動方式のLCD
パネルを例にとって説明すると、以下の通りである。
十万〜数百万の画素が集積化されたものであり、その中
に欠陥画素が存在することが画面上で視認されてしまう
と、製品歩留りを低下させてしまう。この欠陥画素の内
容を、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(TF
T)を用いたアクティブマトリックス駆動方式のLCD
パネルを例にとって説明すると、以下の通りである。
【0003】図7は、アクティブマトリックス駆動方式
のLCDパネルの一画素部分の構造を例示するものであ
り、駆動基板21と対向基板22とを対向させ、その間
隙にネマティック液晶を封入して液晶層23が形成され
ている。このLCDの等価回路を示すと図8の通りであ
り、駆動基板21の内側(液晶側)面には、画像信号が
印加される信号線Si(S1,S2,…Sn)と、走査
信号が印加されるゲート線Gj(G1,G2,…Gm)
とがマトリックス状に配され、それらの各交差点に薄膜
トランジスタTrij(Tr11,Tr12,Tr2
1,Tr22,…Trnm)が設けられている。各薄膜
トランジスタTrijは、対応するゲート線Gjにゲー
トが接続されるとともに、対応する信号線Siにソース
またはドレインのいずれか一方が接続されている。
のLCDパネルの一画素部分の構造を例示するものであ
り、駆動基板21と対向基板22とを対向させ、その間
隙にネマティック液晶を封入して液晶層23が形成され
ている。このLCDの等価回路を示すと図8の通りであ
り、駆動基板21の内側(液晶側)面には、画像信号が
印加される信号線Si(S1,S2,…Sn)と、走査
信号が印加されるゲート線Gj(G1,G2,…Gm)
とがマトリックス状に配され、それらの各交差点に薄膜
トランジスタTrij(Tr11,Tr12,Tr2
1,Tr22,…Trnm)が設けられている。各薄膜
トランジスタTrijは、対応するゲート線Gjにゲー
トが接続されるとともに、対応する信号線Siにソース
またはドレインのいずれか一方が接続されている。
【0004】図7に戻り、駆動基板21には、各薄膜ト
ランジスタTrij上に、画素毎に分割された画素電極
24が形成されている。画素電極24には、ITO(酸
化インジウム)等の透明な導電膜が用いられている。画
素電極24の外側面には、配向膜25が成膜されてい
る。配向膜25の表面には、液晶層23の分子配列方向
を揃えるために、所定の方向(図では左右方向)にラビ
ング処理が施されている。対向基板22の内側面にはカ
ラーフィルタ(図示せず)が形成されており、このカラ
ーフィルタの内側面に、ITO等の透明な導電膜を用い
て共通電極26が形成されている。
ランジスタTrij上に、画素毎に分割された画素電極
24が形成されている。画素電極24には、ITO(酸
化インジウム)等の透明な導電膜が用いられている。画
素電極24の外側面には、配向膜25が成膜されてい
る。配向膜25の表面には、液晶層23の分子配列方向
を揃えるために、所定の方向(図では左右方向)にラビ
ング処理が施されている。対向基板22の内側面にはカ
ラーフィルタ(図示せず)が形成されており、このカラ
ーフィルタの内側面に、ITO等の透明な導電膜を用い
て共通電極26が形成されている。
【0005】この共通電極26と駆動基板21の画素電
極24とにより、液晶層23を挟んでキャパシタが構成
されている。図8の等価回路上では、各薄膜トランジス
タTrijのソースまたはドレインの残りの一方に、キ
ャパシタCij(C11,C12,C21,C22,…
Cnm)と液晶とがそれぞれ並列に接続されており、共
通電極26には共通電位Vcomが印加されている。
極24とにより、液晶層23を挟んでキャパシタが構成
されている。図8の等価回路上では、各薄膜トランジス
タTrijのソースまたはドレインの残りの一方に、キ
ャパシタCij(C11,C12,C21,C22,…
Cnm)と液晶とがそれぞれ並列に接続されており、共
通電極26には共通電位Vcomが印加されている。
【0006】共通電極26の内側面には、配向膜27が
成膜されている。配向膜27の表面にもラビング処理が
施されているが、その方向は駆動基板21の配向膜25
とは直交している。これにより、液晶層23は、分子配
列方向が厚さ方向に90度ツイストした状態に保たれて
いる。駆動基板21の外側面には偏光板28が貼付され
ており、対向基板22の外側面には、偏光板28とは偏
光軸を直交させた状態で偏光板29が貼付されている。
成膜されている。配向膜27の表面にもラビング処理が
施されているが、その方向は駆動基板21の配向膜25
とは直交している。これにより、液晶層23は、分子配
列方向が厚さ方向に90度ツイストした状態に保たれて
いる。駆動基板21の外側面には偏光板28が貼付され
ており、対向基板22の外側面には、偏光板28とは偏
光軸を直交させた状態で偏光板29が貼付されている。
【0007】このような構造のLCDパネルに、偏光板
28の外側からバックライト光を照射すると、その光
は、偏光板28により一方向に偏光され、駆動基板21
及び画素電極24を透過して液晶層23に入射する。画
素電極24・共通電極26間に電圧を印加しない状態で
は、液晶層23を透過する光は、液晶分子の光学異方性
の効果により偏光方向が分子配列方向に沿って90度変
化する。このようにして偏光方向を変化させた光は、共
通電極26及び対向基板22を透過して偏光板29に入
射する。前述のように偏光板29と偏光板28とは偏光
軸が直交しているので、この入射光はほとんど偏光板2
9を透過してLCDパネルの反対側に出射される。これ
により、画素表面が明るく視認される白表示の状態とな
る。
28の外側からバックライト光を照射すると、その光
は、偏光板28により一方向に偏光され、駆動基板21
及び画素電極24を透過して液晶層23に入射する。画
素電極24・共通電極26間に電圧を印加しない状態で
は、液晶層23を透過する光は、液晶分子の光学異方性
の効果により偏光方向が分子配列方向に沿って90度変
化する。このようにして偏光方向を変化させた光は、共
通電極26及び対向基板22を透過して偏光板29に入
射する。前述のように偏光板29と偏光板28とは偏光
軸が直交しているので、この入射光はほとんど偏光板2
9を透過してLCDパネルの反対側に出射される。これ
により、画素表面が明るく視認される白表示の状態とな
る。
【0008】他方、画素電極24・共通電極26間に電
圧を印加すると、電圧レベルに応じて、液晶層23の分
子配列方向が縦方向に変化するようになる。図9は、こ
の電圧レベルを十分に高くした場合を示しており、分子
配列方向がほぼ縦方向に揃っている。こうした場合に
は、液晶層23を透過する光の偏光方向はほとんど変化
しないので、偏光板29に入射した光はほとんど偏光板
29を透過しなくなる。従って、LCDパネルの反対側
にはほとんど光が出射されないので、画素表面が暗く視
認される黒表示の状態となる。
圧を印加すると、電圧レベルに応じて、液晶層23の分
子配列方向が縦方向に変化するようになる。図9は、こ
の電圧レベルを十分に高くした場合を示しており、分子
配列方向がほぼ縦方向に揃っている。こうした場合に
は、液晶層23を透過する光の偏光方向はほとんど変化
しないので、偏光板29に入射した光はほとんど偏光板
29を透過しなくなる。従って、LCDパネルの反対側
にはほとんど光が出射されないので、画素表面が暗く視
認される黒表示の状態となる。
【0009】こうしたLCDパネルの製造過程で、ゴミ
の混入やマスクパターンの欠陥や薄膜トランジスタ自体
の欠陥等があると、欠陥画素が発生する原因とがある。
図10は、欠陥画素を表すために駆動基板21上の画素
を模式的に示したもの(図8のA部を繰り返し配列して
示したもの)であり、ゴミの混入またはマスクパターン
の欠陥により、符号Bで示すように、薄膜トランジスタ
Trijと画素電極24との間の配線層が断線してい
る。同様な原因により、薄膜トランジスタTrijと信
号線Siとの間の配線層や薄膜トランジスタTrijと
ゲート線Gjとの間の配線層が断線することもある。ま
た、薄膜トランジスタTrij自体の欠陥により、符号
Cで示すように、チャネルが開放したまま(または短絡
したまま)の状態になることがある。
の混入やマスクパターンの欠陥や薄膜トランジスタ自体
の欠陥等があると、欠陥画素が発生する原因とがある。
図10は、欠陥画素を表すために駆動基板21上の画素
を模式的に示したもの(図8のA部を繰り返し配列して
示したもの)であり、ゴミの混入またはマスクパターン
の欠陥により、符号Bで示すように、薄膜トランジスタ
Trijと画素電極24との間の配線層が断線してい
る。同様な原因により、薄膜トランジスタTrijと信
号線Siとの間の配線層や薄膜トランジスタTrijと
ゲート線Gjとの間の配線層が断線することもある。ま
た、薄膜トランジスタTrij自体の欠陥により、符号
Cで示すように、チャネルが開放したまま(または短絡
したまま)の状態になることがある。
【0010】こうした断線やチャネルの開放があると、
各画素の画素電極24・共通電極26間に電圧を印加し
た際、周囲の画素は上述の黒表示になるのに対し、その
画素だけは電圧がかからないので上述の白表示になって
しまう。この欠陥画素のことを、特に輝点欠陥画素と呼
ぶ。他方、チャネルの短絡があると、各画素の画素電極
24・共通電極26間に電圧を印加していないとき、周
囲の画素は白表示になるのに対し、その画素だけは電圧
がかかってしまうので黒表示になってしまう。この欠陥
画素のことを、特に滅点欠陥画素と呼ぶ。
各画素の画素電極24・共通電極26間に電圧を印加し
た際、周囲の画素は上述の黒表示になるのに対し、その
画素だけは電圧がかからないので上述の白表示になって
しまう。この欠陥画素のことを、特に輝点欠陥画素と呼
ぶ。他方、チャネルの短絡があると、各画素の画素電極
24・共通電極26間に電圧を印加していないとき、周
囲の画素は白表示になるのに対し、その画素だけは電圧
がかかってしまうので黒表示になってしまう。この欠陥
画素のことを、特に滅点欠陥画素と呼ぶ。
【0011】以上に説明した欠陥画素のうち、周囲の黒
表示の中に白表示が存在する輝点欠陥画素のほうは、特
に視覚的に目立つものなので、製品歩留りの低下の原因
となる。そこで、製造したLCDパネルの検査工程で輝
点欠陥画素を発見した場合には、その画素に対してなん
らかの補正を施すことが必要になる。
表示の中に白表示が存在する輝点欠陥画素のほうは、特
に視覚的に目立つものなので、製品歩留りの低下の原因
となる。そこで、製造したLCDパネルの検査工程で輝
点欠陥画素を発見した場合には、その画素に対してなん
らかの補正を施すことが必要になる。
【0012】この補正方法の一つとして、輝点欠陥画素
にレーザー光を照射してその配向膜にダメージを加える
ことにより、配向膜の配向機能を低下させて輝点欠陥画
素の光透過率を低下させる(即ち輝点欠陥画素を視覚的
に目立たない滅点に変える)という方法が、本出願人か
ら提案されている(特許出願番号特願平8ー22120
1号)。
にレーザー光を照射してその配向膜にダメージを加える
ことにより、配向膜の配向機能を低下させて輝点欠陥画
素の光透過率を低下させる(即ち輝点欠陥画素を視覚的
に目立たない滅点に変える)という方法が、本出願人か
ら提案されている(特許出願番号特願平8ー22120
1号)。
【0013】ところで、配向膜にダメージを加えうる程
度のエネルギー密度を得るためには、レーザー光のビー
ム径をある程度狭く絞らなければならない。従って、一
般にレーザー光の照射面積は一画素の面積に比べて狭く
なる。そのため、輝点欠陥画素にレーザー光を一度照射
だけでは光透過率を目標値にまで低下させることができ
ない場合があり、そうした場合には、輝点欠陥画素内で
照射位置を変化させつつレーザー光を複数回照射する必
要がある。
度のエネルギー密度を得るためには、レーザー光のビー
ム径をある程度狭く絞らなければならない。従って、一
般にレーザー光の照射面積は一画素の面積に比べて狭く
なる。そのため、輝点欠陥画素にレーザー光を一度照射
だけでは光透過率を目標値にまで低下させることができ
ない場合があり、そうした場合には、輝点欠陥画素内で
照射位置を変化させつつレーザー光を複数回照射する必
要がある。
【0014】また、一度の照射で光透過率を目標値にま
で低下させるのに十分なエネルギー密度を得られる場合
でも、エネルギー密度を低く抑えて複数回に分けてレー
ザー光を照射するほうが、レーザー照射の安定性が向上
するとともにレーザー照射による画素への悪影響(光学
特性の劣化等)が減少するので好適である。
で低下させるのに十分なエネルギー密度を得られる場合
でも、エネルギー密度を低く抑えて複数回に分けてレー
ザー光を照射するほうが、レーザー照射の安定性が向上
するとともにレーザー照射による画素への悪影響(光学
特性の劣化等)が減少するので好適である。
【0015】そこで、従来こうした方法の実施のために
用いられる補正装置では、レーザー光を発生させるレー
ザーヘッドまたはLCDパネルのいずれか一方をセット
したステージを、モータその他の駆動機構を用いて横方
向及び縦方向の双方向に移動させることにより、LCD
パネルの輝点欠陥画素に対するレーザー光の照射位置を
変化させるようにしていた。
用いられる補正装置では、レーザー光を発生させるレー
ザーヘッドまたはLCDパネルのいずれか一方をセット
したステージを、モータその他の駆動機構を用いて横方
向及び縦方向の双方向に移動させることにより、LCD
パネルの輝点欠陥画素に対するレーザー光の照射位置を
変化させるようにしていた。
【0016】図11はこうした従来の補正装置における
レーザー光の照射位置の変化のための機構の一例を示す
ものである。LCDパネル31をセットしたXYステー
ジ32を、駆動機構(図示せず)でLCDパネル31の
横方向(X方向)に移動させることにより、LCDパネ
ル31に対するレーザー光Lの照射位置がX方向に変化
する。また、XYステージ32を駆動機構(図示せず)
でLCDパネル31の縦方向(Y方向)に移動させるこ
とにより、LCDパネル31に対するレーザー光Lの照
射位置がY方向に変化する。これにより、レーザー光L
の照射位置をLCDパネル31の輝点欠陥画素D内(図
では便宜上画素Dを実際よりも大きく表わしている)内
で変化させることができる。
レーザー光の照射位置の変化のための機構の一例を示す
ものである。LCDパネル31をセットしたXYステー
ジ32を、駆動機構(図示せず)でLCDパネル31の
横方向(X方向)に移動させることにより、LCDパネ
ル31に対するレーザー光Lの照射位置がX方向に変化
する。また、XYステージ32を駆動機構(図示せず)
でLCDパネル31の縦方向(Y方向)に移動させるこ
とにより、LCDパネル31に対するレーザー光Lの照
射位置がY方向に変化する。これにより、レーザー光L
の照射位置をLCDパネル31の輝点欠陥画素D内(図
では便宜上画素Dを実際よりも大きく表わしている)内
で変化させることができる。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このようにレ
ーザーヘッドまたはLCDパネルを支持したステージを
横方向及び縦方向に移動させるための駆動機構として
は、比較的大型,複雑且つ高価なものが必要であった。
従って、補正装置全体の大型化を招くとともに、補正の
ための費用の増大を招くという不都合があった。
ーザーヘッドまたはLCDパネルを支持したステージを
横方向及び縦方向に移動させるための駆動機構として
は、比較的大型,複雑且つ高価なものが必要であった。
従って、補正装置全体の大型化を招くとともに、補正の
ための費用の増大を招くという不都合があった。
【0018】また、図11の例からも理解されるよう
に、ステージの移動距離とレーザー光の照射位置の移動
距離とが一致するので、照射位置を変化させるのに時間
を要し、このことが欠陥の補正作業全体の長時間化を招
くという不都合があった。更に、こうしたステージの移
動距離を高精度に制御することは困難であり、従ってレ
ーザー光の照射位置の微調整が困難であるという不都合
があった。
に、ステージの移動距離とレーザー光の照射位置の移動
距離とが一致するので、照射位置を変化させるのに時間
を要し、このことが欠陥の補正作業全体の長時間化を招
くという不都合があった。更に、こうしたステージの移
動距離を高精度に制御することは困難であり、従ってレ
ーザー光の照射位置の微調整が困難であるという不都合
があった。
【0019】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、LCDの輝点欠陥画素等の欠陥画素にレーザー光を
照射して欠陥の補正を行う方法及び装置において、装置
の小型化及び低コスト化と、補正作業の所要時間の短縮
化と、レーザー光の照射位置の高精度な制御とを可能に
するものを提供しようとするものである。
で、LCDの輝点欠陥画素等の欠陥画素にレーザー光を
照射して欠陥の補正を行う方法及び装置において、装置
の小型化及び低コスト化と、補正作業の所要時間の短縮
化と、レーザー光の照射位置の高精度な制御とを可能に
するものを提供しようとするものである。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶ディス
プレイパネルの欠陥画素の補正方法は、レーザー光を、
少なくとも1枚のミラーで反射させて液晶ディスプレイ
パネルの欠陥画素に照射させる第1ステップと、第1ス
テップの後、このミラーを変位させることにより、欠陥
画素におけるレーザー光の照射位置を変化させる第2ス
テップと、第2ステップの後、再びレーザー光をこのミ
ラーで反射させて欠陥画素に照射させる第3ステップと
を含んだことを特徴としている。
プレイパネルの欠陥画素の補正方法は、レーザー光を、
少なくとも1枚のミラーで反射させて液晶ディスプレイ
パネルの欠陥画素に照射させる第1ステップと、第1ス
テップの後、このミラーを変位させることにより、欠陥
画素におけるレーザー光の照射位置を変化させる第2ス
テップと、第2ステップの後、再びレーザー光をこのミ
ラーで反射させて欠陥画素に照射させる第3ステップと
を含んだことを特徴としている。
【0021】レーザー光を欠陥画素に照射させた後、レ
ーザー光を反射するミラーを変位させることにより、こ
の欠陥画素におけるレーザー光の照射位置を変化させ
る。その後、再びレーザー光をこの欠陥画素に照射させ
る。これにより、この欠陥画素内で照射位置をずらしな
がらレーザー光を照射することができる。
ーザー光を反射するミラーを変位させることにより、こ
の欠陥画素におけるレーザー光の照射位置を変化させ
る。その後、再びレーザー光をこの欠陥画素に照射させ
る。これにより、この欠陥画素内で照射位置をずらしな
がらレーザー光を照射することができる。
【0022】このようなミラーを変位させるための駆動
機構は、従来のようなレーザーヘッドまたはLCDパネ
ルを支持したステージを横方向及び縦方向に移動させる
ための駆動機構と比較して、小型,簡単且つ安価なもの
で済む。従って、補正装置全体が小型化されるとともに
補正のための費用が低減される。
機構は、従来のようなレーザーヘッドまたはLCDパネ
ルを支持したステージを横方向及び縦方向に移動させる
ための駆動機構と比較して、小型,簡単且つ安価なもの
で済む。従って、補正装置全体が小型化されるとともに
補正のための費用が低減される。
【0023】また、ミラーを僅かに変位させただけでも
レーザー光の照射位置を大きく移動させることができる
ので、照射位置の変化に要する時間が従来よりも大幅に
短くなる。従って、補正作業全体の所要時間が短縮され
る。また、こうしたミラーの変位量は、従来のようにス
テージの移動距離を制御する場合と比較して高精度な制
御が容易である。従ってレーザー光の照射位置の微調整
が容易になる。
レーザー光の照射位置を大きく移動させることができる
ので、照射位置の変化に要する時間が従来よりも大幅に
短くなる。従って、補正作業全体の所要時間が短縮され
る。また、こうしたミラーの変位量は、従来のようにス
テージの移動距離を制御する場合と比較して高精度な制
御が容易である。従ってレーザー光の照射位置の微調整
が容易になる。
【0024】次に、本発明に係る液晶ディスプレイパネ
ルの欠陥画素の補正装置は、レーザー光を供給する手段
と、このレーザー光を反射させて液晶ディスプレイパネ
ルに照射させるための少なくとも1枚のミラーと、この
ミラーを変位させることにより、液晶ディスプレイパネ
ルにおけるレーザー光の照射位置を変化させる駆動手段
とを備えたことを特徴としている。
ルの欠陥画素の補正装置は、レーザー光を供給する手段
と、このレーザー光を反射させて液晶ディスプレイパネ
ルに照射させるための少なくとも1枚のミラーと、この
ミラーを変位させることにより、液晶ディスプレイパネ
ルにおけるレーザー光の照射位置を変化させる駆動手段
とを備えたことを特徴としている。
【0025】この補正装置に依れば、レーザー発生手段
からのレーザー光を反射して液晶ディスプレイパネルに
照射するミラーと、このミラーを変位させる駆動手段と
が設けられており、この駆動手段でミラーを変位させる
ことにより、液晶ディスプレイパネルにおけるレーザー
光の照射位置が変化する。
からのレーザー光を反射して液晶ディスプレイパネルに
照射するミラーと、このミラーを変位させる駆動手段と
が設けられており、この駆動手段でミラーを変位させる
ことにより、液晶ディスプレイパネルにおけるレーザー
光の照射位置が変化する。
【0026】前述のように、こうした駆動機構は従来よ
りも小型,簡単且つ安価なもので済むので、補正装置全
体が小型化されるとともに補正のための費用が低減され
る。また、前述のようにミラーの変位により従来よりも
短時間で照射位置を変化させることができるので、補正
作業全体の所要時間が短縮される。また、前述のように
こうしたミラーの変位量は従来のようなステージの移動
距離と比較して高精度な制御誠が容易なので、照射位置
の微調整が容易になる。
りも小型,簡単且つ安価なもので済むので、補正装置全
体が小型化されるとともに補正のための費用が低減され
る。また、前述のようにミラーの変位により従来よりも
短時間で照射位置を変化させることができるので、補正
作業全体の所要時間が短縮される。また、前述のように
こうしたミラーの変位量は従来のようなステージの移動
距離と比較して高精度な制御誠が容易なので、照射位置
の微調整が容易になる。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施例を詳細に説明する。図1は、本発明に係る欠陥
画素の補正方法の実施のために用いられる補正装置の一
例を示す図である。この補正装置は、レーザー光Lを発
生させるレーザーヘッド1と、レーザーヘッド1からの
レーザー光Lのビーム径を絞ることとLCDパネルの観
察とに用いる顕微鏡2と、顕微鏡2の映像を電気信号に
変換するカメラ3と、顕微鏡2を経たレーザー光Lを反
射させるためのミラー4(第1のミラー)と、ミラー4
で反射したレーザー光Lを反射させて固定の支持台6上
のLCDパネルに照射させるためのミラー5(第2のミ
ラー)と、バックライト光源7と、LCDパネルの画素
の光透過率を測定する画像処理装置8と、この補正装置
の各部を制御するコントローラ9(マイクロコンピュー
タ等)とを含んでいる。尚、コントローラ9から各部へ
の制御信号線は、一部を除いて図示を省略している。
の実施例を詳細に説明する。図1は、本発明に係る欠陥
画素の補正方法の実施のために用いられる補正装置の一
例を示す図である。この補正装置は、レーザー光Lを発
生させるレーザーヘッド1と、レーザーヘッド1からの
レーザー光Lのビーム径を絞ることとLCDパネルの観
察とに用いる顕微鏡2と、顕微鏡2の映像を電気信号に
変換するカメラ3と、顕微鏡2を経たレーザー光Lを反
射させるためのミラー4(第1のミラー)と、ミラー4
で反射したレーザー光Lを反射させて固定の支持台6上
のLCDパネルに照射させるためのミラー5(第2のミ
ラー)と、バックライト光源7と、LCDパネルの画素
の光透過率を測定する画像処理装置8と、この補正装置
の各部を制御するコントローラ9(マイクロコンピュー
タ等)とを含んでいる。尚、コントローラ9から各部へ
の制御信号線は、一部を除いて図示を省略している。
【0028】図2は支持台6上のLCDパネル12に対
するミラー4及び5の配置関係を示す図であり、図12
A,Bはそれぞれ図2の矢印Aの方向(X方向に平行な
方向)、矢印Bの方向(Y方向に平行な方向)から、こ
れらの構成要素をみた図である(但し図12Bではミラ
ー4及び軸10の図示を省略してある)。これらの図に
示すように、ミラー4は軸10に固定して取り付けられ
ている。軸10は、支持台6の横方向(X方向)に延び
且つX方向に平行した配置で、軸10を軸心の回りに回
動させるためのモータその他の駆動機構(図示せず)に
より支持されている。従って、この駆動機構で軸10を
回動させると、ミラー4の角度が変化することにより、
ミラー4でのレーザー光Lの反射方向が軸10に垂直な
平面内で変化する。
するミラー4及び5の配置関係を示す図であり、図12
A,Bはそれぞれ図2の矢印Aの方向(X方向に平行な
方向)、矢印Bの方向(Y方向に平行な方向)から、こ
れらの構成要素をみた図である(但し図12Bではミラ
ー4及び軸10の図示を省略してある)。これらの図に
示すように、ミラー4は軸10に固定して取り付けられ
ている。軸10は、支持台6の横方向(X方向)に延び
且つX方向に平行した配置で、軸10を軸心の回りに回
動させるためのモータその他の駆動機構(図示せず)に
より支持されている。従って、この駆動機構で軸10を
回動させると、ミラー4の角度が変化することにより、
ミラー4でのレーザー光Lの反射方向が軸10に垂直な
平面内で変化する。
【0029】他方、ミラー5は軸11に固定して取り付
けられている。軸11は、支持台6の縦方向(Y方向)
に延び且つY方向に平行し、且つ鉛直方向に傾斜した配
置で、軸11を軸心の回りに回動させるための同様な駆
動機構(図示せず)により支持されている。従って、こ
の駆動機構で軸11を回動させると、ミラー5の角度が
変化することにより、ミラー5でのレーザー光Lの反射
方向が軸11に垂直な平面内で変化する。
けられている。軸11は、支持台6の縦方向(Y方向)
に延び且つY方向に平行し、且つ鉛直方向に傾斜した配
置で、軸11を軸心の回りに回動させるための同様な駆
動機構(図示せず)により支持されている。従って、こ
の駆動機構で軸11を回動させると、ミラー5の角度が
変化することにより、ミラー5でのレーザー光Lの反射
方向が軸11に垂直な平面内で変化する。
【0030】こうした機構により、軸10を回動させる
ことによりミラー4の角度を変化させると、ミラー4及
び5を反射して支持台6上のLCDパネル12に照射さ
れるレーザー光Lの照射位置がY方向上で変化するよう
にし、他方、軸11を回動させることによりミラー5の
角度を変化させると、ミラー5を反射して支持台6上の
LCDパネル12に照射されるレーザー光Lの照射位置
がX方向上で変化するようにしている。
ことによりミラー4の角度を変化させると、ミラー4及
び5を反射して支持台6上のLCDパネル12に照射さ
れるレーザー光Lの照射位置がY方向上で変化するよう
にし、他方、軸11を回動させることによりミラー5の
角度を変化させると、ミラー5を反射して支持台6上の
LCDパネル12に照射されるレーザー光Lの照射位置
がX方向上で変化するようにしている。
【0031】ここで、このような軸10,11を軸心の
回りに回動させるための駆動機構は、図11に示したよ
うなLCDパネルをセットしたXYステージをX方向及
びY方向に移動させる駆動機構と比較して、小型,簡単
且つ安価なものである。従って、この補正装置全体の小
型化と低コスト化とが図られている。
回りに回動させるための駆動機構は、図11に示したよ
うなLCDパネルをセットしたXYステージをX方向及
びY方向に移動させる駆動機構と比較して、小型,簡単
且つ安価なものである。従って、この補正装置全体の小
型化と低コスト化とが図られている。
【0032】また、軸10,11を僅かに回動させるだ
けで、ミラー4,5の角度が変化してレーザー光の照射
位置が大きく変化する。従って、図11に示したように
XYステージをX方向及びY方向に移動させてレーザー
光の照射位置を変化させる場合と比較して、短時間で照
射位置を変化させることができるようになっている。こ
れにより、補正作業全体の所要時間の短縮化が図られて
いる。
けで、ミラー4,5の角度が変化してレーザー光の照射
位置が大きく変化する。従って、図11に示したように
XYステージをX方向及びY方向に移動させてレーザー
光の照射位置を変化させる場合と比較して、短時間で照
射位置を変化させることができるようになっている。こ
れにより、補正作業全体の所要時間の短縮化が図られて
いる。
【0033】また、こうした軸10,11の回動の角度
は、図11に示したようにXYステージのX方向及びY
方向への移動距離と比較して、高精度な制御が容易であ
る。従ってレーザー光の照射位置の微調整の容易化が図
られている。
は、図11に示したようにXYステージのX方向及びY
方向への移動距離と比較して、高精度な制御が容易であ
る。従ってレーザー光の照射位置の微調整の容易化が図
られている。
【0034】次に、この補正装置における欠陥画素の補
正処理の一例を、図3のフローチャートを参照して説明
する。 (ステップST1)検査工程で輝点欠陥画素を発見され
たLCDパネル12を、支持台6にセットする。そし
て、その輝点欠陥画素のアドレス情報や、LCDパネル
12における一画素の面積等の情報を、適宜の方法(例
えば図示しない操作パネルのマニュアル操作か、または
図示しない欠陥検査装置からの自動的な取り込み)によ
りコントローラ9に入力する。尚、光透過率の低下によ
る欠陥補正を制御性よく行うためには、偏光板(図参
照)を駆動基板及び対向基板に貼付する前の段階のLC
Dパネル12を支持台6にセットするようにすることが
望ましい。
正処理の一例を、図3のフローチャートを参照して説明
する。 (ステップST1)検査工程で輝点欠陥画素を発見され
たLCDパネル12を、支持台6にセットする。そし
て、その輝点欠陥画素のアドレス情報や、LCDパネル
12における一画素の面積等の情報を、適宜の方法(例
えば図示しない操作パネルのマニュアル操作か、または
図示しない欠陥検査装置からの自動的な取り込み)によ
りコントローラ9に入力する。尚、光透過率の低下によ
る欠陥補正を制御性よく行うためには、偏光板(図参
照)を駆動基板及び対向基板に貼付する前の段階のLC
Dパネル12を支持台6にセットするようにすることが
望ましい。
【0035】(ステップST2)コントローラ9は、こ
のアドレス情報に基づいて軸10及び11の少なくとも
一方を回動させることにより、ミラー4及び5の少なく
とも一方の角度を変化させて輝点欠陥画素をカメラ3の
視野内に入れる。この際にも、輝点欠陥画素を短時間で
正確にカメラ3の視野内に入れることができる。
のアドレス情報に基づいて軸10及び11の少なくとも
一方を回動させることにより、ミラー4及び5の少なく
とも一方の角度を変化させて輝点欠陥画素をカメラ3の
視野内に入れる。この際にも、輝点欠陥画素を短時間で
正確にカメラ3の視野内に入れることができる。
【0036】(ステップST3)続いてコントローラ9
は、バックライト光源7を点灯し、輝点欠陥画素を透過
した光の光量をカメラ3で電気信号に変換する。そし
て、この電気信号が示す透過光量をもとに画像処理装置
8で輝点欠陥画素の光透過率を測定し、その測定結果や
ステップST1で入力した一画素の面積に基づき、輝点
欠陥画素へのレーザー光の最適な照射条件を算出・設定
する。この照射条件には、照射位置を変化させる際の変
化の量,方向及び回数も含まれる。
は、バックライト光源7を点灯し、輝点欠陥画素を透過
した光の光量をカメラ3で電気信号に変換する。そし
て、この電気信号が示す透過光量をもとに画像処理装置
8で輝点欠陥画素の光透過率を測定し、その測定結果や
ステップST1で入力した一画素の面積に基づき、輝点
欠陥画素へのレーザー光の最適な照射条件を算出・設定
する。この照射条件には、照射位置を変化させる際の変
化の量,方向及び回数も含まれる。
【0037】尚、この照射条件は輝点欠陥画素の光透過
率の低下の目標値によって異なるが、この目標値は、正
常画素の白表示時の光透過率と黒表示時の光透過率との
中間値よりも黒表示時寄りに置くことが望ましい。なぜ
なら、前述のように、周囲の黒表示の中に白表示が存在
する輝点欠陥画素は視覚的に目立つが、逆に周囲の白表
示の中に黒表示が存在する滅点欠陥画素は輝点欠陥画素
ほどは目立たないので、光透過率を黒表示時寄りに調整
することにより、輝点欠陥画素を目立たち難くすること
ができるからである。
率の低下の目標値によって異なるが、この目標値は、正
常画素の白表示時の光透過率と黒表示時の光透過率との
中間値よりも黒表示時寄りに置くことが望ましい。なぜ
なら、前述のように、周囲の黒表示の中に白表示が存在
する輝点欠陥画素は視覚的に目立つが、逆に周囲の白表
示の中に黒表示が存在する滅点欠陥画素は輝点欠陥画素
ほどは目立たないので、光透過率を黒表示時寄りに調整
することにより、輝点欠陥画素を目立たち難くすること
ができるからである。
【0038】(ステップST4)続いてコントローラ9
は、設定した照射条件に従ってレーザーヘッド1の出力
を調整し、且つ、レーザーヘッド1からのレーザー光が
所定のビーム径となるように顕微鏡2の光学系を調整す
る。 (ステップST5)続いてコントローラ9は、レーザー
ヘッド1からレーザー光を発生させる。これにより、所
定のビーム径のレーザー光がミラー4及び5を介してL
CDパネル12の輝点欠陥画素に照射されるので、輝点
欠陥画素の配向膜にダメージが加えられる。
は、設定した照射条件に従ってレーザーヘッド1の出力
を調整し、且つ、レーザーヘッド1からのレーザー光が
所定のビーム径となるように顕微鏡2の光学系を調整す
る。 (ステップST5)続いてコントローラ9は、レーザー
ヘッド1からレーザー光を発生させる。これにより、所
定のビーム径のレーザー光がミラー4及び5を介してL
CDパネル12の輝点欠陥画素に照射されるので、輝点
欠陥画素の配向膜にダメージが加えられる。
【0039】図4は、図7に示したのと同じ一画素部分
において、このレーザー光の照射により配向膜25にダ
メージ部25aが発生し、これにより配向膜25の配向
機能が低下して液晶層23の分子配列方向が乱される様
子の一例を示している。
において、このレーザー光の照射により配向膜25にダ
メージ部25aが発生し、これにより配向膜25の配向
機能が低下して液晶層23の分子配列方向が乱される様
子の一例を示している。
【0040】(ステップST6乃至ST7)続いてコン
トローラ9は、ステップST6で、ステップST3で設
定した回数だけ照射を終えたか否かを判断する。ノーで
あれば、ステップST7に進み、軸10及び11の少な
くとも一方を回動させることにより、ミラー4及び5の
少なくとも一方の角度を変化させて、ステップST3で
設定した量及び方向にレーザー光の照射位置を変化させ
る。この際、従来よりも短時間で照射位置を変化させる
ことができ、また照射位置の微調整も容易に行うことが
できる。続いて、ステップST5に戻って再度レーザー
光を輝点欠陥画素に照射する。このこれにより、図2に
示すように、輝点欠陥画素D(ここでも便宜上画素Dを
実際よりも大きく表わしている)内で照射位置をずらし
ながらレーザー光が照射される。
トローラ9は、ステップST6で、ステップST3で設
定した回数だけ照射を終えたか否かを判断する。ノーで
あれば、ステップST7に進み、軸10及び11の少な
くとも一方を回動させることにより、ミラー4及び5の
少なくとも一方の角度を変化させて、ステップST3で
設定した量及び方向にレーザー光の照射位置を変化させ
る。この際、従来よりも短時間で照射位置を変化させる
ことができ、また照射位置の微調整も容易に行うことが
できる。続いて、ステップST5に戻って再度レーザー
光を輝点欠陥画素に照射する。このこれにより、図2に
示すように、輝点欠陥画素D(ここでも便宜上画素Dを
実際よりも大きく表わしている)内で照射位置をずらし
ながらレーザー光が照射される。
【0041】(ステップST8乃至ST10)ステップ
ST3で設定した回数だけ照射を終えたことによりステ
ップST6でイエスとなれば、ステップST8に進み、
ステップST3と同様にして輝点欠陥画素の光透過率を
再度測定する。続くステップST9では、コントローラ
9は、輝点欠陥画素の光透過率が目標値にまで低下した
か否かをこの測定結果をもとに判断する。
ST3で設定した回数だけ照射を終えたことによりステ
ップST6でイエスとなれば、ステップST8に進み、
ステップST3と同様にして輝点欠陥画素の光透過率を
再度測定する。続くステップST9では、コントローラ
9は、輝点欠陥画素の光透過率が目標値にまで低下した
か否かをこの測定結果をもとに判断する。
【0042】ノーであれば、ステップST10に進み、
コントローラ9はレーザー光の照射条件を再度算出・設
定する。そして、ステップST4に戻ってステップST
4以下の処理を繰り返す。他方イエスであれば、コント
ローラ9は処理を終了する。以上のような処理により、
輝点欠陥画素内の複数の個所にレーザー光が照射されて
欠陥の補正(光透過率の低下)が実現される。
コントローラ9はレーザー光の照射条件を再度算出・設
定する。そして、ステップST4に戻ってステップST
4以下の処理を繰り返す。他方イエスであれば、コント
ローラ9は処理を終了する。以上のような処理により、
輝点欠陥画素内の複数の個所にレーザー光が照射されて
欠陥の補正(光透過率の低下)が実現される。
【0043】次に、図5は、本発明に係る欠陥画素の補
正方法の実施のために用いられる補正装置の別の一例を
示す図であり、同図において図1と同一の部分には同一
符号を付して重複説明を省略する。この補正装置には、
顕微鏡2を経たレーザー光を反射させるためのミラーと
しては、1個のミラー13のみが設けられており、ミラ
ー13で反射したレーザー光がYステージ14上のLC
Dパネル12に照射される。
正方法の実施のために用いられる補正装置の別の一例を
示す図であり、同図において図1と同一の部分には同一
符号を付して重複説明を省略する。この補正装置には、
顕微鏡2を経たレーザー光を反射させるためのミラーと
しては、1個のミラー13のみが設けられており、ミラ
ー13で反射したレーザー光がYステージ14上のLC
Dパネル12に照射される。
【0044】図6に示すように、ミラー13は軸15に
取り付けられている。軸15は、図2の軸11と同様
に、Yステージ14の縦方向(Y方向)に延び且つ鉛直
方向に傾斜した配置で、軸15を軸心の回りに回動させ
るための駆動機構(図示せず)により支持されている。
従って、この駆動機構で軸15を回動させると、レーザ
ー光に対するミラー13の角度が図2のミラー5と同様
に変化することにより、Yステージ14にセットしたL
CDパネル12におけるレーザー光の照射位置がX方向
上で変化する。
取り付けられている。軸15は、図2の軸11と同様
に、Yステージ14の縦方向(Y方向)に延び且つ鉛直
方向に傾斜した配置で、軸15を軸心の回りに回動させ
るための駆動機構(図示せず)により支持されている。
従って、この駆動機構で軸15を回動させると、レーザ
ー光に対するミラー13の角度が図2のミラー5と同様
に変化することにより、Yステージ14にセットしたL
CDパネル12におけるレーザー光の照射位置がX方向
上で変化する。
【0045】他方、Yステージ14には、Yステージ1
4をY方向にのみ移動させるためのモータその他の駆動
機構(図示せず)が取り付けられている。従って、この
駆動機構でYステージ14を移動させると、Yステージ
14にセットしたLCDパネル12におけるレーザー光
の照射位置がY方向上で変化する。
4をY方向にのみ移動させるためのモータその他の駆動
機構(図示せず)が取り付けられている。従って、この
駆動機構でYステージ14を移動させると、Yステージ
14にセットしたLCDパネル12におけるレーザー光
の照射位置がY方向上で変化する。
【0046】これにより、図11に示したようにレーザ
ー光の照射位置をX方向,Y方向のいずれの方向に変化
させる際にもLCDパネルをセットしたXYステージを
移動させる場合と比較して、駆動機構が小型,簡単且つ
安価なものになり、且つ、照射位置を短時間で変化させ
ることができるとともに照射位置の微調整が容易になっ
ている。
ー光の照射位置をX方向,Y方向のいずれの方向に変化
させる際にもLCDパネルをセットしたXYステージを
移動させる場合と比較して、駆動機構が小型,簡単且つ
安価なものになり、且つ、照射位置を短時間で変化させ
ることができるとともに照射位置の微調整が容易になっ
ている。
【0047】尚、ミラー13の代わりに、図2の軸10
と同様な配置の軸に取り付けたミラーを設けるととも
に、Yステージ14の代わりに、X方向にのみ移動させ
るためのモータその他の駆動機構(図示せず)を取り付
けたXステージを設け、その軸の回動によりレーザー光
の照射位置をY方向上で変化させ、そのXステージの移
動によりレーザー光の照射位置をX方向上で変化させる
ようにしてもよい。
と同様な配置の軸に取り付けたミラーを設けるととも
に、Yステージ14の代わりに、X方向にのみ移動させ
るためのモータその他の駆動機構(図示せず)を取り付
けたXステージを設け、その軸の回動によりレーザー光
の照射位置をY方向上で変化させ、そのXステージの移
動によりレーザー光の照射位置をX方向上で変化させる
ようにしてもよい。
【0048】この補正装置における欠陥画素の補正処理
は、図3に示したのと同様である。但し、同図のステッ
プST2では、軸15,Yステージ14の少なくとも一
方を駆動機構で回動,移動させることにより輝点欠陥画
素をカメラ3の視野内に入れ、ステップST7でも、軸
15,Yステージ14の少なくとも一方を駆動機構で回
動,移動させることにより、ステップST3で設定した
量及び方向にレーザー光の照射位置を変化させる。
は、図3に示したのと同様である。但し、同図のステッ
プST2では、軸15,Yステージ14の少なくとも一
方を駆動機構で回動,移動させることにより輝点欠陥画
素をカメラ3の視野内に入れ、ステップST7でも、軸
15,Yステージ14の少なくとも一方を駆動機構で回
動,移動させることにより、ステップST3で設定した
量及び方向にレーザー光の照射位置を変化させる。
【0049】尚、以上の実施例では、ミラーを軸に取り
付け、その軸を駆動機構で軸心の回りに回動させること
によりレーザー光の照射位置を変化させている。しか
し、これに限らず、軸以外の適宜の部材にミラーを取り
付け、その部材を駆動機構で変位させることによりレー
ザー光の照射位置を変化させるようにしてもよい。ある
いは、ミラー自体を直接に駆動機構で変位させることに
よりレーザー光の照射位置を変化させるようにしてもよ
い。
付け、その軸を駆動機構で軸心の回りに回動させること
によりレーザー光の照射位置を変化させている。しか
し、これに限らず、軸以外の適宜の部材にミラーを取り
付け、その部材を駆動機構で変位させることによりレー
ザー光の照射位置を変化させるようにしてもよい。ある
いは、ミラー自体を直接に駆動機構で変位させることに
よりレーザー光の照射位置を変化させるようにしてもよ
い。
【0050】また、以上の各実施例では、個々のミラー
の変位によるレーザー光の照射位置の変化方向を、それ
ぞれ一方向(X方向またはY方向のいずれか)に限って
いる。しかし、これに限らず、1つのミラーを変位させ
ることにより、レーザー光の照射位置を複数の方向で変
化させるようにしてもよい。
の変位によるレーザー光の照射位置の変化方向を、それ
ぞれ一方向(X方向またはY方向のいずれか)に限って
いる。しかし、これに限らず、1つのミラーを変位させ
ることにより、レーザー光の照射位置を複数の方向で変
化させるようにしてもよい。
【0051】また、以上の各実施例では、ミラーの変位
によるレーザー光の照射位置の変化方向を、LCDパネ
ルの辺に平行な方向(X方向及びY方向)に限ってい
る。しかし、これに限らず、ミラーを変位させることに
より、レーザー光の照射位置をLCDパネルの辺に平行
でない方向に変化させるようにしてもよい。
によるレーザー光の照射位置の変化方向を、LCDパネ
ルの辺に平行な方向(X方向及びY方向)に限ってい
る。しかし、これに限らず、ミラーを変位させることに
より、レーザー光の照射位置をLCDパネルの辺に平行
でない方向に変化させるようにしてもよい。
【0052】また、以上の各実施例では、配向膜にダメ
ージを加えることにより画素の光透過率を低下させてい
るが、これに限らず、画素電極にレーザー光でダメージ
を加えることにより画素の光透過率を低下させるように
してもよい。
ージを加えることにより画素の光透過率を低下させてい
るが、これに限らず、画素電極にレーザー光でダメージ
を加えることにより画素の光透過率を低下させるように
してもよい。
【0053】また、以上の各実施例では、輝点欠陥画素
の補正をレーザー光の照射により行っているが、それ以
外の欠陥画素の補正をレーザー光の照射により行うよう
にしてもよい。また、本発明は、以上の実施例に限ら
ず、本発明の要旨を逸脱することなく、その他様々の構
成をとりうることはもちろんである。
の補正をレーザー光の照射により行っているが、それ以
外の欠陥画素の補正をレーザー光の照射により行うよう
にしてもよい。また、本発明は、以上の実施例に限ら
ず、本発明の要旨を逸脱することなく、その他様々の構
成をとりうることはもちろんである。
【0054】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、LCD
パネルの欠陥画素を補正するためにその画素内の複数の
個所にレーザー光を照射する際に、小型,簡単且つ安価
な駆動機構でミラーを変位させることによりレーザー光
の照射位置をその画素内で変化させることができる。従
って、欠陥画素の補正装置全体を小型化するとともに、
欠陥画素の補正に要する費用を低減させることができる
という効果を奏する。
パネルの欠陥画素を補正するためにその画素内の複数の
個所にレーザー光を照射する際に、小型,簡単且つ安価
な駆動機構でミラーを変位させることによりレーザー光
の照射位置をその画素内で変化させることができる。従
って、欠陥画素の補正装置全体を小型化するとともに、
欠陥画素の補正に要する費用を低減させることができる
という効果を奏する。
【0055】また、レーザー光の照射位置を短時間で変
化させることができるので、欠陥画素の補正作業全体の
所要時間を短縮することができるという効果を奏する。
更に、欠陥画素内でのレーザー光の照射位置の微調整を
容易に行うことができるという効果をも奏する。
化させることができるので、欠陥画素の補正作業全体の
所要時間を短縮することができるという効果を奏する。
更に、欠陥画素内でのレーザー光の照射位置の微調整を
容易に行うことができるという効果をも奏する。
【図1】本発明に係る補正装置の一例を示す構成図であ
る。
る。
【図2】図1の一部を示す斜視図である。
【図3】欠陥画素の補正処理の一例を示すフローチャー
トである。
トである。
【図4】画素の配向膜にダメージが加えられた状態の一
例を示す図である。
例を示す図である。
【図5】本発明に係る補正装置の別の一例を示す構成図
である。
である。
【図6】図5の一部を示す斜視図である。
【図7】LCDの一画素部分の構造の一例を示す斜視図
である。
である。
【図8】LCDの等価回路図である。
【図9】画素の液晶層の分子配列方向が縦方向に揃った
状態を示す図である。
状態を示す図である。
【図10】駆動基板の画素を模式的に示す図である。
【図11】画素位置のアドレス表示の一例を示す図であ
る。
る。
【図12】図1の一部を示す図である。
1 レーザーヘッド、 2 顕微鏡、 3 カメラ、
4,5,13 ミラー、 7 バックライト光源、 8
画像処理装置、 9 コントローラ、 10,11,
15 軸、 12 LCDパネル、 14 Yステー
ジ、 21 駆動基板、 22 対向基板、 23 液
晶層、 24 画素電極、 25,27配向膜、 26
共通電極、 28,29 偏光板
4,5,13 ミラー、 7 バックライト光源、 8
画像処理装置、 9 コントローラ、 10,11,
15 軸、 12 LCDパネル、 14 Yステー
ジ、 21 駆動基板、 22 対向基板、 23 液
晶層、 24 画素電極、 25,27配向膜、 26
共通電極、 28,29 偏光板
Claims (6)
- 【請求項1】 液晶ディスプレイの欠陥画素にレーザー
光を照射することによりその光透過率を低下させる液晶
ディスプレイの欠陥画素の補正方法において、 レーザー光を、少なくとも1枚のミラーで反射させて液
晶ディスプレイパネルの欠陥画素に照射させるステップ
と、 前記ミラーを変位させることにより、前記欠陥画素にお
けるレーザー光の照射位置を変化させるステップと、 レーザー光を再び前記ミラーで反射させて前記欠陥画素
に照射させるステップとを含んだことを特徴とする液晶
ディスプレイの欠陥画素の補正方法。 - 【請求項2】 液晶ディスプレイの欠陥画素にレーザー
光を照射することによりその光透過率を低下させる液晶
ディスプレイの欠陥画素の補正装置において、 レーザー光を供給する手段と、 前記レーザー光を反射させて液晶ディスプレイパネルに
照射させるための少なくとも1枚のミラーと、 前記ミラーを変位させることにより、前記液晶ディスプ
レイパネルにおけるレーザー光の照射位置を変化させる
駆動手段とを備えたことを特徴とする液晶ディスプレイ
の欠陥画素の補正装置。 - 【請求項3】 液晶ディスプレイの欠陥画素にレーザー
光を照射することによりその光透過率を低下させる液晶
ディスプレイの欠陥画素の補正方法において、 レーザー光を、第1のミラー及び第2のミラーでそれぞ
れ反射させて液晶ディスプレイパネルの欠陥画素に照射
させるステップと、 前記第1のミラーを変位させることにより前記欠陥画素
におけるレーザー光の照射位置を第1の方向上で変化さ
せること、及び、前記第2のミラーを変位させることに
より前記欠陥画素におけるレーザー光の照射位置を前記
第1の方向とは異なる第2の方向上で変化させること、
のうち少なくとも一方を行うステップと、 レーザー光を再び前記第1のミラー及び第2のミラーで
反射させて前記欠陥画素に照射させるステップとを含ん
だことを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素の補正
方法。 - 【請求項4】 液晶ディスプレイの欠陥画素にレーザー
光を照射することによりその光透過率を低下させる液晶
ディスプレイの欠陥画素の補正装置において、 レーザー光を供給する手段と、 前記レーザー光を反射させるための第1のミラーと、前
記第1のミラーで反射したレーザー光を反射させて液晶
ディスプレイパネルに照射させるための第2のミラー
と、 前記第1のミラーを変位させることにより、前記液晶デ
ィスプレイパネルにおけるレーザー光の照射位置を第1
の方向上で変化させる第1の駆動手段と、 前記第2のミラーを変位させることにより、前記液晶デ
ィスプレイパネルにおけるレーザー光の照射位置を前記
第1の方向とは異なる第2の方向上で変化させる第2の
駆動手段とを備えたことを特徴とする液晶ディスプレイ
の欠陥画素の補正装置。 - 【請求項5】 液晶ディスプレイの欠陥画素にレーザー
光を照射することによりその光透過率を低下させる液晶
ディスプレイの欠陥画素の補正方法において、 レーザー光を、ミラーで反射させて液晶ディスプレイパ
ネルの欠陥画素に照射させるステップと、 前記ミラーを変位させることにより前記欠陥画素におけ
るレーザー光の照射位置を第1の方向上で変化させるこ
と、及び、前記レーザー光の供給手段と前記液晶ディス
プレイパネルとのいずれか一方を移動させることにより
前記欠陥画素におけるレーザー光の照射位置を前記第1
の方向とは異なる第2の方向上で変化させること、のう
ち少なくとも一方を行うステップと、 レーザー光を再び前記ミラーで反射させて前記欠陥画素
に照射させるステップとを含んだことを特徴とする液晶
ディスプレイの欠陥画素の補正方法。 - 【請求項6】 液晶ディスプレイの欠陥画素にレーザー
光を照射することによりその光透過率を低下させる液晶
ディスプレイの欠陥画素の補正装置において、 レーザー光を供給する手段と、 前記レーザー光を反射させて液晶ディスプレイパネルに
照射させるためのミラーと、 前記ミラーを変位させることにより、前記液晶ディスプ
レイパネルにおけるレーザー光の照射位置を第1の方向
上で変化させる第1の駆動手段と、 前記レーザーを供給する手段と前記液晶ディスプレイパ
ネルとのいずれか一方を移動させることにより、前記液
晶ディスプレイパネルにおけるレーザー光の照射位置を
前記第1の方向とは異なる第2の方向上で変化させる第
2の駆動手段とを備えたことを特徴とする液晶ディスプ
レイの欠陥画素の補正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP227197A JPH10197893A (ja) | 1997-01-09 | 1997-01-09 | 液晶ディスプレイの欠陥画素の補正方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP227197A JPH10197893A (ja) | 1997-01-09 | 1997-01-09 | 液晶ディスプレイの欠陥画素の補正方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10197893A true JPH10197893A (ja) | 1998-07-31 |
Family
ID=11524715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP227197A Pending JPH10197893A (ja) | 1997-01-09 | 1997-01-09 | 液晶ディスプレイの欠陥画素の補正方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10197893A (ja) |
-
1997
- 1997-01-09 JP JP227197A patent/JPH10197893A/ja active Pending
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