JPH10199794A - 露光装置および方法 - Google Patents
露光装置および方法Info
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- JPH10199794A JPH10199794A JP398597A JP398597A JPH10199794A JP H10199794 A JPH10199794 A JP H10199794A JP 398597 A JP398597 A JP 398597A JP 398597 A JP398597 A JP 398597A JP H10199794 A JPH10199794 A JP H10199794A
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- Japan
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- substrate
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- Pending
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の伸縮量を算出してステップ移動させる
際、合わせずれが生じることなくパターンを露光するこ
とができる露光装置を提供する。 【解決手段】 露光装置は光源７、振動子３、受光スリ
ット２、オートフォーカスセンサ９、中継基板８などか
らなる基板の傾き量測定機構を有し、露光ステージ５に
載置された基板の伸縮量を測定する際、まず、基板６に
割り当てられた６４ショットのうち任意の１０ショット
に形成された位置検出マーク１６の座標ｘを測定する。
位置検出マーク１６の座標ｘが測定されたショットの傾
き量θを測定する。ショットの中心Ｏから距離Ｇ離れた
測定点ａ１、測定点ａ２をショットの隅に設定し、設定
された測定点ａ１の高さＦ１および測定点ａ２の高さＦ
２を測定する。測定された高さＦ１、Ｆ２から１ショッ
トの傾き量θを算出し、算出されたショットの傾き量θ
で位置検出マークの座標ｘを補正する。
際、合わせずれが生じることなくパターンを露光するこ
とができる露光装置を提供する。 【解決手段】 露光装置は光源７、振動子３、受光スリ
ット２、オートフォーカスセンサ９、中継基板８などか
らなる基板の傾き量測定機構を有し、露光ステージ５に
載置された基板の伸縮量を測定する際、まず、基板６に
割り当てられた６４ショットのうち任意の１０ショット
に形成された位置検出マーク１６の座標ｘを測定する。
位置検出マーク１６の座標ｘが測定されたショットの傾
き量θを測定する。ショットの中心Ｏから距離Ｇ離れた
測定点ａ１、測定点ａ２をショットの隅に設定し、設定
された測定点ａ１の高さＦ１および測定点ａ２の高さＦ
２を測定する。測定された高さＦ１、Ｆ２から１ショッ
トの傾き量θを算出し、算出されたショットの傾き量θ
で位置検出マークの座標ｘを補正する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置および方
法に関する。
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、露光装置として、例えばレンズ縮
小投影露光装置は、露光ステージの上に載置された基板
（シリコンウェハー）を１ショットずつステップ移動さ
せて基板に割り当てられたショットにパターンを露光す
る。ここで、ショットとは１回の露光で照射される領域
であり、例えば１枚の基板には６４（＝８×８）のショ
ットが割り当てられている（図２参照）。
小投影露光装置は、露光ステージの上に載置された基板
（シリコンウェハー）を１ショットずつステップ移動さ
せて基板に割り当てられたショットにパターンを露光す
る。ここで、ショットとは１回の露光で照射される領域
であり、例えば１枚の基板には６４（＝８×８）のショ
ットが割り当てられている（図２参照）。
【０００３】露光ステージに載置された基板は高温工程
などのプロセス処理の影響で通常、伸縮している状態に
あるので、ステップ移動させる基板のステップ量はその
伸縮量に応じて設定される。このとき、伸縮量はショッ
トに形成された位置検出マークの座標を例えば１０ショ
ット分統計処理することにより理論値との差から算出さ
れ、算出された伸縮量に基づいて全てのショットの座標
が算出される。
などのプロセス処理の影響で通常、伸縮している状態に
あるので、ステップ移動させる基板のステップ量はその
伸縮量に応じて設定される。このとき、伸縮量はショッ
トに形成された位置検出マークの座標を例えば１０ショ
ット分統計処理することにより理論値との差から算出さ
れ、算出された伸縮量に基づいて全てのショットの座標
が算出される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高温工
程などのプロセス処理の影響により基板は単に伸縮する
だけでなく、拡大して見るとうねっていたり傾いていた
りする場合がある（図５参照）。従来では基板が傾いて
いる状態であっても、そのまま位置検出マークの座標を
測定していたので、伸縮量に誤差が生じていた。すなわ
ち、図６に示すように測定される位置検出マークの座標
には誤差（ｘ／ｃｏｓθ−ｘ）が生じているので、その
ままパータンを露光すると誤差分だけ合わせずれが生じ
てしまう。
程などのプロセス処理の影響により基板は単に伸縮する
だけでなく、拡大して見るとうねっていたり傾いていた
りする場合がある（図５参照）。従来では基板が傾いて
いる状態であっても、そのまま位置検出マークの座標を
測定していたので、伸縮量に誤差が生じていた。すなわ
ち、図６に示すように測定される位置検出マークの座標
には誤差（ｘ／ｃｏｓθ−ｘ）が生じているので、その
ままパータンを露光すると誤差分だけ合わせずれが生じ
てしまう。
【０００５】そこで、本発明は、基板の伸縮量を算出し
てステップ移動させる際、合わせずれが生じることなく
パターンを露光することができる露光装置および方法を
提供することを目的とする。
てステップ移動させる際、合わせずれが生じることなく
パターンを露光することができる露光装置および方法を
提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の請求項１に記載の露光装置は、露光ステー
ジに載置された基板の伸縮量を算出する伸縮量算出手段
を備え、該算出された伸縮量に応じたステップ量だけ前
記基板を移動して露光する露光装置において、前記露光
ステージに載置された基板の傾き量を算出する傾き量算
出手段と、該算出された傾き量で前記算出される伸縮量
を補正する伸縮量補正手段とを備えたことを特徴とす
る。
に、本発明の請求項１に記載の露光装置は、露光ステー
ジに載置された基板の伸縮量を算出する伸縮量算出手段
を備え、該算出された伸縮量に応じたステップ量だけ前
記基板を移動して露光する露光装置において、前記露光
ステージに載置された基板の傾き量を算出する傾き量算
出手段と、該算出された傾き量で前記算出される伸縮量
を補正する伸縮量補正手段とを備えたことを特徴とす
る。
【０００７】また、１回の露光で照射される領域を示す
ショットが前記基板に複数割り当てられており、前記伸
縮量算出手段は、前記ショットに形成された位置検出マ
ークの座標を測定する座標測定手段を備え、前記伸縮量
補正手段は、該測定された位置検出マークの座標を前記
傾き量で補正することが好ましい。さらに、前記傾き量
算出手段は、前記ショットの少なくとも２箇所に光源か
らの光が照射される測定領域を設定し、該設定された測
定領域で反射される光が合焦するように前記基板が載置
された露光ステージを移動させ、該移動量から前記傾き
量を算出することか好ましい。また、レンズ縮小投影露
光装置に適用されることが好ましい。
ショットが前記基板に複数割り当てられており、前記伸
縮量算出手段は、前記ショットに形成された位置検出マ
ークの座標を測定する座標測定手段を備え、前記伸縮量
補正手段は、該測定された位置検出マークの座標を前記
傾き量で補正することが好ましい。さらに、前記傾き量
算出手段は、前記ショットの少なくとも２箇所に光源か
らの光が照射される測定領域を設定し、該設定された測
定領域で反射される光が合焦するように前記基板が載置
された露光ステージを移動させ、該移動量から前記傾き
量を算出することか好ましい。また、レンズ縮小投影露
光装置に適用されることが好ましい。
【０００８】請求項５に記載の露光方法は、露光ステー
ジに載置された基板の伸縮量を算出し、該算出された伸
縮量に応じたステップ量だけ前記基板を移動して露光す
る露光方法において、前記露光ステージに載置された基
板の傾き量を算出し、該算出された傾き量で前記算出さ
れる伸縮量を補正することを特徴とする。
ジに載置された基板の伸縮量を算出し、該算出された伸
縮量に応じたステップ量だけ前記基板を移動して露光す
る露光方法において、前記露光ステージに載置された基
板の傾き量を算出し、該算出された傾き量で前記算出さ
れる伸縮量を補正することを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の露光装置および方法の実
施の形態について説明する。本実施形態における露光装
置はレンズ縮小投影露光装置に適用される。図１は実施
の形態における露光装置の要部の構成を概略的に示す図
である。露光装置は装置本体１、縮小投影レンズ４、露
光ステージ５などから構成されている。また、装置本体
１には全体を制御する制御部（図示せず）が設けられて
おり、制御部は後述する伸縮量算出処理手順などの制御
プログラムを実行して露光ステージ５をステップ移動さ
せ、露光ステージ５に載置されたシリコンウェハーなど
の基板６の上に縮小投影レンズ４を介してパターンを露
光する。
施の形態について説明する。本実施形態における露光装
置はレンズ縮小投影露光装置に適用される。図１は実施
の形態における露光装置の要部の構成を概略的に示す図
である。露光装置は装置本体１、縮小投影レンズ４、露
光ステージ５などから構成されている。また、装置本体
１には全体を制御する制御部（図示せず）が設けられて
おり、制御部は後述する伸縮量算出処理手順などの制御
プログラムを実行して露光ステージ５をステップ移動さ
せ、露光ステージ５に載置されたシリコンウェハーなど
の基板６の上に縮小投影レンズ４を介してパターンを露
光する。
【００１０】図２は基板６の平面を示す図である。１枚
の基板６には１回の露光で照射される領域を示すショッ
トが８×８（＝６４）箇所に割り当てられている。ま
た、この露光装置では光源７、振動子３、受光スリット
２、オートフォーカスセンサ９、中継基板８などから露
光ステージ５に載置された基板の傾き量を測定する傾き
量測定機構が構成されており、光源７から基板６に向け
て照射された光がオートフォーカスセンサ９で合焦する
ように露光ステージ５を上下に動かし、その移動量から
後述するようにショットの傾き量θを測定する。露光ス
テージ５に載置されたシリコンウェハーなどの基板６
は、前述したように高温工程などのプロセス処理の影響
で伸縮していたり、傾いていたりするので、これらを考
慮して露光ステージ５を移動させるステップ量を設定し
なければならない。
の基板６には１回の露光で照射される領域を示すショッ
トが８×８（＝６４）箇所に割り当てられている。ま
た、この露光装置では光源７、振動子３、受光スリット
２、オートフォーカスセンサ９、中継基板８などから露
光ステージ５に載置された基板の傾き量を測定する傾き
量測定機構が構成されており、光源７から基板６に向け
て照射された光がオートフォーカスセンサ９で合焦する
ように露光ステージ５を上下に動かし、その移動量から
後述するようにショットの傾き量θを測定する。露光ス
テージ５に載置されたシリコンウェハーなどの基板６
は、前述したように高温工程などのプロセス処理の影響
で伸縮していたり、傾いていたりするので、これらを考
慮して露光ステージ５を移動させるステップ量を設定し
なければならない。
【００１１】図３は伸縮量算出処理手順を示すフローチ
ャートである。まず、基板６に割り当てられた６４ショ
ットのうち任意の１０ショットに形成された位置検出マ
ーク１６の座標ｘを測定する（ステップＳ１）。図５は
位置検出マーク１６が形成されたショットを示す図であ
る。同図（Ａ）はショットの平面を示し、同図（Ｂ）は
その傾きを示す。
ャートである。まず、基板６に割り当てられた６４ショ
ットのうち任意の１０ショットに形成された位置検出マ
ーク１６の座標ｘを測定する（ステップＳ１）。図５は
位置検出マーク１６が形成されたショットを示す図であ
る。同図（Ａ）はショットの平面を示し、同図（Ｂ）は
その傾きを示す。
【００１２】つづいて、位置検出マーク１６の座標が測
定されたショットの傾き量θを測定する（ステップＳ
２）。図４はショットの傾き量θの測定手順を示すフロ
ーチャートである。ショットの中心Ｏから距離Ｇ離れた
測定点ａ１、測定点ａ２をショットの隅に設定し（ステ
ップＳ１１）、設定された測定点ａ１の高さＦ１および
測定点ａ２の高さＦ２を測定する（ステップＳ１２）。
光源７から設定された測定点ａ１、ａ２に向けて光を照
射し、反射された光がオートフォーカスセンサ９で合焦
するように露光ステージ５を上下に動かし、その移動量
から測定点ａ１の高さＦ１および測定点ａ２の高さＦ２
を測定する。測定された高さＦ１、Ｆ２から１ショット
の傾き量θを〔数１〕にしたがって算出する（ステップ
Ｓ１３）。
定されたショットの傾き量θを測定する（ステップＳ
２）。図４はショットの傾き量θの測定手順を示すフロ
ーチャートである。ショットの中心Ｏから距離Ｇ離れた
測定点ａ１、測定点ａ２をショットの隅に設定し（ステ
ップＳ１１）、設定された測定点ａ１の高さＦ１および
測定点ａ２の高さＦ２を測定する（ステップＳ１２）。
光源７から設定された測定点ａ１、ａ２に向けて光を照
射し、反射された光がオートフォーカスセンサ９で合焦
するように露光ステージ５を上下に動かし、その移動量
から測定点ａ１の高さＦ１および測定点ａ２の高さＦ２
を測定する。測定された高さＦ１、Ｆ２から１ショット
の傾き量θを〔数１〕にしたがって算出する（ステップ
Ｓ１３）。
【００１３】
【数１】θ＝ｔａｎ-1（（Ｆ１−Ｆ２）／２Ｇ）
【００１４】つづいて、〔数２〕によりステップＳ１で
測定された位置検出マークの座標ｘをステップ２で測定
されたショットの傾き量θで補正する（ステップＳ
３）。
測定された位置検出マークの座標ｘをステップ２で測定
されたショットの傾き量θで補正する（ステップＳ
３）。
【００１５】
【数２】ｘａ＝ｘ／θ−ｘ
【００１６】ここで、ｘはショットの傾き量θを補正す
る前の位置検出マーク１６の座標であり、ｘａはショッ
トの傾き量θを補正した後の位置検出マーク１６の座標
である。図６はショットの傾きおよびｘ、θの関係を示
す図である。
る前の位置検出マーク１６の座標であり、ｘａはショッ
トの傾き量θを補正した後の位置検出マーク１６の座標
である。図６はショットの傾きおよびｘ、θの関係を示
す図である。
【００１７】ショットの傾き量θが補正された位置検出
マーク１６の座標ｘａを統計処理し、基板６の中心から
位置検出マーク１６までの距離を理論値Ａ、実測値Ａ’
として伸縮量Ｂを〔数３〕にしたがって算出する（ステ
ップＳ４）。
マーク１６の座標ｘａを統計処理し、基板６の中心から
位置検出マーク１６までの距離を理論値Ａ、実測値Ａ’
として伸縮量Ｂを〔数３〕にしたがって算出する（ステ
ップＳ４）。
【００１８】
【数３】伸縮量Ｂ＝（Ａ’−Ａ）／Ａ
【００１９】これにより、高温工程などのプロセス処理
によって伸縮した基板６の伸縮量が正確に算出される。
この後、ショット間のステップピッチをＣとして、露光
装置は〔数４〕に示すステップ量で露光ステージ５を順
次移動させて各ショットにパターンを露光する。
によって伸縮した基板６の伸縮量が正確に算出される。
この後、ショット間のステップピッチをＣとして、露光
装置は〔数４〕に示すステップ量で露光ステージ５を順
次移動させて各ショットにパターンを露光する。
【００２０】
【数４】 ステップ量＝（１＋伸縮量Ｂ）×ステップピッチＣ
【００２１】このように、本実施形態の露光装置によれ
ば、各ショットの傾き量θを考慮して伸縮量を算出する
ことにより基板６を正確にステップ移動させることがで
き、合わせずれが生じることなく基板にパターンを露光
できる。尚、上記実施形態では、Ｘ座標についてだけ示
したが、Ｙ座標についても同様にショットの傾き量θを
考慮して伸縮量を算出してもよい。また、本実施形態で
は位置検出マーク１６が測定されたショットについてだ
けその傾き量θを測定したが、基板６に割り当てられた
全てのショットについてその傾き量θを測定して統計処
理を行ってもよい。さらに、統計処理を行うことによっ
て各ショットの傾き量がわかるショットだけを選択して
測定してもよい。
ば、各ショットの傾き量θを考慮して伸縮量を算出する
ことにより基板６を正確にステップ移動させることがで
き、合わせずれが生じることなく基板にパターンを露光
できる。尚、上記実施形態では、Ｘ座標についてだけ示
したが、Ｙ座標についても同様にショットの傾き量θを
考慮して伸縮量を算出してもよい。また、本実施形態で
は位置検出マーク１６が測定されたショットについてだ
けその傾き量θを測定したが、基板６に割り当てられた
全てのショットについてその傾き量θを測定して統計処
理を行ってもよい。さらに、統計処理を行うことによっ
て各ショットの傾き量がわかるショットだけを選択して
測定してもよい。
【００２２】
【発明の効果】本発明の請求項１に記載の露光装置によ
れば、伸縮量算出手段により露光ステージに載置された
基板の伸縮量を算出し、該算出された伸縮量に応じたス
テップ量だけ前記基板を移動して露光する際、傾き量算
出手段により前記露光ステージに載置された基板の傾き
量を算出し、伸縮量補正手段により該算出された傾き量
で前記算出される伸縮量を補正するので、基板の伸縮量
を算出してステップ移動させる際、合わせずれが生じる
ことなくパターンを露光することができる。
れば、伸縮量算出手段により露光ステージに載置された
基板の伸縮量を算出し、該算出された伸縮量に応じたス
テップ量だけ前記基板を移動して露光する際、傾き量算
出手段により前記露光ステージに載置された基板の傾き
量を算出し、伸縮量補正手段により該算出された傾き量
で前記算出される伸縮量を補正するので、基板の伸縮量
を算出してステップ移動させる際、合わせずれが生じる
ことなくパターンを露光することができる。
【００２３】請求項２に記載の露光装置によれば、１回
の露光で照射される領域を示すショットが前記基板に複
数割り当てられており、前記伸縮量算出手段は、前記シ
ョットに形成された位置検出マークの座標を測定する座
標測定手段を備え、前記伸縮量補正手段は、該測定され
た位置検出マークの座標を前記傾き量で補正するので、
ショット単位に複数測定することにより統計処理の精度
を高めることができる。また、位置検出マークの座標の
測定および傾き量の算出を同一のショット内で行うこと
ができ、効率を高めることができる。
の露光で照射される領域を示すショットが前記基板に複
数割り当てられており、前記伸縮量算出手段は、前記シ
ョットに形成された位置検出マークの座標を測定する座
標測定手段を備え、前記伸縮量補正手段は、該測定され
た位置検出マークの座標を前記傾き量で補正するので、
ショット単位に複数測定することにより統計処理の精度
を高めることができる。また、位置検出マークの座標の
測定および傾き量の算出を同一のショット内で行うこと
ができ、効率を高めることができる。
【００２４】請求項３に記載の露光装置によれば、前記
傾き量算出手段は、前記ショットの少なくとも２箇所に
光源からの光が照射される測定領域を設定し、該設定さ
れた測定領域で反射される光が合焦するように前記基板
が載置された露光ステージを移動させ、該移動量から前
記傾き量を算出するので、傾き量測定機構を容易に付属
させることができ、露光ステージの機能を活かして簡単
に傾き量を測定できる。
傾き量算出手段は、前記ショットの少なくとも２箇所に
光源からの光が照射される測定領域を設定し、該設定さ
れた測定領域で反射される光が合焦するように前記基板
が載置された露光ステージを移動させ、該移動量から前
記傾き量を算出するので、傾き量測定機構を容易に付属
させることができ、露光ステージの機能を活かして簡単
に傾き量を測定できる。
【００２５】請求項４に記載の露光装置によれば、レン
ズ縮小投影露光装置に適用されるので、レンズ縮小投影
露光装置においてパターンの合わせずれを解消できる。
ズ縮小投影露光装置に適用されるので、レンズ縮小投影
露光装置においてパターンの合わせずれを解消できる。
【００２６】請求項５に記載の露光方法によれば、露光
ステージに載置された基板の伸縮量を算出し、該算出さ
れた伸縮量に応じたステップ量だけ前記基板を移動して
露光する露光方法において、前記露光ステージに載置さ
れた基板の傾き量を算出し、該算出された傾き量で前記
算出される伸縮量を補正するので、基板の伸縮量を算出
してステップ移動させる際、合わせずれが生じることな
くパターンを露光することができる。
ステージに載置された基板の伸縮量を算出し、該算出さ
れた伸縮量に応じたステップ量だけ前記基板を移動して
露光する露光方法において、前記露光ステージに載置さ
れた基板の傾き量を算出し、該算出された傾き量で前記
算出される伸縮量を補正するので、基板の伸縮量を算出
してステップ移動させる際、合わせずれが生じることな
くパターンを露光することができる。
【図１】実施の形態における露光装置の要部の構成を概
略的に示す図である。
略的に示す図である。
【図２】基板６の平面を示す図である。
【図３】伸縮量算出処理手順を示すフローチャートであ
る。
る。
【図４】ショットの傾き量θの測定手順を示すフローチ
ャートである。
ャートである。
【図５】位置検出マークが形成されたショットを示す図
である。
である。
【図６】ショットの傾きおよびｘ、θの関係を示す図で
ある。
ある。
１……装置本体、２……受光スリット、３……振動子、
４……縮小投影レンズ、５……露光ステージ、６……基
板、７……光源、１６……位置検出マーク
４……縮小投影レンズ、５……露光ステージ、６……基
板、７……光源、１６……位置検出マーク
Claims (5)
- 【請求項１】 露光ステージに載置された基板の伸縮量
を算出する伸縮量算出手段を備え、 該算出された伸縮量に応じたステップ量だけ前記基板を
移動して露光する露光装置において、 前記露光ステージに載置された基板の傾き量を算出する
傾き量算出手段と、 該算出された傾き量で前記算出される伸縮量を補正する
伸縮量補正手段とを備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 １回の露光で照射される領域を示すショ
ットが前記基板に複数割り当てられており、 前記伸縮量算出手段は、前記ショットに形成された位置
検出マークの座標を測定する座標測定手段を備え、 前記伸縮量補正手段は、該測定された位置検出マークの
座標を前記傾き量で補正することを特徴とする請求項１
記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記傾き量算出手段は、前記ショットの
少なくとも２箇所に光源からの光が照射される測定領域
を設定し、該設定された測定領域で反射される光が合焦
するように前記基板が載置された露光ステージを移動さ
せ、該移動量から前記傾き量を算出することを特徴とす
る請求項２記載の露光装置。 - 【請求項４】 レンズ縮小投影露光装置に適用されるこ
とを特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項５】 露光ステージに載置された基板の伸縮量
を算出し、 該算出された伸縮量に応じたステップ量だけ前記基板を
移動して露光する露光方法において、 前記露光ステージに載置された基板の傾き量を算出し、 該算出された傾き量で前記算出される伸縮量を補正する
ことを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP398597A JPH10199794A (ja) | 1997-01-13 | 1997-01-13 | 露光装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP398597A JPH10199794A (ja) | 1997-01-13 | 1997-01-13 | 露光装置および方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10199794A true JPH10199794A (ja) | 1998-07-31 |
Family
ID=11572331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP398597A Pending JPH10199794A (ja) | 1997-01-13 | 1997-01-13 | 露光装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10199794A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001077012A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-03-23 | Canon Inc | 投影露光装置およびデバイス製造方法 |
| WO2018144129A1 (en) * | 2017-02-03 | 2018-08-09 | Applied Materials, Inc. | Method of pattern placement correction |
-
1997
- 1997-01-13 JP JP398597A patent/JPH10199794A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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