JPH10202172A - 表面処理システムの操作の制御方法および装置 - Google Patents

表面処理システムの操作の制御方法および装置

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JPH10202172A
JPH10202172A JP9195715A JP19571597A JPH10202172A JP H10202172 A JPH10202172 A JP H10202172A JP 9195715 A JP9195715 A JP 9195715A JP 19571597 A JP19571597 A JP 19571597A JP H10202172 A JPH10202172 A JP H10202172A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表面処理システムの操作を管理する上での調
整が十分である表面処理システムの操作制御方法および
装置を提供する。 【解決手段】 処理すべき基板がその中を移動する処理
装置を含み、処理装置にガスおよび電力を供給する手段
と、ガス吸引手段とに接続されている制御装置におい
て、基板が処理装置中を移動する速度に関するデータを
受信し、装置を始動または停止するとき、吸引手段の操
作の起動、ガス供給手段の操作の起動、および電力供給
手段の操作の起動をするためにガス供給手段と、電力供
給手段と、吸引手段とに接続されたデータ処理ユニット
を含むことを特徴とする制御装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、制御されたガス雰
囲気の中で誘電障壁の電気放電により固体移動基板の表
面を処理するためのシステムの操作のための制御装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】具体例として、次の用途例について説明
することができる：食物梱包用のポリマーフィルムの処
理、またはコンデンサーの製造である。
【０００３】例えば「南アフリカにおけるプラスチック
ス（Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｓｏｕｔｈｅｒｎ Ａｆｒｉｃ
ａ）」（１９８３、６月）の５０ページ以下に現れるプ
リンツ（Ｅ．Ｐｒｉｎｚ）の名前の文献より、処理すべ
き基板がその中を移動する処理装置を含むこの種の表面
処理システムが、従来技術においてすでに知られてい
る。この処理装置は、処理装置にガスを供給する手段
と、電気放電を起こすために処理装置に電力を供給する
手段と、ガス吸引手段とに接続されている。
【０００４】このような装置により、基板の塗れ性の、
特に接着の特性、およびガス不透過性の特性を改善する
ように、基板を処理することができ、その結果、基板の
用途分野を広げることができる。
【０００５】それゆえ、本出願人の名義による文献EP-5
16,804により、ポリマー材料からなる基板に接着するシ
リコン酸化物の薄膜を堆積させることが、すでに提案さ
れている。これは、基板の１つの表面を誘電障壁の電気
放電に供し、この表面をシランを含む雰囲気にさらすこ
とを含み、これにより、基板の表面に接着してシリコン
酸化物が堆積される。
【０００６】この種のプロセスを実施するための処理装
置は、一般に基板の連続生産または連続改質を行うため
のラインに組み込まれ（この改質工程には、例えば、メ
タライジング、インキング、またはラミネート工程が含
まれ得る）、これらの装置は、例えば、この生産／改質
ラインの関数として予め決定されたレシピを用いて調節
される。
【０００７】しかし、このような処理システムの操作制
御、特にこの種のガスの操作制御には、このようなシス
テムの操作を特に安全上の点から管理する上において起
こり得る不十分な調整に関連した、多くの問題が存在し
得ることが認められる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
の問題を解決することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的のために、本発
明において対象としているのは、制御されたガス雰囲気
の中において誘電障壁の電気放電により固体移動基板の
表面を処理するためのシステムの操作のための制御装置
であって、システムは処理すべき基板がその中を移動す
る処理装置を含み、この処理装置は、処理装置にガスを
供給する手段と、電気放電を起こすために処理装置に電
力を供給する手段と、ガス吸引手段とに接続されている
制御装置において、入力として、基板が処理装置を移動
する速度に関するデータを受信するように設計されたデ
ータ処理ユニットを含み、このデータ処理ユニットは、
出力側において、ガス供給手段と、電力供給手段と、ガ
ス吸引手段とに接続され、これは、 ａ）処理装置を始動するとき、および基板の移動速度が
予め決定された速度を上回るときに、 −吸引手段の操作を起動し、 −ガス供給手段の操作を起動し、 −電力供給手段の操作を起動する動作を行い、および、 ｂ）処理装置を停止するとき、および／または基板の移
動速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下する
ときに、 −電力供給装置の操作を中断し、 −ガス供給手段の操作を中断し、 −吸引手段の操作を中断する動作を行うことを目的とす
ることを特徴とする。
【００１０】装置を始動するａ）の状況において、動作
は、 １）吸引手段の操作を起動し、 ２）ガス供給手段の操作を起動し、 ３）電力供給手段の操作を起動する時系列にて行われる
ことが好ましい。
【００１１】装置を停止する、および／または装置の処
理速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下した
場合のｂ）の状況において、動作は、 １）電力供給装置の操作を中断し、 ２）ガス供給手段の操作を中断し、 ３）吸引手段の操作を中断する時系列にて行われること
が好ましい。
【００１２】本発明における「予め決定された速度」
は、ａ）およびｂ）の状況において同一であっても良い
が、違っていても良い。
【００１３】当該技術分野に精通した者にとっては自明
であるように、状況ａ）および／またはｂ）に含まれる
予め決定された速度は、各ユーザーでの操作条件に依存
しながら、例えば、以下の方法の少なくとも１つを考慮
することによって、場合ごとに設定される。
【００１４】−それを下回ると基板処理が満足できるも
のでない最低速度を用いる −それを下回ると基板劣化の危険が生じる最低速度を用
いる（基板が放電と接触している間の時間）。この速度
は特に基板の性質による。
【００１５】従って、事情によるが、状況ａ）もしくは
状況ｂ）に含まれる「起動」または「中断」は、即座
に、または、事実上即座に起こり得ることが理解される
（従って、状況ａ）において大変低い予め決定された速
度のレベルにより、または、状況ｂ）において装置が停
止する前に採用していた移動速度に大変近い速度によ
り）。
【００１６】本発明の態様の１つとして、ガス供給手段
は、還元ガス供給手段とキャリアガスおよび酸化性ガス
供給手段とを含んでおり、データ処理ユニットは、これ
らのガス供給手段の操作を起動するとき、キャリアガス
および酸化性ガス供給手段の操作を起動した後に還元ガ
ス供給手段の操作の起動を伴うように設計され、また、
これらのガス供給手段の操作を中断するとき、還元ガス
供給手段の操作を中断した後に、キャリアガスおよび酸
化性ガス供給手段の操作の中断を伴うように設計されて
いる。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明に係る制御の構造および操
作を例示する概略図を示す図面を参照して実施例のみと
して示される以下の説明を読むことにより、本発明はよ
り明瞭に理解される。
【００１８】実際にはこの図において、制御されたガス
状の雰囲気の中で誘電障壁の電気放電により固体移動基
板の表面を処理するためのシステムの操作のための制御
装置が認められる。
【００１９】この処理プロセスについてさらに知りたい
場合には、前述の従来の文献を参照符号すれば良い（EP
-516,804）。
【００２０】この図において、処理システムは一般的に
参照符号１で示され、この処理システムには、その中を
処理すべき基板が移動する処理装置（一般的な参照符号
２で示す）が含まれている。
【００２１】この基板は一般的な参照符号３で示され、
そして、例えば、静止部４と回転部５の間を通って処理
装置の中を移動するように設計されたフィルムの形状を
なす。静止部４と回転部５は、支持手段６上に配置され
ている（静止部４は処理相の間は静止しているが、他の
相の間にシステムを上昇、下降できるジャッキ上に、シ
ステムは通常載置されている）。
【００２２】このような処理装置は、より具体的には処
理装置の静止部４は、処理装置にガスを供給する手段
（一般的な参照符号７で示す）と、電気放電を起こすよ
うに処理装置に電力を供給する手段（一般的な参照符号
８で示す）と、ガス吸引手段（一般的な参照符号９で示
す）とに接続されている。
【００２３】本発明において、制御装置には、データ記
憶手段と関連する何らかの適切なコンピューターが含ま
れるデータ処理ユニット（図中、一般的な参照符号１０
で示す）が含まれている。コンピューターは、図中、一
般的な参照符号１１で示し、データ記憶手段は、図中、
一般的な参照符号１２で示す。
【００２４】このデータ処理ユニット１０は、入力とし
て、基板が処理装置を移動する速度に関するデータを、
例えば処理装置の回転部５と関連する、例えば速度セン
サー１３から受信する。
【００２５】さらに、データ処理ユニット１０は、出力
側において、ガス供給手段７と、電力供給手段８と、お
よびガス吸引手段９とに接続されており、これは、処理
装置を始動するとき、および基板の移動速度が予め決定
された速度を上回るときに、例えば連続して、 １）吸引手段９の操作を起動し、 ２）ガス供給手段７の操作を起動し、 ３）電力供給手段８の操作を起動する動作を行うことを
目的とする。
【００２６】さらに、処理装置を停止するとき、および
／または基板の移動速度が予め決定された速度を下回る
レベルに低下するときに、データ処理ユニットは、例え
ば連続して、 １）電力供給装置８の操作を中断する、 ２）ガス供給手段７の操作を中断する、 ３）吸引手段９の操作を中断するように設計されてい
る。
【００２７】また、図において、ガス供給手段７に、シ
ランのような還元ガスを供給する手段（図中、一般的な
参照符号１４によって示す）、キャリアガスおよび酸化
性ガスを供給する手段（例えば、それぞれ参照符号１５
および１６によって示す）が含まれていても良いことが
示されている。
【００２８】この場合において、これらのガス供給手段
７の操作を起動するとき、データ処理ユニット１０は、
例えばキャリアガスおよび酸化性ガス供給手段１５、１
６の操作を起動した後に、還元ガス供給手段１４の操作
の起動を伴うように設計されており、また、これらのガ
ス供給手段の操作を中断するとき、還元ガス供給手段１
４の操作を中断した後に、キャリアガスおよび酸化性ガ
ス供給手段１５、１６のそれぞれの操作の中断を伴うよ
うに設計されている。
【００２９】従って、このデータ処理ユニットにより、
処理システムの様々な手段を制御するある特定の手順を
実施することが可能となり、その結果、処理システムを
管理する上での不十分な調整から起こるかも知れないど
んな問題も、防止または解決することができることが認
められる。
【００３０】さらに、このデータ処理ユニット１０は、
また、処理システムの操作を監視／制御するために、処
理システムの状態センサーおよび／または操作アクチュ
エーターに接続されることが好ましい。
【００３１】これらの様々なセンサーおよび／またはア
クチュエーターは、例えば、処理装置２における一般的
な参照符号１７、電力供給手段８における１８、吸引手
段９における１９、およびガス供給手段７における２０
によって示されている。
【００３２】例えば、上述の状態センサーは、処理ガス
フローメータからなるか、または圧力センサーからなる
か、または吸引速度センサーからなっていても良い。
【００３３】また、例えば、ガス供給手段７と関連する
手段２０は、データ処理ユニットの故障時にデータ処理
ユニット１０に接続された警報手段２１の操作を起動す
るために、装置の種々のガス供給手段の状態センサーの
ような手段と関連していても良いことに注意されたい。
【００３４】このようにして、例えば還元ガス供給手段
１４は検出器２２と関連していても良く、一方、キャリ
アガスおよび酸化性ガス供給手段１５、１６は、それぞ
れ検出器２３、２４と関連していても良い。
【００３５】上述の検出器は、警報を発してシステムを
操作している者の注意を喚起することを可能にする、ま
たはシステムを遠隔操作／監視するためのシステムに警
報を送るために、例えば、これらの手段の供給障害を検
出する装置を含む。
【００３６】例えば、主ガス供給源から補助または緊急
ガス供給源に切り換えるために、対応する供給障害デー
タを発生させて使用しても良い。
【００３７】最後に、データ処理ユニット１０は、なん
らかの適切なコンピューターターミナルからなるマン／
マシーンインターフェース２５に接続されていても良
く、また、適切な種類のデータ転送手段２６によって処
理システムを遠隔操作／監視するセンターと接続されて
いても良い。
【００３８】また、これらのデータ転送手段２６および
データ処理ユニット１０を介して、システムを遠隔操作
／監視するこのセンターへ供給障害データが転送されて
も良い。
【００３９】もちろん、処理システムの対応する手段の
動作を起動および中断は、処理システムの性質に依存す
る。
【００４０】従って、例えば、ガス供給手段は、データ
処理ユニットによって制御される電気制御の出力バルブ
と関連していても良く、一方で、吸引手段および電力供
給手段は、例えばこのユニットによりオン／オフされて
も良い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る制御の構造および操作を具体的に
示す概略図。
【符号の説明】
１…処理システム、 ２…処理装置、 ３…基板、 ４…静止部、 ５…回転部、 ６…支持手段、 ７…ガス供給手段、 ８…電力供給手段、 ９…ガス吸引手段、 １０…データ処理ユニット、 １１…コンピューター、 １２…データ記憶手段、 １３…速度センサー、 １４…還元ガス供給手段、 １５…キャリアガス供給手段、 １６…酸化性ガス供給手段、 １７、１８、１９、２０…状態センサーおよび／または
アクチュエーター、 ２１…警報手段、 ２２、２３、２４…検出器、 ２５…マン／マシーンインターフェース、 ２６…データ転送手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 イザベル・イボン フランス国、78150 ル・シェスナイ、バ ティマン アー、ブールバール・サン・ア ントワーヌ 18

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 制御されたガス雰囲気の中において誘電
    障壁の電気放電により固体移動基板の表面を処理するた
    めのシステムの操作のための制御装置であって、システ
    ムは処理すべき基板がその中を移動する処理装置を含
    み、この処理装置は、処理装置にガスを供給する手段
    と、電気放電を起こすために処理装置に電力を供給する
    手段と、ガス吸引手段とに接続されている制御装置にお
    いて、入力として、基板が処理装置中を移動する速度に
    関するデータを受信するように設計されたデータ処理ユ
    ニットを含み、このデータ処理ユニットは、出力側にお
    いて、ガス供給手段と、電力供給手段と、ガス吸引手段
    とに接続され、これは、 ａ）処理装置を始動するとき、および基板の移動速度が
    予め決定された速度を上回るときに、 −吸引手段の操作を起動し、 −ガス供給手段の操作を起動し、 −電力供給手段の操作を起動する動作を行い、および、 ｂ）処理装置を停止するとき、および／または基板の移
    動速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下する
    ときに、 −電力供給装置の操作を中断し、 −ガス供給手段の操作を中断し、 −吸引手段の操作を中断する動作を行うことを目的とす
    ることを特徴とする制御装置。
  2. 【請求項２】 データ処理ユニットは、装置を始動する
    ａ）の状況において、動作を、 １）吸引手段の操作を起動し、 ２）ガス供給手段の操作を起動し、 ３）電力供給手段の操作を起動する時系列にて行うこと
    ができることを特徴とする請求項１記載の制御装置。
  3. 【請求項３】 データ処理ユニットは、装置を停止す
    る、および／または装置の処理速度が予め決定された速
    度を下回るレベルに低下した場合のｂ）の状況におい
    て、動作を、 １）電力供給装置の操作を中断し、 ２）ガス供給手段の操作を中断し、 ３）吸引手段の操作を中断する時系列にて行うことがで
    きることを特徴とする請求項１または２記載の制御装
    置。
  4. 【請求項４】 ガス供給手段は、還元ガス供給手段とキ
    ャリアガスおよび酸化性ガス供給手段とを含んでおり、
    データ処理ユニットは、これらのガス供給手段を起動す
    るとき、キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段の操作
    を起動した後に還元ガス供給手段の操作の起動を伴うよ
    うに設計され、また、これらのガス供給手段を中断する
    とき、還元ガス供給手段の操作を中断した後に、キャリ
    アガスおよび酸化性ガス供給手段の操作の中断を伴うよ
    うに設計されていることを特徴とする請求項１ないし３
    のいずれか１項記載の制御装置。
  5. 【請求項５】 データ処理ユニットは、処理システムの
    監視／制御を行うために、処理システムの状態センサー
    および／またはファンクショナルアクチュエーターに接
    続されていることを特徴とする請求項１ないし４のいず
    れか１項記載の制御装置。
  6. 【請求項６】 データ処理ユニットは、データ転送手段
    を介して、処理システムを遠隔操作／監視するセンター
    と接続されていることを特徴とする請求項１ないし５の
    いずれか１項記載の制御装置。
  7. 【請求項７】 データ処理ユニットは、データ処理ユニ
    ットの故障時に警報手段および／または緊急ガス供給手
    段の操作を起動するために、処理装置のガス供給手段の
    状態センサーに接続されていることを特徴とする請求項
    ５または６記載の制御装置。
  8. 【請求項８】 データ処理ユニットは、少なくとも１つ
    のマン／マシーンインターフェースに接続されているこ
    とを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項記載の
    制御装置。
  9. 【請求項９】 基板が処理装置の中を移動する速度に関
    するデータが、処理装置と関連する速度センサーによっ
    て、データ処理ユニットへ送られることを特徴とする請
    求項１ないし８のいずれか１項記載の制御装置。
  10. 【請求項１０】 制御されたガス雰囲気の中で誘電障壁
    の電気放電により固体移動基板の表面を処理するための
    システムの操作のための制御方法であって、システムは
    処理すべき基板がその中を移動する処理装置を含み、こ
    の処理装置は、処理装置にガスを供給する手段と、電気
    放電を起こすために処理装置に電力を供給する手段と、
    ガス吸引手段とに接続されている制御方法において、 基板が装置の中を移動する速度を測定し、かつ、 ａ）処理装置を始動するとき、および基板の移動速度が
    予め決定された速度を上回る時に、 −吸引手段の操作を起動し、 −ガス供給手段の操作を起動し、 −電力供給手段の操作を起動する動作を行い、および ｂ）処理装置を停止するとき、および／または基板の移
    動速度が予め決定された速度を下回るレベルに低下する
    ときに、 −電力供給装置の操作を中断し、 −ガス供給手段の操作を中断し、 −吸引手段の操作を中断する動作を行うことを特徴とす
    る制御方法。
  11. 【請求項１１】 ａ）の状況において、前記動作を、 １）吸引手段の操作を起動し、 ２）ガス供給手段の操作を起動し、 ３）電力供給手段の操作を起動する時系列にて行うこと
    を特徴とする請求項１０記載の制御方法。
  12. 【請求項１２】 ｂ）の状況において、前記動作を、 １）電力供給装置の操作を中断し、 ２）ガス供給手段の操作を中断し、 ３）吸引手段の操作を中断する時系列にて行うことを特
    徴とする請求項１０または１１記載の制御方法
  13. 【請求項１３】 ガス供給手段は、還元ガス供給手段と
    キャリアガスおよび酸化性ガス供給手段とを含んでお
    り、データ処理ユニットは、これらのガス供給手段の操
    作を起動するとき、キャリアガスおよび酸化性ガス供給
    手段の操作を起動した後に還元ガス供給手段の操作の起
    動を伴い、また、これらのガス供給手段の操作を中断す
    るとき、還元ガス供給手段の操作を中断した後に、キャ
    リアガスおよび酸化性ガス供給手段の操作の中断を伴う
    ことを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれか１項
    記載の制御装置。
  14. 【請求項１４】 処理装置は、データ転送手段を介し
    て、遠隔操作／監視されることを特徴とする請求項１０
    ないし１３のいずれか１項記載の制御装置。
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