JPH10204057A - ハロゲン化チオホルメート誘導体及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】修飾しやすい置換基を有するハロゲン化チオホ
ルメート誘導体及びフェノール誘導体を提供する。 【解決手段】［４−（１，１−ジメチル−２−メトキシ
エチル）フェニル］＝クロロチオホルメート。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、医農薬中間体及び
有機中間体として有用な、パラ位に４級炭素又はトリ低
級アルキルシリル基の置換したフェニル＝ハロゲノチオ
ホルメート誘導体、パラ位に４級炭素の置換したフェノ
ール誘導体、及びパラ位に４級炭素又はトリ低級アルキ
ルシリル基の置換したフェニル＝ハロゲノチオホルメー
ト誘導体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ハロゲン化チオホルメートとして
は、例えば特開昭５７−１７６９５２号公報に記載の４
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル＝クロロチオホルメートな
どが知られている。しかしこの４−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル＝クロロチオホルメートの４−ｔｅｒｔ−ブチル
基は反応性に乏しく、後から置換基を導入するなどの修
飾を行うことが困難であった。一方、医農薬中間体又は
有機中間体であるハロゲン化チオホルメートは、種々の
化合物を合成するために修飾しやすい基を有する物が望
まれていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、修飾
しやすい置換基を有するハロゲン化チオホルメート誘導
体及びフェノール誘導体を提供し、さらに該化合物の安
価で、簡便な工業的製造方法を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、生理活性
物質の製造中間体について鋭意研究を重ねた結果、上記
一般式［１］で示される本発明化合物が、チオカルバミ
ン酸誘導体あるいはその他の生理活性物質の製造中間体
として有用であり、修飾しやすい基を有する物であり、
さらにそれらは、簡便かつ経済的な方法で製造できるこ
とを発見し、本発明を完成した。

【０００５】即ち、本発明は、一般式［１］

【０００６】

【化７】

【０００７】［式中Ｒはトリ低級アルキルシリル基、式
［２］

【０００８】

【化８】

【０００９】（Ｒ₁は低級アルコキシ基、シアノ基、低
級アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、カルバモイ
ル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アシル基、低
級アシルオキシ基、もしくは低級アシルアミノ基を表
す。）、または式［３］

【００１０】

【化９】

【００１１】（Ｒ₂は低級アルコキシ基、シアノ基、ヒ
ドロキシ基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイ
ル基、低級アシルオキシ基、低級アシルアミノ基もしく
はアミノ基を表す。）で表される基を表し、Ｖはハロゲ
ン原子を表す。］で表されることを特徴とするハロゲン
化チオホルメート誘導体である。

【００１２】また本発明は、一般式［４］

【００１３】

【化１０】

【００１４】（式中Ｒ₃は低級アルコキシ基、低級アル
コキシメチル基、シアノメチル基、アミノメチル基、低
級アシルアミノメチル基、低級アシルオキシメチル基、
ヒドロキシメチル基を表す。）で表されることを特徴と
するフェノール誘導体及びその塩である。

【００１５】さらに本発明は、一般式［５］

【００１６】

【化１１】

【００１７】（式中Ｒは前記と同様の意味を表す。）で
表されるフェノール誘導体とチオホスゲン等のハロゲノ
チオカルボニル化剤を反応させることを特徴とする一般
式［１］で表されるハロゲン化チオホルメート誘導体の
製造方法である。

【００１８】以下本発明について詳述する。まず本発明
の化合物である一般式［１］及び［４］について詳述す
る。

【００１９】本発明の一般式の定義において、特に断ら
ない限り「低級」なる用語は炭素数が１〜６個の直鎖ま
たは分枝した炭素鎖を意味する。

【００２０】したがって、低級アルキル基としては、具
体的には例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル（アミル）基、イソ
ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、
１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１，２−ジ
メチルプロピル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、１−
メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチル
ペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、２，２−ジメ
チルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジ
メチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１−エチ
ルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリメ
チルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、
１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−
メチルプロピル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ
−ペンチル基、１，１−ジメチルブチル基等である。

【００２１】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子等を挙げることが出来る。
好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子である。

【００２２】低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、
ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、１−メチルブ
チルオキシ基、２−メチルブチルオキシ基、３−メチル
ブチルオキシ基、１，２−ジメチルプロピルオキシ基、
１，１−ジメチルプロピルオキシ基、ヘキシルオキシ
基、１−メチルペンチルオキシ基、１−エチルプロピル
オキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペ
ンチルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、１，２
−ジメチルブチルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオ
キシ基、２，３−ジメチルブチルオキシ基、１，１−ジ
メチルブチルオキシ基、２，２−ジメチルブチルオキシ
基、３，３−ジメチルブチルオキシ基等が挙げられ、好
ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、
１，２−ジメチルプロピルオキシ基等である。

【００２３】トリ低級アルキルシリル基としては、トリ
メチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジエチルメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルプロピル
シリル基、エチルメチルプロピルシリル基、ジプロピル
メチルシリル基、ジエチルプロピルシリル基、ジプロピ
ルエチルシリル基、トリプロピルシリル基、ジメチルイ
ソプロピルシリル基、エチルメチルイソプロピルシリル
基、ジイソプロピルメチルシリル基、ジエチルイソプロ
ピルシリル基、ジイソプロピルエチルシリル基、トリイ
ソプロピルシリル基、ブチルジメチルシリル基、ブチル
エチルメチルシリル基、ブチルメチルプロピルシリル
基、ブチルジエチルシリル基、ブチルエチルプロピルシ
リル基、ブチルジプルピルシリル基、ジブチルメチルシ
リル基、ジブチルエチルシリル基、ジブチルプロピルシ
リル基、トリブチルシリル基、ジメチルイソブチルシリ
ル基、エチルイソブチルメチルシリル基、イソブチルメ
チルプロピルシリル基、ジエチルイソブチルシリル基、
エチルイソブチルプロピルシリル基、イソブチルジプロ
ピルシリル基、ジイソブチルメチルシリル基、ジイソブ
チルエチルシリル基、ジイソブチルプロピルシリル基、
トリイソブチルシリル基等が挙げられ、好ましくは、ト
リメチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジエチル
メチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルプロピ
ルシリル基、エチルメチルプロピルシリル基、ジメチル
イソプロピルシリル基、ブチルジメチルシリル基等であ
る。

【００２４】低級アルコキシカルボニル基としては、例
えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プ
ロポキシカルボニル基、イソプロポキシ基、ブトキシカ
ルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブト
キシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、
ペンチルオキシカルボニル基、１−メチルブチルオキシ
カルボニル基、２−メチルブチルオキシカルボニル基、
３−メチルブチルオキシカルボニル基、１，２−ジメチ
ルプロピルオキシカルボニル基、１，１−ジメチルプロ
ピルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル
基、１−メチルペンチルオキシカルボニル基、１−エチ
ルプロピルオキシカルボニル基、２−メチルペンチルオ
キシカルボニル基、３−メチルペンチルオキシカルボニ
ル基、４−メチルペンチルオキシカルボニル基、１，２
−ジメチルブチルオキシカルボニル基、１，３−ジメチ
ルブチルオキシカルボニル基、２，３−ジメチルブチル
オキシカルボニル基、１，１−ジメチルブチルオキシカ
ルボニル基、２，２−ジメチルブチルオキシカルボニル
基、３，３−ジメチルブチルオキシカルボニル基等が挙
げられ、好ましくは、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキ
シカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニル基、１，２−ジメチルプロピルオキシ
カルボニル基等である。

【００２５】低級アルキルカルバモイル基としては、例
えばＮ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイ
ル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロ
ピルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−
ジプロピルカルバモイル基等が挙げられる。好ましく
は、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイ
ル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基等である。

【００２６】低級アシル基としては、例えばホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基、１−メチルプロピルカルボニル
基、イソバレリル基、ペンチルカルボニル基、１−メチ
ルブチルカルボニル基、２−メチルブチルカルボニル
基、３−メチルブチルカルボニル基、１−エチルプロピ
ルカルボニル基、２−エチルプロピルカルボニル基等を
挙げることができる。好ましくは、ホルミル基、アセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等
である。

【００２７】低級アシルオキシ基としては、ホルミルオ
キシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリ
ルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基
等を挙げることができる。好ましくは、ホルミルオキシ
基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等である。

【００２８】低級アシルアミノ基としては、ホルミルア
ミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブ
チリルアミノ基、イソブチリルアミノ基、バレリルアミ
ノ基、ホルミル−Ｎ−メチルアミノ基、アセチル−Ｎ−
メチルアミノ基、プロピオニル−Ｎ−メチルアミノ基、
ホルミル−Ｎ−エチルアミノ基、アセチル−Ｎ−エチル
アミノ基、プロピオニル−Ｎ−エチルアミノ基、ホルミ
ル−Ｎ−プロピルアミノ基、アセチル−Ｎ−プロピルア
ミノ基、プロピオニル−Ｎ−プロピルアミノ基等を挙げ
ることができる。好ましくは、ホルミルアミノ基、アセ
チルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ホルミル−Ｎ−
メチルアミノ基、アセチル−Ｎ−メチルアミノ基等であ
る。

【００２９】低級アルコキシメチル基としては、例えば
メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチ
ル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イ
ソブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシメチル基、ペンチルオキシメチル基、１
−メチルブチルオキシメチル基、２−メチルブチルオキ
シメチル基、３−メチルブチルオキシメチル基、１，２
−ジメチルプロピルオキシメチル基、１，１−ジメチル
プロピルオキシメチル基、ヘキシルオキシメチル基、１
−メチルペンチルオキシメチル基、１−エチルプロピル
オキシメチル基、２−メチルペンチルオキシメチル基、
３−メチルペンチルオキシメチル基、４−メチルペンチ
ルオキシメチル基、１，２−ジメチルブチルオキシメチ
ル基、１，３−ジメチルブチルオキシメチル基、２，３
−ジメチルブチルオキシメチル基、１，１−ジメチルブ
チルオキシメチル基、２，２−ジメチルブチルオキシメ
チル基、３，３−ジメチルブチルオキシメチル基等が挙
げられ、好ましくは、メトキシメチル基、エトキシメチ
ル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、
ブトキシメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル基、１，
２−ジメチルプロピルオキシメチル基等である。

【００３０】低級アシルオキシメチル基としては、ホル
ミルオキシメチル基、アセトキシメチル基、プロピオニ
ルオキシメチル基、ブチリルオキシメチル基、イソブチ
リルオキシメチル基、バレリルオキシメチル基等を挙げ
ることができる。好ましくは、ホルミルオキシメチル
基、アセトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基
等である。

【００３１】低級アシルアミノメチル基としては、ホル
ミルアミノメチル基、アセチルアミノメチル基、プロピ
オニルアミノメチル基、ブチリルアミノメチル基、イソ
ブチリルアミノメチル基、バレリルアミノメチル基、ホ
ルミル−Ｎ−メチルアミノメチル基、アセチル−Ｎ−メ
チルアミノメチル基、プロピオニル−Ｎ−メチルアミノ
メチル基、ホルミル−Ｎ−エチルアミノメチル基、アセ
チル−Ｎ−エチルアミノメチル基、プロピオニル−Ｎ−
エチルアミノメチル基、ホルミル−Ｎ−プロピルアミノ
メチル基、アセチル−Ｎ−プロピルアミノメチル基、プ
ロピオニル−Ｎ−プロピルアミノメチル基等を挙げるこ
とができる。好ましくは、ホルミルアミノメチル基、ア
セチルアミノメチル基、プロピオニルアミノメチル基、
ホルミル−Ｎ−メチルアミノメチル基、アセチル−Ｎ−
メチルアミノメチル基等である。

【００３２】これら本発明化合物である一般式［１］
［４］のなかには不斉炭素が含まれるものがある。本発
明化合物は、光学活性体、ラセミ体、ジアステレオマー
等の各種光学異性体の混合物及びそれらの単離されたも
のを含む。

【００３３】これら本発明化合物である一般式［１］
［４］のなかにはアミン残基を持っているものがある。
これらのアミン誘導体は酸付加体を形成する場合があ
る。そのような塩としては、例えば、塩化水素、臭化水
素、硫酸、燐酸等の鉱酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、マロ
ン酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、乳酸、リン
ゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、トリフル
オロメタンスルホン酸等の有機酸等との酸付加体塩等を
挙げることができる。さらに、本発明化合物［１］
［４］の各種水和物、溶媒和物や結晶多形の物質も含ま
れる。

【００３４】化合物［４］は、化合物［１］の合成に用
いることができる。

【００３５】製造法に関しては、本発明化合物は種々の
方法により製造できるが、以下代表的な製造法を示す。

【００３６】製造法１

【００３７】

【化１２】

【００３８】一般式［１］で表されるハロゲン化チオホ
ルメートは、対応するフェノール化合物［５］と例えば
チオホスゲン等のハロゲノチオカルバメート化剤を塩基
存在下、無溶媒あるいは溶媒中で−１０℃ないし１００
℃で数分から２４時間反応させることにより製造するこ
とができる。

【００３９】塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
等の無機塩基、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の
水素化アルカリ金属、水素化カルシウム等の水素化アル
カリ土類金属、或いはピリジン、コリジン、ルチジン、
トリエチルアミン、トリメチレンジアミン、１，８−ジ
アザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢ
Ｕ）等の有機塩基を挙げることができる。

【００４０】溶媒としては、水あるいはｎ−ヘキサン、
シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジクロロメタ
ン、クロロホルム等の有機ハロゲン化合物、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、
メタノール、エタノール等のアルコール類等を挙げるこ
とができる。また、このような溶媒を、数種類混合して
用いてもよい。

【００４１】フェノール化合物［５］とチオホスゲン等
のハロゲノチオカルバメート化剤とはそれぞれ等モルあ
るいは一方をやや過剰モルとして反応に供するのが好ま
しい。

【００４２】本発明のハロゲン化チオホルメートの原料
となるフェノール化合物［５］は、種々の方法により製
造できるが、以下代表的な製造法を示す。

【００４３】式１−１

【００４４】

【化１３】

【００４５】（式中、Ｘはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リル基あるいはメトキシメチル基を表す。Ｒ₄は低級ア
ルキル基を表す。） 化合物［７］は、化合物［６］の水酸基を保護すること
により合成することが出来る。保護基としては例えばｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基あるいはメトキシメチ
ル基を挙げることが出来る。保護基のｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル基は、例えば化合物［６］をジメチルホ
ルムアミド等の溶媒中、イミダゾール等の塩基存在下、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライド等のシリル
化剤と、氷冷ないし５０℃で数分から４０時間反応する
ことにより製造できる。保護基のメトキシメチル基は、
例えば化合物［６］をエーテル、テトラヒドロフラン等
の溶媒中、水素化ナトリウム、エチルジイソプロピルア
ミン等の塩基存在下、クロロメチルメチルエーテルと氷
冷ないし５０℃で数分から４０時間反応することにより
製造できる。

【００４６】化合物［８］は、例えば化合物［７］を、
エーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒中、−８０℃な
いし１００℃で、ヨウ化メチルマグネシウム等の有機金
属試薬と数分から４０時間反応させることにより製造す
ることが出来る。

【００４７】化合物［９］は、例えば化合物［８］を、
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
等の溶媒中、塩基存在下、−８０℃ないし１００℃で、
アルキル化剤と数分から４０時間反応させることにより
製造することが出来る。塩基としては炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基、水
素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素化アルカリ金
属、水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、ピ
リジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン、エチ
ルジイソプロピルアミン、１，８−ジアザ−ビシクロ
［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等の有機塩
基、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等
の有機リチウム化合物等を挙げることができる。アルキ
ル化剤としてはヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化プロ
ピル等のハロゲン化アルキル又は硫酸ジメチル等の硫酸
エステル類を挙げることが出来る。

【００４８】化合物［５ａ］は、例えば化合物［９］
を、溶媒中、酸触媒あるいは脱シリル剤存在下、−８０
℃ないし５０℃で数分から４０時間反応させることによ
り製造することが出来る。溶媒としては水、メタノー
ル、エタノール、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジメチルホルムアミド等を挙げることが出来る。
これらの溶媒を混合して用いても良い。酸触媒としては
塩酸、塩化水素、硫酸、フッ化水素、トリフルオロ酢酸
等を挙げることが出来る。脱シリル剤としては、テトラ
ブチルアンモニウムフルオロライド、フッ化カリウム等
を挙げることが出来る。

【００４９】式１−２

【００５０】

【化１４】

【００５１】（式中、Ｘは前記と同様な意味を表す。Ｒ
₅は低級アルキル基又は低級アシル基を表す。） 化合物［１１］は、化合物［１０］を上記式１−１の化
合物［７］の合成と同様の方法で反応することにより水
酸基を保護することが出来る。化合物［１２］は、例え
ば化合物［１１］を、エーテル、テトラヒドロフラン等
の溶媒中、−８０℃ないし室温で、リチウムジイソプロ
ピルアミド等の塩基存在下、ヨウ化メチル等のメチル化
剤と数分から４０時間反応させることにより製造するこ
とが出来る。化合物［１３］は、例えば化合物［１２］
を、エーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒中、０℃な
いし１００℃で、水素化リチウムアルミニウム、ボラン
錯体等の還元剤と数分から４０時間反応させることによ
り製造することが出来る。

【００５２】化合物［１４］は、化合物［１３］から上
記式１−１の化合物［９］の合成と同様の方法で合成す
ることが出来る。化合物［５ｂ］は、化合物［１４］か
ら、上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と同様の方法
で合成することが出来る。化合物［５ｃ］は、化合物
［１３］から、上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と
同様の方法で合成することが出来る。

【００５３】式１−３

【００５４】

【化１５】

【００５５】（式中、Ｘは前記と同様な意味を表す。Ｙ
はｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、メトキシメチル
基または低級アシル基を表す。Ｒ６は低級アシル基を表
す。Ｒ７は低級アルキル基を表す。） 化合物［１６］は、化合物［１５］を上記式１−１の化
合物［７］の合成と同様の方法で反応することにより水
酸基を保護することが出来る。化合物［１７］は、化合
物［１６］から上記式１−２の化合物［１２］の合成と
同様の方法で合成することが出来る。化合物［１８］
は、化合物［１７］から上記式１−２の化合物［１３］
の合成と同様の方法で合成することが出来る。化合物
［１９］は、化合物［１８］と例えばぎ酸、酢酸等の有
機酸を溶媒中、縮合剤の存在下０℃ないし５０℃で数分
から４８時間反応させることにより製造することが出来
る。用いる溶媒としては塩化メチレン、ジエチルエーテ
ル、ジメチルホルムアミド等を挙げることが出来る。縮
合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミドあるいは
１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カ
ルボジイミド等を挙げることが出来る。

【００５６】一方、化合物［１９］は、化合物［１８］
と例えばアセチルクロライド、無水酢酸等の等の有機酸
誘導体を溶媒中、脱塩化水素剤の存在下−５０℃ないし
５０℃で数分から４８時間反応させることにより製造す
ることも出来る。用いる溶媒としてはアセトニトリル、
アセトン、塩化メチレン、クロロホルム、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等を
挙げることが出来る。脱塩化水素剤としては炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩
基、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素化アル
カリ金属、水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金
属、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミ
ン、エチルジイソプロピルアミン、１，８−ジアザ−ビ
シクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等の
有機塩基を挙げることが出来る。

【００５７】さらに化合物［１９］は、化合物［５ｄ］
と例えばアセチルクロライド、無水酢酸等の等の有機酸
誘導体を溶媒中、脱塩化水素剤の存在下−５０℃ないし
５０℃で数分から４８時間反応させることにより製造す
ることが出来る。用いる溶媒としてはアセトニトリル、
アセトン、塩化メチレン、クロロホルム、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等を
挙げることが出来る。脱塩化水素剤としては炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩
基、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素化アル
カリ金属、水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金
属、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミ
ン、エチルジイソプロピルアミン、１，８−ジアザ−ビ
シクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等の
有機塩基を挙げることが出来る。

【００５８】化合物［２０］は、化合物［１９］から上
記式１−１の化合物［９］の合成と同様の方法で合成す
ることが出来る。化合物［５ｄ］は、化合物［１８］か
ら、上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と同様の方法
で合成することが出来る。

【００５９】化合物［５ｅ］は、化合物［１９］から、
上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と同様の方法で合
成することが出来る。化合物［５ｆ］は、化合物［２
０］から、上記式１−１の化合物［５ａ］の合成と同様
の方法で合成することが出来る。

【００６０】化合物［５ｅ］は、例えば化合物［１９］
（化合物［１９］においてＹが低級アシル基の場合）
を、溶媒中、塩基性触媒存在下、氷冷下ないし５０℃で
数分から４０時間反応させることにより製造することが
出来る。溶媒としては水、メタノール、エタノール、
１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド等を挙げることが出来る。これらの溶媒を混
合して用いても良い。塩基性触媒としては炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩
基を挙げることが出来る。

【００６１】化合物［５ｆ］は、化合物［２０］（化合
物［２０］においてＹが低級アシル基の場合）を、溶媒
中、塩基性触媒存在下、氷冷下ないし５０℃で数分から
４０時間反応させることにより製造することが出来る。
溶媒としては水、メタノール、エタノール、１，４−ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
等を挙げることが出来る。これらの溶媒を混合して用い
ても良い。塩基性触媒としては炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基を挙げるこ
とが出来る。

【００６２】

【実施例】次に実施例によって本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもので
はない。本発明化合物の原料化合物の合成を参考例によ
り説明する。

【００６３】参考例１ ４−（アセチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シランの合成 ４−（アセチル）フェノール５．０ｇ及びイミダゾール
５．５ｇのジメチルホルムアミド溶液２０ｍｌに、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライド６．２ｇを加え
室温下２時間撹拌した。反応終了後、水２００ｍｌを加
え酢酸エチルで抽出した。集めた有機層を飽和食塩水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製すると黄色油状
物８．５６ｇを得た。

【００６４】¹Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） ０．２３（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），２．５
４（ｓ，３Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）。

【００６５】４−（アセチル）フェノールの代わりに以
下の原料化合物を用い参考例１と同様の方法で以下の化
合物を合成した。

【００６６】４−（シアノメチル）フェノキシｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシラン 原料化合物：４−（シアノメチル）フェノール¹ Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），３．６
７（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ） 淡黄色結晶。

【００６７】４−（メトキシカルボニルメチル）フェノ
キシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン 原料化合物：４−（メトキシカルボニルメチル）フェノ
ール¹ Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），３．５
６（ｓ，２Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），６．７９
（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ） 淡黄色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２８０（Ｍ⁺）。

【００６８】参考例２ ４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）フェノキシ
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 ４−（アセチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シラン８ｇのエーテル溶液６０ｍｌに氷冷下、０．８１
Ｍヨウ化メチルマグネシウムのエーテル溶液４２ｍｌを
滴下した。１時間加熱環流後、放冷し飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、エーテルで抽出した。集めた有機層
を飽和食塩水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧下濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製す
ると淡黄色油状物７．３ｇを得た。

【００６９】¹Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），１．５
７（ｓ，６Ｈ），１．７０（ｓ，１Ｈ），６．７８
（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ３３８０，２９５０，２９２５，１６００，１５０５，
１２５０。

【００７０】参考例３ ４−（１−シアノ−１−メチルエチル）フェノキシｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 ４−（シアノメチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシラン１２．６ｇのテトラヒドロフラン溶液１００
ｍｌを−８０℃に冷却し、２．０Ｍリチウムジイソプロ
ピルアミド溶液（ヘプタン、テトラヒドロフラン、エチ
ルベンゼン混合溶液）２８ｍｌを滴下後、ヨウ化メチル
３．８ｍｌを加え、そのまま室温まで徐々に昇温しなが
ら５時間撹拌した。再び反応液を−８０℃に冷却し、
２．０Ｍリチウムジイソプロピルアミド溶液（ヘプタ
ン、テトラヒドロフラン、エチルベンゼン混合溶液）２
８ｍｌを滴下後、ヨウ化メチル３．８ｍｌを加え、その
まま室温まで徐々に昇温しながら２４時間撹拌した。反
応後飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで
抽出した。集めた有機層を飽和食塩水洗し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、濃縮すると褐色油状物１４ｇを得
た。

【００７１】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） ０．２１（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），１．７
０（ｓ，６Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）。

【００７２】下記の原料化合物を用い参考例３と同様の
方法で以下の化合物を合成した。

【００７３】４−（１−メトキシカルボニル−１−メチ
ルエチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン 原料化合物：４−（メトキシカルボニルメチル）フェノ
キシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），１．５
５（ｓ，６Ｈ），３．６５（ｓ，３Ｈ），６．７８
（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ２９５０，２９３０，１７３５，１６１０，１５１０，
１２５５，１１５０ 橙色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ３０８（Ｍ⁺）。

【００７４】参考例４ ４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジメチルエチル）
フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 ギ酸３３１ｍｇの塩化メチレン溶液１０ｍｌに、１−エ
チル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジ
イミド１．０ｇの塩化メチレン溶液４ｍｌ、４−（２−
アミノ−１，１−ジメチルエチル）フェノキシｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシラン１．０ｇの塩化メチレン溶液１
０ｍｌを滴下し、室温下２時間撹拌した。反応終了後、
飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去しシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ−（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、目的とする淡黄色
油状物８９０ｍｇを得た。

【００７５】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） ０．２１（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），１．３
１ ａｎｄ １．３２（２ｓ，６Ｈ），３．２４ ａｎ
ｄ ３．４６（２ｓ，１Ｈ），３．２６ ａｎｄ ３．
４７（２ｓ，１Ｈ），５．１９ ａｎｄ ５．３９（２
ｂｒｓ，１Ｈ），６．７９−６．８３（ｍ，２Ｈ），
７．１２−７．２２（ｍ，２Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝
１２．０Ｈｚ，０．２４Ｈ），８．１０（ｓ，０．７６
Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ３２８０，２９５０，１６６０，１５０５，１２６０。

【００７６】参考例５ ４−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）フェ
ノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 水素化リチウムアルミニウム２９５ｍｇのテトラヒドロ
フラン懸濁液１５ｍｌに、氷冷下４−（１−メトキシカ
ルボニル−１−メチルエチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシラン２．２ｇのテトラヒドロフラン溶液
１５ｍｌを滴下後、室温下１．５時間撹拌した。反応終
了後水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、生じた固体を濾
別した。濾液に水を加え酢酸エチルで抽出し、集めた有
機層を飽和食塩水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１）で精製すると白色固体の目的物１．４３ｇを得た。

【００７７】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） ０．１９（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），１．３
０（ｓ，６Ｈ），３．５５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，２
Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．２
２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1） ３２５０，２９６０，２９３０，１６０５，１５１０，
１２５０，１０３５ ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２８０（Ｍ⁺）。

【００７８】参考例６ ４−（２−アセトキシ−１，１−ジメチルエチル）フェ
ノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシランの合成 ４−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）フェ
ノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン１．４３ｇ及び
ピリジン６００ｍｇを塩化メチレン１５ｍｌに溶かし、
氷冷下、アセチルクロライド６００ｍｇの塩化メチレン
溶液１５ｍｌを氷冷下加えた。室温下２時間撹拌後、氷
水に加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を０．５％
塩酸で洗浄後、飽和食塩水洗した。無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、無色油状物の目的物
１．５９ｇを得た。

【００７９】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９８（ｓ，９Ｈ），１．３
３（ｓ，６Ｈ），２．０１（ｓ，３Ｈ），４．０７
（ｓ，２Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1）２９５０，１７４０，１６０
５，１５１０，１３７０，１２７０。

【００８０】［４−（２−アセチルアミノ−１，１−ジ
メチルエチル）フェノキシ］アセテートの合成 ４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチル）フェノー
ル２２０ｍｇをピリジン３ｍｌに溶かし、無水酢酸４０
８ｍｇのピリジン溶液２ｍｌを氷冷下加えた。１８時間
撹拌後、氷水に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を
０．５％塩酸で洗浄後、飽和食塩水洗した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、淡褐色油状
物の目的物３２０ｍｇを得た。

【００８１】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） １．３２（ｓ，６Ｈ），１．９０（ｓ，３Ｈ），２．３
１（ｓ，３Ｈ），３．４７（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２
Ｈ），５．１６（ｂｒｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，
２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ３３００，２９６０，１７５５，１６５０，１５００，
１３６５，１２００。

【００８２】実施例１ ４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチル）フェノキ
シｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン及び４−（２−アミ
ノ−１，１−ジメチルエチル）フェノールの合成 水素化リチウムアルミニウム４１４ｍｇのテトラヒドロ
フラン懸濁液２０ｍｌに、氷冷下４−（１−シアノ−１
−メチルエチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シラン３ｇのテトラヒドロフラン溶液２０ｍｌを滴下
後、１．５時間加熱還流した。反応終了後水酸化ナトリ
ウム水溶液を滴下し、生じた固体を濾別した。濾液に水
を加え酢酸エチルで抽出し、集めた有機層を飽和食塩水
洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下濃
縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；クロロホルム：メタノール＝５：１）で精製すると
淡黄色油状の４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン１．０
６ｇと白色固体の４−（２−アミノ−１，１−ジメチル
エチル）フェノール２６０ｍｇを得た。

【００８３】４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン；¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） ０．２０（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），１．０
５−１．４２（ｍ，８Ｈ），２．７５（ｓ，２Ｈ），
６．７９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．１８
（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）。

【００８４】４−（２−アミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェノール；¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．２９（ｓ，６Ｈ），２．７９（ｓ，２Ｈ），３．５
１（ｂｒｓ，３Ｈ），６．７２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，
２Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）。

【００８５】実施例２ ４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジメチルエチル）
フェノールの合成 ４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジメチルエチル）
フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン８３０ｍｇ
をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、氷冷下１．０
Ｍテトラブチルアンモニウムフルオロライド（テトラヒ
ドロフラン溶液）を４．０５ｍｌ加えた。３０分撹拌
後、０．５％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。集め
た有機層を飽和食塩水洗した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下濃縮後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒；クロロホルム：メタノール＝
７：１）で精製すると白色固体の目的物５００ｍｇを得
た。

【００８６】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） １．３３（ｓ，６Ｈ），３．２４ ａｎｄ ３．４８
（２ｓ，１Ｈ），３．２６ａｎｄ ３．４９（２ｓ，１
Ｈ），５．２８（ｂｒｓ，１Ｈ），５．４８ ａｎｄ
５．７５（２ｂｒｓ，１Ｈ）６．７７−６．８４（ｍ，
２Ｈ），７．１２−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．８１
（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，０．２９Ｈ），８．１０
（ｓ，０．７１Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ３３００，２９６０，１６６０，１５１５，１３８５，
１２３０。

【００８７】下記の原料化合物を用い実施例２と同様の
方法で以下の化合物を合成した。

【００８８】４−（１−シアノ−１−メチルエチル）フ
ェノール 原料化合物：４−（１−シアノ−１−メチルエチル）フ
ェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．７０（ｓ，６Ｈ），５．５０（ｓ，１Ｈ），６．８
５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ） 白色固体。

【００８９】４−（２−アセトキシ−１，１−ジメチル
エチル）フェノール 原料化合物：４−（２−アセトキシ−１，１−ジメチル
エチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．３３（ｓ，６Ｈ），２．０２（ｓ，３Ｈ），４．０
９（ｓ，２Ｈ），６．７７−６．８２（ｍ，２Ｈ），
７．２０−７．２４（ｍ，２Ｈ） 無色油状物。

【００９０】実施例３ ４−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−１−メ
チルエチル］フェノールの合成 ４−［１−カルボキシ−１−メチルエチル］フェノール
５００ｍｇを塩化チオニル５ｇに溶解し、室温下１９時
間撹拌した。過剰の塩化チオニルを減圧下留去した後、
残さをクロロホルム２０ｍｌに溶解し、５０％ジメチル
アミン水溶液５ｇを加えた。４時間撹拌後、反応液を１
Ｎ塩酸、水で順次洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧濃縮後、残さをヘキサン−エタ
ノールより再結晶する事により無色プレート状結晶２１
９ｍｇを得た。

【００９１】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） １．５２（ｓ，６Ｈ），２．５５（ｂｒｓ，３Ｈ），
２．９３（ｂｒｓ，３Ｈ），６．２６（ｓ，１Ｈ），
６．８７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ２Ｈ），７．０６（ｄ，
Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ３２５０，２８９０，１６１５，１５９５，１５２０，
１４５０，１４０５，１２８０，１２４０ ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２０７（Ｍ⁺）。

【００９２】実施例４ ４−（１，１−ジメチル−２−メトキシエチル）フェノ
ールの合成 ６０％油性水素化ナトリウム２７３ｍｇのジメチルホル
ムアミド懸濁液１０ｍｌに、氷冷下４−（２−ヒドロキ
シ−１，１−ジメチルエチル）フェノキシｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシラン１．８２ｇのジメチルホルムアミド
懸濁液３０ｍｌを加えた。１０分後にヨウ化メチル１．
０ｇを加えた後、室温下１９時間撹拌した。反応終了後
水４００ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出後（６０ｍｌ×
３）、集めた有機層を飽和食塩水洗し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧濃縮すると油状物１．５ｇを得
た。

【００９３】粗生成物をテトラヒドロフラン１５ｍｌに
溶解し、氷冷下１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフル
オロライド（テトラヒドロフラン溶液）を１０ｍｌ加え
た。３０分撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、エーテルで抽出した。集めた有機層を飽和食塩水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製すると白色
固体の目的物６００ｍｇを得た。

【００９４】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） １．３０（ｓ，６Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ），３．３
７（ｓ，２Ｈ），４．８６（ｓ，１Ｈ），６．７５
（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝
９．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1） ３３００，２９６０，１６１５，１５２０，１２７０，
１０９０，９６０ ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ １８０（Ｍ⁺）。

【００９５】下記の原料化合物を用い実施例４と同様の
方法で以下の化合物を合成した。

【００９６】４−（１−メトキシ−１−メチルエチル）
フェノール 原料化合物：４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチ
ル）フェノキシｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン¹ Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．５３（ｓ，６Ｈ），３．０６（ｓ，３Ｈ），４．８
０（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，
２Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ） 無色結晶。

【００９７】実施例５ ［４−（１，１−ジメチル−２−メトキシエチル）フェ
ニル］＝クロロチオホルメートの合成 チオホスゲン３９０ｍｇのシクロヘキサン溶液５ｍｌ
に、室温下４−（１，１−ジメチル−２−メトキシエチ
ル）フェノール５８０ｍｇと水酸化ナトリウム１４０ｍ
ｇの水溶液１０ｍｌをゆっくり滴下した。室温下２時間
撹拌後、シクロヘキサンで抽出した。集めた有機層を飽
和食塩水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧下濃縮後、黄色油状物の目的物５２３ｍｇを得た。

【００９８】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） １．３４（ｓ，６Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ），３．４
０（ｓ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２
Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ２９７０，２８８０，１５０５，１２５０，１１９５，
１１６０，１０１５ ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２５８（Ｍ⁺）。

【００９９】下記の原料化合物を用い実施例５と同様の
方法で以下の化合物を合成した。

【０１００】［４−（１−シアノ−１−メチルエチル）
フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（１−シアノ−１−メチルエチル）フ
ェノール¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．７５（ｓ，６Ｈ），７．１５−７．１９（ｍ，２
Ｈ），７．５３−７．５８（ｍ，２Ｈ）。

【０１０１】ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ２９８０，２９２０，２２３０，１５００，１２４０，
１０１０ 淡黄色固体。

【０１０２】［４−（１−メトキシ−１−メチルエチ
ル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（１−メトキシ−１−メチルエチル）
フェノール¹ Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．５４（ｓ，６Ｈ），３．０９（ｓ，３Ｈ），７．１
０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ２９８０，２９３０，１５００，１２５０，１１６０，
１０１５ 黄色固体。

【０１０３】［４−（１−アセチル−１−メチルエチ
ル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（１−アセチル−１−メチルエチル）
フェノール¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．５１（ｓ，６Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），５．７
０（ｂｒｓ，１Ｈ），７．１１−７．１６（ｍ，２
Ｈ），７．３３−７．３７（ｍ，２Ｈ） 淡黄色固体 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２５６（Ｍ⁺）。

【０１０４】［４−（１−メトキシカルボニル−１−メ
チルエチル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（１−メトキシカルボニル−１−メチ
ルエチル）フェノール¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．６０（ｓ，６Ｈ），３．６６（ｓ，３Ｈ），７．１
０（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝
９．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ２９９０，２９２０，１７３５，１５１０，１２５５，
１１９５，１１５０ 黄色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２７２（Ｍ⁺）。

【０１０５】［４−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル）−１−メチルエチル］フェニル］＝クロロチオホ
ルメート 原料化合物：４−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル）−１−メチルエチル］フェノール¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．５６（ｓ，６Ｈ），２．６２（ｂｒｓ，３Ｈ），
２．９７（ｂｒｓ，３Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝８．０
Ｈｚ，２Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） １６２５，１４９５，１３９５，１２５０ 黄色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２８５（Ｍ⁺）。

【０１０６】［４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジ
メチルエチル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（２−ホルミルアミノ−１，１−ジメ
チルエチル）フェノール¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．３７ ａｎｄ １．３８（２ｓ，６Ｈ），３．４４
ａｎｄ ３．５１（２ｓ，１Ｈ），３．４５ ａｎｄ
３．５３（２ｓ，１Ｈ），５．５９ ａｎｄ５．７３
（２ｂｒｓ，１Ｈ），７．１０−７．２０（ｍ，２Ｈ） ７．３８−７．４８（ｍ，２Ｈ），７．６８−７．８６
（ｍ，１Ｈ），８．０２ａｎｄ ８．１１（２ｓ，１
Ｈ） 淡褐色粘凋物。

【０１０７】（４−トリメチルシリルフェニル）＝クロ
ロチオホルメート 原料化合物：４−トリメチルシリルフェノール¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） ０．３０（ｓ，９Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，２Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^-1） ２９５０，１５８０，１４９０，１２４０，１１９０，
１１５０，１１００，１０１０ 黄色油状物 ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２４４（Ｍ⁺）。

【０１０８】［４−（１，１−ジメチル−２−ヒドロキ
シエチル）フェニル］＝クロロチオホルメート 原料化合物：４−（２−アセトキシ−１，１−ジメチル
エチル）フェノール¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ） １．３７（ｓ，６Ｈ），３．６３（ｓ，２Ｈ），７．１
９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ） ＥＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２４４（Ｍ⁺）。

【０１０９】実施例６ ［４−（２−アセチルアミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェニル］＝クロロチオホルメートの合成 ［４−（２−アセチルアミノ−１，１−ジメチルエチ
ル）フェノキシ］アセテート３１５ｍｇをメタノール１
０ｍｌに溶解し、飽和重曹水４ｍｌを加え、室温下２時
間撹拌した。反応後メタノールを減圧留去し、冷した３
Ｎ塩酸を加え酸性にした。酢酸エチルで抽出後、有機層
を飽和食塩水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧下溶媒を留去し、白色固体を１９０ｍｇ得た。得ら
れた白色固体と水酸化ナトリウム３７ｍｇの水溶液２ｍ
ｌを、チオホスゲン１１５ｍｇのシクロヘキサン溶液３
ｍｌに、室温下ゆっくり滴下した。室温下２時間撹拌
後、シクロヘキサンで抽出した。集めた有機層を飽和食
塩水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下濃縮後、黄色油状物の目的物２４３ｍｇを得た。

【０１１０】¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
δｐｐｍ） １．３２ ａｎｄ １．３２（２ｓ，６Ｈ），１．８６
（ｓ，３Ｈ），３．４２ａｎｄ ３．４４（２ｓ，２
Ｈ），５．５１ ａｎｄ ５．５２（２ｂｒｓ，１
Ｈ），７．０８ ａｎｄ ７．１６（２ｄ，Ｊ＝８．５
Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２
Ｈ）。

【０１１１】

【発明の効果】本発明により、各種生理活性物質の製造
に有用な製造中間体を得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 和久 神奈川県横浜市青葉区たちばな台二丁目７ 番地３ (72)発明者 山本 隆 神奈川県横浜市神奈川区六角橋５丁目21番 地33号−401 (72)発明者 勝浦 公男 東京都新宿区西落合２−23−３

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式［１］ 【化１】 ［式中Ｒはトリ低級アルキルシリル基、式［２］ 【化２】 （Ｒ₁は低級アルコキシ基、シアノ基、低級アルコキシ
   カルボニル基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、低級ア
   ルキルカルバモイル基、低級アシル基、低級アシルオキ
   シ基、もしくは低級アシルアミノ基を表す。）、または
   式［３］ 【化３】 （Ｒ₂は低級アルコキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、
   カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、低級ア
   シルオキシ基、低級アシルアミノ基もしくはアミノ基を
   表す。）で表される基を表し、Ｖはハロゲン原子を表
   す。］で表されることを特徴とするハロゲン化チオホル
   メート誘導体。
2. 【請求項２】一般式［４］ 【化４】 （式中Ｒ₃は低級アルコキシ基、低級アルコキシメチル
   基、シアノメチル基、アミノメチル基、低級アシルアミ
   ノメチル基、低級アシルオキシメチル基、ヒドロキシメ
   チル基を表す。）で表されることを特徴とするフェノー
   ル誘導体及びその塩。
3. 【請求項３】一般式［５］ 【化５】 （式中Ｒは前記と同様の意味を表す。）で表されるフェ
   ノール誘導体とチオホスゲン等のハロゲノチオカルボニ
   ル化剤を反応させることを特徴とする一般式［１］ 【化６】 （式中Ｒ及びＶは前記と同様な意味を表す）で表される
   ハロゲン化チオホルメート誘導体の製造方法。