JPH10208231A - バインダーおよび磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のものに比べ、磁性粉の分散性が良好で
あり、磁気特性の優れた磁気記録媒体を与える放射線硬
化型磁気記録媒体用バインダーを提供する。 【解決手段】 分子中にスルファミン酸(塩)基と、1
分子当たり平均2.5〜9個の(メタ)アクロイル基と
を有するウレタンオリゴマーからなる放射線硬化型磁気
記録媒体用バインダー。
あり、磁気特性の優れた磁気記録媒体を与える放射線硬
化型磁気記録媒体用バインダーを提供する。 【解決手段】 分子中にスルファミン酸(塩)基と、1
分子当たり平均2.5〜9個の(メタ)アクロイル基と
を有するウレタンオリゴマーからなる放射線硬化型磁気
記録媒体用バインダー。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープ、磁気
カ−ド、磁気ディスクなどの磁気記録媒体の製造に用い
られるバインダーおよびそのバインダーを用いた磁気記
録媒体に関するものである。
カ−ド、磁気ディスクなどの磁気記録媒体の製造に用い
られるバインダーおよびそのバインダーを用いた磁気記
録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、電離放射線硬化型磁気記録媒体用
バインダーとして、分子中に極性基(例えば、カルボキ
シル基、水酸基)とエチレン性不飽和結合とを有するウ
レタンオリゴマーが提案されている(特公平4−654
52号公報)。
バインダーとして、分子中に極性基(例えば、カルボキ
シル基、水酸基)とエチレン性不飽和結合とを有するウ
レタンオリゴマーが提案されている(特公平4−654
52号公報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年磁
気記録媒体の高性能化に伴い、磁性粉の微粒子化や高磁
力化が図られ、上述のバインダーでは、十分な分散性、
表面平滑性、耐久性等の点で十分満足すべきものが得ら
れていない。本発明の目的は、磁性粉の分散性を向上さ
せ、しかも高耐久性の磁気記録媒体を与える電離放射線
硬化型バインダーを提供することにある。
気記録媒体の高性能化に伴い、磁性粉の微粒子化や高磁
力化が図られ、上述のバインダーでは、十分な分散性、
表面平滑性、耐久性等の点で十分満足すべきものが得ら
れていない。本発明の目的は、磁性粉の分散性を向上さ
せ、しかも高耐久性の磁気記録媒体を与える電離放射線
硬化型バインダーを提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討した結果、特定のスルファミン
酸(塩)基含有ジオールをウレタン原料として用いるこ
とにより、磁性粉の分散性が改良され磁性塗料の低粘度
化が計れるとともに、耐久性に優れた磁気記録媒体が得
られることを見い出し、本発明に到達した。すなわち本
発明は、スルファミン酸(塩)基含有ジオール(A3)
からなるポリオール成分(A)、活性水素含有基を有す
る(メタ)アクリル系単量体(B)および有機ポリイソ
シアネート(C)を反応させて得られる、(メタ)アク
リロイル基を1分子当たり平均2.5〜9個有するウレ
タンオリゴマー(D)からなることを特徴とする電離放
射線硬化型磁気記録媒体用バインダー;並びに該バイン
ダーを含有してなる磁性塗料を非支持体に塗布してなる
磁性層を有する磁気記録媒体である。
を達成するため鋭意検討した結果、特定のスルファミン
酸(塩)基含有ジオールをウレタン原料として用いるこ
とにより、磁性粉の分散性が改良され磁性塗料の低粘度
化が計れるとともに、耐久性に優れた磁気記録媒体が得
られることを見い出し、本発明に到達した。すなわち本
発明は、スルファミン酸(塩)基含有ジオール(A3)
からなるポリオール成分(A)、活性水素含有基を有す
る(メタ)アクリル系単量体(B)および有機ポリイソ
シアネート(C)を反応させて得られる、(メタ)アク
リロイル基を1分子当たり平均2.5〜9個有するウレ
タンオリゴマー(D)からなることを特徴とする電離放
射線硬化型磁気記録媒体用バインダー;並びに該バイン
ダーを含有してなる磁性塗料を非支持体に塗布してなる
磁性層を有する磁気記録媒体である。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明に用いられるスルファミン
酸(塩)基含有ジオール(A3)は下記一般式(1) [H−〔OCH(CH3)CH2〕m(OCH2CH2)n]2NSO3X (1) [式中、mおよびnは0または1以上(ただし、m+n
は1〜36)の整数を表す。mおよびnが共に1以上の
場合のm個のオキシプロピレン基とn個のオキシエチレ
ン基の結合形式はブロックまたはランダムのいずれでも
よい。Xは、水素原子、または、アルカリ金属、有機ア
ミンおよび第4級アンモニウムから選ばれるカチオンを
表す。]で示されるジオールであって、上記一般式
(1)において、m個のオキシプロピレン基とn個のオ
キシエチレン基の結合形態はブロックまたはランダムの
いずれでもよいが、末端が(ポリ)オキシプロピレン基
のブロック結合体がより好ましい。また、m+nは通常
2〜36、好ましくは3〜25の整数である。m+nが
36を越えると得られるウレタンオリゴマーの電離放射
線硬化後の樹脂物性が低下する。また、m+nが2未満
の場合は溶剤に対する溶解性が悪くなり、目的のウレタ
ンオリゴマーが得られなくなる。
酸(塩)基含有ジオール(A3)は下記一般式(1) [H−〔OCH(CH3)CH2〕m(OCH2CH2)n]2NSO3X (1) [式中、mおよびnは0または1以上(ただし、m+n
は1〜36)の整数を表す。mおよびnが共に1以上の
場合のm個のオキシプロピレン基とn個のオキシエチレ
ン基の結合形式はブロックまたはランダムのいずれでも
よい。Xは、水素原子、または、アルカリ金属、有機ア
ミンおよび第4級アンモニウムから選ばれるカチオンを
表す。]で示されるジオールであって、上記一般式
(1)において、m個のオキシプロピレン基とn個のオ
キシエチレン基の結合形態はブロックまたはランダムの
いずれでもよいが、末端が(ポリ)オキシプロピレン基
のブロック結合体がより好ましい。また、m+nは通常
2〜36、好ましくは3〜25の整数である。m+nが
36を越えると得られるウレタンオリゴマーの電離放射
線硬化後の樹脂物性が低下する。また、m+nが2未満
の場合は溶剤に対する溶解性が悪くなり、目的のウレタ
ンオリゴマーが得られなくなる。
【0006】(A3)の製造方法としては、例えば、
スルファミン酸(塩)とエチレンオキサイドおよび/ま
たはプロピレンオキサイドとを反応させる方法;ジエ
タノールアミンをスルホン化して得られるスルファミン
酸(塩)含有ジオール(例えば特開平8−165372
号公報)とエチレンオキサイドおよび/またはプロピレ
ンオキサイドとを反応させる方法などが挙げられるが、
反応工程の簡素化の点で、の製造方法が好ましい。
スルファミン酸(塩)とエチレンオキサイドおよび/ま
たはプロピレンオキサイドとを反応させる方法;ジエ
タノールアミンをスルホン化して得られるスルファミン
酸(塩)含有ジオール(例えば特開平8−165372
号公報)とエチレンオキサイドおよび/またはプロピレ
ンオキサイドとを反応させる方法などが挙げられるが、
反応工程の簡素化の点で、の製造方法が好ましい。
【0007】前記製造法おいて使用するスルファミン
酸(塩)としては、スルファミン酸、スルファミン酸ア
ルカリ金属塩(たとえばスルファミン酸ナトリウム、ス
ルファミン酸カリウム)、スルファミン酸有機アミン塩
(たとえばスルファミン酸アンモニウム塩、スルファミ
ン酸トリエチルアミン塩、スルファミン酸ジエタノール
アミン塩)および下記一般式(2)
酸(塩)としては、スルファミン酸、スルファミン酸ア
ルカリ金属塩(たとえばスルファミン酸ナトリウム、ス
ルファミン酸カリウム)、スルファミン酸有機アミン塩
(たとえばスルファミン酸アンモニウム塩、スルファミ
ン酸トリエチルアミン塩、スルファミン酸ジエタノール
アミン塩)および下記一般式(2)
【化1】 [式中、R1〜R3は炭素数1〜11の直鎖もしくは分岐
の、飽和もしくは不飽和炭化水素基(ただし、R1〜R3
のうちのいずれか2個が必要によりOまたはNを介して
複素環を形成していてもよい。)を表し、R4は炭素数
1〜8のアルキル基または芳香族炭化水素基を表す。]
で示されるスルファミン酸第4級アンモニウム塩(たと
えばスルファミン酸メチルトリエチルアンモニウム塩)
が挙げられ、好ましいものはスルファミン酸アルカリ金
属塩であり、特に好ましいものはスルファミン酸カリウ
ムである。
の、飽和もしくは不飽和炭化水素基(ただし、R1〜R3
のうちのいずれか2個が必要によりOまたはNを介して
複素環を形成していてもよい。)を表し、R4は炭素数
1〜8のアルキル基または芳香族炭化水素基を表す。]
で示されるスルファミン酸第4級アンモニウム塩(たと
えばスルファミン酸メチルトリエチルアンモニウム塩)
が挙げられ、好ましいものはスルファミン酸アルカリ金
属塩であり、特に好ましいものはスルファミン酸カリウ
ムである。
【0008】該製造法におけるスルファミン酸(塩)
とエチレンオキサイドおよび/またはプロピレンオキサ
イドの反応は、アルカリ性触媒の存在下で常圧もしくは
加圧下、通常80℃〜200℃で行う。この反応を行う
方法としては、例えば、スルファミン酸(塩)をエチ
レンオキサイドおよび/またはプロピレンオキサイド中
に混合し、スラリー状で徐々に加温して80℃〜200
℃で反応させる方法;スルファミン酸(塩)を不活性
有機溶媒中にスラリー状に分散せしめて80℃〜200
℃でエチレンオキサイドおよび/またはプロピレンオキ
サイドを反応させる方法;スルファミン酸(塩)に
(A3)を一部加えて混合し、80℃〜200℃でエチ
レンオキサイドおよび/またはプロピレンオキサイドを
反応させる方法;スルファミン酸(塩)に(A3)お
よびエチレンオキサイドおよび/またはプロピレンオキ
サイドを加えて混合し、スラリー状で徐々に加温して8
0℃〜200℃で反応させる方法;スルファミン酸
(塩)に(A3)および不活性有機溶媒を加えて混合
し、通常80℃〜200℃でエチレンオキサイドおよび
/またはプロピレンオキサイドを反応させる方法;等が
挙げられる。これらの方法のうち工業的見地から特に好
ましいのは、の方法である。
とエチレンオキサイドおよび/またはプロピレンオキサ
イドの反応は、アルカリ性触媒の存在下で常圧もしくは
加圧下、通常80℃〜200℃で行う。この反応を行う
方法としては、例えば、スルファミン酸(塩)をエチ
レンオキサイドおよび/またはプロピレンオキサイド中
に混合し、スラリー状で徐々に加温して80℃〜200
℃で反応させる方法;スルファミン酸(塩)を不活性
有機溶媒中にスラリー状に分散せしめて80℃〜200
℃でエチレンオキサイドおよび/またはプロピレンオキ
サイドを反応させる方法;スルファミン酸(塩)に
(A3)を一部加えて混合し、80℃〜200℃でエチ
レンオキサイドおよび/またはプロピレンオキサイドを
反応させる方法;スルファミン酸(塩)に(A3)お
よびエチレンオキサイドおよび/またはプロピレンオキ
サイドを加えて混合し、スラリー状で徐々に加温して8
0℃〜200℃で反応させる方法;スルファミン酸
(塩)に(A3)および不活性有機溶媒を加えて混合
し、通常80℃〜200℃でエチレンオキサイドおよび
/またはプロピレンオキサイドを反応させる方法;等が
挙げられる。これらの方法のうち工業的見地から特に好
ましいのは、の方法である。
【0009】上記の方法で用いられる不活性有機溶媒
としては、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル
等)、エーテル系溶媒(ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等)、ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン等)、芳香族炭化水
素系溶媒(トルエン、キシレン等)およびこれらの2種
以上の混合溶媒が挙げられる。これらのうち特に好まし
いものは芳香族炭化水素系溶媒である。
としては、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル
等)、エーテル系溶媒(ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等)、ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン等)、芳香族炭化水
素系溶媒(トルエン、キシレン等)およびこれらの2種
以上の混合溶媒が挙げられる。これらのうち特に好まし
いものは芳香族炭化水素系溶媒である。
【0010】ポリオール成分(A)を構成する該(A
3)の量は、最終的に得られるウレタンオリゴマー
(D)中のスルファミン酸(塩)基の含有量が、(D)
106gに対して、通常1〜1000当量、好ましくは
5〜500当量、さらに好ましくは10〜300当量と
なる量である。スルファミン酸(塩)基の含有量が1当
量未満では、磁性粉に対する分散性が低下し、1000
当量を超えると磁性塗料としたときの粘度が高くなり作
業性が悪くなる。
3)の量は、最終的に得られるウレタンオリゴマー
(D)中のスルファミン酸(塩)基の含有量が、(D)
106gに対して、通常1〜1000当量、好ましくは
5〜500当量、さらに好ましくは10〜300当量と
なる量である。スルファミン酸(塩)基の含有量が1当
量未満では、磁性粉に対する分散性が低下し、1000
当量を超えると磁性塗料としたときの粘度が高くなり作
業性が悪くなる。
【0011】(A3)と共に用いられる高分子ポリオー
ル(A1)としては、ポリエステルポリオール、ポリエ
ーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール等が挙
げられる。
ル(A1)としては、ポリエステルポリオール、ポリエ
ーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール等が挙
げられる。
【0012】ポリエステルポリオールとしては、多価ア
ルコール(エチレングリコール、1,4−ブタンジオー
ルおよびトリメチロールプロパン等)と多価カルボン酸
(アジピン酸、フタル酸等)との重縮合反応から得られ
る縮合型ポリエステルポリオール;上記多価アルコール
に1種以上を開始剤としてラクトンの開環重合により得
られるポリラクトン系のポリオール等が挙げられる。
ルコール(エチレングリコール、1,4−ブタンジオー
ルおよびトリメチロールプロパン等)と多価カルボン酸
(アジピン酸、フタル酸等)との重縮合反応から得られ
る縮合型ポリエステルポリオール;上記多価アルコール
に1種以上を開始剤としてラクトンの開環重合により得
られるポリラクトン系のポリオール等が挙げられる。
【0013】ポリエーテルポリオールとしては、ポリエ
チレンエーテルポリオール、ポリプロピレンエーテルポ
リオール、ポリテトラメチレンエーテルおよびこれらの
共重合(ランダムまたはブロック)ポリエーテルポリオ
ール等が挙げられる。
チレンエーテルポリオール、ポリプロピレンエーテルポ
リオール、ポリテトラメチレンエーテルおよびこれらの
共重合(ランダムまたはブロック)ポリエーテルポリオ
ール等が挙げられる。
【0014】ポリカーボネートポリオールとしては、例
えば1,6−ヘキサンジオールとジエチルカーボネート
あるいはジフェニルカーボネートとの重縮合反応により
得られるポリヘキサメチレンカーボネートジオール等が
挙げられる。
えば1,6−ヘキサンジオールとジエチルカーボネート
あるいはジフェニルカーボネートとの重縮合反応により
得られるポリヘキサメチレンカーボネートジオール等が
挙げられる。
【0015】上記(A1)のうち好ましいものは、ポリ
エステルポリオールおよびポリエーテルポリオールであ
り、特に好ましいものはポリエステルポリオールであ
る。
エステルポリオールおよびポリエーテルポリオールであ
り、特に好ましいものはポリエステルポリオールであ
る。
【0016】(A1)のOH当量は通常250〜500
0、好ましくは400〜3000である。OH当量が2
50未満では得られるウレタンオリゴマーの電離放射線
硬化後の樹脂が脆くなり磁気記録媒体の耐磨耗性および
耐久性が低下し、5000を越えるとウレタンオリゴマ
ーの電離放射線硬化後の樹脂が軟らかくなり磁気記録媒
体の耐磨耗性および耐久性が低下する。
0、好ましくは400〜3000である。OH当量が2
50未満では得られるウレタンオリゴマーの電離放射線
硬化後の樹脂が脆くなり磁気記録媒体の耐磨耗性および
耐久性が低下し、5000を越えるとウレタンオリゴマ
ーの電離放射線硬化後の樹脂が軟らかくなり磁気記録媒
体の耐磨耗性および耐久性が低下する。
【0017】ポリオール成分(A)中の(A1)の量
は、通常5〜70当量%であり、好ましくは10〜50
当量%である。(A1)が5当量%未満の場合、得られ
るウレタンオリゴマーの電離放射線硬化後の樹脂が脆く
なり、磁気記録媒体の耐磨耗性および耐久性が低下し、
70当量%を越えると得られるウレタンオリゴマーの電
離放射線硬化後の樹脂が軟らかくなり、磁気記録媒体の
耐磨耗性および耐久性が低下する。
は、通常5〜70当量%であり、好ましくは10〜50
当量%である。(A1)が5当量%未満の場合、得られ
るウレタンオリゴマーの電離放射線硬化後の樹脂が脆く
なり、磁気記録媒体の耐磨耗性および耐久性が低下し、
70当量%を越えると得られるウレタンオリゴマーの電
離放射線硬化後の樹脂が軟らかくなり、磁気記録媒体の
耐磨耗性および耐久性が低下する。
【0018】(A3)と共に用いられる低分子ポリオー
ル(A2)としては、アルキレングリコール類(エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオ
ール、1,3−ブタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタメチレ
ンジオール、1,10−デカンジオール等);環状基を
有する低分子ジオール類{シクロヘキサンジオール、シ
クロヘキサンジメタノール等のグリコール類、および特
公昭45−1474号記載のもの[ビス(ヒドロキシメ
チル)シクロヘキサン、キシリレングリコール、ビス
(ヒドロキシエチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−ヒ
ドロキシエトキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(2−ヒ
ドロキシエトキシ)−ジフェニルプロパン(ビスフェノ
ールAのエチレンオキシド付加物)等〕};およびこれ
らの2種以上の混合物等が挙げられる。また、必要によ
りトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グ
リセリン、ペンタエリストール等の3価以上の多価アル
コールを併用してもよい。
ル(A2)としては、アルキレングリコール類(エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオ
ール、1,3−ブタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタメチレ
ンジオール、1,10−デカンジオール等);環状基を
有する低分子ジオール類{シクロヘキサンジオール、シ
クロヘキサンジメタノール等のグリコール類、および特
公昭45−1474号記載のもの[ビス(ヒドロキシメ
チル)シクロヘキサン、キシリレングリコール、ビス
(ヒドロキシエチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−ヒ
ドロキシエトキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(2−ヒ
ドロキシエトキシ)−ジフェニルプロパン(ビスフェノ
ールAのエチレンオキシド付加物)等〕};およびこれ
らの2種以上の混合物等が挙げられる。また、必要によ
りトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グ
リセリン、ペンタエリストール等の3価以上の多価アル
コールを併用してもよい。
【0019】(A)中の該(A2)の量は通常20〜9
0当量%であり、好ましくは40〜85当量%である。
(A2)が20当量%未満の場合、得られるウレタンオ
リゴマーの電離放射線硬化後の樹脂が軟らかくなり、磁
気記録媒体の耐磨耗性および耐久性が低下する。一方
(A2)が90当量%を越えると得られるウレタンオリ
ゴマーの電離放射線硬化後の樹脂が脆くなり、磁気記録
媒体の耐磨耗性および耐久性が低下する。
0当量%であり、好ましくは40〜85当量%である。
(A2)が20当量%未満の場合、得られるウレタンオ
リゴマーの電離放射線硬化後の樹脂が軟らかくなり、磁
気記録媒体の耐磨耗性および耐久性が低下する。一方
(A2)が90当量%を越えると得られるウレタンオリ
ゴマーの電離放射線硬化後の樹脂が脆くなり、磁気記録
媒体の耐磨耗性および耐久性が低下する。
【0020】本発明における活性水素含有基を有する
(メタ)アクリル系単量体(B)としては、例えば、ヒ
ドロキシアルキル(炭素数2〜4)(メタ)アクリレー
ト〔例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート
等〕;該ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートのア
ルキレンオキサイド〔エチレンオキサイド、プロピレン
オキサイドおよびブチレンオキサイドの1種以上〕
(共)付加物;該ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ
ートのラクトン(たとえば、ε−カプロラクトン、δ−
バレロラクトンなど)(共)付加物、(メタ)アクリル
アミドおよび(メタ)アクリル酸などが挙げられる。こ
れらのうち好ましいものはヒドロキシアルキル(炭素数
2〜4)(メタ)アクリレート、該ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートのアルキレンオキサイド(共)付
加物および該ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
のラクトン(共)付加物であり、特に好ましいものは2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートおよび2−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレートである。
(メタ)アクリル系単量体(B)としては、例えば、ヒ
ドロキシアルキル(炭素数2〜4)(メタ)アクリレー
ト〔例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート
等〕;該ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートのア
ルキレンオキサイド〔エチレンオキサイド、プロピレン
オキサイドおよびブチレンオキサイドの1種以上〕
(共)付加物;該ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ
ートのラクトン(たとえば、ε−カプロラクトン、δ−
バレロラクトンなど)(共)付加物、(メタ)アクリル
アミドおよび(メタ)アクリル酸などが挙げられる。こ
れらのうち好ましいものはヒドロキシアルキル(炭素数
2〜4)(メタ)アクリレート、該ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートのアルキレンオキサイド(共)付
加物および該ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
のラクトン(共)付加物であり、特に好ましいものは2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートおよび2−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレートである。
【0021】本発明における有機ポリイソシアネート
(C)としては、芳香族ジイソシアネート[1,3−ま
たは1,4−フェニレンジイソシアネート(PDI)、
2,4−または2,6−トリレンジイソシアネート(T
DI)、4,4’−または2,4’−ジフェニルメタン
ジイソシアネート(MDI)等];脂肪族ジイソシアネ
ート[ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、テ
トラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)
等];脂環式ジイソシアネート[イソホロンジイソシア
ネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート(水添MDI)等];ポリイソシアネート変性
体(ヘキサメチレンジイソシアネートのビュレット体、
イソホロンジイソシアネートの三量化物等);およびこ
れらの2種以上の混合物等が挙げれる。
(C)としては、芳香族ジイソシアネート[1,3−ま
たは1,4−フェニレンジイソシアネート(PDI)、
2,4−または2,6−トリレンジイソシアネート(T
DI)、4,4’−または2,4’−ジフェニルメタン
ジイソシアネート(MDI)等];脂肪族ジイソシアネ
ート[ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、テ
トラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)
等];脂環式ジイソシアネート[イソホロンジイソシア
ネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート(水添MDI)等];ポリイソシアネート変性
体(ヘキサメチレンジイソシアネートのビュレット体、
イソホロンジイソシアネートの三量化物等);およびこ
れらの2種以上の混合物等が挙げれる。
【0022】本発明におけるウレタンオリゴマー(D)
は、(A)、(B)および(C)を反応させることによ
り得られる。(A)、(B)および(C)を反応させる
際、活性水素含有基/NCO基の当量比は通常0.6〜
1.5、好ましくは0.9〜1.2である。活性水素含
有基/NCO基の当量比が0.6未満または1.5越え
ると得れれウレタンオリゴマーの分子量が低くなり、放
射線硬化後の樹脂が脆くなり、磁気記録媒体の耐磨耗性
および耐久性が低下する。
は、(A)、(B)および(C)を反応させることによ
り得られる。(A)、(B)および(C)を反応させる
際、活性水素含有基/NCO基の当量比は通常0.6〜
1.5、好ましくは0.9〜1.2である。活性水素含
有基/NCO基の当量比が0.6未満または1.5越え
ると得れれウレタンオリゴマーの分子量が低くなり、放
射線硬化後の樹脂が脆くなり、磁気記録媒体の耐磨耗性
および耐久性が低下する。
【0023】上記反応はイソシアネート基に対して不活
性な溶媒の存在下で行なうことができる。この溶媒とし
てはエステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エ
ーテル系溶媒(ジオキサン、テトラハイドロフラン
等)、ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等)、芳香族炭化水素
系溶媒(トルエン、キシレン等)およびこれらの2種以
上の混合溶媒等が挙げられる。
性な溶媒の存在下で行なうことができる。この溶媒とし
てはエステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エ
ーテル系溶媒(ジオキサン、テトラハイドロフラン
等)、ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等)、芳香族炭化水素
系溶媒(トルエン、キシレン等)およびこれらの2種以
上の混合溶媒等が挙げられる。
【0024】反応方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、(A)、(B)および(C)を一括して反
応容器に仕込み反応させる方法;(A)、(B)およ
び(C)を分割して多段反応をさせる方法;(A
1)、(A3)および(A2)の一部と(C)とを反応
させその後(A2)の残部を反応させ、更に(B)を反
応させる方法などが挙げられる。反応温度は通常30〜
180℃、好ましくは60〜120℃である。反応にお
いては、反応を促進させるため通常のウレタン反応にお
いて用いられる触媒を用いてもよい。該触媒としては、
錫系触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチン
ヒドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチル
チンジラウレート、スタナスオクトエート等)、鉛系触
媒(レッドオレート、レッド2−エチルヘキソエート
等)等が挙げられる。また、必要により(B)あるいは
生成する(D)の熱重合等の副反応を抑制するために公
知の重合禁止剤(ハイドロキノン、ハイドロキノンモノ
メチルエーテルなど)を用いてもよい。
とができ、(A)、(B)および(C)を一括して反
応容器に仕込み反応させる方法;(A)、(B)およ
び(C)を分割して多段反応をさせる方法;(A
1)、(A3)および(A2)の一部と(C)とを反応
させその後(A2)の残部を反応させ、更に(B)を反
応させる方法などが挙げられる。反応温度は通常30〜
180℃、好ましくは60〜120℃である。反応にお
いては、反応を促進させるため通常のウレタン反応にお
いて用いられる触媒を用いてもよい。該触媒としては、
錫系触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチン
ヒドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチル
チンジラウレート、スタナスオクトエート等)、鉛系触
媒(レッドオレート、レッド2−エチルヘキソエート
等)等が挙げられる。また、必要により(B)あるいは
生成する(D)の熱重合等の副反応を抑制するために公
知の重合禁止剤(ハイドロキノン、ハイドロキノンモノ
メチルエーテルなど)を用いてもよい。
【0025】本発明において得られるウレタンオリゴマ
ー(D)は、(メタ)アクロイル基を1分子中に平均
2.5〜9個有しており、好ましくは2.6〜6個、特
に好ましくは2.8〜4個有する。(メタ)アクロイル
基が1分子中2.5個未満では、電離放射線硬化後の樹
脂強度が低下し、磁気記録媒体にしたとき耐摩耗性およ
び耐久性が低下する。一方、(メタ)アクロイル基が1
分子中9個を越えるとウレタンオリゴマー(D)を合成
する際にゲル化する場合がある。
ー(D)は、(メタ)アクロイル基を1分子中に平均
2.5〜9個有しており、好ましくは2.6〜6個、特
に好ましくは2.8〜4個有する。(メタ)アクロイル
基が1分子中2.5個未満では、電離放射線硬化後の樹
脂強度が低下し、磁気記録媒体にしたとき耐摩耗性およ
び耐久性が低下する。一方、(メタ)アクロイル基が1
分子中9個を越えるとウレタンオリゴマー(D)を合成
する際にゲル化する場合がある。
【0026】ウレタンオリゴマー(D)の数平均分子量
は、通常1,500〜50,000、好ましくは2,0
00〜30,000である。(D)の数平均分子量が
1,500未満の場合、放射線硬化後の樹脂膜が脆くな
り、50,000を越えると磁性塗料の粘度が高くなる
ので好ましくない。
は、通常1,500〜50,000、好ましくは2,0
00〜30,000である。(D)の数平均分子量が
1,500未満の場合、放射線硬化後の樹脂膜が脆くな
り、50,000を越えると磁性塗料の粘度が高くなる
ので好ましくない。
【0027】本発明のバインダーに用いられるウレタン
オリゴマー(D)は、必要により他の樹脂と併用しても
よい。該他の樹脂としては、塩化ビニル・酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアコール共重
合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、アクリル
酸エステル・アクリロニトリル共重合体、ポリフッ化ビ
ニル、塩化ビニリデン・アクリロニトリル共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導
体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリブタジ
エン等の合成ゴム系熱可塑性樹脂等が挙げられる。
オリゴマー(D)は、必要により他の樹脂と併用しても
よい。該他の樹脂としては、塩化ビニル・酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアコール共重
合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、アクリル
酸エステル・アクリロニトリル共重合体、ポリフッ化ビ
ニル、塩化ビニリデン・アクリロニトリル共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導
体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリブタジ
エン等の合成ゴム系熱可塑性樹脂等が挙げられる。
【0028】上記の他の樹脂は、樹脂中に極性基として
有機酸基(カルボキシル基、スルホン酸基、スルファミ
ン酸基、燐酸エステル基等)またはこれらの塩〔金属塩
(ナトリウム塩、カリウム塩等)、第4級アンモニウム
塩等〕、アミノ基、スルホベタイン基、水酸基などの官
能基を含有していてもよい。
有機酸基(カルボキシル基、スルホン酸基、スルファミ
ン酸基、燐酸エステル基等)またはこれらの塩〔金属塩
(ナトリウム塩、カリウム塩等)、第4級アンモニウム
塩等〕、アミノ基、スルホベタイン基、水酸基などの官
能基を含有していてもよい。
【0029】本発明における磁気記録媒体は、本発明の
バインダー、磁性粉、架橋剤、溶媒および添加剤を混合
・分散し、得られる磁性塗料を非磁性支持体上に塗布し
て磁性層を形成させることにより得られる。また、本発
明のバインダーは、磁性層とは反対側のバックコート層
用の塗料用バインダーとしても用いることができる。
バインダー、磁性粉、架橋剤、溶媒および添加剤を混合
・分散し、得られる磁性塗料を非磁性支持体上に塗布し
て磁性層を形成させることにより得られる。また、本発
明のバインダーは、磁性層とは反対側のバックコート層
用の塗料用バインダーとしても用いることができる。
【0030】上記磁性塗料に用いられる磁性粉として
は、酸化鉄〔例えばγ−Fe2O3(γ−ヘマタイ
ト)〕、CrO3(三酸化クロム)、合金系の磁性体
〔例えばCo−γ−Fe2O3(コバルトフェライト、コ
バルトドープγ−酸化鉄等)、Fe−Co−Cr〕、バ
リウムフェライト、純鉄Fe(メタルパウダー)、窒化
鉄および炭化鉄などが挙げられる。
は、酸化鉄〔例えばγ−Fe2O3(γ−ヘマタイ
ト)〕、CrO3(三酸化クロム)、合金系の磁性体
〔例えばCo−γ−Fe2O3(コバルトフェライト、コ
バルトドープγ−酸化鉄等)、Fe−Co−Cr〕、バ
リウムフェライト、純鉄Fe(メタルパウダー)、窒化
鉄および炭化鉄などが挙げられる。
【0031】上記磁性塗料に用いられる架橋剤は、磁気
記録媒体の磁性層の強度向上の目的のために用いられ
る。該架橋剤としては、例えばポリイソシアネート(T
DI,MDIなど)と活性水素化合物(低分子ポリオー
ル、ポリアミン、ポリエーテルポリオール、ポリエステ
ルポリオールなど)とからのNCO基末端プレポリマー
[例えば、「コロネートL」(日本ポリウレタン工業
製)、「コロネートHL」(日本ポリウレタン工業
製)]などが挙げられる。
記録媒体の磁性層の強度向上の目的のために用いられ
る。該架橋剤としては、例えばポリイソシアネート(T
DI,MDIなど)と活性水素化合物(低分子ポリオー
ル、ポリアミン、ポリエーテルポリオール、ポリエステ
ルポリオールなど)とからのNCO基末端プレポリマー
[例えば、「コロネートL」(日本ポリウレタン工業
製)、「コロネートHL」(日本ポリウレタン工業
製)]などが挙げられる。
【0032】上記磁性塗料に用いられる溶媒としては、
エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチルなど)、エー
テル系溶媒(ジオキサン、テトラヒドロフランなど)、
ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルルケトンなど)、芳香族炭化水素
系溶媒(トルエン、キシレンなど);およびこれらの2
種以上の混合溶媒が挙げられる。これらのうち好ましい
ものはケトン系溶媒と芳香族炭化水素系溶媒との混合溶
媒である。この場合、上記溶媒の使用量は、磁性塗料中
の固形分含量が通常20〜80重量%となる範囲であ
る。
エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチルなど)、エー
テル系溶媒(ジオキサン、テトラヒドロフランなど)、
ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルルケトンなど)、芳香族炭化水素
系溶媒(トルエン、キシレンなど);およびこれらの2
種以上の混合溶媒が挙げられる。これらのうち好ましい
ものはケトン系溶媒と芳香族炭化水素系溶媒との混合溶
媒である。この場合、上記溶媒の使用量は、磁性塗料中
の固形分含量が通常20〜80重量%となる範囲であ
る。
【0033】上記磁性塗料に用いられる添加剤として
は、公知の分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆
剤などが挙げられる。
は、公知の分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆
剤などが挙げられる。
【0034】分散剤としては、炭素数12〜18個の脂
肪酸(カプリル酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチ
ン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸な
ど);金属石鹸[前記の脂肪酸のアルカリ金属(カリウ
ム、ナトリウムなど)塩およびアルカリ土類金属(マグ
ネシウム、カルシウム、バリウムなど)塩]などが挙げ
られる。
肪酸(カプリル酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチ
ン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸な
ど);金属石鹸[前記の脂肪酸のアルカリ金属(カリウ
ム、ナトリウムなど)塩およびアルカリ土類金属(マグ
ネシウム、カルシウム、バリウムなど)塩]などが挙げ
られる。
【0035】潤滑剤としては、ジアルキルポリシロキサ
ン(アルキルは炭素数1〜5個)、ジアルコキシポリシ
ロキサン(アルコキシは炭素数1〜4個)、モノアルキ
ルモノアルコキシポリシロキサン(アルキルは炭素数1
〜5、アルコキシは炭素数1〜4個)、フェニルポリシ
ロキサン、フロロアルキルポリシロキサン、シリコンオ
イル、導電性微粉末(グラファイトなど)、無機粉末
(二硫化モリブデン、二硫化タングステンなど)、プラ
スチック微粉末、脂肪酸エステル類、フルオロカーボン
類などが挙げられる。
ン(アルキルは炭素数1〜5個)、ジアルコキシポリシ
ロキサン(アルコキシは炭素数1〜4個)、モノアルキ
ルモノアルコキシポリシロキサン(アルキルは炭素数1
〜5、アルコキシは炭素数1〜4個)、フェニルポリシ
ロキサン、フロロアルキルポリシロキサン、シリコンオ
イル、導電性微粉末(グラファイトなど)、無機粉末
(二硫化モリブデン、二硫化タングステンなど)、プラ
スチック微粉末、脂肪酸エステル類、フルオロカーボン
類などが挙げられる。
【0036】研磨剤としては、アルミナ、炭化珪素、酸
化クロム、コランダム、人造コランダム、ダイヤモン
ド、人造ダイヤモンドなどが挙げられる。
化クロム、コランダム、人造コランダム、ダイヤモン
ド、人造ダイヤモンドなどが挙げられる。
【0037】帯電防止剤としては、導電性粉末(カーボ
ンブラック、カーボンブラックグラフトポリマーな
ど)、天然界面活性剤(サポニンなど)、ノニオン型界
面界面活性剤(アルキレンオキサイド系、グリセリン
系、グリシドール系など)、カチオン型界面活性剤(高
級アルキルアミン類、第四級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウム類など)、アニオン
型界面活性剤(カルボン酸型、スルホン酸型、リン酸
型、硫酸エステル基型、燐酸エステル基型など)、両性
界面活性剤(アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノ
アルコールの硫酸または燐酸エステル類など)などが挙
げられる。
ンブラック、カーボンブラックグラフトポリマーな
ど)、天然界面活性剤(サポニンなど)、ノニオン型界
面界面活性剤(アルキレンオキサイド系、グリセリン
系、グリシドール系など)、カチオン型界面活性剤(高
級アルキルアミン類、第四級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウム類など)、アニオン
型界面活性剤(カルボン酸型、スルホン酸型、リン酸
型、硫酸エステル基型、燐酸エステル基型など)、両性
界面活性剤(アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノ
アルコールの硫酸または燐酸エステル類など)などが挙
げられる。
【0038】防錆剤としては、燐酸、スルフィド、グア
ニジン、ピリジン、アミン、尿素、ジンククロメート、
カルシウムクロメート、ストロンチウムクロメートなど
が挙げられる。また、特にジシクロヘキシルアミンナイ
トライト、シクロヘキシルアミンクロメート、ジイソプ
ロピルアミンナイトライト、ジエタノールアミンホスフ
ェート、シクロヘキシルアンモニウムカーボネート、プ
ロピレンジアミンステアレート、グアニジンカーボネー
ト、トリエタノールアミンナイトライト、モルフォリン
ステアレートなどの気化性防錆剤(アミン、アミドまた
はイミドの無機酸塩もしくは有機酸塩)を使用すると防
錆効果が向上する。
ニジン、ピリジン、アミン、尿素、ジンククロメート、
カルシウムクロメート、ストロンチウムクロメートなど
が挙げられる。また、特にジシクロヘキシルアミンナイ
トライト、シクロヘキシルアミンクロメート、ジイソプ
ロピルアミンナイトライト、ジエタノールアミンホスフ
ェート、シクロヘキシルアンモニウムカーボネート、プ
ロピレンジアミンステアレート、グアニジンカーボネー
ト、トリエタノールアミンナイトライト、モルフォリン
ステアレートなどの気化性防錆剤(アミン、アミドまた
はイミドの無機酸塩もしくは有機酸塩)を使用すると防
錆効果が向上する。
【0039】本発明において磁気記録媒体を構成する非
磁性支持体の素材としては、ポリエステル類(ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレ
ートなど);ポリオレフィン類(ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなど);セルロース誘導体(セルローストリア
セテート、セルロースダイアセテート、セルロースダイ
アセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネートなど);ビニル系樹脂
(ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなど);その他
のプラスチック(ポリカーボネート、ポリイミド、ポリ
アミドイミドなど);非磁性金属類(アルミニウム、
銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金など);
セラミック類(ガラス、陶器、磁器など);オレフィン
類(バライタ、ポリエチレン、エチレン−ブテン共重合
体など)を塗布またはラミネートした紙などが挙げられ
る。また、非磁性支持体の形態はフイルム、テープ、シ
ート、ディスク、カード、ドラムなどのいずれでもよ
い。非磁性支持体上に塗布する磁性層の厚さは、乾燥膜
厚で通常0.1〜50μmである。
磁性支持体の素材としては、ポリエステル類(ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレ
ートなど);ポリオレフィン類(ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなど);セルロース誘導体(セルローストリア
セテート、セルロースダイアセテート、セルロースダイ
アセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネートなど);ビニル系樹脂
(ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなど);その他
のプラスチック(ポリカーボネート、ポリイミド、ポリ
アミドイミドなど);非磁性金属類(アルミニウム、
銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金など);
セラミック類(ガラス、陶器、磁器など);オレフィン
類(バライタ、ポリエチレン、エチレン−ブテン共重合
体など)を塗布またはラミネートした紙などが挙げられ
る。また、非磁性支持体の形態はフイルム、テープ、シ
ート、ディスク、カード、ドラムなどのいずれでもよ
い。非磁性支持体上に塗布する磁性層の厚さは、乾燥膜
厚で通常0.1〜50μmである。
【0040】磁気記録媒体(磁気テープなど)を製造す
る方法としては、たとえば本発明のバインダー、磁性
粉、溶媒および必要により添加剤を予めプレミキサーな
どで混合したのち、混合分散機(ボールミル、ペイント
コンディショナー、サンドグラインダー、サンドミル、
プラストミルなど)で磁性粉を分散させて磁性塗料を作
成し、これに架橋剤を配合したのち、この磁性塗料を、
ドクターブレード法、転写印刷法(グラビア法、リバー
スロール法など)の方法により非磁性支持体に塗布後、
配向、乾燥、表面加工、放射線硬化、切断、巻取りなど
の工程を経て磁気記録媒体とする方法が例示できる。
る方法としては、たとえば本発明のバインダー、磁性
粉、溶媒および必要により添加剤を予めプレミキサーな
どで混合したのち、混合分散機(ボールミル、ペイント
コンディショナー、サンドグラインダー、サンドミル、
プラストミルなど)で磁性粉を分散させて磁性塗料を作
成し、これに架橋剤を配合したのち、この磁性塗料を、
ドクターブレード法、転写印刷法(グラビア法、リバー
スロール法など)の方法により非磁性支持体に塗布後、
配向、乾燥、表面加工、放射線硬化、切断、巻取りなど
の工程を経て磁気記録媒体とする方法が例示できる。
【0041】磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層
(磁性粉およびバインダーなど)からなるものが一般的
であるが、非磁性支持体と磁性層の間に中間層(下塗
層、アンダーコート層)を設けたもの、非磁性支持体の
両面に磁性層を有するもの、磁気特性の異なる磁性層を
重積したもの、磁性層の上に保護層を設けたもの、非磁
性支持体にバックコート層を設けたものなどであっても
よい。
(磁性粉およびバインダーなど)からなるものが一般的
であるが、非磁性支持体と磁性層の間に中間層(下塗
層、アンダーコート層)を設けたもの、非磁性支持体の
両面に磁性層を有するもの、磁気特性の異なる磁性層を
重積したもの、磁性層の上に保護層を設けたもの、非磁
性支持体にバックコート層を設けたものなどであっても
よい。
【0042】本発明におけるウレタンオリゴマーは電離
放射線により硬化する。この電離放射線としては紫外
線、電子線、中性子線、γ線などが挙げられ、好ましく
は、電子線である。電子線加速器としては、たとえばス
キャニング方式、カーテンビーム方式、ブロードビーム
カーテン方式が挙げられる。電子線の加速電圧は通常1
00〜1,000KVであり、好ましくは100〜30
0KVである。また、吸収線量は通常0.5〜20メガ
ラット、好ましくは3〜15メガラッドである。加速電
圧が100KV未満の場合は、電子線の透過膜厚が不足
し、1000KVを越えると硬化に使われるエネルギー
効率が低下し経済的でない。また、吸収線量が0.5メ
ガラッド未満の場合は硬化が不十分となり、20メガラ
ッドを越えると硬化に使われるエネルギー効率が低下す
る。
放射線により硬化する。この電離放射線としては紫外
線、電子線、中性子線、γ線などが挙げられ、好ましく
は、電子線である。電子線加速器としては、たとえばス
キャニング方式、カーテンビーム方式、ブロードビーム
カーテン方式が挙げられる。電子線の加速電圧は通常1
00〜1,000KVであり、好ましくは100〜30
0KVである。また、吸収線量は通常0.5〜20メガ
ラット、好ましくは3〜15メガラッドである。加速電
圧が100KV未満の場合は、電子線の透過膜厚が不足
し、1000KVを越えると硬化に使われるエネルギー
効率が低下し経済的でない。また、吸収線量が0.5メ
ガラッド未満の場合は硬化が不十分となり、20メガラ
ッドを越えると硬化に使われるエネルギー効率が低下す
る。
【0043】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。以下にお
いて、部は重量部を示す。
が、本発明はこれに限定されるものではない。以下にお
いて、部は重量部を示す。
【0044】製造例1[スルファミン酸カリウム塩基含
有ジオールの製造] 攪拌機、温度計の付いた加圧反応容器に、水酸化カリウ
ム6部、スルファミン酸カリウム135部(1モル)お
よびキシレン600部を仕込みスラリー状に混合分散さ
せた。この分散液を徐々に加温して130℃でエチレン
オキサイド176部(4モル)を約10時間かけて圧入
し反応を行った。さらにこの温度でプロピレンオキサイ
ド464部(8モル)を約20時間かけて圧入し反応を
行った。反応混合物に合成ケイ酸アルミニウム30部を
配合し、約80℃で約1時間かけて触媒の水酸化カリウ
ムを吸着させた後濾過した。ロ液を減圧下、約100℃
で脱溶媒を行い生成物(A3−1)744部を得た。該
(A3−1)の構造は、NMRおよびIR分析により、 [H−〔OCH(CH3)CH2〕4(OCH2CH2)2]
2NSO3K であることを確認した。該(A3−1)の収率は96%
であった。
有ジオールの製造] 攪拌機、温度計の付いた加圧反応容器に、水酸化カリウ
ム6部、スルファミン酸カリウム135部(1モル)お
よびキシレン600部を仕込みスラリー状に混合分散さ
せた。この分散液を徐々に加温して130℃でエチレン
オキサイド176部(4モル)を約10時間かけて圧入
し反応を行った。さらにこの温度でプロピレンオキサイ
ド464部(8モル)を約20時間かけて圧入し反応を
行った。反応混合物に合成ケイ酸アルミニウム30部を
配合し、約80℃で約1時間かけて触媒の水酸化カリウ
ムを吸着させた後濾過した。ロ液を減圧下、約100℃
で脱溶媒を行い生成物(A3−1)744部を得た。該
(A3−1)の構造は、NMRおよびIR分析により、 [H−〔OCH(CH3)CH2〕4(OCH2CH2)2]
2NSO3K であることを確認した。該(A3−1)の収率は96%
であった。
【0045】製造例2[スルファミン酸ナトリウム塩基
含有ジオールの製造] 攪拌機、温度計の付いた加圧反応容器に、水酸化カリウ
ム6部、スルファミン酸ナトリウム119部(1モル)
およびキシレン600部を仕込みスラリー状に混合分散
させた。この分散液を徐々に加温して130℃でエチレ
ンオキサイド264部(6モル)を約10時間かけて圧
入し反応を行った。さらにこの温度でプロピレンオキサ
イド464部(8モル)を約20時間かけて圧入し反応
を行った。反応混合物に合成ケイ酸アルミニウム30部
を配合し、約80℃で約1時間かけて触媒の水酸化カリ
ウムを吸着させた後濾過した。ロ液を減圧下、約100
℃で脱溶媒を行い生成物(A3−2)805部を得た。
該(A3−2)の構造は、NMRおよびIR分析によ
り、 [H−〔OCH(CH3)CH2〕4(OCH2CH2)3]
2NSO3Na であることを確認した。該(A3−2)の収率は95%
であった。
含有ジオールの製造] 攪拌機、温度計の付いた加圧反応容器に、水酸化カリウ
ム6部、スルファミン酸ナトリウム119部(1モル)
およびキシレン600部を仕込みスラリー状に混合分散
させた。この分散液を徐々に加温して130℃でエチレ
ンオキサイド264部(6モル)を約10時間かけて圧
入し反応を行った。さらにこの温度でプロピレンオキサ
イド464部(8モル)を約20時間かけて圧入し反応
を行った。反応混合物に合成ケイ酸アルミニウム30部
を配合し、約80℃で約1時間かけて触媒の水酸化カリ
ウムを吸着させた後濾過した。ロ液を減圧下、約100
℃で脱溶媒を行い生成物(A3−2)805部を得た。
該(A3−2)の構造は、NMRおよびIR分析によ
り、 [H−〔OCH(CH3)CH2〕4(OCH2CH2)3]
2NSO3Na であることを確認した。該(A3−2)の収率は95%
であった。
【0046】実施例1 攪拌機および冷却管を備えた四つ口フラスコに、平均分
子量1,000のポリテトラメチレングリコール(以
下、PTMGと略記)48.0部、エチレングリコール
(以下、EGと略記)11.0部、製造例1で合成した
(A3−1)11.6部、IPDI75.5部、シクロ
ヘキサノン162.9部およびジブチルチンジラウリレ
ート0.005部を仕込み75〜85℃で4時間反応さ
せ、その後トリメチロールプロパン(以下、TMPと略
記)13.6部を加え、さらに、6時間反応させた。そ
の後、2−ヒドロキシエチルアクリレート(以下、HE
Aと略記)12.8部およびモノメチルハイドロキノン
(以下、MQと略記)0.15部を加え、さらに20時
間反応させて、アクリロイルを1分子中3個有するウレ
タンオリゴマー(D−1)を得、これを本発明のバイン
ダーとした。(D−1)の数平均分子量は6,850、
スルファミン酸塩基含有量は樹脂106g当たり87当
量であった。
子量1,000のポリテトラメチレングリコール(以
下、PTMGと略記)48.0部、エチレングリコール
(以下、EGと略記)11.0部、製造例1で合成した
(A3−1)11.6部、IPDI75.5部、シクロ
ヘキサノン162.9部およびジブチルチンジラウリレ
ート0.005部を仕込み75〜85℃で4時間反応さ
せ、その後トリメチロールプロパン(以下、TMPと略
記)13.6部を加え、さらに、6時間反応させた。そ
の後、2−ヒドロキシエチルアクリレート(以下、HE
Aと略記)12.8部およびモノメチルハイドロキノン
(以下、MQと略記)0.15部を加え、さらに20時
間反応させて、アクリロイルを1分子中3個有するウレ
タンオリゴマー(D−1)を得、これを本発明のバイン
ダーとした。(D−1)の数平均分子量は6,850、
スルファミン酸塩基含有量は樹脂106g当たり87当
量であった。
【0047】実施例2 実施例1と同様にして、平均分子量1,000のブチレ
ンアジペート48.5部、ネオペンチルグリコール(以
下、NPGと略記)19.0部、製造例2で合成した
(A3−2)10.1部、MDI63.2部およびシク
ロヘキサノン134.0部を65〜75℃で3時間反応
させた。その後TMP0.45部、HEA1.3部およ
びMQ0.13部を加え、さらに6時間反応させて、ア
クリロイル基を1分子中3個有するウレタンオリゴマー
(D−2)を得、これを本発明のバインダーとした。
(D−2)の数平均分子量は32,800、スルファミ
ン酸塩基含有量は樹脂106g当たり84当量であっ
た。
ンアジペート48.5部、ネオペンチルグリコール(以
下、NPGと略記)19.0部、製造例2で合成した
(A3−2)10.1部、MDI63.2部およびシク
ロヘキサノン134.0部を65〜75℃で3時間反応
させた。その後TMP0.45部、HEA1.3部およ
びMQ0.13部を加え、さらに6時間反応させて、ア
クリロイル基を1分子中3個有するウレタンオリゴマー
(D−2)を得、これを本発明のバインダーとした。
(D−2)の数平均分子量は32,800、スルファミ
ン酸塩基含有量は樹脂106g当たり84当量であっ
た。
【0048】実施例3 実施例1と同様にして、平均分子量1,250のポリカ
プロラクトンジオール(以下PCLと略記)28.2
部、1,4−ブタンジオール(以下、1,4BGと略
記)6.9部、製造例1で合成した(A3−1)10.
1部、TMP4.4部、HEA12.8部、IPDI4
7.5部、トルエン50.9部、メチルエチルケトン5
0.9部、ジブチルチンジラウリレート0.003部お
よびMQ0.1部を、75〜85℃で25時間反応させ
て、アクリロイル基を1分子中3個有するウレタンオリ
ゴマー(D−3)を得、これを本発明のバインダーとし
た。該(D−3)の数平均分子量は4,200、スルフ
ァミン酸塩基当量は樹脂106g当たり119当量であ
った。
プロラクトンジオール(以下PCLと略記)28.2
部、1,4−ブタンジオール(以下、1,4BGと略
記)6.9部、製造例1で合成した(A3−1)10.
1部、TMP4.4部、HEA12.8部、IPDI4
7.5部、トルエン50.9部、メチルエチルケトン5
0.9部、ジブチルチンジラウリレート0.003部お
よびMQ0.1部を、75〜85℃で25時間反応させ
て、アクリロイル基を1分子中3個有するウレタンオリ
ゴマー(D−3)を得、これを本発明のバインダーとし
た。該(D−3)の数平均分子量は4,200、スルフ
ァミン酸塩基当量は樹脂106g当たり119当量であ
った。
【0049】実施例4 実施例1と同様にして、数平均分子量4,000のPC
L51.6部、EG1.5部、製造例2で合成した(A
3−2)37.9部、TMP6.7部、HEA6.4
部、IPDI19.7部、シクロヘキサノン91.9
部、ジブチルチンジラウリレート0.003部およびM
Q0.09部を、75〜85℃で15時間反応させて、
アクリロイル基を1分子中3個有するウレタンオリゴマ
ー(D−4)を得、これを本発明のバインダーとした。
該(D−4)の数平均分子量は7,200、スルファミ
ン酸基当量は樹脂106g当たり361当量であった。
L51.6部、EG1.5部、製造例2で合成した(A
3−2)37.9部、TMP6.7部、HEA6.4
部、IPDI19.7部、シクロヘキサノン91.9
部、ジブチルチンジラウリレート0.003部およびM
Q0.09部を、75〜85℃で15時間反応させて、
アクリロイル基を1分子中3個有するウレタンオリゴマ
ー(D−4)を得、これを本発明のバインダーとした。
該(D−4)の数平均分子量は7,200、スルファミ
ン酸基当量は樹脂106g当たり361当量であった。
【0050】比較例1 実施例1において(A3−1)11.6部の代わりにジ
メチロールプロピオン酸(以下DMPAと略す)2.0
部を用いた以外は同様にしてウレタンオリゴマー(E−
1)を得た。該(E−1)の数平均分子量は5,65
0、酸価は5.1であった。
メチロールプロピオン酸(以下DMPAと略す)2.0
部を用いた以外は同様にしてウレタンオリゴマー(E−
1)を得た。該(E−1)の数平均分子量は5,65
0、酸価は5.1であった。
【0051】比較例2 実施例2において(A3−2)10.1部の代わりにD
MPA1.6部用いた以外は同様にしてウレタンオリゴ
マー(E−2)を得た。該(E−2)の数平均分子量は
27,800、酸価は5.0であった。
MPA1.6部用いた以外は同様にしてウレタンオリゴ
マー(E−2)を得た。該(E−2)の数平均分子量は
27,800、酸価は5.0であった。
【0052】試験例1 実施例1〜4および比較例1、2で得られたウレタンオ
リゴマーをそれぞれ下記比率で配合し、ペイントコンデ
ィショナー(レッドデビル社製)で4時間振とうし、磁
性塗料を作成した。 ウレタンオリゴマー(固形分換算) 18部 Co−γ−Fe2O3微粉末 72部 (「X−6000R」;チタン工業製) トルエン 105部 シクロヘキサノン 105部 得られた磁性塗料を15μのポリエステルフィルムに塗
布し(乾燥膜厚5μ)、1,000Oeの磁場をかけて
配向させ、塗布フイルムを得た。更に、このフイルムを
カレンダーロールで処理し、電子線加速機を用いて加速
電圧150KV、吸収線量5メガラッドの条件で窒素ガ
ス雰囲気下において電子線を照射して硬化させ、磁気フ
イルムを得た。得られた各磁気フイルムについて下記試
験方法により光沢度および角形比を測定した。その結果
を表1に示す。
リゴマーをそれぞれ下記比率で配合し、ペイントコンデ
ィショナー(レッドデビル社製)で4時間振とうし、磁
性塗料を作成した。 ウレタンオリゴマー(固形分換算) 18部 Co−γ−Fe2O3微粉末 72部 (「X−6000R」;チタン工業製) トルエン 105部 シクロヘキサノン 105部 得られた磁性塗料を15μのポリエステルフィルムに塗
布し(乾燥膜厚5μ)、1,000Oeの磁場をかけて
配向させ、塗布フイルムを得た。更に、このフイルムを
カレンダーロールで処理し、電子線加速機を用いて加速
電圧150KV、吸収線量5メガラッドの条件で窒素ガ
ス雰囲気下において電子線を照射して硬化させ、磁気フ
イルムを得た。得られた各磁気フイルムについて下記試
験方法により光沢度および角形比を測定した。その結果
を表1に示す。
【0053】
【表1】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− ウレタンオリゴマー 光沢度(%) 角形比 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例1 D−1 99 0.89 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例2 D−2 96 0.88 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例3 D−3 98 0.89 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例4 D−4 95 0.88 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例1 E−1 88 0.85 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例2 E−2 85 0.82 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− (試験方法) 光沢度:得られた磁気フイルムの磁性粉の分散性を見る
ため表面光沢度を測定した。光沢度は日本電色工業製デ
ジタル変角光沢計を用い、75゜の正反射率を測定し
た。数値は標準板の反射率を95とした場合と比較し、
相対値(%)で表示した。数値が大きいほど分散性が優
れていることを示す。 角形比:B−Hカーブトレーサー(理研電子工業製)を
使用し磁気フイルムの配向方向の飽和磁束密度Bmと残
留磁束密度Brを測定し、両者の比Br/Bm(角形
比)を求めた。数値が大きい程、磁気特性に優れている
ことを示す。
ため表面光沢度を測定した。光沢度は日本電色工業製デ
ジタル変角光沢計を用い、75゜の正反射率を測定し
た。数値は標準板の反射率を95とした場合と比較し、
相対値(%)で表示した。数値が大きいほど分散性が優
れていることを示す。 角形比:B−Hカーブトレーサー(理研電子工業製)を
使用し磁気フイルムの配向方向の飽和磁束密度Bmと残
留磁束密度Brを測定し、両者の比Br/Bm(角形
比)を求めた。数値が大きい程、磁気特性に優れている
ことを示す。
【0054】
【発明の効果】本発明の電離放射線硬化型磁気記録媒体
用バインダーは、従来のものに比べて磁性粉の分散性が
良好であり、磁気特性の優れた磁気記録媒体を与えるこ
とができる。上記効果を奏することから本発明のバイン
ダーは、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピュー
ターテープ、データーレコーダーテープ、メタルテー
プ、磁気ディスク、磁気カードなどの磁気記録媒体用バ
インダーとして有用である。
用バインダーは、従来のものに比べて磁性粉の分散性が
良好であり、磁気特性の優れた磁気記録媒体を与えるこ
とができる。上記効果を奏することから本発明のバイン
ダーは、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピュー
ターテープ、データーレコーダーテープ、メタルテー
プ、磁気ディスク、磁気カードなどの磁気記録媒体用バ
インダーとして有用である。
Claims (6)
- 【請求項1】 スルファミン酸(塩)基含有ジオール
(A3)からなるポリオール成分(A)、活性水素含有
基を有する(メタ)アクリル系単量体(B)および有機
ポリイソシアネート(C)を反応させて得られる、(メ
タ)アクリロイル基を1分子当たり平均2.5〜9個有
するウレタンオリゴマー(D)からなることを特徴とす
る電離放射線硬化型磁気記録媒体用バインダー。 - 【請求項2】 ポリオール成分(A)が、高分子ポリオ
ール(A1)および/または低分子ポリオール(A2)
を含有する請求項1記載のバインダー。 - 【請求項3】 (A3)が、下記一般式(1) [H−〔OCH(CH3)CH2〕m(OCH2CH2)n]2NSO3X (1) [式中、mおよびnは0または1以上(ただし、m+n
は1〜36)の整数を表す。mおよびnが共に1以上の
場合のm個のオキシプロピレン基とn個のオキシエチレ
ン基の結合形式はブロックまたはランダムのいずれでも
よい。Xは、水素原子、または、アルカリ金属、有機ア
ミンおよび第4級アンモニウムから選ばれるカチオンを
表す。]で示される化合物である請求項1または2記載
のバインダー。 - 【請求項4】 (B)が、ヒドロキシアルキル(炭素数
2〜4)(メタ)アクリレート、該ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートのアルキレンオキサイド(共)付
加物および該ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
のラクトン(共)付加物からなる群より選ばれる1種以
上の化合物である請求項1〜3いずれか記載のバインダ
ー。 - 【請求項5】 (D)中のスルファミン酸(塩)基の含
有量が(D)106g当たり1〜1000当量である請
求項1〜4いずれか記載のバインダー。 - 【請求項6】 請求項1〜5いずれか記載のバインダー
を含有してなる磁性塗料を非支持体に塗布してなる磁性
層を有する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9025925A JPH10208231A (ja) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | バインダーおよび磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9025925A JPH10208231A (ja) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | バインダーおよび磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10208231A true JPH10208231A (ja) | 1998-08-07 |
Family
ID=12179361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9025925A Pending JPH10208231A (ja) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | バインダーおよび磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10208231A (ja) |
-
1997
- 1997-01-24 JP JP9025925A patent/JPH10208231A/ja active Pending
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